專利名稱：育地被植物治坡模塊制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及地被植物治坡模塊制備方法，具體地說(shuō)是一種利用種植盤(pán)培育地被植物的種植方法，使之能快速成坪，應(yīng)用于邊坡綠化。
背景技術(shù)：
園林中大面積裸露地表的處理，其傳統(tǒng)的做法是使用草坪草來(lái)覆蓋，由于其符合城市園林綠化的發(fā)展歷程，在很大程度上改變了人們的審美觀。但無(wú)論是使用草坪卷還是草籽播種來(lái)覆蓋地表，都因其造價(jià)高、對(duì)生長(zhǎng)環(huán)境有特殊要求、成景時(shí)間長(zhǎng)、后期管養(yǎng)難度大、管護(hù)成本高，在推廣應(yīng)用過(guò)程中受到了極大的限制，由于其根系淺無(wú)法在坡體綠化中保持水土，而且其受草坪草生命周期影響有退化或老化現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是打破傳統(tǒng)的園林地表綠化模式，提供一種既能達(dá)到良好的園林地表覆蓋效果又能廣泛應(yīng)用的、成景快、能降低生產(chǎn)與管護(hù)成本的地被植物治坡模塊及其制作流程。
本發(fā)明的地被植物治坡模塊是按以下方法制作而成的用底部有孔的塑料盤(pán)作為種植容器，將種植基質(zhì)裝入其中；采集地被植物的健康營(yíng)養(yǎng)枝作為插穗，插穗上有2-3個(gè)飽滿的芽，長(zhǎng)約9-12cm；用200-500ppm植物生長(zhǎng)刺激素的粉劑或液劑沾或浸插穗基部；根據(jù)種植盤(pán)的面積及實(shí)際需要合理設(shè)計(jì)株行距；將插穗基部插入種植基質(zhì)中，插入深度為插穗的三分之一至二分之一；插后15-20天內(nèi)，保持生長(zhǎng)適溫15-25℃，注意適當(dāng)遮陰、促使分生組織分化，空氣濕度和土壤濕度保持在80％以上；新根萌發(fā)后，適當(dāng)控制澆水量，以促進(jìn)根系向縱深伸長(zhǎng)；長(zhǎng)出新葉后，噴施1500-2000倍有機(jī)復(fù)合肥水溶液一次，之后每周噴施800-1000倍有機(jī)復(fù)合肥水溶液一次，至植物根系相互串集在種植盤(pán)底部時(shí)、得地被植物成品模塊；取模塊放置于整理好的坡地、緊貼、一次性澆透水，繼續(xù)水分管理2周即可實(shí)現(xiàn)無(wú)需人工管理，固坡防滑、有利于保持水土。具體工藝步驟如下一、地被植物品種篩選應(yīng)用過(guò)程中，種植地點(diǎn)的環(huán)境越好，品種選擇范圍就越廣。
以下篩選的品種，均包括耐旱(可單純依靠自然降雨或吸附地下水)、耐貧瘠(一次性種植后無(wú)需人工再補(bǔ)充肥料)、耐寒(可耐短暫-3℃低溫)、耐陰(可植于密林下)、也可在全陽(yáng)下生長(zhǎng)，莖節(jié)處易生氣生根具良好的蔓延性，四季基本常綠，適用于粗放管理的坡地。
1、常春藤學(xué)名Hedara nepalensis var.sinensis別名中華常春藤科屬五加科、常春藤屬其它園藝栽培品種金邊常春藤cv.Aureovariegata、日本常春藤cv.Conglomerata、彩葉常春藤cv.Discolor、金心常春藤cv.Goldheart、銀邊常春藤cv.Silver Queen、三色常春藤cv.Tricolor。
2、長(zhǎng)春蔓學(xué)名Vinca major別名纏繞長(zhǎng)春花、蔓長(zhǎng)春花科屬夾竹桃科、蔓長(zhǎng)春花屬其它園藝栽培品種花葉長(zhǎng)春蔓Variegata3、鵝掌藤學(xué)名S.arboricola科屬五加科、鵝掌柴屬4、薜荔學(xué)名Ficus pumila科屬?？?