專利名稱：平版印刷版用支承體及平版印刷版原版的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種平版印刷版用支承體及平版印刷版原版。
1)尤其涉及因保水性優(yōu)越，故在作為平版印刷版時，難于產(chǎn)生網(wǎng)點部油墨粘連并在低濕度環(huán)境下的耐放置污濁性優(yōu)越的平版印刷版用支承體及使用其的平版印刷版原版。另外，除了上述特性以外，還涉及與難于產(chǎn)生泡狀殘膜的平版印刷版原版及用于其上的平版印刷版用支承體。
2)尤其涉及耐污濁性優(yōu)越、尤其能作為在擠干濕水量時難于產(chǎn)生非圖像部的污濁(底污濁)，圖像部的圖像記錄層與支承體的粘合牢固的耐印性優(yōu)越，且難于產(chǎn)生實地部(實地圖像部)的著墨不良的平版印刷版的平版印刷版用支承體及平版印刷版原版。此外，除了上述特性以外，還涉及能用具有優(yōu)越的使用除塵器擦拭時耐印性不劣化的平版印刷版的平版印刷版用支承體及平版印刷版原版。并且，除了上述特性以外，還涉及難于產(chǎn)生局部的點狀殘膜(泡狀殘膜)，特別是在設(shè)有激光掃描型圖像記錄層時，能作為具有優(yōu)越的防止泡狀殘膜發(fā)生效果的平版印刷版的平版印刷版用支承體及平版印刷版原版。
3)尤其涉及在作為平版印刷版時，在圖像部，其感光層與支承體的粘合性優(yōu)越，特別是UV油墨耐印性優(yōu)越，并且在非圖像部，難于產(chǎn)生污濁的平版印刷版用支承體及使用其的平版印刷版原版。
背景技術(shù)：
平版印刷法是利用了水與油不能本質(zhì)地混合的印刷方式，在被用于此的平版印刷版的印刷版面上，形成接受水并排斥油性墨的區(qū)域(以下，將該區(qū)域稱為「非圖像部」。)，及排斥水而接受油性墨的區(qū)域(以下，將該區(qū)域稱為「圖像部」。)。
用于平版印刷的平版印刷版用鋁支承體(以下，簡單地稱為「平版印刷版用支承體」。)，由于其表面用于承擔非圖像部，所以要求其具有優(yōu)越的親水性和保水性，并且要求具有優(yōu)越的與被設(shè)在其上的圖像記錄層粘附性等的互易的種種性能。
如果支承體的親水性降低，則在印刷時油墨會粘到非圖像部，并產(chǎn)生橡膠筒體的骯臟，進而產(chǎn)生所謂的底污濁。此外，如果支承體的保水性過低，在印刷時浸潤水不多則產(chǎn)生陰影部的連片。因此，也就是說水的幅度很窄。
1)一方面，若在實施了表面粗化處理的支承體的表面上存在深的凹部，則為了加厚該部分圖像記錄層的厚度，有時在形狀上抑制顯影。抑制顯影的結(jié)果是，圖像記錄層殘留在深的凹部中，在非圖像部產(chǎn)生局部的殘膜(以下，也稱作「泡狀殘膜」。)，成為印刷時的非圖像部污濁原因。例如，在設(shè)有通過由光熱轉(zhuǎn)換而產(chǎn)生的熱來改變對堿性顯影液的可溶性的所謂熱敏型的圖像記錄層的平版印刷原版上，在凹部的底部圖像形成反應(yīng)不充分，且產(chǎn)生泡狀殘膜。
這樣的泡狀殘膜，容易在曝光及顯影條件嚴格時產(chǎn)生。例如，在設(shè)有熱敏型的圖像記錄層的平版印刷原版上，為了提高生產(chǎn)率或縮短曝光時間，或為了激光的長壽命化而降低激光的光能等級等，有時會降低激光曝光量。此外，對應(yīng)感度高的高活性顯影液，由于在本來應(yīng)當成為圖像部的部分使用了容易產(chǎn)生圖像脫落的圖像記錄層，所以有時也使用感度低的顯影液。
2)另一方面，在非圖像部，為了維持不容易污濁程度，最好將表面的凹凸形狀作得平緩，以便不粘附不需要的油墨，但將表面的凹凸形狀變得平緩，則降低了圖像記錄層與支承體的附著性，降低了耐印性。即，所謂耐污濁性和耐印性，是折衷選擇的關(guān)系。
3)此外，特別是如果支承體的親水性過低，則在印刷時在非圖像部產(chǎn)生油墨粘附、油墨污濁、特別是間隙污濁。此外，如果所說的水的幅度窄，則會發(fā)生因油墨的種類所產(chǎn)生網(wǎng)點的連片。
間隙污濁，屬于以油墨印過的張數(shù)評價的油墨污濁，是與印刷初期在圖像附近油墨殘留污濁不同的另外的油墨污濁。把從在能被卷成版筒體的PS版與橡膠筒體接觸的一側(cè)、被固定在版筒體上的部分(下側(cè)的夾頭部)附近、到圖像部之間的非圖像部被稱作間隙，并將在開始印刷時該間隙容易被粘上油墨而被污濁的現(xiàn)象稱作間隙污濁，由于如果在印刷過程中供給水及油墨就能漸漸消除，所以通常以油墨印過張數(shù)進行綜合評價。
間隙污濁，當將PS版從版筒體取出并展開時，在上下具有夾頭部且中央有圖像部的其下側(cè)，觀測圖像部與夾頭部之間的非圖像部的污濁情況。由于間隙污濁，容易在支承體表面多少引起細微的凹凸結(jié)構(gòu)，所以相反地要求提高支承體與圖像的附著性的技術(shù)。
為了解決上述問題并獲得性能良好的平版印刷版用支承體，一般是將鋁板的表面進行磨砂目(粗糙化表面處理)使其帶有凹凸不平。該凹凸不平如下所述，有各種各樣形狀的提案。在特開平8-300844號公報上，記述了具有規(guī)定了中波和小波開口直徑的大波、中波及小波的三重結(jié)構(gòu)。在特開平11-99758號公報及特開平11-208138號公報上，記述了在大小的兩重結(jié)構(gòu)中規(guī)定了小波的直徑的情況。在特開平11-167207號公報上，記述了在大小兩重凹部(坑)的基礎(chǔ)上附帶更微小的凸起的技術(shù)。在專利第2023476號說明書上，記述了規(guī)定了開口直徑的兩重結(jié)構(gòu)。在特開平8-300843號公報上，記述了規(guī)定表示表面光滑度的因數(shù)a30的兩重結(jié)構(gòu)。在特開平8-35133號公報上，記述了在多次電化學粗糙化表面處理(以下，也稱為「電解粗糙化表面處理」)時規(guī)定了被重疊的坑直徑比的結(jié)構(gòu)。
在該磨砂目中，使用球粗糙化、刷粗糙化、鋼絲粗糙化、噴丸粗糙化等機械的粗糙化方法，在含有鹽酸及/或硝酸的電解液中將鋁板電解腐蝕的電解粗糙表面化方法，在美國專利4476006號說明書中，使用了將機械的表面粗糙化方法及電解表面粗糙化方法組合起來的復合表面粗糙化方法。
但是，現(xiàn)在，在印刷現(xiàn)場，根據(jù)用途而使用各種油墨，而各油墨具有不同的液體物性。
1-1)在上述的以往技術(shù)中，保水性不充分，因油墨和潤濕水的種類，特別是在圖像部當中圖像面積率高的網(wǎng)點部(以下，也稱作「陰影部」)，當在印刷中減少了潤濕水時會產(chǎn)生圖像部的油墨容易向非圖像部移動的現(xiàn)象(以下，也稱作「網(wǎng)點部的油墨連片」，將該現(xiàn)象的產(chǎn)生難度稱作「連片難度」)等的不良狀況，并且也有其耐放置污濁性惡劣的問題。該網(wǎng)點部的油墨連片非常容易受油墨及潤濕水的物性的影響。
因此，本發(fā)明要解決這種問題，其目的在于提供一種作為平版印刷版，不分油墨及潤濕水的種類，難于產(chǎn)生在網(wǎng)點部的油墨連片且耐放置污濁性優(yōu)良的平版印刷版用支承體及使用它的平版印刷版原版。
1-2)此外，雖然加大表面粗糙度在提高保水性方面很有效，但如果加大表面粗糙度，則容易產(chǎn)生局部的深凹部。該深凹部，是造成曝光不良及顯影不良的原因，并容易產(chǎn)生泡狀殘膜。
因此，本發(fā)明的目的在于提供一種作為平版印刷版，不分油墨及潤濕水的種類，難于產(chǎn)生在網(wǎng)點部的油墨連片且耐放置污濁性優(yōu)良，并且，不產(chǎn)生泡狀殘膜的平版印刷版用支承體及使用它的平版印刷版原版。
2-1)此外，作為被印刷體，當使用為了增加白色度而在表面涂了油漆成分的再生紙(以下稱作「油漆再生紙」)時，則會在實地部產(chǎn)生油墨的著墨不良的問題。
但是，還沒有實現(xiàn)親水性和保水性顯著則耐污濁性顯著，與圖像記錄層附著性顯著則耐印性顯著，并且，在使用油漆再生紙并進行了印刷時不產(chǎn)生實地部著墨不良的平版印刷版用支承體。
因此，本發(fā)明的目的在于提供一種其耐印性和耐污濁性顯著，且難于在使用油漆再生紙時產(chǎn)生實地部著墨不良的平版印刷版原版及用于其上的平版印刷版用支承體。
3-1)在上述的以往技術(shù)中，根據(jù)油墨的種類還存在有問題。最近作為圖像記錄層使用了紫外線硬化性的UV油墨。UV油墨，其主要是由單分子物體和顏料構(gòu)成并在印刷后用紫外線照射單分子物體使其硬化并發(fā)色。特別是以單分子物體為起源的UV油墨自體或用于使用UV油墨印刷的處理藥品、特別是清洗油、板清潔器等，由于其必須使用比處理藥品更強力的材料，所以以這些藥劑為起源的液層如果形成于圖像部與支承體之間，則會引起更加損傷附著性的問題。因此需要進一步研究支承體的表面形狀。
3-2)此外，根據(jù)油墨的種類，在減少潤濕水時會產(chǎn)生陰影部的連片，即，容易產(chǎn)生向網(wǎng)點部上的非圖像部粘附油墨(以下，將該現(xiàn)象稱作「油墨的連片」，將該現(xiàn)象的產(chǎn)生難度稱作「連片難度」)的不適，并且，還有耐放置污濁性惡劣的問題。
因此，本發(fā)明要解決該問題，其目的在于提供一種在圖像部，感光層與支承體的附著性顯著，特別是UV油墨耐印性顯著，并且在非圖像部難于產(chǎn)生油墨污濁、及間隙污濁的平版印刷版原版及用于其上的平版印刷版用支承體。
3-3)此外，本發(fā)明的目的還在于提供一種作為平版印刷版，不分油墨的種類，可以防止在減少了潤濕水時的網(wǎng)點部上的向非圖像部的油墨粘附(網(wǎng)點的連片)的，具有最佳表面形狀的平版印刷版用支承體及使用它的平版印刷版原版。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明者，為了解決上述問題，對平版印刷版用支承體的表面形狀(物性)深刻研究的結(jié)果，完成了以下第1～第4實施方式的發(fā)明。
1)將表面積比△S50、特別是使用原子力顯微鏡，對表面的50μm□進行512×512點測定，將由所求出的三維數(shù)據(jù)得出的△S50(50)、從該三維數(shù)據(jù)抽取波長為2μm以上50μm以下的成分所得出的△S50(2-50)、以及從該三維數(shù)據(jù)抽取波長為0.2μm以上2μm以下的成分所得出的△S50(0.2-2)在規(guī)定的范圍內(nèi)進行調(diào)整，以此可以改善親水性及保水性，并在作為平版印刷版時，可顯現(xiàn)出難于產(chǎn)生網(wǎng)點部的油墨連片且具有顯著的在低濕度環(huán)境下的耐放置污濁性。
此外，通過規(guī)定存在于持有上述表面積比△S50的平版印刷版用支承體的表面上的、具有特定深度的凹部的個數(shù)，尤其是即使在嚴格曝光及顯影的條件下也能抑制泡狀殘膜的產(chǎn)生。
〔1〕本發(fā)明的第1實施方式，提供以下的(1)～(2)點。
(1)使用原子力顯微鏡，通過對表面的50μm□進行512×512點測定所求出的三維數(shù)據(jù)而得出的表面積比，滿足下述條件(1-i)～(1-iii)，(1-i)表面積比△S50(50)為20％～90％，(1-ii)表面積比△S50(2-50)為1％～30％，
(1-iii)表面積比△S50(0.2-2)為5％～40％，此時，△S50(50)，是由用近似三點法從上述三維數(shù)據(jù)求出的實際面積Sx50及幾何學的測定面積So50，用下式求出的表面積比，△S50(50)＝[(Sx50-So50)/So50]×100％ …(1-1)△S50(2-50)是從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長為2μm以上50μm以下的成分所得到的表面積比，△S50(0.2-2)，是從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.2μm以上2μm以下的成分所得到的表面積比。
(2)是根據(jù)上述(1)所述的平版印刷版用支承體，存在于表面上的深度為4μm以上的凹部的個數(shù)，每400μm×400μm在10個以下，并且存在于表面上的深度為3μm以上的凹部的個數(shù)，每400μm×400μm在30個以下。
此時，在上述存在于表面上的深度為3μm以上的凹部的數(shù)量中，包含上述深度為4μm以上的凹部的數(shù)量。此外，這些深度，以上述三維數(shù)據(jù)的表面光潔度曲線的平均線為基準。
2)此外，本發(fā)明者，深刻研究平版印刷版用支承體的表面形狀的結(jié)果，是在將表示用原子力顯微鏡所求出的表面形狀的各種因數(shù)、作為特定的范圍時，其耐印性和耐污濁性顯著，并且，發(fā)現(xiàn)難于產(chǎn)生在用塗漆再生紙時的實地部的著色不良，完成了本發(fā)明。
〔2〕本發(fā)明的第2實施方式，提供以下的(1)～(3)的發(fā)明。
(1)使用原子力顯微鏡，對表面的50μm□進行512×512點測定并從所得到的三維數(shù)據(jù)、用近似三點法求出的表面積比及陡波度，滿足下述條件(2-i)～(2-ii)，(2-i)表面積比△S50(50)為30％～60％，(2-ii)陡波度a4550(0.2-2)為5％～40％，在此，△S50(50)是用下式(2-1)從實際面積Sx50和幾何學的測定面積So50求出的表面積比，△S50(50)＝[(Sx50-So50)/So50]×100(％) …(2-1)陡波度a4550(0.2-2)，是從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.2μm以上2μm以下的成分所得出的數(shù)據(jù)中的傾斜度為45°以上部分的面積率。
但是，在印刷過程中，有時使用稱作清洗版面的藥品進行清洗作業(yè)，該清潔劑，在除去粘在非圖像部表面上的不需要的油墨的同時，其浸透于圖像記錄層與支承體之間，使它們密接性降低，隨之也有惡化耐印性的不適。因此，即使用清潔劑擦拭也不使耐印性惡化的性質(zhì)(清洗耐印性)，是對于平版印刷版的重要特性。
本發(fā)明者，對平版印刷版用支承體的表面形狀深刻研究的結(jié)果，在將表示使用與上述不同的原子力顯微鏡所求出的表面形狀的各種因數(shù)作為特定范圍時，發(fā)現(xiàn)清洗耐印性也變的顯著了。
(2)即，使用原子力顯微鏡，對表面的50μm□進行512×512點測定并從所得到的三維數(shù)據(jù)求出的表面積比及陡波度，滿足下述條件(3-i)～(3-ii)，(3-i)表面積比△S5(0.02-0.2)為30％～60％，(3-ii)陡波度a455(0.02-0.2)為10％～40％，在此，△S5(0.02-0.2)，是由從抽取波長為0.02μm以上0.2μm以下的成分所得出的數(shù)據(jù)中、用近似三點法求出的實際面積Sx5(0.02-0.2)及幾何學的測定面積So5，用下式(3-1)所求出，是以△S5(0.02-0.2)＝(Sx5(0.02-0.2)-So5)/So5×100(％)…(3-1)表示的表面積比，陡波度a455(0.02-0.2)，是從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.02μm以上0.2μm以下的成分所得出的數(shù)據(jù)中的傾斜度為45°以上部分的面積率。
此外，一般對于提高保水性，加大表面粗糙度是有效的方法，但加大表面粗糙度，容易產(chǎn)生局部的深凹部。深凹部是曝光不良及顯影不良的原因，且容易產(chǎn)生泡狀殘膜。即，提高保水性與減少泡狀殘膜，正好相反。
本發(fā)明者，發(fā)現(xiàn)當存在于表面的特定深度以上的局部深部的個數(shù)、在特定的數(shù)值以下時，能極其有效地抑制泡狀殘膜的產(chǎn)生。
(3)即，存在于表面上的深度為4μm以上的凹部(局部的深部)數(shù)(個數(shù))，最好為每400μm×400μm在6個以下。
3)本發(fā)明者，深刻研究平版印刷版用支承體的表面形狀的結(jié)果，是發(fā)現(xiàn)了用原子力顯微鏡，對表面的50μm□進行512×512點測定，在由所求出的三維數(shù)據(jù)所得出的波長為5μm以下的成分的表面積中，將波長為0.02～0.2μm成分的表面積比的范圍，與波長為0.2～5μm成分的表面積比的范圍相比較，向平衡好的大的一側(cè)偏移，則在圖像部，感光層與支承體的附著性顯著，特別是其UV油墨耐印性顯著，并且，在非圖像部，難于產(chǎn)生污濁，以這種平版印刷版用支承體，完成了本發(fā)明。
此外，發(fā)明了若將用于支承體的鋁板的含銅量設(shè)在規(guī)定范圍，即使不嚴格管理表面處理條件也能容易地獲得這樣的表面形狀。
并且，還發(fā)明了若將支承體的表面光潔度Ra設(shè)在規(guī)定范圍，可以防止向網(wǎng)點部上的非圖像部的油墨粘附(網(wǎng)點連片)。
〔3〕本發(fā)明的第3實施方式，提供以下的(1)～(3)的發(fā)明。
(1)使用原子力顯微鏡，通過對表面的50μm□進行512×512點測定所求出的三維數(shù)據(jù)而得出的表面積比，分別滿足下述條件(4-i)～(4-iii)，(4-i)表面積比△S5(5)為20％～90％，(4-ii)表面積比△S5(0.2-5)為5％～40％，(4-iii)表面積比△S5(0.02-0.2)為15％～70％，在此，△S5(5)是由從上述三維數(shù)據(jù)、用近似三點法求出的實際面積Sx5及幾何學的測定面積So、用下式求出的，是以△S5(5)＝[(Sx5-So)/So]×100(％)…(4-1)表示的表面積比，△S5(0.2-5)是由從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.2μm以上5μm以下的成分所得出的實際面積△S5(0.2-5)及幾何學的測定面積So、用下式求出，是以△S5(0.2-5)＝[(Sx5(0.2-5)-So)/So]×100(％)…(4-2)表示的表面積比，△S5(0.02-0.2)是由從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.02μm以上0.2μm以下的成分所得出的實際面積△Sx5(0.02-0.2)及幾何學的測定面積So、用下式求出，是以△S5(0.25)＝[(Sx5(0.02-0.2)-So)/So]×100(％)…(4-3)表示的表面積比。
