專利名稱：帶有滑動(dòng)導(dǎo)軌的振動(dòng)磨的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種振動(dòng)磨、優(yōu)選是盤式振動(dòng)磨，該振動(dòng)磨具有研磨單元和 振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器，該研磨單元可借助該振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器激勵(lì)產(chǎn)生振動(dòng)。
背景技術(shù)：
這種類型的振動(dòng)磨在現(xiàn)有技術(shù)中由DE3834456C2公開。在這種公知的
振動(dòng)磨中可以通過懸掛或豎立的方式設(shè)置在固定的基面上，不僅會(huì)使研磨容 器在與其研磨底部平行的振動(dòng)面中出現(xiàn)希望的振動(dòng)，而且也會(huì)導(dǎo)致與之垂直
的振動(dòng)和翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。在所謂的盤式振動(dòng)磨中，在其由側(cè)向的研磨壁、下研磨 底部和上研磨蓋限定邊界的研磨腔中通常以用于粉碎研磨物的側(cè)向運(yùn)動(dòng)間 隙或振動(dòng)間隙容納有研磨石和/或進(jìn)一步環(huán)繞該研磨石的研磨環(huán)，然而，由于 研磨元件的振動(dòng)運(yùn)行也需要小的垂直運(yùn)動(dòng)間隙，會(huì)不利地影響通過振動(dòng)驅(qū)動(dòng) 器導(dǎo)致的研磨單元的垂直振動(dòng)和翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是，有利地?cái)U(kuò)展本文開頭所述類 型的振動(dòng)磨，使得尤其是研磨單元的垂直振動(dòng)和翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)以及與此相關(guān)的缺 陷得以最大程度的避免。
按照本發(fā)明，該技術(shù)問題首先并主要通過該特征解決，即，設(shè)置一保持 裝置，在該保持裝置上安裝振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器，并且研磨單元在該保持裝置上借助 至少一個(gè)作用在研磨單元上的滑動(dòng)導(dǎo)軌與振動(dòng)面平面平行運(yùn)動(dòng)地支承。因此 可以保證，研磨單元僅設(shè)計(jì)用于與振動(dòng)面面平行的運(yùn)行，也即實(shí)際上沒有垂 直于振動(dòng)面的運(yùn)動(dòng)分量的平移運(yùn)動(dòng)和尤其是轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)。保持裝置可以是框架 狀的裝置或保持框架，其具有高強(qiáng)度，并且既可以在其上安裝振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器， 也可以安裝滑動(dòng)導(dǎo)軌的至少一個(gè)導(dǎo)軌配對(duì)元件。根據(jù)本發(fā)明，振動(dòng)面實(shí)際上 是空間上的固定參考面，由于振動(dòng)激勵(lì)僅可能在該平面內(nèi)或平行于該平面產(chǎn) 生研磨單元的運(yùn)動(dòng)。這種可運(yùn)動(dòng)性包括平移和轉(zhuǎn)動(dòng)，其中，不包含重要的、垂直于所述振動(dòng)面的運(yùn)動(dòng)分量。滑動(dòng)導(dǎo)軌這樣地配合，使得研磨單元不會(huì)繞 平行于振動(dòng)面的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)或翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，以及不會(huì)進(jìn)行與振動(dòng)面垂直 的運(yùn)動(dòng)?；瑒?dòng)導(dǎo)軌的概念包括各種相應(yīng)的平面平行的導(dǎo)軌類型?？紤]到由兩 個(gè)或多個(gè)導(dǎo)向或滑移元件的直接沿彼此相對(duì)滑動(dòng)的面形成的滑動(dòng)導(dǎo)軌，該滑
動(dòng)導(dǎo)軌在適當(dāng)?shù)耐繉?例如以塑料，如PTFE)時(shí)既可以干滑動(dòng)也可以在使用潤(rùn)
