本實用新型涉及農業(yè)種植技術領域，尤其涉及一種露地西瓜立架增密栽培支撐裝置。

背景技術：

現有技術中，小型西瓜在露地條件下的種植與普通西瓜的種植方式相同，通過在地表進行栽培，使小型西瓜在地表生長，由于小型西瓜的藤蔓茂盛，導致小型西瓜的光合利用率低，而且小型西瓜在地表生長容易受到病蟲害的影響影響小型西瓜的產量，并占用了大量土地。

技術實現要素：

鑒于以上所述現有技術的缺點，本實用新型的目的在于提供一種土地和空間利用率高、種植密度大、病蟲害發(fā)生輕的露地西瓜立架增密栽培支撐裝置。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：

一種露地西瓜立架增密栽培支撐裝置，其特征在于，包括：

底座，由至少三根位于同一平面內的桿體依次首尾相連構成的密閉支架；

立桿，垂直于底座所在的平面設置且其底端與底座連接固定；

至少一個地埋桿，垂直于底座所在的平面設置且其頂端與底座連接固定；

兩個支撐桿，對稱分布在立桿頂端外側；

連接件，設置在所述的立桿頂端外側或/和支撐桿外側。

所述的兩個支撐桿之間的開口夾角在120度-180度之間。

所述的兩個支撐桿之間的開口朝上或朝下設置。

所述的立桿底端與任意兩個相鄰桿體的連接處連接固定。

所述的地埋桿頂端與任意兩個相鄰桿體的連接處連接固定。

所述的連接件為固定桿、固定環(huán)和鉤體中的至少一種。

所述的地埋桿底端為錐狀結構。

綜上所述，本實用新型具有以下有益效果：

通過該裝置可以實現露地小型西瓜的立體栽培，具有土地和空間利用率高、種植密度大、病蟲害發(fā)生輕的優(yōu)點，有效提高小型西瓜的種植密度，擴大了藤蔓葉面積，提高光合效率，降低小型西瓜病蟲害的發(fā)生率，從而實現了露地小型西瓜的增產增收。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。

圖1為本實用新型的結構示意圖。

圖2為本實用新型的使用狀態(tài)結構示意圖。

圖中，1桿體、2立桿、3地埋桿、4支撐桿、5連接件、6斜拉線、7水平拉線、8栽培拉線、9配重物。

具體實施方式

以下由特定的具體實施例說明本實用新型的實施方式，熟悉此技術的人士可由本說明書所揭露的內容輕易地了解本實用新型的其他優(yōu)點及功效。

根據附圖1所示：本實用新型提供了一種露地西瓜立架增密栽培支撐裝置，包括底座、立桿2、三個地埋桿3、兩個支撐桿4和連接件5，其中：

底座，由三根位于同一平面內的桿體1依次首尾相連構成的三角形密閉支架，三根桿體1的長度分別為30cm、30cm和15cm，底座用于實現露地西瓜立架增密栽培支撐裝置在地表的支撐放置；

立桿2，垂直于底座所在的平面設置且其底端與底座的兩個長度為30cm的桿體1的連接處連接固定，立桿2的高度為200cm，通過立桿2保障露地西瓜立架增密栽培支撐裝置具有一定的高度，實現小型西瓜立體空間內的栽培；

三個地埋桿3均垂直于底座所在的平面設置，三個地埋桿3的頂端分別與底座的三個角連接固定，即地埋桿3頂端分別與相鄰桿體1的連接處連接固定，使地埋桿3對底座的三個角進行固定，地埋桿3的高度為50cm，地埋桿3底端為錐狀結構，通過地埋桿3將露地西瓜立架增密栽培支撐裝置固定在地表的指定位置；

兩個支撐桿4對稱分布在立桿2頂端外側，兩個支撐桿4之間的開口夾角A在120度，兩個支撐桿4之間的開口朝上設置，兩個支撐桿4外側端部之間的間距為40cm，與小型西瓜的育苗間距相對應設置，通過支撐桿4完成水平拉線7端部的固定和水平拉線7整體的支撐；

連接件5，設置在所述的立桿2頂端外側和支撐桿4外側端部，所述的連接件5為固定桿、固定環(huán)或鉤體中的至少一種，可以根據實際使用需要進行選擇，主要用于對斜拉線6、水平拉線7的安裝固定。

根據附圖2所示：使用過程中，根據小型西瓜的育苗位置將露地西瓜立架增密栽培支撐裝置進行固定，固定過程中將其三個地埋桿3均埋入地下，并且同一行或列內的露地西瓜立架增密栽培支撐裝置位于同一直線上，支撐桿4位于該直線兩側，通過立桿2頂端外側的連接件5與斜拉線6配合對位于兩端的露地西瓜立架增密栽培支撐裝置的外側與地表之間進行連接固定，通過支撐桿4端部的連接件5與水平拉線7配合對相鄰露地西瓜立架增密栽培支撐裝置之間進行連接固定，由于支撐桿4分別位于兩側，所以水平拉線7通過連接件5設有對應兩條，當連接件5的設置數量增加時可以對應的增加水平拉線7的數量，然后在水平拉線7與地表之間鋪設若干栽培拉線8，栽培拉線8頂端與水平拉線7連接固定，栽培拉線8底端連接有配重物9，栽培拉線8的位置與小型西瓜的育苗位置對應設置，使小型西瓜的藤蔓可以依靠栽培拉線8與水平拉線7配合進行立體栽培。

以上所述僅為本實用新型的優(yōu)先實施方式，只要以基本相同手段實現本實用新型的目的技術方案，都屬于本實用新型的保護范圍之內。