(2)根據(jù)上述(1)所述的平版印刷版用支承體，其特征在于對含Cu量為0.00～0.05質(zhì)量％的鋁合金板的表面實行粗糙化而獲得所述支承體。
(3)根據(jù)上述(1)或(2)所述的平版印刷版用支承體，用觸針式表面光潔度計測定的平均表面光潔度Ra為0.40～0.70。
〔4〕本發(fā)明的第4實施方式，提供在上述本發(fā)明的第1實施方式、第2實施方式、第3實施方式的平版印刷版用支承體上、設(shè)有圖像記錄層的平版印刷版原板。


圖1是表示用于本發(fā)明的平版印刷版用支承體的制作過程中的機械粗糙化表面處理的刷子磨砂目工序的概念側(cè)視圖。
圖2是表示用于本發(fā)明的平版印刷版用支承體的制作過程中的電化學粗糙化表面處理的交變波形電流波形圖一例的曲線圖。
圖3是表示用于本發(fā)明的平版印刷版用支承體的制作過程中的使用交流的電化學粗糙化表面處理的離心式單元一例的側(cè)視圖。
圖4是用于本發(fā)明的平版印刷版用支承體的制作過程中的陽極氧化處理的陽極氧化處理裝置的簡圖。
具體實施例方式
以下，詳細說明本發(fā)明。
<表面的磨砂目形狀>
〔1〕本發(fā)明的第1實施例的平版印刷版用支承體，是使用原子力顯微鏡，以512×512點測定表面的50μm□所求出的三維數(shù)據(jù)而得出的表面積比△S50(50)、滿足下述條件(1-i)～(1-iii)的平版印刷版用支承體。
(1-i)表面積比△S50(50)為20％～90％(1-ii)表面積比△S50(2-50)為1％～30％(1-iii)表面積比△S50(0.2-2)為5％～40％此時，△S50(50)(以下也稱作△S50)，是從用近似三點法從上述三維數(shù)據(jù)求出的實際面積Sx50、及幾何學的測定面積So50，用下式求出的表面積比，△S50(50)＝[(Sx50-So50)/So50]×100％…(1-1)△S50(2-50)，是從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長2μm以上50μm以下的成分所得出的表面積比，△S50(0.2-2)，是從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長0.2μm以上2μm以下的成分所得出的表面積比。
△S50(50)，如后所述，是從用近似三點法從上述三維數(shù)據(jù)求出的實際面積Sx50、及幾何學的測定面積(表觀面積)So50，用下式求出。
△S50(50)＝[(Sx50-So50)/So50]×100％…(1-1)表面積比△S50(50)，是表示相對于幾何學的測定面積So50的用粗糙化表面處理增加實際面積Sx50程度的因數(shù)。加大△S50(50)，則與圖像記錄層的接觸面積變大。
根據(jù)本發(fā)明，將△S50(50)調(diào)整到從上述三維數(shù)據(jù)求出的表面積比△S50 (50)(全波長成分(實質(zhì)上是0.1～50μm的成分))、和從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長2μm以上50μm以下的成分所得出的表面積比△S50(2-50)、和從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長0.2μm以上2μm以下的成分所得出的表面積比△S50(0.2-2)的特定范圍內(nèi)，以此解決上述問題。
將表面積比調(diào)整到特定的范圍就可以解決上述問題的理由，雖不能明確地解釋，但有如下考慮。
首先，如果存在于平版印刷版用支承體表面的凹凸結(jié)構(gòu)的表面積比△S50(2-50)在本發(fā)明的范圍內(nèi)，則保持于該凹凸結(jié)構(gòu)的水量變多，可以改善親水性及保水性，并可以抑制網(wǎng)點部的油墨連片。
此外，如果該凹凸結(jié)構(gòu)的表面積比△S50(2-50)在本發(fā)明的范圍內(nèi)，則設(shè)在其上的圖像記錄層也形成沿該凹凸結(jié)構(gòu)的凹凸形狀，容易在其凹凸形狀的凹部蓄積油墨。這樣，由于即使用橡膠筒體加壓(壓實)，在該凹凸形狀內(nèi)也能吸收油墨的移動，因此可以抑制油墨的擴張也能抑制網(wǎng)點部的油墨連片。并且，如果△S50(2-50)在本發(fā)明的范圍內(nèi)，則即使在磨砂目內(nèi)粘附了油墨成分或紙粉等情況下，也可以保持充分的保水量。并且，也具有優(yōu)越的對底污濁。
此外，如果該凹凸結(jié)構(gòu)的表面積比△S50(0.2-2)在本發(fā)明的范圍內(nèi)，則在顯影處理中可容易地完全清除設(shè)在其上的圖像記錄層并提高其親水性，所以難于產(chǎn)生網(wǎng)點部的油墨連片，并具有顯著的耐放置污濁性。
雖然考慮到表面積比△S50(50)、△S50(2-50)、△S50(02-2)具有上述的作用，但互相獨立并不具有該作用，而是相互影響、作為整體則才有助于提高平版印刷版用支承體的保水性和親水性。
因此，將這些表面積比△S50(50)、△S50(2-50)、△S50(0.2-2)分別在上述的特定范圍內(nèi)平衡地調(diào)整，以此可以改善平版印刷版用支承體的整體表面的親水性和保水性，可以成為在作為平版印刷版時具有難于產(chǎn)生網(wǎng)點部的油墨連片、在低濕度環(huán)境下的耐放置污濁性顯著的平版印刷版用支承體。
在本發(fā)明中，表面積比△S50(50)為20～90％，最好為30％～85％，而更理想為35％～55％。
表面積比△S50(2-50)為1～30％，最好為3％～30％，而更理想5％～10％。
表面積比△S50(0.2-2)為5～40％，最好為5％～35％。
另一方面，為了改善親水性和保水性，如果加大上述全波長成分的表面積比△S50(50)和長波長成分的表面積比△S50(2-50)，則有時容易在局部產(chǎn)生作為泡狀殘膜原因的深且大的凹部。
因此，具有特別是當嚴格要求曝光和顯影條件時則可確認產(chǎn)生泡狀殘膜的傾向。希望有即使在這樣的條件下、也能特別抑制泡狀殘膜產(chǎn)生的平版印刷原版及平版印刷版用支承體。
當存在于滿足上述各表面積比△S50(50)的平版印刷版用支承體表面的深度為4μm以上的凹部的個數(shù)、每400μm×400μm在10個以下，且存在于表面的深度3μm為以上的凹部的個數(shù)每400μm×400μm在30個以下時，發(fā)現(xiàn)即使在上述條件下，也能特別抑制泡狀殘膜的產(chǎn)生。
由于具有4μm以上深度的局部的凹部，難于在曝光·顯影處理中除去圖像記錄層，并對泡狀殘膜的產(chǎn)生施加了影響，所以在本發(fā)明中，存在于平版印刷版用支承體表面的深度為4μm以上的凹部的個數(shù)最好每400μm×400μm在10個以下，6個以下更好，4個以下特別好。
此外，由于具有3μm以上深度的局部的凹部，有時難于用曝光·顯影處理完全除去圖像記錄層，并對泡狀殘膜的產(chǎn)生施加了影響，所以在本發(fā)明中，存在于平版印刷版用支承體表面的深度3μm以上的凹部的個數(shù)最好在每400μm×400μm為30個以下，20個以下更好，15個以下特別好。
為了形成這樣的表面形狀，例如，可舉出在用以硝酸為主體的電解液的電解粗糙化表面處理中加大參與陽極反應(yīng)的電量的總合的方法，使用刷輥及具有特定的中值粒徑的研磨劑進行機械粗糙化表面處理的方法。
〔2〕本發(fā)明的第2實施例的平版印刷版用支承體，是使用原子力顯微鏡，從以512×512點測定表面的50μm□得出的三維數(shù)據(jù)、用近似三點法所求出的表面積比及陡波度，滿足下述條件(2-i)～(2-ii)的平版印刷版用支承體。
(2-i)表面積比△S50(50)為30％～60％，(2-ii)陡波度a4550(0.2-2)為5％～40％此時，△S50(50)(以下也稱為「△S50」)是用下式(2-1)從實際面積Sx50、及幾何學的測定面積So50求出的表面積比，△S50(50)＝[(Sx50-So50)/So50]×100(％)…(2-1)陡波度a4550(0.2-2)，是從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.2μm以上2μm以下的成分所得出的數(shù)據(jù)中的傾斜度45°以上部分的面積率。
△S50(50)，是表示相對于幾何學的測定面積So50的用粗糙化表面處理增加實際面積Sx50程度的因數(shù)。加大△S50(50)，則與圖像記錄層的接觸面積變大，其結(jié)果是能提高耐印性。此時，以512×512點測定表面的50μm□且不進行從求出的三維數(shù)據(jù)抽取波長成分所得出的表面積比△S50 (50)，即，加大了含有波長長的成分的表面積比，以此加大了圖像記錄層與支承體的接觸面積并提高了耐印性。為了加大△S50(50)，可以使用例如在用以鹽酸為主體的電解液的電解粗糙化表面處理中、用將陽極反應(yīng)的電量的總合加大到300c/dm2以上的電量進行電化學粗糙化表面處理的方法，在使用刷輥及研磨劑的進行機械粗糙化表面處理中使用三根以上的刷輥的方法等。
在本發(fā)明中，△S50(50)為30％以上，最好為35％以上，40％以上更好。由于△S50(50)過大，則會降低耐污濁度，所以最好在60％以下。
a4550(0.2-2)，是表示支承體表面的微細形狀的尖峰狀況的因數(shù)。具體的是，表示在支承體表面的凹凸當中，相對于具有45°以上大小傾斜的面積的實際面積Sx50的比例。本發(fā)明者，進行各種研究的結(jié)果，發(fā)現(xiàn)波長為0.2μm以上2μm以下的成分中的上述陡波度的部分在非圖像部，容易在印刷時成為掛上油墨的基點，成為底污濁的原因。即，關(guān)于波長0.2μm以上2μm以下的成分，發(fā)現(xiàn)用減小a4550(0.2-2)，可以使耐污濁性顯著提高。
此外，本發(fā)明者，關(guān)于在使用塗漆再生紙時的實地部的著色不良，深刻研究的結(jié)果是，發(fā)現(xiàn)在支承體的陡波部分，容易掛上通過潤濕水從紙所供給的塗漆成分的基點，因此會在橡膠筒體上堆積油墨殘渣，特別是在實地部的附近的堆積物成為物理的障礙，從橡膠筒體向紙的油墨的轉(zhuǎn)印不充分。并且，本發(fā)明者，經(jīng)各種研究的結(jié)果，發(fā)現(xiàn)對于波長為0.2μm以上2μm以下的成分，用減小a4550(0.2-2)，可以抑制使用塗漆再生紙時的實地部的著色不良。
在本發(fā)明中，a4550(0.2-2)為40％以下，最好為30％以下，20％以下則更好。由于若過于減小a4550(0.2-2)，則有時會降低耐印性，所以理想的是5％以上。
此外，在本發(fā)明中，是使用原子力顯微鏡，從用512×512點測定表面的5μm□所得到三維數(shù)據(jù)求出的表面積比及陡波度，最好滿足下述條件(3-i)～(3-ii)的平版印刷版用支承體。
(3-i)表面積比△S5(0.02-0.2)為30％～60％，(3-ii)陡波度a455(0.02-0.2)為10％～40％此時，△S5(0.02-0.2)，是從抽取波長為0.02μm以上0.2μm以下的成分所得出的數(shù)據(jù)中用近似三點法求出的實際面積Sx5(0.02-0.2)、及幾何學的測定面積So5、并由它們用下式(3-1)求出，而陡波度a455(0.02-0.2)，是從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.02μm以上0.2μm以下的成分所得出的數(shù)據(jù)中的傾斜度為45°以上部分的面積率。
△S5(0.02-02)＝(Sx5(0.02-0.2)-So5)/So5×100(％) … (3-1)
△S5(0.02-0.2)，是表示相對于幾何學的測定面積So5的用粗糙化表面處理增加實際面積Sx5(0.02-0.2)程度的因數(shù)。加大△S5(0.02-0.2)，則與圖像記錄層的接觸面積變大，其結(jié)果是能提高耐印性。此時，加大從以512×512點測定表面的5μm□所得出的三維數(shù)據(jù)中、抽取波長為0.02μm以上0.2μm以下的成分得到的數(shù)據(jù)中的表面積比△S5(0.02-0.2)，即，加大有助于波長短的成分的面積比，可以增大圖像記錄層與支承體的接觸面積，提高耐印性，并且能很大程度地抑制清潔劑向圖像記錄層與支承體之間的浸透，提高清洗耐印性。為了加大△S5(0.02-0.2)，例如，可以使用在鹽酸電解液中，用將陽極反應(yīng)的電量的總合加大到10～100c/dm2進行交流電解粗糙化表面處理的方法，及在硝酸電解液中進行交流電解粗糙化表面處理以后，用堿性溶液微量(例如，0.1～0.3g/m2)溶解鋁的方法。
在本發(fā)明中，△S5(0.02-0.2)理想為30％以上，最好為40％以上，50％以上更好。由于若△S5(0.02-0.2)過大，則有時會成為引起顯影不良的原因，所以最好在60％以下。
a455(0.02-0.2)，是表示支承體表面的微細形狀的尖峰狀況的因數(shù)。具體地是表示在支承體表面的凹凸當中相對于具有45°以上大小傾斜的面積的實際面積Sx5(0.02-0.2)的比例。本發(fā)明者，進行各種研究的結(jié)果，發(fā)現(xiàn)如果波長為0.2μm以上2μm以下的成分中的上述陡波度的部分過大，則會降低油墨連片的難度。即，對于波長為0.02μm以上0.2μm以下的成分，發(fā)現(xiàn)用減小a455(0.02-0.2)，可以提高墨連片的難度。
在本發(fā)明中，a455(0.02-0.2)為40％以下，最好為30％以下，20％以下則更好。由于若a455(0.02-0.2)過小，則有時會降低耐印性，所以理想的是10％以上。
此外，在本發(fā)明中，存在于表面的深度為4μm以上的局部深度的凹部個數(shù)最好每400μm×400μm為6個以下，4個以下更好。以此，即使曝光及顯影的條件嚴格，也不產(chǎn)生泡狀殘膜。
本發(fā)明者，深刻研究用生成后述的粗糙化表面處理形成深度為4μm以上的凹部的原因，其結(jié)果，所推測的原因如下。
第一，在實施包含機械粗糙化表面處理的粗糙化表面處理時，用于機械粗糙化表面處理的研磨劑的粒子的尖角部分深深扎在鋁板的表面上并形成凹部。
第二，在實施包含電解粗糙化表面處理的粗糙化表面處理時，在電解粗糙化表面處理時電流集中在特定之處。
本發(fā)明者，這樣地推測原因，并且深刻研究的結(jié)果，發(fā)現(xiàn)用如下的措施，能使用粗糙化表面處理生成的深度為4μm以上的凹部，在每400μm×400μm上為6個以下。
即，對用于作為第一原因的機械粗糙化表面處理的研磨劑粒子的扎進，發(fā)現(xiàn)了下述(i)～(V)的措施。
(i)使用粒徑小的研磨劑。
例如，進行沉降分離，除去粒徑大的研磨劑，只用小的，用再粉碎使研磨劑的粒子彼此接觸并磨損，這樣可以使研磨劑粒徑變小。
(ii)使用尖角少的粒子的研磨劑。
常用于機械粗糙化表面處理的泡沫巖(以下也稱作「浮石」)，是粉碎火山灰所得，粒子被削尖成如碎玻璃的板片狀，尖角部分很尖。與其相反，硅砂是接近12面體或24面體的形狀，尖角少。
(iii)將用于機械粗糙化表面處理的刷毛使用柔軟毛。
例如，使用毛徑細的刷子，或使用柔軟材質(zhì)的刷子，從而能使刷毛柔軟。
(iV)降低用于機械粗糙化表面處理的刷子的轉(zhuǎn)速。
對含在泥漿中的研磨劑粒子適當?shù)亟o予「躲避」的時間，以此抑制扎進。
(V)降低對用于機械粗糙化表面處理的刷子的按壓(負荷)。
此外，對用于作為第二原因的在實施包含電解粗糙化表面處理的粗糙化表面處理時電流集中在特定之處，發(fā)現(xiàn)了下述(Vi)～(Viii)的措施。
(Vi)在電解粗糙化表面處理中，在使用以硝酸為主體的電解液時，為了容易引起均衡的電解，要降低鋁板的合金成分中的銅量。
在電解粗糙化表面處理中，通常，在酸性電解液中通過交流電流，會隨交流的頻率交替而引起鋁的溶解反應(yīng)(點狀腐蝕反應(yīng))，及溶解生成的成分再附著于溶解反應(yīng)部的粉狀物粘附反應(yīng)。此時，當使用硝酸電解液時，非常容易受到鋁板中所含有的合金成分的種類或量的影響，特別是Cu的影響非常大。這是由于Cu的存在，會提高電解粗糙化表面處理時的表面電阻的原因。為此，由于將合金成分中的Cu量控制在0.002質(zhì)量％以下，以減小電解粗糙化表面處理時的表面電阻，并抑制電流集中，可以不形成粗大的坑點，而全面地形成均勻的的坑點。
(Vii)在電解粗糙化表面處理中，在使用以硝酸為主體的電解液時，可以在進行電解粗糙化表面處理之前進行預(yù)電解處理。
在預(yù)電解處理時，可以均勻地形成坑點形成的起點。因此，在其后的電解粗糙化表面處理中，可以不形成粗大的坑點，而全面地形成均勻的的坑點。
(Viii)在電解粗糙化表面處理中，在使用以鹽酸為主體的電解液時，使電解液中含有醋酸或硫酸。
在鹽酸電解液中因電流集中也會形成粗大坑點，但使用含有醋酸或硫酸的鹽酸電解液，則可以不形成粗大的坑點，而全面地形成均勻的的坑點。
〔3〕本發(fā)明的第3實施例的平版印刷版用支承體，是使用原子力顯微鏡，從以512×512點測定表面的5μm□求出的三維數(shù)據(jù)得出的表面積比，滿足下述條件(4-i)～(4-iii)的平版印刷版用支承體。