滑劑的情況下滑動(dòng)。除了這種直接的滑動(dòng)導(dǎo)軌也可以考慮這種方案，其中， 在相向?qū)б脑g安裝特殊的滑動(dòng)體或滾動(dòng)體。優(yōu)選的是，研磨單元可 與由研磨底部撐開的參照面面平行地運(yùn)動(dòng)地保持。替代或組合地存在這樣的 可能性，即，研磨單元與由振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器的偏心轉(zhuǎn)動(dòng)確定的偏心驅(qū)動(dòng)面面平行 地保持。被認(rèn)為合適的是，保持裝置上的振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器被以適于傳遞平行于振 動(dòng)面作用的力的方式固定在保持裝置上，優(yōu)選與保持裝置法蘭連接?？赡艿?構(gòu)造在于，即，滑動(dòng)導(dǎo)軌具有至少一個(gè)側(cè)向突伸出研磨單元的殼體基本輪廓 的、與研磨單元固定連接的導(dǎo)向元件，以及至少一個(gè)與保持裝置固定連接的、 與導(dǎo)向元件關(guān)于振動(dòng)面上的投影相重疊的、與導(dǎo)向元件平行的導(dǎo)向配對(duì)元 件。在此情形下也優(yōu)選的是，研磨壁由研磨單元的殼體部分、優(yōu)選由研磨環(huán)
向元件固定連接，其中，板狀的導(dǎo)向元件在形成滑動(dòng)導(dǎo)軌的情況下包圍導(dǎo)向 配對(duì)元件。這是一種堅(jiān)固并同時(shí)功能可靠的結(jié)構(gòu)。可以在上面的導(dǎo)向元件的 底側(cè)設(shè)置第 一導(dǎo)引面，而在下面的導(dǎo)向元件的上側(cè)設(shè)置與之平行的第二導(dǎo)向
為實(shí)現(xiàn)實(shí)際上沒有間隙的滑動(dòng)導(dǎo)軌，第 一 和第二導(dǎo)向元件之間的垂直間距相 應(yīng)于對(duì)應(yīng)配設(shè)的第 一和第二導(dǎo)向配對(duì)元件之間的垂直間距。如果滑動(dòng)導(dǎo)軌至 少在大約研磨單元的重心高度和/或大約研磨壁和/或研磨環(huán)和/或磨石的重 心的高度上作用在研磨單元上，那么將實(shí)現(xiàn)對(duì)導(dǎo)引有利的性能。上導(dǎo)引面設(shè) 置在研磨腔的高度或其上面且下導(dǎo)向面設(shè)置在研磨腔的高度或下面被認(rèn)為 是優(yōu)選的實(shí)施形式。 一種運(yùn)行尤其可靠的構(gòu)造這樣地實(shí)現(xiàn)，即，導(dǎo)向配對(duì)元 件在關(guān)于導(dǎo)引面為振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器留有足夠的側(cè)向空腔的情況下(優(yōu)選沿著整個(gè) 圓周)包圍研磨單元的殼體區(qū)域、優(yōu)選是其殼體環(huán)。在此情形中進(jìn)一步優(yōu)選 的是，可以具有圓柱狀外壁的殼體環(huán)以側(cè)向運(yùn)動(dòng)間隙設(shè)置在導(dǎo)向配對(duì)元件的 優(yōu)選圓形的或同樣圓柱形的中心孔中，而板狀的導(dǎo)向元件在研磨單元的各個(gè) 可能位置突伸出中心孔的邊緣。關(guān)于振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器存在這樣的可能性，即，其具有固定在保持裝置上的驅(qū)動(dòng)電機(jī)，該驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)偏心輪在偏心輪驅(qū)動(dòng)面 內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)，并且該偏心輪作用在研磨單元上，以產(chǎn)生振動(dòng)激勵(lì)。偏心輪特別可 以具有與被接收在研磨單元上的(優(yōu)選支承在研磨單元底側(cè)的)樞軸承相接 合的偏心軸頸。為避免尤其在長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行時(shí)由于摩擦熱產(chǎn)生的溫度升高，研 磨單元可以包括一作用在研磨壁上的冷卻裝置，該冷卻裝置優(yōu)選具有至少一 個(gè)在外側(cè)直接鄰接研磨壁的冷卻通道。為了能夠在研磨過程后將粉碎的研磨 物從研磨腔排出，可以有一排出通道，該排出通道沿著其周向(在此在橫截 面中朝向徑向外側(cè)并必然向下錯(cuò)移地)包圍研磨底部。