、榕屬二、備料1、種植盤(pán)根據(jù)需要選擇大小，底部有孔可用于排水或透氣，深10-12cm，底部墊一層薄尼龍網(wǎng)；2、種植基質(zhì)1份，按腐葉土、紅土、珍珠巖3∶1∶0.5的比例配置，或者按泥炭珍珠巖10∶1的比例配置，然后平鋪在種植盤(pán)中備用，澆透水后基質(zhì)深10cm；3、插穗取地被植物一年生健壯充實(shí)的營(yíng)養(yǎng)枝條，按9-12cm長(zhǎng)度剪切，插穗上有2-3個(gè)飽滿的芽，盡量減少插穗上的葉片以降低蒸發(fā)量；用200-500ppm植物生長(zhǎng)刺激素的粉劑或液劑沾或浸插穗基部可保護(hù)插穗切口并具有促進(jìn)生根的作用，取出放置在陰涼處備用；4、其它材料取大小合適的遮光網(wǎng)一張備用，遮光度80-90％，另備普通農(nóng)用塑料薄膜一張；三、扦插將插穗按株距10cm、行距10cm分別插入種植基質(zhì)中，插入深度為插穗的三分之一至二分之一，略噴水使基質(zhì)與插穗緊密，然后移至生產(chǎn)溫棚背陰處用遮光網(wǎng)遮陽(yáng)、用塑料薄膜遮蓋可保濕并促進(jìn)分生組織分化；四、扦插后的管理插后15-20天保持生長(zhǎng)適溫15-25℃，注意遮光、澆水可促使插穗基部分生組織分化，每天在插穗葉面噴水?dāng)?shù)次，晨夕可稍通風(fēng)透光，要求空氣濕度和土壤濕度保持在80％以上；新根萌發(fā)后，空氣濕度和土壤濕度降低到60％，適當(dāng)控制澆水量以促使根系向縱深伸長(zhǎng)；長(zhǎng)出新葉后，噴施1500-2000倍有機(jī)復(fù)合肥(N∶P∶K配比20∶20∶20)水溶液一次，之后每周噴施800-1000倍有機(jī)復(fù)合肥(N∶P∶K配比20∶20∶20)水溶液一次，以補(bǔ)充新根與新芽生長(zhǎng)所需的養(yǎng)分。
五、修剪當(dāng)扦插苗第二次施肥后，可進(jìn)行地上部分修剪以抑制植物頂端優(yōu)勢(shì)促使地面部分分枝增多，達(dá)成快速成坪的效果。
六、地被植物成坪水肥管理20-25天后，種植盤(pán)底部可見(jiàn)白色根系透出或掀起尼龍網(wǎng)可見(jiàn)植物根系相互串集時(shí)、得地被植物成品模塊。
七、種植坡面處理對(duì)預(yù)種植的坡面表層10-20cm進(jìn)行處理以去除石頭、瓦礫、挖除樹(shù)樁等雜物，表施10cm種植土(沙、腐葉土、紅土和有機(jī)肥按0.5∶1∶1∶0.5比例充分混合)以增加養(yǎng)分，根據(jù)地形要求，平整成自然形；八、模塊種植地被植物成品模塊使用前應(yīng)控水一天以使成品模塊容易起坪、方便運(yùn)輸；鋪設(shè)地被植物模塊可按景觀要求采取密鋪或間鋪，密鋪塊間留縫5cm以內(nèi)，間鋪的間隙應(yīng)均勻，并填以種植土、灌足水以使模塊與坡面緊貼。
九、模塊治坡地被植物模塊種植后，應(yīng)繼續(xù)補(bǔ)充水分，2周后地被植物模塊根系深入坡面土壤時(shí)，由于地被植物具多年生、匍匐性、節(jié)節(jié)生根的特點(diǎn)，可不再進(jìn)行人工管理，其莖細(xì)長(zhǎng)、蔓延能力很強(qiáng)，能迅速達(dá)到良好的地表綠化覆蓋效果，達(dá)到節(jié)約成本的目的。育地被植物治坡模塊完成。
其中的植物生長(zhǎng)刺激素是高錳酸鉀、蔗糖、吲哚乙酸(IAA)、吲哚丁酸(IBA)、萘乙酸中的一種。
本發(fā)明的地被植物治坡模塊繼承了傳統(tǒng)的以草坪草覆蓋達(dá)到綠化地表的優(yōu)點(diǎn)，由于所選地被植物耐旱、耐貧瘠、耐寒、耐陰、也可在全陽(yáng)下生長(zhǎng)，莖節(jié)處易生氣生根具良好的蔓延性，四季基本常綠等特性，適用于粗放管理，有效地降低了生產(chǎn)與后期管理成本，由于地被植物根系較草坪草發(fā)達(dá)，抓地性強(qiáng)有利于固坡防滑和水土保持。
具體實(shí)施例方式
實(shí)施例本發(fā)明的地被植物治坡模塊按以下方法制作一、地被植物品種篩選中華長(zhǎng)春藤Hedara nepalensis var.sinensis二、備料1、種植盤(pán)大小為40cm*40cm*12cm種植盤(pán)3個(gè)，底部有孔可用于排水或透氣，底部墊一層薄尼龍網(wǎng)；2、種植基質(zhì)按腐葉土、紅土、珍珠巖(比例3∶1∶0.5)充分混合，然后平鋪在種植盤(pán)中備用，澆透水后基質(zhì)深10cm；3、插穗取中華長(zhǎng)春藤一年生、健壯充實(shí)的營(yíng)養(yǎng)枝條，按9cm長(zhǎng)度剪切，插穗上有3個(gè)飽滿的芽，只保留3片較小的葉片以降低插穗的蒸發(fā)量；用500ppm植物生長(zhǎng)刺激素的粉劑沾插穗基部可保護(hù)插穗切口并具有促進(jìn)生根的作用，取出放置在陰涼處備用；4、其它材料取大小為50cm*150cm的遮光網(wǎng)一張備用，遮光度80％，另備大小為50cm*150cm普通農(nóng)用塑料薄膜一張；三、扦插將插穗按株距10cm、行距10cm分別插入種植基質(zhì)中，插入深度為插穗的三分之一，略噴水使基質(zhì)與插穗緊密，然后移至生產(chǎn)溫棚背陰處用遮光網(wǎng)遮陽(yáng)、用塑料薄膜遮蓋可保濕并促進(jìn)分生組織分化；