(4-i)表面積比△S5(5)為20％～90％，(4-ii)表面積比△S5(0.2-5)為5％～40％，(4-iii)表面積比△S5(0.02-0.2)為15％～70％，此時，△S5(5)(以下也稱為「△S5」)是用下式、由從上述三維數(shù)據(jù)用近似三點法求出的實際面積Sx5及幾何學的測定面積So而求出的，是以△S5(5)＝[(Sx5-So)/So]×100(％)…(4-1)表示的表面積比，△S5(0.2-5)是由從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.2μm以上5μm以下的成分所得出的實際面積△Sx5(0.2-5)及幾何學的測定面積So，用下式求出，以△S5(0.2-5)＝[(Sx5(0.2-5)-So)/So]×100(％)…(4-2)表示的表面積比，△S5(0.02-0.2)是由從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.02μm以上0.2μm以下的成分所得出的實際面積△S5(0.02-0.2)及幾何學的測定面積So、用下式求出，是以△S5(0.02-0.2)＝[(Sx5(0.02-0.2)-So)/So]×100(％)…(4-3)表示的表面積比。
表面積比△S，如后詳述，是從三維數(shù)據(jù)用近似三點法所得出的實際面積Sx及幾何學的測定面積(表觀面積)So，用下式求出△S＝[(Sx-So)/So]×100(％)表面積比△S，是表示相對于幾何學的測定面積So的用粗糙化表面處理增加實際面積Sx程度的因數(shù)。加大△S，則表面積比加大，且與圖像記錄層的接觸面積變大。
本發(fā)明的支承體的特定表面形狀，雖沒能明確解釋具有顯著的UV油墨耐印性和顯著的耐污濁性的理由，但本發(fā)明者認為，將5μm□測定范圍的全波長的凹凸作為規(guī)定范圍的△S5，并將其中分成波長為0.02-0.2μm的成分，及為0.2-5μm的成分，將對于波長為0.02-0.2μm的成分的△S5(0.02-0.2)的范圍、向比對于0.2-5μm的成分的△S5(0.2-5)的范圍大的范圍側(cè)偏移，以此能獲得以規(guī)定量保持波長小的微細結(jié)構(gòu)的表面形狀，從而提高UV油墨耐印性。此外，一般在被污濁了的表面上若有微細結(jié)構(gòu)則有惡化的傾向，但由于取得了上述特定部分的△S之間的平衡，所以其UV油墨耐印性顯著并難于產(chǎn)生污濁。
在本發(fā)明中，(4-i)表面積比△S5(5)最好為30％～85％，更好的是為40％～85％。
(4-ii)表面積比△S5(0.2-5)最好為7％～37％，更好的是為7％～35％。
(4-iii)表面積比△S50(0.02-0.2)最好為20％～65％，更好的是為30％～60％。
此外，若把用于支承體的鋁板的含Cu量設(shè)為0.000～0.05質(zhì)量％，則即使嚴格管理表面處理條件也能容易地獲得上述的表面形狀。含銅量最好是0.001～0.04質(zhì)量％，若為0.001～0.025質(zhì)量％則更好。
而且，若將用觸針式表面光潔度計測定支承體的平均表面光潔度Ra、控制在0.40～0.70，則可以防止向網(wǎng)點部上的非圖像部的油墨粘附(網(wǎng)點連片)。Ra最好為0.42～0.70，若為0.45～0.65則更好。
在本發(fā)明的平版印刷版用支承體上，求出△S50(50)、△S50(2-50)、△S50 (0.2-2))、△S5(5)、△S5(0.2-5)、△S5(0.02-0.2)、Ra的方法，如下所示·用原子力顯微鏡的表面形狀測定用原子力顯微鏡(Atomic Force MicroscopeAFM)，用例如實施例所示的各個條件，測定表面形狀，(1)以512×512點測定表面的50μm□，或(2)以512×512點測定表面的5μm□，并求出三維數(shù)據(jù)(f(x，y))。
①△S50(50)(△S50)測定用求出的三維數(shù)據(jù)(f(x，y))，抽取向鄰的3點，并求出該3點所形成的微小三角形的面積的總合，作為實際面積Sx50。表面積比△S50，是從所得的實際面積Sx50及幾何學的測定面積So50由下式求出。
△S50(50)(△S50)＝[(Sx50-So50)/So50]×100(％)…(1-1)①對于表面積比△S50(50)的計算，是原封不動地使用由上述(1)所得的三維數(shù)據(jù)。
②表面積比△S50(2-50)的計算使用從由上述(1)求出的三維數(shù)據(jù)中抽取波長為2μm以上50μm以下的成分的數(shù)據(jù)。在波長為2μm以上50μm以下成分的抽取時，將用上述(1)求出的三維數(shù)據(jù)進行高速傅里葉轉(zhuǎn)換并求出頻率分布，然后，在除去波長不足2μm的成分以后，進行傅里葉逆轉(zhuǎn)換。
③表面積比△S50(0.2-2)的計算使用從用上述(1)求出的三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.2μm以上2μm以下的成分的數(shù)據(jù)。在波長為0.2μm以上2μm以下成分的抽取時，將用上述(1)求出的三維數(shù)據(jù)進行高速傅里葉轉(zhuǎn)換并求出頻率分布，然后，在除去波長不足0.2μm的成分及超過2μm的成分以后，進行傅里葉逆轉(zhuǎn)換。
④a4550(0.2-2)的計算使用從根據(jù)用上述(1)求出的表面50μm□的測定的三維數(shù)據(jù)中、抽取波長為0.2μm以上2μm以下的成分的數(shù)據(jù)。0.2μm以上2μm以下的成分的抽取，是將用上述(1)求出的三維數(shù)據(jù)進行高速傅里葉轉(zhuǎn)換并求出頻率分布，然后，在除去波長不足0.2μm的成分及超過2μm的成分以后，進行傅里葉逆轉(zhuǎn)換。使用該抽取·修正所獲得的三維數(shù)據(jù)(f(x，y))，按照各個基準點計算各基準點與規(guī)定的方向(例如，右和下)鄰接的兩點的以3點所形成的微小三角形與基準面形成的角度。將微小三角形的傾斜度為45度以上的基準點的個數(shù)，除以全基準點的個數(shù)(從作為全數(shù)據(jù)個數(shù)的512×512點減去規(guī)定方向的沒有鄰接兩點的點的個數(shù)，即511×511點)，并計算出傾斜度45度以上的部分的面積率a4550(0.2-2)。
⑤△S5的測定使用由上述(2)求出的三維數(shù)據(jù)(f(x，y))，抽取鄰接的3點，并求出該3點所形成的微小三角形的面積的總合，作為實際面積Sx。表面積比△S5，是從求得的實際面積Sx與幾何學的測定面積So，用下式求出。此時，So為5×5μm2。
△S5(5)(△S5)＝[(Sx5-So)/So]×100(％)…(4-1)在(i)△S5(5)(△S5)的計算中，原封不動地使用由上述(2)所求出的三維數(shù)據(jù)。
⑥a455(0.02-0.2)的計算使用從根據(jù)用上述(2)求出的表面5μm□的三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.02μm以上0.2μm以下的成分的數(shù)據(jù)。波長為0.02μm以上0.2μm以下成分的抽取，是將用上述(2)求出的三維數(shù)據(jù)進行高速傅里葉轉(zhuǎn)換并求出頻率分布，然后，在除去波長不足0.02μm的成分及超過0.2μm的成分以后，進行傅里葉逆轉(zhuǎn)換。使用該抽取·修正所獲得的三維數(shù)據(jù)(f(x，y))，按照各個基準點計算各基準點與規(guī)定的方向(例如，右和下)鄰接的兩點的以3點所形成的微小三角形與基準面形成的角度。將微小三角形的傾斜度為45度以上的基準點的個數(shù)，除以全基準點的個數(shù)(從作為全數(shù)據(jù)個數(shù)的512×512點減去規(guī)定方向的沒有鄰接兩點的點的個數(shù)，即511×511點)，并計算出傾斜度45為度以上的部分的面積率a455(0.02-0.2)。
⑦表面積比△S5(0.2-5)的計算使用從用上述(2)求出的三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.2μm以上5μm以下的成分的數(shù)據(jù)。在波長為0.2μm以上5μm以下成分的抽取時，將用上述(2)求出的三維數(shù)據(jù)進行高速傅里葉轉(zhuǎn)換并求出頻率分布，然后，在除去波長不足0.2μm的成分以后，進行傅里葉逆轉(zhuǎn)換。
使用在上述求出的三維數(shù)據(jù)(f(x，y))，選取相鄰的3點，求出該3點形成的微小三角形的面積總合，作為實際面積Sx5(0.2-5)。表面積比△S5，是從所得的實際面積Sx5(0.2-5)及幾何學的測定面積So由下式求出。
△S5(0.2-5)＝[(Sx5(0.2-5)-So)/So]×100(％)…(4-2)⑧表面積比△S5(0.02-0.2)的計算使用從用上述(2)求出的三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.02μm以上0.2μm以下的成分的數(shù)據(jù)。在波長0.02μm以上0.2μm以下成分的抽取時，將用上述(2)求出的三維數(shù)據(jù)進行高速傅里葉轉(zhuǎn)換并求出頻率分布，然后，在除去波長不足0.02μm的成分及超過0.2μm的成分以后，進行傅里葉逆轉(zhuǎn)換。
使用從上述求出的三維數(shù)據(jù)(f(x，y))，抽取鄰接的3點，并求出該3點所形成的微小三角形的面積的總合，作為實際面積Sx5(0.02-0.2)。表面積比△S5，是從求得的實際面積Sx5(0.02-0.2)與幾何學的測定面積So，用下式求出。
△S5(0.02-0.2)＝[(Sx5(0.02-0.2)-So)/So]×100(％)…(4-3)(3)Ra使用由上述(1)求出的三維數(shù)據(jù)(f(x，y))，從下式算出表面光潔度Ra。
數(shù)1Ra=1So∫oLx∫oLy|f(x,y)|dx·dy]]>式中，Lx和Ly，分別表示測定區(qū)域(長方形)的X方向和Y方向的邊長，在本發(fā)明中Lx＝Ly＝5μm。此外，So是幾何學的測定面積，So＝Lx×Ly＝25μm2。
(4)特定深度凹部的個數(shù)①深度為4μm以上的凹部個數(shù)使用激光顯微鏡，以非接觸、用0.01μm掃描表面的400μm□、求出的三維數(shù)據(jù)，數(shù)出該三維數(shù)據(jù)中的深度為4μm以上的凹部的個數(shù)。
②深度為3μm以上的凹部個數(shù)同樣地求出的三維數(shù)據(jù)，數(shù)出深度為3μm以上的凹部的個數(shù)。
<表面處理>
本發(fā)明的平版印刷版用支承體，實施后述的在鋁板上的表面處理，以將上述的表面的磨砂目形狀形成于鋁板的表面上。本發(fā)明的平版印刷版用支承體，是在鋁板上實施粗糙化表面處理而獲得，但該支承體的制造工序，沒有特別的限定，可以包括粗糙化表面處理以外的各種工序。
以下，作為用于形成上述表面的磨砂目形狀的具有代表性的方法，可例舉出依次在鋁板上實施機械粗糙化表面處理、堿腐蝕處理、用酸去除附著物處理以及使用電解液的電化學粗糙化表面處理的方法，多次在鋁板上實施機械粗糙化表面處理、堿腐蝕處理、用酸的去除附著物處理以及使用不同電解液的電化學粗糙化表面處理的方法，依次在鋁板上實施堿腐蝕處理、用酸去除附著物處理以及使用電解液的電化學粗糙化表面處理的方法，多次在鋁板上實施堿腐蝕處理、用酸去除附著物處理及使用不同電解液的電化學粗糙化表面處理的方法，但本發(fā)明不局限于此。在這些方法中，也可以在上述的電化學粗糙化表面處理后，再實施堿腐蝕處理、用酸去除附著物處理。
作為表示表面形狀的因數(shù)的表面積比△S50(50)、△S50(2-50)、△S50(0.2-2)、△S5(5)、△S5(0.2-5)、△S5(0.02-0.2)、及陡波度a4550(0.2-2)、a4550(0.02-0.2)及Ra、深度為3μm或4μm以上的凹部的數(shù)量，作為能分別滿足特定條件的最適用的粗糙化表面處理，也可以用其他處理(堿腐蝕處理等)的條件，1)例如，可舉出在使用以硝酸為主體的電解液的電解粗糙化表面處理中，用加大參與陽極反應(yīng)的電量總和的方法，進行使用具有刷輥及特定的中值粒徑的研磨劑的機械粗糙化表面處理的方法等。
用這些方法等獲得的、且表示表面形狀的△S50(50)、△S50(2-50)及△S50(0.2-2)，分別滿足特定條件的本發(fā)明的平版印刷版用支承體，在作為平版印刷版時，不分油墨或潤濕水的種類，難于產(chǎn)生網(wǎng)點部的油墨連片且具有耐放置污濁性。并且，具有特定深度的凹部的數(shù)量如果滿足特定的條件，則即使設(shè)定嚴格曝光及顯影的條件也能特別地抑制泡狀殘膜的產(chǎn)生。
2)作為上述的用于形成表面的磨砂目形狀的具有代表性的方法，可例舉出在鋁板上依次實施機械粗糙化表面處理、堿腐蝕處理、用酸去除附著物處理以及使用電解液的電化學粗糙化表面處理的方法，在鋁板上多次實施機械粗糙化表面處理、堿腐蝕處理、用酸去除附著物處理以及使用不同電解液的電化學粗糙化表面處理的方法，在鋁板上依次實施堿腐蝕處理、用酸去除附著物處理以及使用電解液的電化學粗糙化表面處理的方法，在鋁板上多次實施堿腐蝕處理、用酸去除附著物處理以及使用不同電解液的電化學粗糙化表面處理的方法，但本發(fā)明不局限于此。在這些方法中，也可以在上述的電化學粗糙化表面處理后，再實施堿腐蝕處理、用酸去除附著物處理。
用這些方法獲得的且表示表面形狀的因數(shù)、分別滿足特定條件的本發(fā)明的平版印刷版用支承體，在作為平版印刷版時具有耐印性及耐污濁性，并難于產(chǎn)生在使用塗漆再生紙時的實地部的著色不良。此外，本發(fā)明的平版印刷版用支承體，其理想的是具有清洗耐印性，且難于產(chǎn)生泡狀殘膜。
3)可以用機械粗糙化表面處理、鹽酸電解(以鹽酸為主體的電化學粗糙化表面處理)、硝酸電解(以硝酸為主體的電化學粗糙化表面處理)等。此外，進而具有依次實施以硝酸為主體的電化學粗糙化表面處理及以鹽酸為主體的電化學粗糙化表面處理、以及將其組合的處理的方法。
用這些方法獲得的、且表示表面形狀的因數(shù)，分別滿足特定條件的本發(fā)明的平版印刷版用支承體，在作為平版印刷版時在圖像部，感光層與支承體的粘貼性顯著，特別是UV油墨耐印性顯著，并且在非圖像部難以發(fā)生污濁，尤其耐間隙污濁性顯著。
以下，詳細說明表面處理的各個工序。
<機械粗糙化表面處理>
機械粗糙化表面處理，由于其與電化學粗糙化表面處理比較更便宜，能形成平均波長2～100μm凹凸的表面，所以作為粗糙化表面處理的措施是有效的。
作為機械粗糙化表面處理的方法，例如，也可以用金屬絲劃磨鋁板表面的金屬絲刷粗糙化法、用研磨球及研磨劑在鋁板表面形成磨砂目的球粗糙化法、特開平6-135175號公報及特公昭50-40047號公報中所述的用尼龍刷及研磨劑將表面形成磨砂目的刷粗糙化法刷子粗糙化法。
此外，也可以將凹凸面用轉(zhuǎn)印方法壓接在鋁板上。即，除了特開昭55-74898號、特開昭60-36195號、特開昭60-36196號、特開昭60-203496號、特開昭61-162351號、特公平4-30358號各公報中所述的方法以外，還能應(yīng)用以進行多次轉(zhuǎn)印的方法為特征的特開平6-55871號公報、以表面是彈性為特征的特開平6-024168號公報所述的方法。
如后所述，在刷子粗糙化法中，特別是最好用多個尼龍刷，作為研磨劑，可以使用后述的各種研磨劑，但最好使用浮石、硅砂、氫氧化鋁等。此外，在轉(zhuǎn)印方法中，最好適當?shù)卣{(diào)整用于使刷子旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動馬達的轉(zhuǎn)速、負荷等。
此外，也可以使用以電火花加工、噴砂、激光、等離子蝕刻等，并用蝕刻了微細的凹凸的轉(zhuǎn)印輥進行反復地轉(zhuǎn)印的方法，或使鋁板與涂抹了微細粒子的凹凸面接觸，并在其上反復多次施加壓力，將相當于微細粒子平均直徑的凹凸圖形反復多次轉(zhuǎn)印到鋁板上的方法。作為向轉(zhuǎn)印輥賦予微細凹凸的方法，可以使用特開平3-8635號、特開平3-66404號、特開昭63-65017號的各公報所述的眾所周知的方法。此外，也可以用模具、刀具、激光等在輥子表面上從兩個方向切出微細的溝槽，在表面上形成方形的凹凸。在該輥子表面上，也可以進行眾所周知的蝕刻處理等，進行使其形成的方形凹凸帶有圓角的處理。
此外，為了提高表面硬度，也可以進行淬火、鍍硬鉻等。
除此之外，作為機械粗糙化表面處理，也可以使用特開昭61-162351號公報、特開昭63-104889號公報所述的方法。
在本發(fā)明中，考慮到生產(chǎn)效率等可以并用上述的各個方法。這些機械粗糙化表面處理，最好在進行電化學粗糙化表面處理之前進行。
以下，說明作為機械粗糙化表面處理、被優(yōu)選使用的刷子粗糙化法。
刷子粗糙化法，一般是，使用在圓柱狀筒體的表面上，栽植很多由尼龍(商標名)、丙烯、聚氯己烯樹脂等的合成樹脂構(gòu)成的合成樹脂毛等的刷毛的輥狀刷子，一邊在旋轉(zhuǎn)的輥狀刷子上噴上含有研磨劑的漿液，一邊磨擦上述鋁板表面的一方或兩方。也可以使用在表面設(shè)置研磨層的輥子的研磨輥取代上述輥狀的刷子及漿液。
在使用輥狀刷子時，最好使用彎曲彈性率為10,000～40,000kg/cm2、更好的是為15,000～35,000kg/cm2，并且，毛絲的強度在500g以下，更好的是400g以下的刷毛。刷毛的直徑，一般為0.2～0.9mm。刷毛的長度，可以根據(jù)輥狀刷子的外徑及筒體的直徑適當?shù)卮_定，但一般為10～100mm。
在本發(fā)明中，理想的是用多根尼龍刷，具體的是，最好是3根以上，若用4根以上則特別的好。用調(diào)整刷子根數(shù)的方法，可以調(diào)整形成于鋁板表面的凹部的波長成分。