在研磨運(yùn)行過程中， 研磨底部以其邊緣直接鄰接側(cè)向的研磨壁，另一方面，為將粉碎的研磨物導(dǎo) 出到排出通道中而移動(dòng)到 一個(gè)從研磨壁移開的位置，因此形成從研磨壁至排 出通道的通道。優(yōu)選的是，研磨單元中的研磨壁可借助作用于兩側(cè)的行程裝 置(優(yōu)選借助作用于兩側(cè)的氣動(dòng)或液壓的缸筒-活塞單元)垂直于研磨單元 的運(yùn)動(dòng)面或振動(dòng)面位移。按照另一方面，樞軸承在上側(cè)與研磨單元的基板連 接，該基板形成作用于兩側(cè)的行程元件的基座。為實(shí)現(xiàn)沒有翻轉(zhuǎn)的移位運(yùn)動(dòng)， 在此，活塞可以在研磨單元的殼體和研磨底部分別剛性地支撐。為了在考慮 研磨單元的偏心振動(dòng)激勵(lì)的情況下實(shí)現(xiàn)質(zhì)量平衡，可以有一個(gè)由驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū) 動(dòng)的偏心配重，該配重優(yōu)選是可調(diào)的，以便適應(yīng)不同的運(yùn)行條件。


接下來(lái)參照示出了優(yōu)選的實(shí)施形式的附圖詳細(xì)說明本發(fā)明。圖中: 圖1是按本發(fā)明的振動(dòng)磨的一種優(yōu)選的實(shí)施形式的剖視圖2是圖1中的局部剖視圖II的局部剖視放大圖3是沿圖1中的觀察方向ni的側(cè)視圖，以及
圖4是按圖3的局部剖視圖IV。
具體實(shí)施例方式
圖1以剖視圖示出了按本發(fā)明的振動(dòng)磨1、尤其是盤式振動(dòng)磨的一種優(yōu) 選的實(shí)施形式。該振動(dòng)磨具有框架狀的、即本身剛性的保持裝置2， 一安裝 在其上的振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器3以及可由該振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器激勵(lì)產(chǎn)生轉(zhuǎn)動(dòng)振動(dòng)的研磨單元 4。研磨單元4是可由作用在研磨單元上的專門振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器激勵(lì)產(chǎn)生振動(dòng)以 容納并粉碎研磨物的的組件。研磨單元包括研磨壁5、研磨底部6和研磨蓋
77,它們共同限定研磨腔8的邊界。在研磨腔中可以通過穿過研磨蓋7的孔9 加入要在振動(dòng)磨中粉碎的、未示出的研磨物，如由巖石、礦石或礦渣制成的 顆粒狀的材料試樣。粉碎優(yōu)選可以進(jìn)行直至微米級(jí)的顆粒大小，并且用于對(duì) 材料進(jìn)行分析、例如用于借助x射線光譜儀檢查組分而制備研磨物。研磨物 的粉碎由此發(fā)生，即，由于磨石相比研磨底部6較小的尺寸，可在研磨腔8 中運(yùn)動(dòng)的磨石10由于振動(dòng)驅(qū)動(dòng)而在所述研磨腔中運(yùn)動(dòng)，其中，研磨物在研 磨壁5和磨石IO之間的連續(xù)改變寬度的研磨間隙11中蜂皮粉碎。為實(shí)現(xiàn)小的 顆粒大小和盡可能均勻的粒度分布(如圖所示)，優(yōu)選的是，形成盡可能平行 地限定邊界的研磨間隙。作為圖l所示的替代或組合，設(shè)計(jì)為實(shí)心體的磨石 IO可以在研磨腔中容納在所謂的研磨環(huán)(未示出)中。在組合應(yīng)用時(shí)，這樣地 協(xié)調(diào)尺寸或直徑，使研磨環(huán)以可在研磨壁5內(nèi)運(yùn)動(dòng)的方式放置在研磨壁6上 而使磨石以可在研磨環(huán)內(nèi)移動(dòng)的方式放置在研磨壁6上。在研磨運(yùn)行過程中， 研磨單元4借助振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器3按照參照?qǐng)D2進(jìn)一步詳細(xì)說明的方式激勵(lì)產(chǎn)生 振動(dòng)。為使得研磨單元的在此限定研磨腔8邊界的部件僅可以面平行地相對(duì) 垂直于研磨底面的參考面運(yùn)動(dòng)，也即平移和/或轉(zhuǎn)動(dòng)，在研磨單元4上作用有 整體以12表示的滑動(dòng)導(dǎo)軌。由此保證，研磨單元4僅以面平行地相對(duì)振動(dòng) 面(空間上的固定參考面)運(yùn)動(dòng)的方式保持在保持裝置2上。