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技術(shù)編號(hào)：12794491

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本發(fā)明涉及二維材料的化學(xué)氣相沉積制備領(lǐng)域，尤其涉及一種使用輔助襯底大面積清潔制備單層二硫化鉬薄膜的方法。背景技術(shù)近年來(lái)，類(lèi)石墨烯二硫化鉬(MoS2)作為二維過(guò)渡金屬硫?qū)倩衔?TMDCs)中的一員，引起了學(xué)術(shù)界和產(chǎn)業(yè)界的高度關(guān)注與廣泛研究。MoS2屬于層狀半導(dǎo)體材料，擁有獨(dú)特的光學(xué)與電學(xué)特性，可以應(yīng)用在場(chǎng)效應(yīng)管、光電探測(cè)器、激光二極管以及太陽(yáng)能電池等光電領(lǐng)域。另外，MoS2擁有石墨烯無(wú)法比擬的隨層數(shù)可控的較大帶隙，因此，有望成為石墨烯的替代材料在未來(lái)的邏輯電路方面得到廣泛應(yīng)用，并被認(rèn)為是一種能夠...
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