此外，驅(qū)動刷子旋轉(zhuǎn)的馬達的負荷，相對于將刷輥壓在鋁板之前的負荷最好加1kw以上，加2kw以上則更好，若加8kw以上則特別好。通過調(diào)整該負荷，可以調(diào)整形成于鋁板表面的凹部的深度。刷子的轉(zhuǎn)速，最好在100轉(zhuǎn)以上，若在200轉(zhuǎn)以上則特別好。
研磨劑可以使用眾所周知的研磨劑。例如，浮石、硅砂、氫氧化鋁、氧化鋁粉、碳化硅、氮化硅、火山灰、碳化硅、金剛砂等研磨劑；可以使用這些的混合物。其中，理想的是浮石、硅砂。特別是硅砂，比浮石硬，由于難于被破壞所以有粗糙化效率顯著的優(yōu)點。此外，由于氫氧化鋁如果被施加過度的負荷則粒子會被破壞，所以適用于不希望形成局部深凹部的情況。
研磨劑的中值粒徑，在使粗糙化效率顯著且能使磨砂目間距狹窄的方面，最好為3～50μm，若為6～45μm則更好。通過調(diào)整研磨劑平均粒徑的方法，可以調(diào)整形成于鋁板表面的凹部的深度。
研磨劑，例如，使其在水中懸濁，并作為漿液使用。在漿液中，除了研磨劑以外，還可以含有增粘劑、分散劑(例如，表面活性劑)、防腐劑等。漿液的比重最好為0.5～2。
作為適合于機械粗糙化表面處理的裝置，例如，可以舉出特公昭50-40047號公報所述的裝置。
以下，說明作為機械粗糙化表面處理所用的轉(zhuǎn)印法的實例。
轉(zhuǎn)印法，一般是將鋁板通過用噴砂處理或刻印或激光加工、或者圖形蝕刻等進行壓紋加工的壓延輥(轉(zhuǎn)印輥)，并轉(zhuǎn)印壓延輥的凹凸，或者，將涂抹了研磨劑或玻璃粉等的紙或塑料片與鋁板重疊并壓延轉(zhuǎn)印，使鋁板表面粗糙化的方法。
該轉(zhuǎn)印法，除了上述的方法以外，可以用以下的方法。
通過設(shè)定低的轉(zhuǎn)印輥壓下率以避開轉(zhuǎn)印輥的壽命和鋁板的延伸問題的方法(特開平7-205565號公報)；多次轉(zhuǎn)印，最好重復進行4次以上，這樣就不必拘于轉(zhuǎn)印輥的圓度等的加工精度，減少鋁板的延伸，并獲得作為印刷版用鋁支承體充分均勻的粗糙面的方法(特開平6-55871號公報)；通過在進行化學表面粗糙化的、比平版印刷版用鋁硬度高的金屬面上將鋁板壓軋1～6次并使其表面粗糙化，可廉價地制造隨機排列而且均勻分布的凹凸的方法(特開平6-171258號公報)；在鋁板的表面上形成無方向性的多個沖壓凹部的方法(特開平6-171256號公報、特開平6-171259號公報)；對在金屬面上涂覆并干燥的光敏抗蝕劑或塑料樹脂、用紅外線、激光等曝光照射，作出腐蝕圖形，然后進行化學的蝕刻等的在金屬面上制造粗糙面并轉(zhuǎn)印，以此轉(zhuǎn)印充分均勻的凹凸的方法(特開平6-171262號公報)。
在轉(zhuǎn)印法中，設(shè)置于該轉(zhuǎn)印輥等上的凸部的大小(轉(zhuǎn)印輥的表面光潔度)，與形成于由該轉(zhuǎn)印輥轉(zhuǎn)印的鋁板上的凹部的大小(用轉(zhuǎn)印法的鋁板的表面光潔度)大致相同。
因此，在鋁板上，為了形成希望的該表面光潔度，只要使用具有與該表面光潔度大致相同的表面光潔度的轉(zhuǎn)印輥即可。
轉(zhuǎn)印輥，例如是在由SUS304或SUS316、SCM鋼、SUJ鋼、SS41等構(gòu)成的輥芯的表面上，用噴鍍和激光，或者機械加工等加工微細的凸部所構(gòu)成。
用噴鍍的方法，是將粒徑為10～60μm左右的陶瓷粒子或陶瓷燒結(jié)體、用等離子噴鍍或DJ槍噴鍍，用焊絲的噴鍍在輥子表面形成0.1～0.6mm左右厚度的鍍層，并研磨表面而獲得。作為陶瓷的種類，從強度的觀點出發(fā)，最好是以氧化鉻為主要成分的氧化物陶瓷或以氮化硅為主要成分的氮化物陶瓷。另外，由于用噴鍍形成的輥子表面粗糙，故要進行研磨處理。
另一方面，用激光形成凸部的方法，是利用將輥子表面的激光照射部分溶融鼓起而形成的，用激光能在輥子表面形成具有橫槽和與橫槽垂直或成某種角度的格子形狀而形成由兩槽切掉的獨立的凸部。所使用的激光，可以是CO2激光或YAG激光、受激準分子激光等。此外，因激光的種類所形成的槽寬各異。因此，需要根據(jù)希望的凸部的大小選擇激光的種類，為獲得具有更微細凹凸形狀的轉(zhuǎn)印輥需要使用受激準分子激光等的波長短的激光。此外，還要用金鋼石砂輪或陶瓷砂輪，或者含有這些的砂紙拋光。
同樣，也可以使用模具或刀具從兩方向切削出格子狀的微細槽，在輥子表面上形成方形的凹凸。
鋁板或鋁合金板，被插入上述轉(zhuǎn)印輥與鏡面拋光的金屬輥(支承輥)之間，并在線壓力為3～30kg/mm左右的壓力下使由轉(zhuǎn)印輥的凸部構(gòu)成的凹凸圖形轉(zhuǎn)印。此外，詳細的如特開平7-205565號公報所述。
在該轉(zhuǎn)印法中，可以根據(jù)希望的表面光潔度，適當?shù)卣{(diào)整表面粗糙化的處理的條件。
<電化學粗糙化表面處理>
在電化學粗糙化表面處理中，可以使用被用于使用通常的交流電的電化學粗糙化表面處理的電解液。其中，使用以鹽酸或硝酸為主體的電解液，但顯出表面形狀的上述各因數(shù)最好要滿足各個特定條件。
作為本發(fā)明的電解粗糙化表面處理，最好在陰極電解處理的前后進行在酸性溶液中的用交變波形電流的第1和第2的電解處理。用陰極電解處理，在鋁板表面產(chǎn)生氫氣并生成粉狀物，以使表面狀態(tài)均勻化，其后在用交變波形電流的電解處理時才能均勻地電解表面粗糙化。
該電解粗糙化表面處理，例如，可以按照特公昭48-28123號公報和英國專利第896,563號說明書所述的電化學的粗糙化法(電解粗糙化法)。該電解粗糙化法，使用正弦波形的交流電流，但也可以使用特開昭52-58602號公報所述的特殊波形。此外，也可以用特開平3-79799號公報所述的波形。此外，也可以應(yīng)用特開昭55-158298號、特開昭56-28898號、特開昭52-58602號、特開昭52-152302號、特開昭54-85802號、特開昭60-190392號、特開昭58-120531號、特開昭63-176178號、特開平1-5889號、特開平1-280590號、特開平1-118489號、特開平1-148592號、特開平1-178496號、特開平1-188315號、特開平1-154797號、特開平2-235794號、特開平3-260100號、特開平3-253600號、特開平4-72079號、特開平4-72098號、特開平3-267400號、特開平1-141094號各公報所述的方法。此外，除了上述的以外，也可以使用作為電解電容的制造方法被提出的特殊頻率的交變電流的電解。例如，如美國專利第4,276,129號說明書和同專利第4,676,879號說明書所述。
關(guān)于電解槽及電源，有各種提案，但可以使用美國專利第4203637號說明書、特開昭56-123400號、特開昭57-59770號、特開昭53-12738號、特開昭53-32821號、特開昭53-32822號、特開昭53-32823號、特開昭55-122896號、特開昭55-132884號、特開昭62-127500號、特開平1-52100號、特開平1-52098號、特開昭60-67700號、特開平1-230800號、特開平3-257199號各公報等所述的提案。
此外也可以使用特開昭52-58602號、特開昭52-152302號、特開昭53-12738號、特開昭53-12739號、特開昭53-32821號、特開昭53-32822號、特開昭53-32833號、特開昭53-32824號、特開昭53-32825號、特開昭54-85802號、特開昭55-122896號、特開昭55-132884號、特公昭48-28123號、特公昭51-7081號、特開昭52-133838號、特開昭52-133840號、特開昭52-133844號、特開昭52-133845號、特開昭53-149135號、特開昭54-146234號各公報等所述的提案。
作為電解液的酸性溶液，除了硝酸、鹽酸以外，也可以使用美國專利第4,671,859號、第4,661,219號、第4,618,405號、第4,600,482號、第4,566,960號、第4,566,958號、第4,566,959號、第4,416,972號、第4,374,710號、第4,336,113號、第4,184,932號的各說明書等所述的電解液。
酸性溶液的濃度最好為0.5～2.5質(zhì)量％，但考慮到下述的粉狀物清除處理的使用，則0.7～2.0的質(zhì)量％特別好。此外，液溫最好為20～80℃，若為30～60℃則更好。
以鹽酸或硝酸為主體的水溶液，可以使用在濃度1～100g/L的鹽酸或硝酸的水溶液中，以從1g/L直至飽和的范圍至少添加硝酸鋁、硝酸鈉、硝酸銨等的具有硝酸根的硝酸化合物或氯化鋁、氯化鈉、氯化銨等的具有鹽酸根的鹽酸化合物中的一種的水溶液。此外，在以鹽酸或硝酸為主體的水溶液中，也可以溶解鐵、銅、錳、鎳、鈦、鎂、硅石等的鋁合金中包含的金屬。理想的是使用，在鹽酸或硝酸的濃度為0.5～2質(zhì)量％的水溶液中，使鋁離子變?yōu)?.3～5質(zhì)量％地添加氯化鋁、硝酸鋁等而構(gòu)成的溶液。這里，所謂「為主體」，是指相對于整個水溶液，由成為主體的成分構(gòu)成的水溶液的含量為30質(zhì)量％以上、最好50質(zhì)量％以上。以下，在其他的成分中也同樣。
此外，通過添加并使用能夠與Cu形成配位化合物的化合物，即使對含Cu多的鋁板也能形成均勻的磨砂目。作為能夠與Cu形成配位化合物的化合物，例如可以舉出氨；以烴基(脂肪族、芳香族等)置換甲胺、乙胺、二甲胺、二乙胺、三胺、環(huán)己胺、三乙醇胺、三異丙醇胺、EDTA(乙二胺四醋酸)等的氨的氫原子所得的胺類；碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸氫鉀等的金屬碳酸鹽類。此外，還有硝酸銨、氯化銨、硫酸銨、磷酸銨、碳酸銨等的銨鹽。
溫度最好為10～60℃，更好的是20～50℃。
用于電化學粗糙化表面處理的交流電源的波，沒有特殊的限定，可以用正弦波、矩形波、梯形波、三角波等，但最好用矩形波或梯形波，梯形波特別好。所謂梯形波，是如圖2所示的波形。在該梯形波中電流從零達到峰值的時間(TP)最好為0.3～3msec。若不足0.3msec，則容易出現(xiàn)產(chǎn)生于與鋁板的行進方向垂直的顫震痕跡的所謂處理不勻。TP若超過3msec，特別是在用硝酸電解液時，在電解處理中容易受到以自然產(chǎn)生增加的銨離子等為代表的電解液中的微量成分的影響，難于進行均勻磨砂目形成。其結(jié)果是，有降低在作為平版印刷版時的耐污濁性的傾向。
梯形波電流的duty比可以使用1∶2～2∶1，如特開平5-195300號公報所述，當在鋁板上不使用導電輥的間接供電方式中duty比最好為1∶1。
梯形波電流的頻率可以使用0.1～120Hz，但50～70Hz對設(shè)備有利。若比50Hz低，則主電極的石墨電極容易溶解，此外，若高于70Hz，則容易受到電源電路上電感成分的影響，而使電源成本上升。
可以在電解槽中連接1個以上的交流電源。控制施加于面對主極的鋁板上的交流的陽極與陰極的電流比，其目的在于形成均勻的磨砂目，及溶解主極的石墨電極，如圖3所示，最好設(shè)置輔助陽極，分流交流電流的一部分。在圖3中，11是鋁板，12是離心滾桶輥，13a及13b是主電極，14是電解處理液，15是電解液供給口，16是縫隙，17是電解液通道，18是輔助陽極，19a及19b是閘流晶體管，20是交流電源，40是主電解槽，50是輔助陽極槽。通過整流元件或開關(guān)元件將電流值的一部分作為直流電流向與兩個主電極分開設(shè)于另外槽中的陽極分流，以此可以控制在面對主極的鋁板上參與陽極反應(yīng)作用的電流值和與參與陰極反應(yīng)的電流值之比。在面對主極的鋁板上，參與陽極反應(yīng)及陰極反應(yīng)的電量比(陰極時電量/陽極時電量)，最好為0.3～0.95。
電解槽，可以使用縱式、平整式、離心式等眾所周知的用于表面處理的電解槽，但最好使用特開平5-195300號公報所述的輻射型電解槽。通過電解槽的電解液，可以相對鋁腹板的前進方向平行也可以相反。
(硝酸電解)通過以硝酸為主體的電解液的電化學粗糙化表面處理，可以形成平均開口直徑為0.5～5μm的坑點。但是，當電量比較多時，電解反應(yīng)集中，也能生成超過5μm的大坑點。
為了獲得這樣的磨砂目，參與在電解反應(yīng)結(jié)束了的時刻的鋁板陽極反應(yīng)的電量的總合，最好為1～1000C/dm2，若為50～400 C/dm2則更好。此時的電流密度最好為5～100A/dm2。
此外，例如，使用15～35質(zhì)量％的高濃度硝酸電解液且在30～60℃下進行電解，或使用0.7～2質(zhì)量％的硝酸電解液且在80℃以上的高溫下進行電解，可以使其形成平均開口直徑0.2μm以下的小波結(jié)構(gòu)。其結(jié)果是，可以很好地平衡調(diào)整△S5、△S5(0.2-5)、△S5(0.02-0.2)的范圍。
(鹽酸電解)以鹽酸為主體的電解液的電化學粗糙化表面處理，根據(jù)參與陽極反應(yīng)的電量的總和，可以生成各種凹凸形狀。
首先在電量總和少的區(qū)域，由于鹽酸其自身的鋁溶解力強，只要稍微施加電解就能在表面形成微細的凹凸。該微細的凹凸，其平均開口直徑為0.01～0.2μm，并能在鋁板的表面上全面均勻地生成。為了獲得這樣的磨砂目在電解反應(yīng)結(jié)束的時刻的參與鋁板陽極反應(yīng)的總電量，最好為1～100C/dm2，若為20～70C/dm2則更好。此時的電流密度最好為10～50A/dm2。
在這樣的以鹽酸為主體的電解液的電化學粗糙化表面處理中，以將參與陽極反應(yīng)的電量的總和增大到100～2000C/dm2的方法、能在同時形成火山口狀的大波度的同時全面生成重疊于火山口狀波形且平均開口直徑為0.01～4μm的微細的凹凸。
在上述的硝酸、鹽酸等的電解液中進行的第1及第2電解粗糙化表面處理過程中，對鋁板最好進行陰極電解處理。根據(jù)該陰極電解處理，能在鋁板表面上生成粉狀物，并且因產(chǎn)生氫氣而進行均勻的電解粗糙化表面處理。該陰極電解處理，在酸性溶液中的陰極電量最好為3～80C/dm2，若以5～30C/dm2進行則更好。如果陰極電量不足3C/dm2，則有時會產(chǎn)生粉狀物附著量不足，另外，若超過80C/dm2，則有時會產(chǎn)生粉狀物附著量過剩，都不理想。此外，電解液可以與上述的第1及第2電解粗糙化表面處理中所使用的溶液相同也可以不同。
<堿腐蝕處理>
堿腐蝕處理，是將上述鋁板與堿溶液接觸，以使表層溶解的處理。
在電解粗糙化表面處理之前進行的堿腐蝕處理，是在不進行機械粗糙化表面處理時，以清除上述鋁板(軋制鋁)的表面上的壓延油、污垢、自然氧化膜為目的，此外，在已經(jīng)進行機械粗糙化表面處理時，以溶解因機械粗糙化表面處理所產(chǎn)生的凹凸部的棱角部分，將陡峭的凹凸變成具有圓滑起伏表面為目的。
在堿腐蝕處理之前不進行機械粗糙化表面處理時，腐蝕量最好為0.1～10g/m2，若為1～5g/m2則更好。當腐蝕量不足0.1/m2時，由于有時會殘留表面的壓延油、污垢、自然氧化膜，所以有時會產(chǎn)生在后階段的電解粗糙化表面處理中不能生成均勻的坑點的情況。另一方面，當腐蝕量為1～10/m2時，可以充分地清除表面的壓延油、污垢、自然氧化膜。超過上述范圍的腐蝕量的做法，在經(jīng)濟上不利。
當在堿腐蝕處理之前進行機械粗糙化表面處理時，腐蝕量最好為3～20g/m2，若為5～15g/m2則更好。當腐蝕量不足3/m2時，有時不能將用機械粗糙化表面處理形成的凹凸變的平滑，并在后階段的電解粗糙化表面處理中不能生成均勻的坑點。此外，在印刷時有時會使污垢嚴重化。另一方面，當腐蝕量超過20/m2時，有時會使凹凸結(jié)構(gòu)消失。
在電解粗糙化表面處理后立刻進行的堿腐蝕處理，是要溶解在酸性電解液中生成的粉狀物，并溶解因電解粗糙化表面處理所形成的坑點的棱角部分為目的而進行的。
用電解粗糙化表面處理所形成的坑點，因電解液的種類而異，因此其最適當?shù)母g量也不同，但在進行電解粗糙化表面處理后的堿腐蝕處理的腐蝕量，最好為0.1～5g/m2。在使用了硝酸電解液時，必須比使用鹽酸電解液時多設(shè)定腐蝕量。
在進行多次電解粗糙化表面處理時，在各個處理之后，可以根據(jù)需要進行堿腐蝕處理。
作為在堿溶液中使用的堿，例如可以舉出苛性堿、堿金屬鹽。具體的，作為苛性堿，例如可以舉出苛性鈉、苛性鉀。此外，作為堿金屬鹽，例如可以舉出正硅酸鈉、硅酸鈉、正硅酸鉀、硅酸鉀等的堿金屬硅酸鹽；碳酸鈉、碳酸鉀等的堿金屬碳酸鹽；鋁酸鈉、鋁酸鉀等的堿金屬鋁酸鹽；葡糖酸鈉、葡糖酸鉀等的堿金屬糖醛糖酸鹽；磷酸氫鈉、磷酸氫鉀、磷酸二氫鈉、磷酸二氫鉀等的堿金屬磷酸氫鹽。其中，從蝕刻速度快及便宜的觀點出發(fā)，苛性堿的溶液，以及含有苛性堿及堿金屬鋁酸鹽兩者的溶液最理想。特別是苛性鈉的水溶液最好。
堿溶液的濃度，可以根據(jù)腐蝕量而決定，但理想的是1～50質(zhì)量％，最好是10～30質(zhì)量％。在堿溶液中溶解了鋁離子時，鋁離子的濃度，最好為0.01～10質(zhì)量％，最好是3～8質(zhì)量％。堿溶液的溫度最好是20～90℃。處理時間最好是1～120秒。
作為將鋁板與堿溶液接觸的方法，例如，有使鋁板通過裝有堿溶液的槽中的方法，將鋁板浸泡在裝有堿溶液的槽中的方法，及將堿溶液噴射到鋁板表面上的方法。
<去除附著物處理>
在進行電解粗糙化表面處理或堿腐蝕處理以后，為了清除殘留于表面上的污跡(附著物)而要進行酸洗(去除附著物處理)。所使用的酸，例如有硝酸、硫酸、磷酸、鉻酸、氫氟酸、硼氫氟酸。
上述去除附著物處理，例如，將上述鋁板與鹽酸、硝酸、硫酸等的濃度為0.5～30質(zhì)量％的酸性溶液(含有0.01～5質(zhì)量％鋁離子。)進行接觸。作為將鋁板與酸性溶液接觸的方法，例如，有使鋁板通過裝有酸性溶液的槽中的方法，將鋁板浸泡在裝有酸性溶液的槽中的方法，及將酸性溶液噴射到鋁板表面上的方法。