振動(dòng)面的方向通 過滑動(dòng)導(dǎo)軌12或通過其滑動(dòng)面的方向預(yù)先給定，并且在所示的實(shí)施形式中 沿研磨底部6的方向或平行于研磨底部6的表面延伸。為示意性示出這種情 形，在圖1中示例性地表示出了振動(dòng)面S的方向(為顯示研磨底部而向上移 動(dòng)了)。在所示的例子中，框架狀的保持裝置2由數(shù)個(gè)固定地安放在地面13 上的支承件14、 一個(gè)固定在該支撐件上的、例如螺紋連接在其上的支承板 15以及一組從支承板15基本上抗彎地突出的支撐件16構(gòu)成，其中，在所選 的例子中支撐件是(然而不是必需的)條形型材。在支撐件16的垂直的、朝向 研磨單元4的表面分別借助螺栓17安裝有L型的支架18。所述支架的分別 從支撐件16向研磨單元4突伸出的邊腿在其自由端的區(qū)域內(nèi)擰緊在由此將 研磨單元4沿垂直方向保持的環(huán)形部件的外環(huán)形凸緣19上。所述環(huán)形部件 同時(shí)是導(dǎo)向配對(duì)元件20，該導(dǎo)向配對(duì)元件各與上和下導(dǎo)向元件21， 22—起 形成滑動(dòng)導(dǎo)軌12。優(yōu)選在周向上封閉的導(dǎo)向元件20包圍研磨單元4的殼體 區(qū)域，在所示的例子中尤其是殼體環(huán)23，關(guān)于導(dǎo)向面S在留有足夠用于振 動(dòng)驅(qū)動(dòng)器的側(cè)向空腔24。與上面和下面的板狀導(dǎo)向元件21， 22借助螺栓25固定連接的殼體環(huán)23在導(dǎo)向配對(duì)元件20的通孔26內(nèi)部借助滑動(dòng)導(dǎo)軌12與 振動(dòng)面S面被平行地強(qiáng)制導(dǎo)引。這使得整個(gè)研磨單元4僅面平行于振動(dòng)面S 運(yùn)動(dòng)，即平移和轉(zhuǎn)動(dòng)，也即沒有與振動(dòng)面S垂直的運(yùn)動(dòng)分量出現(xiàn)。相應(yīng)的振 動(dòng)運(yùn)動(dòng)通過在圖1中一同示出的振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器3產(chǎn)生。在所示的例子中，振動(dòng) 驅(qū)動(dòng)器包括驅(qū)動(dòng)電機(jī)27(在此是電機(jī))，該驅(qū)動(dòng)電機(jī)借助支承凸緣28從下側(cè) 法蘭連接至支承板15。在電機(jī)軸29上轉(zhuǎn)動(dòng)形狀配合地保持有整體上作為驅(qū) 動(dòng)偏心輪30示出的部件，該部件的朝向電機(jī)且與電機(jī)軸29同心的套筒部段 31轉(zhuǎn)動(dòng)支承在由支承凸緣28接收的電機(jī)軸承32中。從部段31在延長(zhǎng)線偏 心地(參見圖2中的偏心度e)伸出的偏心軸頸33作用在研磨單元4底側(cè)的接 收在支座34中的樞軸承34上。通過偏心軸頸33的轉(zhuǎn)動(dòng)確定與電機(jī)軸29垂 直的偏心驅(qū)動(dòng)面E(參見圖2),該偏心驅(qū)動(dòng)面與振動(dòng)面S平行間隔地延伸。 顯然，保持裝置2上的振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器3以適于傳遞平行于振動(dòng)面S作用的力的 方式安裝在保持裝置2上。
圖2根據(jù)圖1中的局部剖面II的剖視放大圖示出了一些進(jìn)一步的結(jié)構(gòu)細(xì) 節(jié)。相對(duì)于導(dǎo)軌12,導(dǎo)引面36設(shè)置在上導(dǎo)向元件21的底側(cè)，且在下導(dǎo)向元 件22的上側(cè)設(shè)置一與導(dǎo)向面36平行的另一導(dǎo)向面37。分別為面36， 37在 具有滑動(dòng)環(huán)功能的導(dǎo)向配對(duì)元件20上配設(shè)上側(cè)和下側(cè)的平行的導(dǎo)向配對(duì)面 38， 39。僅示意性地示出了重心40，以^_示出滑動(dòng)導(dǎo)軌12大約在重心40 的高度處作用在研磨單元4上。尤其是上導(dǎo)向面36設(shè)置在研磨腔8的上面， 下導(dǎo)向面37設(shè)置在高度可調(diào)節(jié)的研磨底部6的高度處。因此，圖2(與圖1 所示的研磨運(yùn)行不同)示出了研磨底部的為從研磨腔8將已粉碎的研磨物排 出而選擇的下面的移動(dòng)位置。