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提供具有可控密度分布的帶狀束的離子源的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:2910095

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本發(fā)明一般涉及離子注入系統(tǒng),更確切地說是涉及離子注入系統(tǒng)中用于其的離子源及其輪廓控制裝置,用來提供具有可控密度分布(density profile)的離子束。背景技術(shù) 離子注入系統(tǒng)或離子注入機(jī)被廣泛地用來在集成電路制造以及平板顯示器的制造過程中對半導(dǎo)體摻雜雜質(zhì)。在這種系統(tǒng)中,離子源對所希望的摻雜劑元素進(jìn)行離化,其是以所需能量的離子束形式從源中提取的。此離子束然后被引導(dǎo)到諸如半導(dǎo)體晶片之類的工件表面,以便用摻雜劑元素對工件進(jìn)行注入。離子束的離子滲透進(jìn)工件的表...
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