在去除附著物處理中，作為酸性溶液，可以使用上述的電解粗糙化表面處理中被排出的以硝酸為主體的水溶液或以鹽酸為主體的水溶液的廢液，或者，在后述的陽極氧化處理中所排出的以硫酸為主體的水溶液的廢液。
去除附著物處理的液溫，最好為25～90℃。此外，處理時間最好是1～180秒。在用于去除附著物處理的酸性溶液中，也可以溶入鋁及鋁合金成分。
<陽極氧化處理>
在進行了如上處理的鋁板上，最好再實施陽極氧化處理。陽極氧化處理可以用在該領(lǐng)域使用的以往的方法進行。此時，在硫酸濃度為50～300g/L，鋁濃度為5質(zhì)量％以下的溶液中，將鋁板作為陽極通電并可以形成陽極氧化膜。作為用于陽極氧化處理的溶液，可以單獨使用硫酸、磷酸、鉻酸、草酸、氨基磺酸、苯磺酸、氨基磺酸等或使用兩種以上的組合。
此時，在電解液中至少包含通常所有含的鋁板、電極、自來水、地下水等成分。并且，添加第2、第3成分也無妨。在此所說的第2、第3成分，例如是Na、K、Mg、Li、Ca、Ti、Al、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn等金屬的離子；銨離子等陽離子；硝酸離子、碳酸離子、氯化物離子、磷酸離子、氟化物離子、亞硫酸離子、鈦酸離子、硅酸離子、硼酸離子等的陰離子，最好含有0～10000ppm左右的濃度。
陽極氧化處理的條件，由于因使用的電解液而有各種變化，所以不能一并決定，但一般是電解液濃度為1～80質(zhì)量％、液溫為5～70℃、電流密度為0.5～60A/dm2、電壓為1～100V、電解時間為15秒～50分，適當?shù)卣{(diào)整以形成所希望的陽極氧化膜量。
此外，可以使用特開昭54-81133號、特開昭57-47894號、特開昭57-51289號、特開昭57-51290號、特開昭57-54300號、特開昭57-136596號、特開昭58-107498號、特開昭60-200256號、特開昭62-136596號、特開昭63-176494號、特開平4-176897號、特開平4-280997號、特開平6-207299號、特開平5-24377號、特開平5-32083號、特開平5-125597號、特開平5-195291號的各公報所述的方法。
其中，如特開昭54-12853號公報及特開昭48-45303號公報所述，作為電解液，最好使用硫酸溶液。電解液中的硫酸濃度，最好是10～300g/L(1～30質(zhì)量％)，此外，鋁離子濃度，最好是1～25g/L(0.1～2.5質(zhì)量％)，更好的是2～10g/L(0.2～1質(zhì)量％)。這樣的電解液，例如，可以在硫酸濃度為50～200g/L的希硫酸中添加硫酸鋁等進行調(diào)制。
在用含有硫酸的電解液中進行陽極氧化處理時，可以在鋁板與對極之間施加直流，也可以施加交流。
當在鋁板上施加直流時，電流密度最好為1～60A/dm2，更好的是5～40A/dm2。
在連續(xù)地進行陽極氧化處理時，為了在鋁板的一部分上不產(chǎn)生電流集中的所謂“灰暗部”在陽極氧化處理的剛剛開始時，最好通入5～10A/dm2低電流密度的電流，隨著陽極氧化處理的進行，將電流密度增加到30～50A/dm2或以上。
在連續(xù)地進行陽極氧化處理時，在鋁板上，最好用通過電解液供電的液體供電方式進行供電。
通過在這樣條件下進行的陽極氧化處理，能獲得具有多數(shù)稱為細孔(微形細孔)的孔的多孔質(zhì)膜，但通常其平均細孔直徑為5～50nm，平均細孔密度為300～800個/μm2左右。
陽極氧化膜的量最好為1～5g/m2。如果不足1/m2則版容易受傷，另一方面，如果超過5g/m2則必須在制造時加大電力，其經(jīng)濟上不利。陽極氧化膜的量，最好為1.5～4g/m2。此外，最好使鋁板的中央部與邊緣部附近之間的陽極氧化膜量的差在1g/m2以下。
作為用于陽極氧化處理的電解裝置，可以使用特開昭48-26638號、特開昭47-18739號、特公昭58-24517號的各公報所述的裝置。
其中，圖4所示的裝置被優(yōu)選使用。圖4是對將鋁板的表面進行陽極氧化處理的裝置的實例簡圖。在陽極氧化處理的裝置410中，鋁板416，被沿圖4中的箭頭方向運送。在儲存電解液418的供電槽412中，用供電電極420(+)使鋁板416帶電。然后，鋁板416，在供電槽412中被輥子422向上輸送，并用壓送輥424向下轉(zhuǎn)換方向后，向儲存有電解液426的電解處理槽414輸送，并被輥子428向水平方向轉(zhuǎn)換方向。隨后，鋁板416，由電解電極430(-)使鋁板416帶電，以此在其表面上形成陽極氧化膜，從電解處理槽414出來的鋁板416被送往下一道工序。在上述陽極氧化處理裝置410中，由輥子422、壓送輥424及輥子428構(gòu)成方向轉(zhuǎn)換機構(gòu)，在供電槽412與電解處理槽414之間的槽間部，鋁板416被上述輥子422、424及428呈山形和倒U字形輸送。供電電極420及電解電極430，與直流電源434連接。
圖4的陽極氧化處理裝置410的特征是，用一張槽壁432將供電槽412和電解處理槽414隔開，并將鋁板416在槽間部呈山形和倒U字形輸送。因此，可以使在槽間部的鋁板416的長度最短。由于能縮短陽極氧化處理裝置410整體的長度，所以能降低設(shè)備費用。此外，用呈山形和倒U字形輸送鋁板416的方法，不必在各槽412及414的槽壁上形成用于通過鋁板416的開口部。因此，可以減少為了維持各槽412及414內(nèi)的液面高度在必要的水平所需的送液量，可以降低運行費用。
<封孔處理>
在本發(fā)明中，根據(jù)需要也可以進行封堵存在于陽極氧化膜上的微小氣孔的封孔處理。封孔處理，可以按照沸水處理、熱水處理、蒸汽處理、硅酸鈉處理、亞硝酸鹽處理、醋酸銨處理等眾所周知的方法進行。例如，也可以用特公昭56-12518號公報、特開平4-4194號公報、特願平4-33952號說明書(特開平5-202496號公報)、特願平4-33951號說明書(特開平5-179482號公報)等所述的裝置及方法進行封孔處理。
<親水處理>
也可以在陽極氧化處理后或封孔處理后，進行親水處理。作為親水處理，可以舉出美國專利第2,946,638號說明書所述的氟化鋯酸鉀處理、美國專利第3,201,247號說明書所述的磷鉬酸鹽處理、英國專利第1,108,559號說明書所述的烷基鈦酸鹽處理、德國專利第1,091,433號說明書所述的聚丙烯酸處理、德國專利第1,134,093號說明書及英國專利第1,230,447號說明書所述的用聚乙烯膦酸處理、特公昭44-6409號公報所述的膦酸處理、美國專利第3,307,951號說明書所述的植酸處理、特開昭58-16893號公報及特開昭58-18291號公報所述的用親油性有機高分子化合物與2價金屬的鹽的處理、美國專利第3,860,426號說明書所述的設(shè)置含有水溶性金屬鹽(例如醋酸鋅)的親水性纖維素(例如羥甲基纖維素)的底塗層的處理、特開昭59-101651號公報所述的涂敷含有硫代基的水溶性聚合物底層的處理。
此外，也可以舉出基于使用特開昭62-019494號公報所述的磷酸鹽、特開昭62-033692號公報所述的水溶性環(huán)氧化合物、特開昭62-097892號公報所述的磷酸改性淀粉、特開昭63-056498號公報所述的二胺化合物、特開昭63-130391號公報所述的氨基酸的無機或有機酸、特開昭63-145092號公報所述的含有羧基或羥基的有機膦酸、特開昭63-165183號公報所述的含有氨基及膦酸基的化合物、特開平2-316290號公報所述的特定的羧酸衍生物、特開平3-215095號公報所述的磷酸酯、特開平3-261592號公報所述的具有1個氨基及1個磷的含氧酸基的化合物、特開平3-215095號公報所述的磷酸酯、特開平5-246171號公報所述的苯基膦酸等的脂肪族或芳香族膦酸、特開平1-307745號公報所述的用含有硫代水楊酸類的硫原子的化合物、特開平4-282637號公報所述的含有磷的含氧酸的基團的化合物等的底塗層的處理。
進而，也可以進行特開昭60-64352號公報所述的用酸性染料的著色。
此外，最好用浸泡于硅酸鈉、硅酸鉀等的堿金屬硅酸鹽的水溶液的方法，涂布親水性乙烯基聚合物或親水性化合物并形成親水性底層的方法等，進行親水處理。
用硅酸鈉、硅酸鉀等的堿金屬硅酸鹽的水溶液的親水處理，可以按照美國專利第2,714,066號說明書及美國專利第3,181,461號說明書所述的方法及順序進行。
作為堿金屬硅酸鹽，例如，可以舉出硅酸鈉、硅酸鉀、硅酸鋰。堿金屬硅酸鹽的水溶液，也可以適當?shù)睾袣溲趸c、氫氧化鉀、氫氧化鋰等。
此外，堿金屬硅酸鹽的水溶液，也可以含有堿土類金屬鹽或4族(第IVA族)金屬鹽。作為堿土類金屬鹽，例如，可以舉出硝酸鈣、硝酸鍶、硝酸鎂、硝酸鋇等的硝酸鹽；硫酸鹽；鹽酸鹽；磷酸鹽；醋酸鹽；草酸鹽；硼酸鹽。作為4族(第IVA族)金屬鹽，例如，可以舉出四氯化鈦、三氯化鈦、氟化鈦鉀、草酸鈦鉀、硫酸鈦、四碘化鈦、氯氧化鋯、二氧化鋯、含氧氯化鋯、四氯化鋯。這些堿土類金屬鹽及4族(第IVA族)金屬鹽，可以單獨或?qū)煞N以上組合使用。
可以用熒光X射線分析裝置測定以堿金屬硅酸鹽處理所吸附的Si量，其吸附量最好為大致1.0～15.0mg/m2。
用該堿金屬硅酸鹽處理，可以獲得提高對平版印刷版用支承體表面的堿顯影液的耐溶解性的效果，可以抑制鋁成分向顯影液中的溶解析出，可以降低引起顯影液疲勞的顯影沉淀物的產(chǎn)生。
本發(fā)明的平版印刷版用支承體，如上所述，由于其表示表面形狀的因數(shù)的各個數(shù)值范圍的平衡優(yōu)良，且圖像記錄層與支承體的粘接性優(yōu)良，所以即使在進行堿金屬硅酸鹽處理時，也能獲得充分的耐印性。因此，即使進行堿金屬硅酸鹽處理，也不擔心耐印性降低并可以獲得有提高耐污濁性和降低顯影沉淀物產(chǎn)生的優(yōu)點。
此外，形成親水性底涂層的親水處理，也可以按照特開昭59-101651號公報及特開昭60-149491號公報所述的條件及順序進行。
作為用于該方法的親水性乙烯基聚合物，例如，可以舉出聚乙烯磺酸、具有硫代基的對苯乙烯磺酸等的含有硫代基乙烯聚合性化合物與(甲基)丙烯酸烷基酯等的普通的乙烯基聚合性化合物之間的共聚物。此外，作為用于該方法的親水性化合物，例如，可以舉出具有至少選自-NH2基、基-COOH及硫代基構(gòu)成的一組中的一種的化合物。
<水洗處理>
在上述的各處理工序結(jié)束以后，最好進行水洗。在水洗中，可以用純水、井水、自來水等。為了防止處理液被帶到下一道工序也可以用壓送裝置。
<鋁板(軋制鋁)>
為了獲得本發(fā)明的平版印刷版用支承體，可以使用眾所周知的鋁板。用于本發(fā)明的鋁板，是以調(diào)整上穩(wěn)定的鋁為主要成分的金屬，是由鋁或鋁合金構(gòu)成。除了純鋁板以外，也可以用以鋁作為主要成分且含有微量其他元素的合金板。
在本說明書中，將由上述的鋁或鋁合金構(gòu)成的各種基板統(tǒng)稱為鋁板。可以包含于上述鋁合金中的其他元素，有硅、鐵、錳、銅、鎂、鉻、鋅、鉍、鎳、鈦等，合金中的其他元素含有量為10質(zhì)量％以下。
這樣用于本發(fā)明的鋁板，其沒有特定的組成，例如，可以適當?shù)乩娩X手冊第4版(1990年、輕金屬協(xié)會發(fā)行)所述的眾所周知的材質(zhì)，例如，JIS A1050、JIS A1100、JIS A1070、含Mn的JIS A3004、國際注冊合金3103A等的Al-Mn類鋁合金板。此外，以增加抗拉強度為目的，可以使用這些鋁合金中添加0.1質(zhì)量％以上鎂的Al-Mg類合金、Al-Mn-Mg類合金(JIS A3005)。進而，也可以用含有Zr或Si的Al-Zr系合金或Al-Si類合金。此外，也可以用Al-Mg-Si類合金。
此外，也可以用這些Al材的回爐料。
關(guān)于JIS1050材料，是由本申請人提出的技術(shù)，如特開昭59-1536861號、特開昭61-51395號、特開昭62-146694號、特開昭60-215725號、特開昭60-215726號、特開昭60-215727號、特開昭60-216728號、特開昭61-272367號、特開昭58-11759號、特開昭58-42493號、特開昭58-221254號、特開昭62-148295號、特開平4-254545號、特開平4-165041號、特公平3-68939號、特開平3-234594號、特公平1-47545號及特開昭62-140894號的各公報所述。另外，特公平1-35910號公報、特公昭55-28874號公報所述的技術(shù)也為眾所周知。
關(guān)于JIS1070材料，是由本申請人提出的技術(shù)，如特開平7-81264號、特開平7-305133號、特開平8-49034號、特開平8-73974號、特開平8-108659號及特開平8-92679號的各公報所述。
Cu是大多含在JIS2000類、4000類材料中的元素，其比較容易固溶于Al中。
Cu的含量，影響電化學粗糙化表面處理。特別是，當含Cu量超過0.05質(zhì)量％時會生成最大高度Rmax超過8.0μm的不均勻的坑點。
含Cu量，在本發(fā)明的第2實施例中，最好為0.00～0.05質(zhì)量％，更好的是0.00～0.04質(zhì)量％。
關(guān)于Al-Mg類合金，是由本申請人提出的技術(shù)，如特公昭62-5080號、特公昭63-60823號、特公平3-61753號、特開昭60-203496號、特開昭60-203497號、特公平3-11635號、特開昭61-274993號、特開昭62-23794號、特開昭63-47347號、特開昭63-47348號、特開昭63-47349號、特開昭64-1293號、特開昭63-135294號、特開昭63-87288號、特公平4-73392號、特公平7-100844號、特開昭62-149856號、特公平4-73394號、特開昭62-181191號、特公平5-76530號、特開昭63-30294號及特公平6-73116號的各公報所述。另外，在特開平2-215599號公報、特開昭61-201747號公報等中也有記載。
關(guān)于Al-Mn類合金，是由本申請人提出的技術(shù)，如特開昭60-230951號、特開平1-306288號及特開平2-293189號的各公報所述。另外，在特公昭54-42284號、特公平4-19290號、特公平4-19291號、特公平4-19292號、特開昭61-35995號、特開昭64-51992號、特開平4-226394號的各公報、美國專利第5,009,722號說明書、第5,028,276號說明書中也有記載。
關(guān)于Al-Mn-Mg類合金，是由本申請人提出的技術(shù)，如特開昭62-86143號公報及特開平3-222796號公報所述。另外，在特公昭63-60842號、特開昭60-63346號、特開昭60-63347號、特開平1-293350號的各公報、歐州專利第223,737號、美國專利第4,818,300號、英國專利第1,222,777號的各說明書中也有記載。
關(guān)于Al-Zr類合金，是由本申請人提出的技術(shù)，如特公昭63-15978號公報及特開昭61-51395號公報所述。另外，在特開昭63-143234號、特開昭63-143235號公報中也有記載。
關(guān)于Al-Mg-Si類合金，是由本申請人提出的技術(shù)，如英國專利第1,421,710號說明書所述。
為了將鋁合金制成板材，例如，可以采用下述的方法。首先，在調(diào)整了規(guī)定合金成分含量的鋁合金融溶液中，按照通常作法，進行凈化處理、鑄造。在凈化處理中，為了除去融溶液中的氫等不需要的氣體，進行熔劑處理，用氬氣，氯氣等的脫氣處理，用陶瓷管過濾器、陶瓷格柵過濾器等的所謂硬介質(zhì)過濾器、或用鋁板，鋁珠等作為過濾材的過濾器、或玻璃纖維布過濾器等的過濾處理，或者，進行將脫氣處理和過濾處理組合起來的處理。
這些凈化處理，理想的是實施為防止因融溶液中的非金屬介在物、氧化物等異物的缺陷，或因熔入融溶液的氣體的缺陷的處理。關(guān)于融溶液的過濾，如特開平6-57432號、特開平3-162530號、特開平5-140659號、特開平4-231425號、特開平4-276031號、特開平5-311261號、特開平6-136466號各公報所述。此外，關(guān)于融溶液的脫氣，如特開平5-51659號公報、實開平5-49148號公報等所述。本申請人也在特開平7-40017號公報上，提出了關(guān)于融溶液脫氣的技術(shù)。
接下來，用實施了上述凈化處理的融溶液進行鑄造。關(guān)于鑄造方法，是以DC鑄造法為代表的使用固體鑄模的方法以及以連續(xù)鑄造為代表的使用驅(qū)動鑄模的方法。
在DC鑄造中，冷卻速度是在0.5～30℃/秒的范圍內(nèi)凝固。若不足1℃則會形成很多粗大的金屬間化合物。在進行DC鑄造時，可以制造板厚為300～800mm鑄塊。將該鑄塊按照通常作法，根據(jù)需要進行面切削，通常，切削表層的1～30mm，最好切削1～10mm。在其前后，根據(jù)需要，進行均熱化處理。在進行均熱化處理時，為了消除金屬間化合物的粗大化，要在450～620℃下進行1～48小時的熱處理。熱處理若少于1小時，則均熱化處理的效果不充分。
隨后，進行熱軋、冷軋并制成鋁板的軋板。熱軋的開始溫度適宜在350～500℃。在熱軋的前或后，或者在其過程中，也可以進行中間退火處理。中間退火處理的條件是，使用間歇(bach)式退火爐以280～600℃加熱2～20小時，最好是350～500℃加熱2～10小時，或使用連續(xù)退火爐以400～600℃加熱6分鐘以下，最好是以450～550℃加熱2分鐘以下。使用連續(xù)退火爐以10～200℃/秒的升溫速度加熱，也可以使結(jié)晶組織細化。
根據(jù)以上的工序，在規(guī)定厚度、例如0.1～0.5mm被精加工的鋁板，也可以再用輥子校平器、牽引校平器等矯正裝置改善其平面性。平面性的改善，也可以在將鋁板切成片狀以后進行，但為了提高生產(chǎn)率，最好在呈連續(xù)的卷材狀態(tài)下進行。此外，為了加工成規(guī)定的板寬，也可以使其通過縱切斷機。此外，為了防止因鋁板間的摩擦產(chǎn)生的碰傷，也可以在鋁板的表面上鋪設(shè)油膜。根據(jù)需要，對于油膜，適當?shù)剡x用揮發(fā)性油、或不揮發(fā)性油。