在此移動(dòng)位置，研磨底部6與研磨壁5限定邊 緣側(cè)的間隙41的邊界，粉碎的研磨物由于離心力通過該間隙到達(dá)同樣環(huán)形 延伸的、在截面內(nèi)徑向向外且向下錯(cuò)移的排出通道42。研磨物沿著排除通道 42通過振動(dòng)運(yùn)動(dòng)被輸送至排出區(qū)域43并最終輸送到出口 44。研磨底部6的 位置調(diào)整可借助作用于兩側(cè)的升降裝置45實(shí)現(xiàn)，在本實(shí)施形式中通過氣動(dòng) 的氣缸-活塞單元借助選擇地對(duì)上壓力腔46或下壓力腔47加載壓力而實(shí)現(xiàn)。 樞軸承35在上側(cè)與研磨單元4的基板51連接，該基板形成用于所述氣缸-活塞單元的基座。在其中導(dǎo)引的活塞45、為實(shí)現(xiàn)盡可能沒有翻轉(zhuǎn)的調(diào)整運(yùn)動(dòng) 而在其下沉的(abgesetzen)橫截面相對(duì)研磨單元的殼體和研磨底部抗彎的 支撐。圖1還示出了，在磨石10的上側(cè)和通過邊緣密封件安置在導(dǎo)向元件21中的研磨蓋7的底側(cè)之間留有足夠研磨元件(也考慮存在的研磨物)側(cè)向 運(yùn)動(dòng)的間隙(間距A)。通過防止研磨元件之間以及相對(duì)研磨壁的翻轉(zhuǎn)，所形 成的研磨間隙以平行地限定邊界的方式保持，這在研磨運(yùn)行中對(duì)可實(shí)現(xiàn)的顆 粒大小和顆粒大小的均勻度起有利的作用。盡管如此，滑石10由于間隙設(shè) 計(jì)得相對(duì)較少的滑動(dòng)導(dǎo)軌12而不會(huì)被激勵(lì)產(chǎn)生跳動(dòng)或翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，而是僅與
振動(dòng)面s平行地振動(dòng)。為相對(duì)于偏心地激勵(lì)產(chǎn)生轉(zhuǎn)動(dòng)振動(dòng)的研磨單元實(shí)現(xiàn)質(zhì) 量平衡，在驅(qū)動(dòng)偏心輪30的偏心縱向部段設(shè)有偏心的配重48，其輪廓可由 圖4得知，并且可以在可調(diào)節(jié)的周向位置通過螺栓49固定。最后，研磨單 元4還包括作用在研磨壁5上的冷卻裝置，該冷卻裝置在本實(shí)施形式中具有 從外側(cè)直接鄰接研磨壁5的冷卻通道50。該通道可由^皮導(dǎo)引通過圖中未示出 的入口和出口的冷卻劑(如水)流過，使得尤其在結(jié)合帶有控制器或調(diào)節(jié)器 的外部冷卻組件的情況下可實(shí)現(xiàn)有針對(duì)性的溫度控制。
所有公開的特征(本身)對(duì)于本發(fā)明而言都是重要的。在本申請(qǐng)的公開 中，由此也引入了所屬的/所附的優(yōu)先權(quán)文件(在先申請(qǐng)文件副本)的7>開內(nèi) 容，也為此目的，將此優(yōu)先權(quán)文件的特征結(jié)合在本申請(qǐng)的權(quán)利要求內(nèi)。
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權(quán)利要求
1.一種振動(dòng)磨，尤其是盤狀振動(dòng)磨，具有研磨單元和振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器，所述研磨單元可借助該振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器激勵(lì)產(chǎn)生振動(dòng)，其特征在于，設(shè)置有一保持裝置(2)，振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器(3)安裝在該保持裝置上，并且所述研磨單元(4)借助至少一個(gè)作用在所述研磨單元(4)上的滑動(dòng)導(dǎo)軌(12)以與振動(dòng)面(S)面平行運(yùn)動(dòng)的方式保持在所述保持裝置上。
2. 如權(quán)利要求1所述的振動(dòng)磨，其特征在于，所述研磨單元(4)可以以 與由所述研磨單元的研磨底部(6)張成的參考面面平行運(yùn)動(dòng)的方式保持。
3. 如前列各項(xiàng)權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)或尤其是如下所述的振動(dòng)磨，其 特征在于，所述研磨單元(4)可以以與由所述振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器(3)的偏心轉(zhuǎn)動(dòng)確定 的偏心驅(qū)動(dòng)面(E)面平行地運(yùn)動(dòng)的方式保持。