四、扦插后的管理插后20天內(nèi)保持棚內(nèi)生長(zhǎng)適溫15-25℃，遮光、澆水可促使插穗基部分生組織分化，每天在插穗葉面噴水?dāng)?shù)次，晨夕可稍通風(fēng)透光，空氣濕度和土壤濕度保持在80％以上；新根萌發(fā)后，空氣濕度和土壤濕度降低到60％，適當(dāng)控制澆水量以促使根系向縱深伸長(zhǎng)；長(zhǎng)出新葉后，噴施1500倍有機(jī)復(fù)合肥(N∶P∶K配比20∶20∶20)水溶液一次，之后每周噴施800倍有機(jī)復(fù)合肥(N∶P∶K配比20∶20∶20)水溶液一次，以補(bǔ)充新根與新芽生長(zhǎng)所需的養(yǎng)分。
五、修剪當(dāng)扦插苗第二次施肥后，可進(jìn)行中華長(zhǎng)春藤扦插苗地上部分修剪以抑制植物頂端優(yōu)勢(shì)、促使地上部分分枝增多，達(dá)到快速成坪的效果。
六、地被植物成坪水肥管理25天后，種植盤(pán)底部可見(jiàn)白色根系透出或掀起尼龍網(wǎng)可見(jiàn)植物根系相互串集時(shí)、得中華長(zhǎng)春藤地被植物成品模塊。
七、種植坡面處理對(duì)預(yù)種植的坡面表層10cm進(jìn)行處理以去除石頭、瓦礫、挖除樹(shù)樁等雜物，表施10cm種植土(沙、腐葉土、紅土和有機(jī)肥按0.5∶1∶1∶0.5比例充分混合)以增加養(yǎng)分，根據(jù)地形要求，平整成自然形；八、模塊種植中華長(zhǎng)春藤成品模塊使用前應(yīng)控水一天以使成品模塊容易起坪、方便運(yùn)輸；中華長(zhǎng)春藤模塊按景觀要求間鋪，間鋪的間隙20cm，并填以種植土、灌足水以使模塊與坡面緊貼。
九、模塊治坡地被植物模塊種植后，繼續(xù)補(bǔ)充水分，2周后中華長(zhǎng)春藤模塊根系深入坡面土壤，莖節(jié)氣生根向間隙蔓延，坡面綠化完成，模塊可單純依靠自然降雨或吸附地下水，無(wú)需人工管理。育地被植物治坡模塊完成。
權(quán)利要求
1.一種地被植物治坡模塊的制備方法，包括地被植物品種篩選、種植盤(pán)制備、插穗處理、扦插、扦插后的管理、修剪、地被植物成坪、種植坡面處理、模塊種植、模塊治坡，特征種植盤(pán)模塊培育地被植物的種植方法，使之能快速成坪，應(yīng)用于邊坡綠化。
2.根據(jù)權(quán)力1要求所述的方法，其特征在種植盤(pán)根據(jù)需要選擇大小，底部有孔可用于排水或透氣，深10-12cm，底部墊一層薄尼龍網(wǎng)。
3.根據(jù)權(quán)力1、2要求所述的方法，其特征在每份種植基質(zhì)，按腐葉土、紅土、珍珠巖3∶1∶0.5的比例配置，或者按泥炭∶珍珠巖10∶1的比例配置，然后平鋪在種植盤(pán)中備用，澆透水后基質(zhì)深10cm。
4.根據(jù)權(quán)力1、2、3要求所述的方法，其特征在于用種植盤(pán)室內(nèi)育苗，成長(zhǎng)后種植坡面，植物種植模塊化、拼裝化，使邊坡治理便捷化，易于成景。
全文摘要
一種地被植物治坡模塊的制備方法，包括地被植物品種篩選、種植盤(pán)制備、插穗扦插、扦插后的管理、修剪、地被植物成坪、種植坡面處理、模塊種植、模塊治坡。特征是種植盤(pán)模塊培育地被植物，使之能快速成坪，應(yīng)用于邊坡綠化，養(yǎng)護(hù)成本低。本發(fā)明的地被植物治坡模塊所選地被植物耐旱、耐貧瘠、耐寒、耐陰、也可在全陽(yáng)下生長(zhǎng)，莖節(jié)處易生氣生根具良好的蔓延性，四季基本常綠等特性，適用于粗放管理，有效地降低了生產(chǎn)與后期管理成本，由于地被植物根系較草坪草發(fā)達(dá)，抓地性強(qiáng)有利于固坡防滑和水土保持。
文檔編號(hào)A01G7/00GK1666593SQ20051001073
公開(kāi)日2005年9月14日 申請(qǐng)日期2005年4月11日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月11日
發(fā)明者畢永臻, 林勇芳, 周耕源 申請(qǐng)人:云南世博園藝有限公司