另一方面，作為連續(xù)鑄造法，在工業(yè)上實行的是雙輥法(Hunter法)、使用以3C為代表的冷卻輥的方法、雙皮帶法(Hazure法)、使用以RswisscasterII型為代表的冷卻皮帶或冷卻塊的方法。在使用連續(xù)鑄造法時，其在冷卻速度為100～1000℃/秒的范圍內(nèi)凝固。一般來說，連續(xù)鑄造法，其特征是比DC鑄造法的冷卻速度快，可以提高對于鋁基體的合金成分固溶度。關(guān)于連續(xù)鑄造法，由本申請人提出的技術(shù)提案，如特開平3-79798號、特開平5-201166號、特開平5-156414號、特開平6-262203號、特開平6-122949號、特開平6-210406號、特開平6-26308號的各公報等所述。
在進行連續(xù)鑄造時，例如，若使用亨特法等的冷卻輥的方法，可以直接、連續(xù)鑄造板厚為1～10mm的鑄造板，能獲得省略熱軋工序的優(yōu)點。此外，若使用Hazure法等的冷卻皮帶的方法，能鑄造板厚為10～15mm的鑄造板，一般是，配置熱軋輥并在鑄造后立刻熱軋，以獲得板厚為1～10mm的連續(xù)鑄造熱軋板。
該連續(xù)鑄造軋板，與關(guān)于DC鑄造的說明一樣，經(jīng)過冷軋、中間退火、平面性的改善、切斷等工序，精加工為規(guī)定厚度、例如，0.1～0.5mm的板厚。關(guān)于在使用連續(xù)鑄造法時的中間退火條件及冷軋條件，由本申請人提出的技術(shù)，如特開平6-220593號、特開平6-210308號、特開平7-54111號、特開平8-92709號的各公報所述。
在這樣制造的鋁板上，希望獲得下述的各種特性。
鋁板的強度，為了獲得作為平版印刷版用支承體所必須的折曲的強度，其0.2％耐力最好在140Mpa以上。此外，為了在進行過燒處理時也獲得某種程度的折曲強度，在以270℃經(jīng)過3～10分鐘加熱處理后的0.2％耐力、最好在80Mpa以上，更好的是100Mpa以上。特別是對鋁板要求折曲強度時，可以采用添加了Mg或Mn的鋁材，但由于若加強折曲，則使向印刷機裝配板體的容易度不好，所以根據(jù)用途，適當?shù)剡x擇材質(zhì)和微量成分的添加量。關(guān)于此，由本申請人提出的技術(shù)提案，如特開平7-126820號公報、特開昭62-140894號公報等所述。
鋁板的結(jié)晶組織，是在進行了化學粗糙化表面處理或電化學粗糙化表面處理時，鋁板表面的結(jié)晶組織產(chǎn)生表面質(zhì)量不良的原因，所以在表面上最好不要太粗糙。鋁板表面的結(jié)晶組織，其寬度理想的是在200μm以下，100μm以下則更好，50μm以下則最好，此外，結(jié)晶組織的長度理想的是在5000μm以下，1000μm以下則更好，500μm以下則最好。關(guān)于這點，由本申請人提出的技術(shù)提案，如特開平6-218495號、特開平7-39906號、特開平7-124609號各公報等所述。
鋁板的合金成分分布，在進行了化學粗糙化表面處理或電化學粗糙化表面處理時，會引起鋁板表面的合金成分不均勻分布且產(chǎn)生面質(zhì)不良，所以在表面上最好不產(chǎn)生不均勻。關(guān)于這點，由本申請人提出的技術(shù)提案，如特開平6-48058號、特開平5-301478號、特開平7-132689號各公報等所述。
鋁板的金屬間化合物，其金屬間化合物的尺寸和密度，有時對進行化學粗糙化表面處理或電化學粗糙化表面處理施加影響。關(guān)于這點，由本申請人提出的技術(shù)提案，如特開平7-138687號、特開平4-254545號各公報等所述。
在本發(fā)明中，將如上所述的鋁板在最終軋制工序中，也可以用疊層軋制、轉(zhuǎn)印等使其帶有凹凸。
用于本發(fā)明的鋁板是連續(xù)的帶狀片材或板材。即，可以是鋁薄片卷，也可以是被裁成對應(yīng)于作為產(chǎn)品出廠的平版印刷版原版的大小的片狀的薄板。
由于鋁板表面的傷痕會在加工平版印刷版用支承體時形成缺陷，所以必須盡可能減少在作為平版印刷版用支承體的表面處理工序的前階段產(chǎn)生傷痕。為此，最好以穩(wěn)定的狀態(tài)使處于在輸送時難于產(chǎn)生傷痕的包裝狀態(tài)。
當是鋁薄片卷時，作為鋁板的包裝狀態(tài)，例如，在平板架上鋪設(shè)硬紙板及毛氈，在制品兩端擋上紙板環(huán)，用帶泡塑料膜(polytube)將整體包裹，在卷內(nèi)徑部插入木制環(huán)，在卷外圓周部圍上毛氈，用鐵帶捆住，并在外圓周部上進行顯示。此外，作為包裝材料，可以使用聚乙烯薄膜作為緩沖材料，可以使用針織毛氈、硬紙板。也有其他形形色色的實施例，但只要能穩(wěn)定、不會碰傷地運輸也不局限于這些方法。
用于本發(fā)明的鋁板厚度為0.1mm～0.6mm左右，理想的是0.15mm～0.4mm，最好是0.2mm～0.3mm。該厚度，可以根據(jù)印刷機的大小、印刷版的大小、用戶的希望適當?shù)刈兏?br> 以下，說明使用由本發(fā)明獲得的平版印刷版用支承體的平版印刷版原版及其制造方法。
<底涂層>
在將圖像記錄層設(shè)置在由本發(fā)明獲得的平版印刷版用支承體上之前，根據(jù)需要，例如，也可以設(shè)置硼酸鋅等的水溶性金屬鹽類的無機底涂層或有機底涂層。
有機底涂層所用的有機化合物，例如，可以舉出羥甲基纖維素；糊精；阿拉伯膠；支鏈具有將磺酸基的聚合物及共聚物；聚丙烯酸；具有2-氨基乙基膦酸等的氨基的膦酸類；可以含有取代基的苯基膦酸、萘基膦酸、烷基膦酸、甘油膦酸、亞甲基膦酸、次乙基膦酸等的有機膦酸；可以含有取代基的苯基磷酸、萘基磷酸、烷基磷酸、甘油磷酸等的有機磷酸；可以含有取代基的苯基次膦酸、萘基次膦酸、烷基次膦酸、甘油次膦酸等的有機次膦酸；甘氨酸、β-丙氨酸等的氨基酸類；三乙醇胺的鹽酸鹽等的具有羥基的氨基鹽酸鹽；黃色染料等。這些可以單獨使用，也可以將兩種以上混合使用。
有機底涂層，可以用在水或甲醇、乙醇、甲基乙基酮等的有機溶液，或者它們的混合溶劑中溶解了上述有機化合物的溶液涂布在鋁板上并使其干燥而獲得。溶解了上述有機化合物的溶液的濃度最好為0.005～10質(zhì)量％。涂布的方法，沒有特殊限定，可以用棒涂、旋涂、簾涂等的任何方法。
有機底涂層干燥后的覆蓋量，優(yōu)選2～200mg/m2，更優(yōu)選5～100mg/m2。只要在上述范圍內(nèi)，則印刷性良好。
<圖像記錄層>
在本發(fā)明的平版印刷版用支承體上，可以敷設(shè)以下所示的感光層、感熱層等的圖像記錄層并作為本發(fā)明的平版印刷版原版。圖像記錄層，例如，可以優(yōu)選舉出常規(guī)正型、常規(guī)負型、光聚合物型、熱正型、熱負型、能在機上顯影的無處理型。以下，說明這些優(yōu)選的圖像記錄層。
<常規(guī)正型>
作為適用于常規(guī)正型感光層的感光性樹脂組合物，例如可以舉出含有鄰醌二疊氮基化合物及非水溶性且堿溶性的高分子化合物(以下稱為「堿溶性高分子化合物」)的組合物。
作為鄰醌二疊氮基化合物，例如，可以舉出1，2-萘醌-2-二疊氮基-5-磺酰氯與苯酚·甲醛樹脂或甲酚·甲醛樹脂之間的酯，或美國專利第3,635,709號說明書所述的1，2-萘醌-2-二疊氮基-5-磺酰氯與鄰苯三酚·丙酮樹脂之間的酯。
作為堿溶性高分子化合物，例如可以舉出苯酚·甲醛樹脂、甲酚·甲醛樹脂、苯酚·甲酚·甲醛縮聚樹脂、聚羥基苯乙烯、N-(4-羥基苯基)甲基丙烯酰胺的共聚物、特開平7-36184號公報所述的含有羧基的聚合物、特開昭51-34711號公報所述的含有酚性羥基的丙烯酸系樹脂、特開平2-866號所述的具有磺酰胺基的丙烯酸系樹脂、或聚氨酯系樹脂。
優(yōu)選再在感光性樹脂組合物中，添加用于改良特開平7-92660號公報的 ～ 所述的感度調(diào)節(jié)劑、印像劑、染料等的化合物或該公報的 所述的涂布性的表面活性劑。
<常規(guī)負型>
作為適用于常規(guī)負型感光層的感光性樹脂組合物，可以舉出含有重氮樹脂及堿溶性或膨潤性的高分子化合物(以下稱為「結(jié)合劑」)的組合物。
作為重氮樹脂，例如，可以舉出芳香族重氮鎓鹽與含有甲醛等的活性羰基化合物之間的縮合物、對重氮苯胺類與甲醛之間的縮合物與六氟磷酸鹽或四氟硼酸鹽的反應(yīng)產(chǎn)物的有機溶媒可溶性重氮樹脂無機鹽。特別是，優(yōu)選含有20摩爾％以上的特開昭59-78340號公報所述的6聚體以上的高分子量重氮化合物。
作為適合的結(jié)合劑，例如，以丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸或馬來酸為必須成分的共聚物，具體的可以舉出，由如特開昭50-118802號公報所述的2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯酸等的單體的多元共聚物、或如特開昭56-4144號公報所述的由烷基丙烯酸酯、(甲基)丙烯腈、及不飽和羧酸構(gòu)成的多元共聚物。
優(yōu)選再在感光性樹脂組合物中，添加用于賦予特開平7-281425號公報的 ～ 所述的印像劑、染料、涂膜的柔軟性和耐磨性的可塑劑、顯影促進劑等的化合物、以及用于改良涂布性的表面活性劑等。
作為上述的常規(guī)正型或負型感光層的底涂層，最好設(shè)置含有特開2000-105462號公報所述的具有含酸基結(jié)構(gòu)成分和含鎓基結(jié)構(gòu)成分的高分子化合物的中間層。
<光聚合物型>
作為適用于光聚合物型感光層的光聚合型感光性組合物(以下稱為「光聚合性組合物」)，含有作為必須成分的具有能加成聚合的乙烯性不飽和鍵化合物(以下只稱為「含有乙烯性不飽和鍵化合物」)、光聚合引發(fā)劑、高分子結(jié)合劑，根據(jù)需要，可以含有著色劑、可塑劑、熱聚合抑制劑等的各種化合物。
光聚合性組合物中含有的含乙烯性不飽和鍵化合物，具有在光聚合性組合物受到活性光線照射時，通過光聚合引發(fā)劑的作用而加成聚合，并交聯(lián)固化的含有乙烯性不飽和鍵的化合物。含乙烯性不飽和鍵化合物，可以任意選自至少含有1個、優(yōu)選兩個以上末端乙烯性不飽和鍵的化合物，例如，具有單體、預(yù)聚物(即，2聚體、3聚體和低聚物)、它們的混合物、它們的共聚物等的化學形態(tài)。以單體作為實例，有不飽和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、異巴豆酸、馬來酸)與脂肪族多元醇化合物的酯、不飽和羧酸與脂肪族多元胺化合物的酰胺等。此外，聚氨酯系加成聚合性化合物也適用。
作為光聚合性組合物中含有的光聚合引發(fā)劑，根據(jù)所使用的光源的波長，可以適當?shù)剡x擇使用各種光聚合引發(fā)劑或兩種以上的光聚合引發(fā)劑的并用系(光引發(fā)系)，例如，最好是特開2001-22079號公報的 ～ 所述的引發(fā)系。
光聚合性組合物中含有的高分子結(jié)合劑，不僅具有光聚合性組合物的被膜形成劑的功能，為了將感光層溶解于堿性顯影液的需要，還被用作在堿水中具有可溶性或膨潤性的有機高分子聚合物。作為上述高分子結(jié)合劑如同一公報的 ～ 所述。
光聚合性組合物中，最好添加如同一公報的 ～ 所述的添加劑(例如用于改良涂布性的表面活性劑)。
此外，在上述的感光層上，最好設(shè)置用于防止氧的聚合抑制作用的氧隔斷性保護層。作為含在氧隔斷性保護層的聚合物，可以舉出聚乙烯醇及其共聚物。
此外，作為上述感光層的底涂層，最好設(shè)置如特開2001-228608號公報的 ～ 所述的粘接層。
<熱正型>
熱正型的感熱層，含有堿溶性高分子化合物及光熱轉(zhuǎn)換物質(zhì)。
堿溶性高分子化合物，高分子中含有酸性基的自聚體、它們的共聚物、及含有它們的混合物、尤其是具有(1)酚性羥基(-Ar-OH)、(2)磺酰胺基(-SO2NH-R)的酸性基的物質(zhì)，從對堿顯影液的溶解性來看是優(yōu)選的。尤其是，在用紅外線激光等曝光的圖像形成性優(yōu)良的方面來看，最好具有酚性羥基。例如，可以優(yōu)選舉出使用苯酚甲醛樹脂、間甲酚甲醛樹脂、對甲酚甲醛樹脂、間/對混合甲酚甲醛樹脂、苯酚/甲酚(間、對及間/對混合的任何一種都可以)混合甲醛樹脂等的酚醛樹脂；鄰苯三酚丙酮樹脂。更詳細的說可以舉出如特開2001-305722號公報的 ～ 所述的高分子。
光熱轉(zhuǎn)換物質(zhì)，能有效地進行將曝光能量轉(zhuǎn)換為熱并有效解除感熱層的曝光部區(qū)域的相互作用。從記錄靈敏度的觀點出發(fā)，最好是在波長700～1200nm的紅外區(qū)域具有光吸收區(qū)的顏料或染料。作為染料，具體的可以舉出偶氮染料、金屬絡(luò)鹽偶氮染料、吡唑酮偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞氰染料、碳鎓染料、醌亞胺染料、次甲基染料、賽安寧染料、角鯊烯鎓鹽色素、吡喃鎓鹽、金屬硫趕酸鹽(例如，鎳硫趕酸鹽配位化合物)等。其中，最好是賽安寧染料，例如，特開2001-305722號公報的通式(I)所示的賽安寧染料。
在用于熱正型的感熱層的組合物中，最好添加與上述常規(guī)正型中所述物質(zhì)同樣的感度調(diào)節(jié)劑、顯影劑、染料等化合物或用于改良涂布性的表面活性劑。詳細的是特開2001-305722號公報的 ～ 所述的化合物。
熱正型的感熱層，可以是單層，也可以是特開平11-218914號公報所述的2層結(jié)構(gòu)。作為單層的感熱層，可以使用WO97/39894、特開平10-268512號公報所述的感材，作為2層結(jié)構(gòu)的感熱層，可以使用WO99/67097、EP864420B1所述的感材。
在熱正型的感熱層與支承體之間，最好設(shè)底涂層。作為底涂層所含有的成分有如特開2001-305722號公報 所述的各種有機化合物。
<熱負型>
熱負型的感熱層，是紅外線激光照射部固化并形成圖像部的負型的感熱層。
作為這樣的熱負型感熱層之一，最合適的是聚合型的層(聚合層)。聚合層含有(A)紅外線吸收劑、(B)自由基發(fā)生劑(自由基聚合引發(fā)劑)、(C)自由基聚合性化合物、(D)摻合聚合物。
在聚合層，紅外線吸收劑將吸收的紅外線轉(zhuǎn)換為熱，通過此時發(fā)生的熱，鎓鹽等的自由基聚合引發(fā)劑分解，產(chǎn)生自由基。自由基聚合物，若從具有末端乙烯性不飽和鍵的化合物中選擇，則因所發(fā)生的自由基會引起連鎖的聚合反應(yīng)、并固化。
(A)作為紅外線吸收劑，例如，可以舉出上述的熱正型感熱層所含有的上述光熱轉(zhuǎn)換物質(zhì)，特別作為賽安寧染料的具體實例是如特開2001--133969號公報的 ～ 所述的物質(zhì)，(B)作為自由基發(fā)生劑，可以舉出鎓鹽。作為適合使用的鎓鹽的具體實例，如特開2001--133969號公報的 ～ 所述的物質(zhì)，(C)作為自由基聚合性化合物，可從具有至少1個、最好2個末端乙烯性不飽和鍵的化合物中選擇。(D)作為摻合聚合物，最好使用線狀有機聚合物，或可選擇對水或弱堿水有可溶性或膨潤的線狀有機聚合物。其中尤其是在支鏈上具有芐基或烯丙基、及羧基的(甲基)丙烯酸樹脂，其膜強度、靈敏度及顯影性的平衡優(yōu)良，且合適。關(guān)于(C)自由基聚合性化合物及(D)摻合聚合物，可以使用該公報的 ～ 詳細記述的物質(zhì)。作為其它的添加物，最好添加該公報的 ～ 所述的添加劑(例如用于改良涂布性的表面活性劑)。
此外，除了聚合型之外，作為熱負型的感熱層之一，適合的有酸交聯(lián)型的層(酸交聯(lián)層)。酸交聯(lián)層，含有(E)因光或熱產(chǎn)生酸的化合物(以下稱為「酸發(fā)生劑」)、(F)因發(fā)生的酸而交聯(lián)的化合物(以下稱為「交聯(lián)劑」)、在酸的存在下能與交聯(lián)劑反應(yīng)的(G)堿溶性高分子化合物。為了高效地使用紅外線激光的能量，在酸交聯(lián)層中配合了(A)紅外線吸收劑。作為(E)酸發(fā)生劑，有光聚合的光引發(fā)劑、色素類的光變色劑、用于微抗蝕劑等的酸發(fā)生劑等的、熱分解并產(chǎn)生酸的化合物。作為(F)交聯(lián)劑，可以舉出(i)用羥甲基或烷氧甲基取代的芳香化合物，(ii)含有N-羥甲基、N-烷氧甲基或N-酰氧甲基的化合物，(iii)環(huán)氧化合物。作為(G)堿溶性高分子化合物，有酚醛樹脂、在支鏈上具有羥基芳基的聚合物等。
<無處理型>
無處理型的感熱層，有熱塑性微粒子聚合物型、微膠囊型、含有磺酸發(fā)生聚合物型等的類型，本發(fā)明尤其優(yōu)選在印刷機上顯影的無處理型。
熱塑性微粒子聚合物型，是(H)疏水性熱溶融性樹脂微粒子在(J)親水性高分子基質(zhì)中被分散，通過曝光部的熱使疏水性聚合物溶融，并相互融合，形成基于聚合物的疏水性區(qū)域，即，圖像部。
(H)疏水性熱溶融性樹脂微粒子(以下稱為「微粒子聚合物」)，最好是微粒子聚合物彼此因熱而形成溶融結(jié)合體的微粒子，其表面最好是因親水性，而分散在潤濕水等的親水性成分中且具有親水性表面的微粒子聚合物。作為微粒子聚合物，可以優(yōu)選舉出Reseach DisclosureNo.33303(1992年1月)、特開平9-123387號、特開平9-131850號、特開平9-171249號、特開平9-171250號的各公報，歐洲專利申請公開第931,647號說明書等所述的熱塑性微粒子聚合物。具體的可以舉出乙烯、苯乙烯、氯乙烯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、亞乙烯基氯、丙烯腈、乙烯基咔唑等的單體的均聚物或共聚物或它們的混合物。其中，最好使用聚氯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯。具有親水性表面的微粒子聚合物包括，構(gòu)成微粒子的聚合物本身為有親水性的物質(zhì)、在聚合物的主鏈或支鏈上導入親水性基并賦予親水性的聚合物等聚合物本身是親水性物質(zhì)；使聚乙烯醇、聚乙二醇等的親水性聚合物、親水性低聚物或親水性低分子化合物吸附在微粒子聚合物表面而使表面親水化的物質(zhì)。作為微粒子聚合物，最好是具有熱反應(yīng)功能基的微粒子聚合物。上述的微粒子聚合物，通過分散在(J)親水性高分子基質(zhì)中，以此在機上顯影時機上顯影性變得良好，并且提高了感熱層本身的被膜強度。