4. 如前列各項(xiàng)權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)或尤其是如下所述的振動(dòng)磨，其面(S)作用的力的方式固定在所述保持裝置(2)上，尤其是法蘭連接在所述保 持裝置(2)上。
5. 如前列各項(xiàng)權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)或尤其是如下所述的振動(dòng)磨，其 特征在于，所述滑動(dòng)導(dǎo)軌(12)具有至少一個(gè)側(cè)向突伸出所述研磨單元(4)的殼 體基本輪廓的、與所述研磨單元(4)固定連接的導(dǎo)向元件(21,22)和至少 一個(gè)與 所述保持裝置(2)固定連接的、與導(dǎo)向元件(21,22)關(guān)于在所述振動(dòng)面(S)上的 投影相重疊的、與所述導(dǎo)向元件(21,22)平行的導(dǎo)向配對(duì)元件(20)。
6. 如前列各項(xiàng)權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)或尤其是如下所述的振動(dòng)磨，其 特征在于，所述研磨單元(4)的限定所述研磨腔的研磨壁(5)由所述研磨環(huán)(4) 的殼體部分、尤其是由殼體環(huán)包圍，并且，該殼體部分與上部的板狀導(dǎo)向元接，其中，所述板狀的導(dǎo)向元件(21,22)在形成滑動(dòng)導(dǎo)軌(12)的情況下包圍所 述導(dǎo)向配對(duì)元件(20)。
7.如前列各項(xiàng)權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)或尤其是如下所述的振動(dòng)磨，其 特征在于，在所述上導(dǎo)向元件(21)的底側(cè)設(shè)置有一導(dǎo)引面(36),并且在所述 下導(dǎo)向元件(22)的上側(cè)設(shè)置與該導(dǎo)引面(36)平行的另一導(dǎo)引面(37)，并且為所 述導(dǎo)向面(36,37)在所述導(dǎo)向配對(duì)元件(20)上分別配設(shè)平行的導(dǎo)引配對(duì)面(38,39)。
8. 如前列各項(xiàng)權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)或尤其是如下所述的振動(dòng)磨，其 特征在于，所述滑動(dòng)導(dǎo)軌(12)至少大約在所述研磨單元(4)的重心(40)的高度 和/或大約在所述研磨壁(4)和/或研磨環(huán)和/或磨石(IO)的重心的高度作用在所 述研磨單元(4)上。
9. 如前列各項(xiàng)權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)或尤其是如下所述的振動(dòng)磨，其 特征在于，所述上導(dǎo)引面(36)設(shè)置在所述研磨腔(8)的高度或所述研磨腔(8) 的上方，并且所述下導(dǎo)引面(37)設(shè)置在所述研磨腔(8)的高度或所述研磨腔(8). 的下方。
10. 如前列各項(xiàng)權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)或尤其是如下所述的振動(dòng)磨， 其特征在于，所述導(dǎo)向配對(duì)元件(20)在關(guān)于導(dǎo)引面(S)在留有足夠用于所述振 動(dòng)驅(qū)動(dòng)器的空腔(24)的情況下、尤其是沿著整個(gè)圓周包圍所述研磨單元(4)的 殼體區(qū)域、尤其是所述研磨單元(4)的殼體環(huán)(23)。
11. 如前列各項(xiàng)權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)或尤其是如下所述的振動(dòng)磨， 其特征在于，所述殼體環(huán)(23)以側(cè)向振動(dòng)間隙設(shè)置在所述導(dǎo)向配對(duì)元件(20) 的尤其是圓形的通孔(26)中，并且所述板狀的導(dǎo)向元件(21,22)在所述研磨單 元(4)的各個(gè)可能的振動(dòng)位置突伸出所述通孔(26)的邊緣。
12. 如前列各項(xiàng)權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)或尤其是如下所述的振動(dòng)磨， 其特征在于，所述振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器(3)具有一固定在所述保持裝置(2)上的驅(qū)動(dòng)電 機(jī)(27),該驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)偏心輪(30)在偏心驅(qū)動(dòng)面(E)中轉(zhuǎn)動(dòng)，并且，所述驅(qū) 動(dòng)偏心輪(3O)作用在所述研磨單元(4)上，以振動(dòng)激勵(lì)。
13. 如前列各項(xiàng)權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)或尤其是如下所述的振動(dòng)磨， 其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)偏心輪(30)具有一偏心軸頸(33)，該偏心軸頸作用在 被接收在研磨單元(4)上、尤其是纟皮接收在研磨單元(4)底側(cè)上的樞軸承(35)、 優(yōu)選^求軸7 義上。
14. 如前列各項(xiàng)權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)或尤其是如下所述的振動(dòng)磨， 其特征在于，所述研磨單元(4)包括作用在所述研磨壁(5)上的冷卻裝置，該 冷卻裝置尤其具有鄰接所述研磨壁(5)外側(cè)的冷卻通道(50)。
15. 如前列各項(xiàng)權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)或尤其是如下所述的振動(dòng)磨， 其特征在于，所述研磨單元(4)中的研磨底部(6)可借助作用于兩側(cè)的升降裝 置(45)、尤其是借助作用于兩側(cè)的氣動(dòng)或液壓的氣缸-活塞單元垂直于所述研磨單元0)的運(yùn)動(dòng)面(S)調(diào)整位置。
16. 如前列各項(xiàng)權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)或尤其是如下所述的振動(dòng)磨，其特征在于，所述樞軸承(35)在上側(cè)與所述研磨單元(4)的基板(51)連接，該 基板形成所述作用于兩側(cè)的升降裝置(45)的基座，并且所述活塞(45、)為實(shí)現(xiàn) 沒有翻轉(zhuǎn)的調(diào)整運(yùn)動(dòng)而相對(duì)所述研磨單元(4)的殼體和所述研磨底部(6)抗彎 地支撐。
17. 如前列各項(xiàng)權(quán)利要求中的一項(xiàng)或多項(xiàng)或尤其是如下所述的振動(dòng)磨， 其特征在于，由所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)(27)驅(qū)動(dòng)至少一個(gè)尤其是可調(diào)節(jié)的配重(48)， 以平衡質(zhì)量。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種振動(dòng)磨，尤其是盤狀振動(dòng)磨(1)，該振動(dòng)磨具有研磨單元(4)和振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器(3)，所述研磨單元(4)可借助該振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器激勵(lì)產(chǎn)生振動(dòng)，為有利地?cái)U(kuò)展，使得可以盡可能避免研磨單元的垂直振動(dòng)和翻轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)以及與之相關(guān)的缺點(diǎn)，建議，設(shè)有一保持裝置(2)，所述振動(dòng)驅(qū)動(dòng)器(3)安裝在該保持裝置上，并且所述研磨單元(4)借助至少一個(gè)作用在所述研磨單元(4)上的滑動(dòng)導(dǎo)軌(12)與振動(dòng)面(S)面平行地運(yùn)動(dòng)地保持在所述保持裝置上。
文檔編號(hào)B02C17/14GK101553316SQ200780041691
公開日2009年10月7日 申請(qǐng)日期2007年9月4日 優(yōu)先權(quán)日2006年9月8日
發(fā)明者利利·埃利斯, 厄恩斯特·M·哈斯 申請(qǐng)人:普法夫Aqs自動(dòng)質(zhì)量控制系統(tǒng)有限責(zé)任公司