作為微膠囊型，可以優(yōu)選舉出特開2000-118160號公報所述的型號、特開2001-277740號公報所述的包裹具有熱反應(yīng)官能團的化合物的微膠囊型。
作為用于含有磺酸發(fā)生聚合物型的磺酸發(fā)生聚合物，例如，可以舉出特開平10-282672號公報所述的支鏈具有磺酸酯基、二砜基或仲或叔磺酰胺基的聚合物。
通過使無處理型的感熱層上含有親水性樹脂，不僅機上顯影性變得良好，而且也提高了感熱層本身的被膜強度。此外，使親水性樹脂交聯(lián)固化，可以獲得無須顯影處理的平版印刷原版。作為親水性樹脂，例如，是具有羥基、羧基、羥乙基、羥丙基、氨基、氨基乙基、氨基丙基、羧甲基等的親水基的物質(zhì)，或親水性的溶膠凝膠變換系粘合樹脂。
作為親水性樹脂的具體實例，例舉了作為上述的(J)親水性高分子母體所使用的親水性樹脂。其中，最理想的是溶膠凝膠變換系粘合樹脂。
在無處理型的感熱層上，必須添加光熱轉(zhuǎn)換物質(zhì)。光熱轉(zhuǎn)換物質(zhì)只要是吸收波長700nm以上光的物質(zhì)即可，與用于上述的熱正型的染料同樣的染料特別理想。
<后涂層>
這樣，在本發(fā)明的平版印刷版用支承體上，在設(shè)置了各種圖像記錄層所獲得的本發(fā)明的平版印刷版原版的內(nèi)面上，根據(jù)需要，為了防止在重疊時圖像記錄層的損壞，可以設(shè)置由有機高分子化合物構(gòu)成的后涂層。
<平版印刷版原版的制造方法>
圖像記錄層等的各層，通常，可以用將上述各成分溶解于溶媒中并將所得的涂布液，涂布在平版印刷版用支承體上的方法制造。
此時使用的溶媒，可以舉出二氯乙烷、環(huán)己酮、甲基乙基酮、甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇單甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、2-甲氧基乙酸乙酯、1-甲氧基-2-乙酸丙酯、二甲氧基乙烷、乳酸甲酯、乳酸乙酯、N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、四甲基尿素、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亞砜、環(huán)丁砜、γ-丁內(nèi)酯、甲苯、水等，本發(fā)明對此沒有限定。這些溶劑可以單獨或混合使用。
溶媒中的上述成分(全固態(tài)部分)的濃度，最好為1～50質(zhì)量％。
作為涂布的方法，可以用各種各樣的方法，例如，棒涂、旋涂、簾涂、浸涂、氣刀刮涂、刮涂、滾涂等方法。
<涂布方法>
作為將形成上述圖像記錄層的液體涂布在上述平版印刷版用支承體的粗糙化表面上的方法，可以按照以往眾所周知的方法，有使用涂棒料桿的方法、使用擠出型涂料器的方法、使用滑動珠涂料器的方法等，并可以按照眾所周知的條件進行。
作為將涂布后的鋁板干燥的裝置，有特開平6-63487號公報所述的、在干燥裝置內(nèi)配置通過輥，并用上述通過輥一邊輸送一邊干燥的拱型干燥器，從上下用噴嘴供給空氣并一邊使卷板上浮一邊干燥的空氣干燥器，用從被加熱到高溫的介質(zhì)發(fā)出的輻射熱進行干燥的熱輻射干燥器以及將輥子加熱并與上述輥子接觸的、用熱傳導進行干燥的輥子干燥器等。
本發(fā)明的平版印刷版原版，根據(jù)對應(yīng)于圖像記錄層的種種處理方法，可以用作平版印刷版。
一般，是進行圖像曝光。作為用于圖像曝光的活性光線的光源，例如有水銀燈、金屬鹵素燈、氙燈、化學燈。作為激光束，例如，氦·氖激光(He-Ne激光)、氬激光、氪激光、氦·鎘激光、KrF受激準分子激光、半導體激光、YAG激光、YAG-SHG激光等。
在上述曝光以后，當圖像記錄層是熱敏型、常規(guī)型及光聚合物型的任何一種時，曝光了以后，用顯影液顯影并得到平版印刷版。適合于本發(fā)明的平版印刷版原版用的優(yōu)選顯影液，只要是堿性顯影液沒有特殊的限定，但最好是實質(zhì)上不含有機溶劑的堿性水溶液。另外，可以使用實質(zhì)上不含堿金屬硅鹽的顯影液。關(guān)于使用實質(zhì)上不含堿金屬硅鹽的顯影液顯影的方法，如特開平11-109637號公報所詳述的，可以用該公報所述的內(nèi)容。此外，也可以用含堿金屬硅鹽的顯影液對本發(fā)明的平版印刷版原版進行顯影。
實施例以下以實施例具體說明本發(fā)明，但本發(fā)明不局限于此。
本發(fā)明的第1實施方式的實施例及比較例[實施例1-1～1-16及比較例1-1～1-7]1-(1)平版印刷版支承體的制作<實施例1-1～1-13、1-16及比較例1-1～1-6>
(鋁板1)使用含有Si0.08質(zhì)量％、Fe0.3質(zhì)量％、Cu0.01質(zhì)量％、Ti0.015質(zhì)量％，其余是Al及不可避免不純物的鋁合金并調(diào)制熔融液體，進行了熔融液處理及過濾以后，用DC鑄造法制作厚度為500mm、寬為1200mm的鑄塊。用加工機械將表面切削到約平均厚度為10mm之后，以550℃，均熱保溫約5小時，在溫度降到400℃以下時，用熱軋機軋成厚度為2.7mm厚的軋板。然后，用連續(xù)退火機進行500℃的熱處理之后，用冷軋精加工到0.24mm厚度，獲得鋁板。將該鋁板加工成寬度為1030mm之后，提供給以下所示的表面處理。
(鋁板2)除了將Fe及Cu的含量，F(xiàn)e0.27質(zhì)量％，Cu0.25質(zhì)量％以外，與上述鋁板1一樣地制作鋁板2，并提供給以下所示的表面處理。
<表面處理>
在所獲得的鋁板上，用表示在第[1]-1表上的組合、連續(xù)地進行以下(a)～(k)的各種表面處理，獲得實施例1-1～1-13，1-16及比較例1-1～1-6的平版印刷版用支承體。在各處理及水洗以后用壓送輥進行除液。此外，在第[1]-1表中，「-」表示沒有進行該表面處理。
第[1]-1表以下，說明各表面處理(a)～(k)。
(a)機械粗糙化表面處理(刷子粗糙化法)使用如圖1所示的裝置，以浮石的懸濁液(比重為1.1g/cm3)作為漿液一邊向鋁板的表面供給，一邊用旋轉(zhuǎn)的集束栽毛刷子進行機械粗糙化表面處理。在圖1中，1是鋁板，2和4是滾子狀的刷子(在本實施例中，是集束栽毛刷子)，3是研磨漿液，5、6、7及8是支撐輥。
機械粗糙化表面處理，是用將研磨材料的中值粒徑(μm)、刷子根數(shù)、刷子的轉(zhuǎn)速(rpm)變更為第[1]-2表所示條件的機械粗糙化表面處理條件B-1～B-10進行的處理。
集束栽毛刷子的材質(zhì)是6·10尼龍，刷毛的直徑為0.3mm，毛長為50mm。刷子是在Φ300mm的不銹鋼制的筒上開孔并密集栽上刷毛。集束栽毛刷子下部的兩根支撐輥(Φ200mm)的距離為300mm。集束栽毛刷子其使刷子旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動馬達的負荷，是相對于把集束栽毛刷子壓在鋁板上之前的負荷再增加10kW。刷子的旋轉(zhuǎn)方向與鋁板的移動方向相同。
此外，第[1]-2表的轉(zhuǎn)速，按照從鋁板的運送方向上游側(cè)(圖1上，右側(cè))順序，將刷子表示為第1根、第2根、第3根及第4根。
第[1]-2表(b)堿腐蝕處理將上述獲得的鋁板，用第[1]-3表上所示的苛性鈉濃度(質(zhì)量％)、鋁離子濃度(質(zhì)量％)的苛性鈉水溶液噴灑，以此用第[1]-3表上所示的Al溶解量(g/m2)進行腐刻處理。然后，進行噴淋水洗。此外堿腐刻處理溫度為70℃。
第[1]-3表(c)去除附著物處理條件D-1用溫度30℃的硝酸濃度為1質(zhì)量％水溶液(包含0.5質(zhì)量％鋁離子)，或條件D-2用溫度60℃的硝酸濃度為25質(zhì)量％水溶液，分別用噴淋進行去除附著物處理，然后，進行噴淋水洗。
用于去除附著物處理的硝酸水溶液，是在硝酸水溶液中使用進行交流的電化學粗糙化表面處理工序的廢液。
(d)電化學粗糙化表面處理(d-1)硝酸電解使用60Hz交流電壓連續(xù)地進行電化學粗糙化表面處理。此時的電解液，是硝酸為1質(zhì)量％水溶液(包含0.5質(zhì)量％鋁離子)、液溫50℃。交流電源波形是圖2所示的波形，使用的是電流值是從零到峰值的時間TP為0.8msec、duty比為1∶1、梯形的矩形波交流電，將石墨電極作為對極進行電化學粗糙化表面處理。在輔助陽極上使用鐵氧體。電解槽使用的是圖3所示的電解槽。
電流密度是電流的峰值為30A/dm2，輔助陽極上，分流從電源流過電流的5％。電量(C/dm2)是鋁板陽極時的電量總和，如第[1]-4表所示的值。
然后，進行噴淋水洗。
第[1]-4表(d-2)鹽酸電解使用60Hz交流電壓連續(xù)地進行電化學粗糙化表面處理。電解液的液溫為50℃。交流電源波形是圖2所示的波形，使用的是電流值是從零到峰值的時間TP為0.8msec、duty比為1∶1、梯形的矩形波交流電，將石墨電極作為對極進行電化學粗糙化表面處理。在輔助陽極上使用鐵氧體。電解槽使用的是圖3所示的電解槽。電流密度，在電流的峰值處為25A/dm2。
用于鹽酸電解的電解液是第[1]-5表所示的鹽酸濃度(質(zhì)量％)的水溶液(包含0.5質(zhì)量％鋁離子)，鹽酸電解的電量(C/dm2)是鋁板陽極時的電量總和，同樣出示在第[1]-5表中。
然后，進行噴淋水洗。
第[1]-5表(e)堿腐蝕處理以上述(b)所述的條件進行堿腐蝕處理。
(f)去除附著物處理以上述(c)所述的條件D-2進行去除附著物處理。
(g)電化學粗糙化表面處理以上述(d-2)所述的條件M-3進行電化學粗糙化表面處理。然后，進行噴淋水洗。
(h)堿腐蝕處理以上述(b)所述的條件進行堿腐蝕處理。然后，進行噴淋水洗。
(i)去除附著物處理以上述(c)所述的條件D-2進行去除附著物處理。然后，進行噴淋水洗。
(j)陽極氧化處理使用如圖4所示的用直流電解的陽極氧化裝置進行陽極氧化處理，獲得平版印刷版用支承體。作為向第一及第二電解部供給的電解液，使用的是硫酸。電解液都是硫酸濃度為15質(zhì)量％(包含0.5質(zhì)量％鋁離子)、液溫為38℃。然后，進行噴淋水洗。最終的氧化膜量為2.5g/m2。
(k)硅酸鹽處理(條件S-1)在35℃的3號硅酸鈉水溶液(Na2O∶SiO2＝1∶3，SiO2含有量為30質(zhì)量％，日本化學工業(yè)社制，濃度為1質(zhì)量％)中浸泡處理10秒鐘。然后，進行用井水的噴淋水洗。
<實施例1-14、1-15及比較例1-7>
實施例1-14使用在上述實施例1-2中獲得的平版印刷版用支承體、實施例1-15使用在上述實施例1-12中獲得的平版印刷版用支承體、比較例1-7使用在上述比較例1-1中獲得的平版印刷版用支承體。
1-(2).平版印刷版用支承體的表面形狀因數(shù)的計算對于上述獲得的平版印刷版用支承體的表面，如下所述，測定出表面積比△S50(50)、△S50(2-50)、△S50(0.2-2)及特定深度的凹部個數(shù)。
其結(jié)果表示在第[1]-6表～第[1]-8表中。
(1)用原子力顯微鏡的表面形狀測定①用原子力顯微鏡(SPA300/SPI3800N、精工INSTSURUMENTSU公司制)測定表面形狀，求出三維數(shù)據(jù)。以下，說明具體的順序。
將平版印刷版用支承體切成1cm見方大小，裝在壓電掃描儀上的水平試料臺上，將懸臂靠近試料表面，當?shù)竭_原子力活動區(qū)域時，向XY方向掃描，此時，以Z方向的壓電的變位得到試料的凹凸。壓電掃描儀，使用的是能在XY方向150μm、Z方向10μm掃描的掃描儀。懸臂其諧振頻率為120～400kHz、彈簧系數(shù)為12～90N/m(SI-DF20，精工INSTSURUMENTSU公司制)，并用DFM模式(Dynamic Force Mode)測定。此外，將求出的三維數(shù)據(jù)進行最小平方近似，用以修正試料的稍微的傾斜并求出基準面。
在計測時，以512×512點測定表面的50μm□。以XY方向的分辨率為0.1μm、Z方向的分辨率為0.15nm、掃描速度為50μm/sec。
②△S50的測定用上述①求出的三維數(shù)據(jù)(f(x，y))，抽取相鄰的3點，并求出該3點形成的微小三角形的面積的總和，作為實際面積Sx50。表面積比△S50，從所得的實際面積Sx50與幾何學的測定面積So50由下式求出。
△S50＝[(Sx50-So50)/So50]×100(％)(i)在△S50(50)的計算中，原封不動地使用了上述①求出的三維數(shù)據(jù)。
(ii)在表面積比△S50(2-50)的計算中，使用了從由上述①求出的三維數(shù)據(jù)中抽取的波長為2μm以上50μm以下的成分。在波長為2μm以上50μm以下成分的抽取中，將用上述①求出的三維數(shù)據(jù)進行高速傅里葉轉(zhuǎn)換并求出頻率分布，然后，在除去波長不足2μm的成分之后，進行傅里葉逆轉(zhuǎn)換。
即，這樣使用求出的三維數(shù)據(jù)(f(x，y))，抽取相鄰的3點，并求出該3點形成的微小三角形的面積的總和，作為實際面積Sx50(2-50)。表面積比△S50(2-50)，從所得的實際面積Sx50(2-50)與幾何學的測定面積S050由下式求出。
△S50(2-0.2)＝[(Sx50(2-50)-So50)/So50]×100(％)(iii)在表面積比△S50(0.2-2)的計算中，使用了從由上述①求出的三維數(shù)據(jù)中抽取的波長為0.2μm以上2μm以下的成分。在波長為0.2μm以上2μm以下成分的抽取中，將用上述①求出的三維數(shù)據(jù)進行高速傅里葉轉(zhuǎn)換并求出頻率分布，然后，在除去波長不足0.2μm的成分和超過2μm的成分之后，進行傅里葉逆轉(zhuǎn)換。
即，這樣使用求出的三維數(shù)據(jù)(f(x，y))，抽取相鄰的3點，并求出該3點形成的微小三角形的面積的總和，作為實際面積Sx50(0.2-2)。表面積比△S50(0.2-2)，從所得的實際面積Sx50(0.2-2)與幾何學的測定面積S050由下式求出。
△S50(0.2-2)＝[(Sx50(0.2-2)-So50)/So50]×100(％)(2)特定深度的凹部個數(shù)特定深度的凹部個數(shù)，按照實施例1-2(1-14)、1-8～1-12(1-15)、1-16及比較例1-1(1-7)、1-4～1-6的平版印刷版用支承體求出。
①深度4μm以上的凹部個數(shù)用激光顯微鏡(Micromap520，(株)菱化系統(tǒng)制)以0.01μm非接觸掃描表面的400μm×400μm，求出三維數(shù)據(jù)，并在該三維數(shù)據(jù)中數(shù)出深度為4μm以上的凹部個數(shù)。
上述深度為4μm以上的凹部個數(shù)，是掃描表面的任意5處并分別數(shù)出所獲得的三維數(shù)據(jù)的凹部個數(shù)，將它們的平均值作為深度為4μm以上的凹部個數(shù)。
此外，作為激光顯微鏡，除了用上述的以外，同樣地可以用(株)KEYENCE制的超深度形狀測定顯微鏡VK5800。在第1-[7]表及第1-[8]表上，以「Dpn(4μm)」表示該凹部個數(shù)。
②深度3μm以上的凹部個數(shù)同樣地求出三維數(shù)據(jù)，并數(shù)出深度為3μm以上的凹部個數(shù)。
上述深度為3μm以上的凹部個數(shù)，是掃描表面的任意5處并分別數(shù)出所獲得的三維數(shù)據(jù)的凹部個數(shù)，將它們的平均值作為深度為3μm以上的凹部個數(shù)。
此外，在第1-[7]表及第1-[8]表上，以「Dpn(3μm)」表示該凹部個數(shù)。
1-(3).平版印刷版原版的制造<實施例1-1～1-13、1-16及比較例1-1～1-6>
在以實施例1-1～1-13、1-16及比較例1-1～1-6所獲得的平版印刷版用支承體上，設(shè)置熱正型的圖像記錄層A(單層型感熱層)，獲得平版印刷版原版。在設(shè)置圖像記錄層A之前，用以下條件進行底涂處理的界面處理。
在如上所述所獲得的堿金屬硅酸鹽處理后的平版印刷版支承體上，涂布下述組成的底涂液，以80℃干燥15秒，使其形成涂膜。干燥后的涂膜的覆蓋量為10mg/m2。
<底涂液組成>
·下述高分子化合物0.2g·甲醇100g·水 1g[化1] 分子量2.8萬<圖像記錄層A(單層型感熱層)>
在以上述所得的進行了底涂層處理的平版印刷版用支承體上，再調(diào)制下述組成的感熱層涂布液，并涂布該感熱層涂布液使其干燥后的涂布量(感熱層涂布量)為1.7g/m2，使其干燥形成感熱層A(熱正型的圖像記錄層A)，并獲得平版印刷版原版。
(感熱層涂布液組成)·酚醛樹脂(間甲酚/對甲酚＝60/40，重均分子量7000，含有未反應(yīng)甲酚0.5質(zhì)量％) 1.0g·下述結(jié)構(gòu)式表示的賽安寧染料A 0.1g·四氟化酞酸酐 0.05g·對甲苯磺酸0.002g·將乙基紫的平衡離子替換為6-羥基-β-萘磺酸的物質(zhì)0.02g·氟系表面活性劑(Megafac F-177，大日本油墨化學工業(yè)(株)制)0.05g·甲基乙基酮 12g[化2]賽安寧染料A <實施例1-14、1-15及比較例1-7>
在以上述實施例1-2、1-12及比較例1-1獲得的各平版印刷版用支承體上，分別設(shè)置熱正型的圖像記錄層B(重疊層型感熱層)并獲得實施例1-14、1-15及比較例1-7的平版印刷版原版。在設(shè)置圖像記錄層B之前，用以下條件進行底涂處理的界面處理。
在通過以上述所方式獲得的堿金屬硅酸鹽處理后的平版印刷版支承體上，涂布下述組成的底涂液，80℃干燥15秒，使其形成涂膜。干燥后的涂膜的覆蓋量為15mg/m2。
<圖像記錄層B(重疊層型感熱層)>
在用上述所獲得的進行了底涂層處理的平版印刷版用支承體上，再涂布下述組成的感熱層涂布液B1，并使其干燥后的涂布量為0.85g/m2，然后用TABAI公司制、PERFECT OVEN PH200將Wind Control設(shè)定為7，以140℃干燥50秒，然后，在涂布了具有下述組成的感熱層涂布液B2使其涂布量為0.15g/m2以后，以120℃干燥1分鐘，形成感熱層B(熱正型的圖像記錄層B)，并獲得平版印刷版原版。
(感熱層涂布液B1組成)·N-(4-氨基磺酰苯基)甲基丙烯酰胺/丙烯腈/甲基丙烯酸甲酯的共聚物(摩爾比36/34/30，重均分子量50000，酸價2.65)2.133g·上述公式表示的賽安寧染料A0.109g·4，4’-雙羥基二苯砜 0.126g·四氫鄰苯二甲酸酐 0.190g·對甲苯磺酸 0.008g·3-甲氧基-4-重氮二苯胺六氟磷酸鹽0.030g·將乙基紫的平衡離子替換為6-羥基-2-萘磺酸的物質(zhì) 0.100g·涂布面改良氟系表面活性劑(Megafac F-176，20％溶液，大日本油墨化學工業(yè)(株)制) 0.035g·甲基乙基酮 25.38g·1-甲氧氯-2-丙醇 13.0g·γ-丁內(nèi)酯 13.2g(感熱層涂布液B2組成)·間，對甲酚酚醛樹脂(間/對的比＝6/4，重均分子量4500，含有未反應(yīng)甲酚0.8質(zhì)量％) 0.2846g·上述結(jié)構(gòu)式表示的賽安寧染料A 0.075g·正二十二烷酰胺 0.060g·涂布面改良氟系表面活性劑(Megafac F-176，20％溶液，大日本油墨化學工業(yè)(株)制)0.022g·圖像形成改良氟系表面活性劑(Megafac MCF-176，30％溶液，大日本油墨化學工業(yè)(株)制)0.120g
·甲基乙基酮 15.1g·1-甲氧基-2-丙醇 7.7g1-(4).曝光及顯影處理在上述所獲得的各平版印刷版原版上，以下述的方法進行圖像曝光及顯影處理，并獲得平版印刷版。
用裝有輸出功率500Mw、波長830nm、束徑17μm(1/e2)的半導體激光器的CREO公司制TrenndSetter3244，并以主掃描速度5m/秒、以版面能量140mJ/cm2將平版印刷版原版進行圖像曝光。
然后，在含有由組合非還原糖及堿的D-山梨糖醇/氧化鉀K2O構(gòu)成的鉀鹽5.0質(zhì)量％及ORUFLI AK-02(日信化學公司制)0.015質(zhì)量％的水溶液1L中添加下述化合物a 1.0g，形成顯影液，并用該堿顯影液(顯影液1)進行顯影處理。顯影處理，是用裝滿顯影液1的自動顯影機PS900NP(富士膠片(株)制)，在顯影溫度25℃、12秒的條件下進行。顯影處理結(jié)束以后，經(jīng)過水洗工序，用橡膠(GU-7(1∶1))等處理，并獲得制版結(jié)束了的平版印刷版。
此外，為了后述的泡狀殘膜的評價，準備了在20～140mJ/cm2范圍內(nèi)以每隔20mJ/cm2版面能量進行曝光的樣品。
此外，即使取代化合物a，在使用以同樣的添加量添加了下述化合物b或c的堿顯影液時，也可以進行同樣的影液處理。
<化合物a～c>
化合物aC12H25N(CH2CH2COONa)2化合物bC12H25O(CH2CH2O)7H化合物c(C6H13)2CHO(CH2CH2O)20H1-(5).平版印刷版的評價關(guān)于在上述所獲得的平版印刷版，用下述方法評價其油墨的連片難易程度、耐放置污濁性、耐污濁性及有無泡狀殘膜產(chǎn)生。
(1)油墨的連片難易程度用HIDERUBERUKU公司制的SOR-M印刷機，使用大日本油墨化學工業(yè)公司的DIC-GESO(H)油墨，以少量潤濕水，分成10檔評價網(wǎng)點部上的油墨的連片程度。其結(jié)果如第1-[6]表～第1-[8]表所示。數(shù)字越大則表示油墨的連片難易程度越好。評價若在5以上，則油墨的連片難易程度優(yōu)越。評價若在6以上，作為能避免油墨連片的平版印刷版是可以實用的水平。8以上則更好。
(2)耐放置污濁性在上述油墨的連片難易程度的評價中，在印刷1萬張以后，在低濕度環(huán)境下(具體的是，50RH％)，將版放置1小時，然后再次開始印刷，并分成10檔評價網(wǎng)部分的污濁程度。其結(jié)果如第[1]-6表～第[1]-8表所示。數(shù)字越大則表示耐放置污濁性越好。評價若在5以上，則作為耐放置污濁性顯著的平版印刷版是可以實用的水平。
(3)耐污濁性(底污濁)在印刷實驗中，調(diào)整印刷機的水刻度，用產(chǎn)生底污濁的水刻度評價底污濁。其結(jié)果如第[1]-6表～第[1]-8表所示。產(chǎn)生底污濁的水刻度，不足1時為◎、1以上2以下時為○、2以上3以下時為○△、3以上4以下時為△、4以上時為×。評價若為○△以上，則耐污濁性顯著。
(4)有無泡狀殘膜產(chǎn)生用光學顯微鏡以100倍的倍率觀察用各版面能量曝光的試樣顯影后的非圖像部，調(diào)查在1mm見方的面積上有無泡狀殘膜。用觀察不到泡狀殘膜的試樣的版面能量的最小值，分12檔評價有無泡狀殘膜產(chǎn)生。其結(jié)果如第[1]-6表～第[1]-8表所示。
版面能量越小，即，評價的數(shù)子越大表示越難產(chǎn)生泡狀殘膜。
如第[1]-6表～第[1]-8表所示，用原子力顯微鏡，從對表面的50μm□進行512×512點測定并求出的三維數(shù)據(jù)中獲得的上述△S50(50)、△S50(2-50)、△S50(0.2-2)在本發(fā)明范圍的平版印刷版用支承體(實施例1-1～1-16)，與設(shè)在其上的圖像記錄層無關(guān)，可以改善親水性及保水性，用其的平版印刷版原版，在作為平版印刷版時，其非圖像部的污濁難度顯著，并且難于產(chǎn)生網(wǎng)點部的油墨連片且在低濕度環(huán)境下的耐放置污濁性也顯著。
并且，存在于具有上述表面積比△S50的平版印刷版用支承體表面上的、具有特定深度的凹部個數(shù)，在本發(fā)明范圍內(nèi)的平版印刷版用支承體(實施例1-8～1-11、1-14及1-15)，除了上述特性以外，還有即使設(shè)定嚴格曝光及顯影的條件也能抑制泡狀殘膜的產(chǎn)生。
第[1]-6表第[1]-7表第[1]-8表[2]本發(fā)明的第2實施方式的實施例及比較例2-(1).平版印刷版用支承體的制造(實施例2-1～2-8及比較例2-1～2-5)<鋁板>
將第[2]-1表所示的含有不同元素的各鋁板、提供給以下所示的表面處理。
第[2]-1表<表面處理>
在鋁板上，按照第[2]-2表所示的組合連續(xù)地進行以下(a)～(k)的各種表面處理，并獲得實施例2-1～2-8及比較例2-1～2-5的平版印刷版用支承體。在各處理及水洗之后用壓送輥進行除液。
此外，第[2]-2表中，[-]表示沒有進行該表面處理。
第[2]-2表以下，說明各表面處理(a)～(k)(a)機械粗糙化表面處理(刷子粗糙化法)使用圖1模式所示的裝置，以研磨劑(浮石)的懸濁液(比重為1.1g/cm3)作為研磨漿液一邊向鋁板的表面供給一邊用旋轉(zhuǎn)的輥子狀尼龍刷子(本實施例中，是集束栽毛刷子)進行機械粗糙化表面處理。
研磨材料的中值粒徑如第[2]-3表所示。尼龍刷子的材質(zhì)是6·10尼龍、毛長為50mm、刷毛的直徑為0.3mm。尼龍刷子是在Φ400mm的不銹鋼制的筒上開孔并密集地栽上刷毛。在圖1上只出示了兩根旋轉(zhuǎn)刷子，但實際上使用了如第3表上所示的數(shù)量。刷子下部的兩根支撐輥(Φ200mm)的距離為300mm。刷輥其使刷子旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動馬達的負荷，是相對于刷輥壓在鋁板上之前再增加10kW。刷子的旋轉(zhuǎn)方向與鋁板的移動方向相同。刷子的轉(zhuǎn)速如第3表所示。此外，第[2]-3表中的刷子的轉(zhuǎn)速，按照從鋁板的輸送方向上游側(cè)的順序，將刷子表示為第1根、第2根、第3根。
第[2]-3表(b)堿腐蝕處理堿腐蝕處理，是以第[2]-4表所示的條件E-1～E-8的任何一個進行的。
具體的是，用第[2]-4表所示的苛性鈉濃度及鋁離子濃度的苛性鈉水溶液噴灑，以此用第[2]-4表中所示的鋁溶解量進行腐蝕處理。然后，進行噴淋水洗。此外堿腐刻處理溫度為70℃。
第[2]-4表(c)去除附著物處理去除附著物處理，是以第[2]-5表所示的條件D-1～D-3的任何一個進行的。
具體的是，用第[2]-4表所示種類的酸、溫度及濃度的酸水溶液，進行噴灑的去除附著物處理，然后，進行噴淋水洗。此外，用于條件D-1的硝酸水溶液，是在硝酸水溶液中進行使用交流的電化學粗糙化表面處理工序的廢液。
第[2]-5表(d)電化學粗糙化表面處理電化學粗糙化表面處理，是以第[2]-6表所示的條件C-1～C-3及第[2]-7表所示的條件M-1～M-3的任何一個進行的。具體的是如以下進行。
(d-1)硝酸電解使用60Hz交流電壓連續(xù)地進行電化學粗糙化表面處理。此時的電解液，是硝酸為1質(zhì)量％水溶液(包含0.5質(zhì)量％鋁離子)、液溫為50℃。交流電源波形是圖2所示的波形，使用的是電流值是從零到峰值的時間TP為0.8msec、duty比為1∶1、梯形的矩形波交流電，將石墨電極作為對極進行電化學粗糙化表面處理。在輔助陽極上使用鐵氧體。電解槽使用的是圖3所示的電解槽。
電流密度是電流的峰值為30A/dm2，在輔助陽極上，分流從電源流過電流的5％。硝酸電解中的電量，是鋁板為陽極時的電量總和，如第[2]-6表所示的值。
然后，進行噴淋水洗。
第[2]-6表(d-2)鹽酸電解(條件為M-1～M-3)使用60Hz交流電壓連續(xù)地進行電化學粗糙化表面處理。電解液的液溫為50℃。交流電源波形是圖2所示的波形，使用的是電流值從零到峰值的時間TP為0.8msec、duty比1∶1、梯形的矩形波交流電，將石墨電極作為對極進行電化學粗糙化表面處理。在輔助陽極上使用鐵氧體。電解槽使用的是圖3所示的電解槽。
電流密度是電流的峰值為25A/dm2。
用于鹽酸電解的電解液是以第[2]-7表所示的鹽酸濃度的水溶液(包含0.5質(zhì)量％鋁離子)，鹽酸電解中的電量，是鋁板為陽極時的電量總和，如第[2]-7表所示的值。
然后，進行噴淋水洗。
第[2]-7表(e)堿腐蝕處理堿腐蝕處理，是以第[2]-4表所示的條件E-1～E-8的任何一個進行的。然后，進行噴淋水洗。
(f)去除附著物處理去除附著物處理，是以第[2]-5表所示的條件D-1～D-3的任何一個進行的。然后，進行噴淋水洗。
(g)電化學粗糙化表面處理電化學粗糙化表面處理，是以第[2]-6表所示的條件C-1～C-3及的第[2]-7表所示的條件M-1～M-3任何一個進行的。然后，進行噴淋水洗。
(h)堿腐蝕處理堿腐蝕處理，是以第[2]-4表所示的條件E-1～E-8的任何一個進行的。然后，進行噴淋水洗。
(i)去除附著物處理去除附著物處理，是以第[2]-5表所示的條件D-1～D-3的任何一個進行的。然后，進行噴淋水洗。
(j)陽極氧化處理陽極氧化處理，是以與上述的[1]的第1實施方式中的(j)同樣的條件A-1進行的。
(k)硅酸鹽處理硅酸鹽處理，是以與上述的[1]的第1實施方式中的(k)同樣的條件S-1進行的。
2-(2).平版印刷版用支承體的表面形狀因數(shù)的計算對于上述獲得的平版印刷版用支承體的表面，如下所述求出表面積比△S50、a4550(0.2-2)、△S5(0.02-0.2)及a455(0.02-0.2)。
其結(jié)果表示在第[2]-8表中。
(1)用原子力顯微鏡的表面形狀測定為了求出△S50、a4550(0.2-2)、△S5(0.02-0.2)及a455(0.02-0.2)，用原子力顯微鏡(SPA300/SPI3800N、精工INSTSURUMENTSU公司制)測定表面形狀，求出三維數(shù)據(jù)。
三維數(shù)據(jù)的求出方法，與上述[1]的第1實施方式中的一樣。
在計測時，對于△S50及a4550(0.2-2)，是對表面的50μm□進行512×512點測定。XY方向的分辨率為0.1μm、Z方向的分辨率為0.15nm、掃描速度為50μm/sec。
此外，對于△S5(0.02-0.2)及a455(0.02-0.2)，是對表面的5μm□進行512×512點測定。XY方向的分辨率為0.01μm、Z方向的分辨率為0.15nm、掃描速度為5μm/sec。
(2)三維數(shù)據(jù)的修正在△S50的計算中，原封不動地使用根據(jù)在上述(1)中求出的表面50μm□的測定的三維數(shù)據(jù)。
在a4550(0.2-2)的計算中，使用從根據(jù)上述(1)求出的表面50μm□測定的三維數(shù)據(jù)中抽取的波長為0.2μm以上2μm以下的成分。波長為0.2μm以上2μm以下成分的抽取，是將在上述(1)求出的三維數(shù)據(jù)進行高速傅里葉轉(zhuǎn)換并求出頻率分布，然后，在除去波長不足0.2μm的成分及波長超過2μm的成分之后，進行逆傅里葉轉(zhuǎn)換。
此外，在△S5(0.02-0.2)及a455(0.02-0.2)的計算中，使用從根據(jù)上述(1)求出的表面5μm□測定的三維數(shù)據(jù)中抽取的波長為0.02μm以上0.2μm以下的成分。波長為0.02μm以上0.2μm以下成分的抽取，是將在上述(1)求出的三維數(shù)據(jù)進行高速傅里葉轉(zhuǎn)換并求出頻率分布，然后，在除去波長不足0.02μm的成分及波長超過0.2μm的成分之后，進行逆傅里葉轉(zhuǎn)換。
(3)各因數(shù)的計算①△S50使用上述(1)求出的三維數(shù)據(jù)(f(x，y))，抽取相鄰的3點，求出由該3點形成的微小三角形面積的總和，作為實際面積Sx50。從所得的實際面積Sx50及幾何學的測定面積So50，用上式(1)求出表面積比△S50。
②a4550(0.2-2)使用在上述(2)修正所得的三維數(shù)據(jù)(f(x，y))，按照各個基準點計算各基準點與規(guī)定的方向(例如，右和下)鄰接的2點和以3點所形成的微小三角形與基準面形成的角度。將微小三角形的傾斜度為45度以上的基準點的個數(shù)，除以全基準點的個數(shù)(從作為全數(shù)據(jù)的個數(shù)的512×512點減去規(guī)定方向的沒有鄰接2點的點的個數(shù)，即，511×511點)，并計算出傾斜度45度以上的部分的面積率a4550(0.2-2)。
③△S5(0.02-0.2)使用由上述(2)修正而獲得的三維數(shù)據(jù)(f(x，y))，抽取鄰接的3點，并求出該3點所形成的微小三角形的面積的總合，作為實際面積Sz5(0.02-0.2)。表面積比△S5(0.02-0.2)，是從求得的實際面積Sx5(0.02-0.2)與幾何學的測定面積So5，用上式(2)求出。
④a455(0.02-0.2)使用由上述(2)修正而獲得的三維數(shù)據(jù)(f(x，y))，按照各個基準點計算各基準點與規(guī)定的方向(例如，右和下)鄰接的2點和以3點所形成的微小三角形與基準面形成的角度。將微小三角形的傾斜度為45度以上的基準點的個數(shù)，除以全基準點的個數(shù)(作為全數(shù)據(jù)的個數(shù)的512×512點減去規(guī)定方向的沒有鄰接2點的點的個數(shù)，即，511×511點)，并計算出傾斜度45度以上的部分的面積率a455(0.02-0.2)。
此外，存在于表面的深度為4μm以上的局部深部的個數(shù)，使用激光顯微鏡(Micromap520，(株)菱化系統(tǒng)制)以非接觸用分辨率為0.01μm掃描表面的400μm×400μm并求出的三維數(shù)據(jù)，數(shù)出該三維數(shù)據(jù)中的深度為4μm以上的凹部個數(shù)。測定是在1個試樣上測定5處，取其平均值。
此外，作為激光顯微鏡，除了用上述的以外，同樣地可以用(株)KEYENCE制的超深度形狀測定顯微鏡VK5800。
2-(3).平版印刷版原版的制造在由上述獲得的平版印刷版用支承體上，同樣地設(shè)置在上述[1]的第1實施方式的1-(3)中所使用的熱正型的圖像記錄層A或B中任意一個而獲得平版印刷版原版。此外，在設(shè)置圖像記錄層A或B之前，同樣地設(shè)置底涂層。
2-(4).曝光及顯影處理在由上述獲得的平版印刷版用支承體上，以與在上述[1]的第1實施方式的1-(4)中所進行的同樣方法進行曝光及顯影處理，獲得平版印刷版。
2-(5).平版印刷版的評價用下述方法評價在上述所獲得的平版印刷版的耐印性、清洗耐印性、耐污濁性、實地部的著色性及有無泡狀殘膜產(chǎn)生。
(1)耐印性用小森CORPORATION公司制的SPRINT印刷機，使用大日本油墨化學工業(yè)公司的DIC-GESO(N)油墨進行印刷，以目視確認實地圖像的濃度開始變淺的時刻的印刷張數(shù)評價耐印性。
其結(jié)果表示在第[2]-9表上。此外，耐印性，是以實施例2-6的耐印性作為100的相對值表示。
(2)清洗耐印性用與耐印性的評價時一樣的條件進行印刷，用海棉、使用板清洗液(復合清洗液，富士膠卷(株)制)，每印刷5000張清洗一次，以目視確認實地圖像部開始變淺的印刷張數(shù)評價。
其結(jié)果如第[2]-9表所示。清洗耐印性，是以實施例2-6的清洗耐印性作為100的相對值表示。
(3)耐污濁性(底污濁)用三菱TIA型F2印刷機(三菱重工業(yè)制)，使用紫的油墨印刷，用目視印刷1萬張以后的橡膠的污濁(底污濁)。
其結(jié)果如第[2]-9表所示。對耐污濁性以橡膠的污濁程度分12檔評價。數(shù)字越大則表示耐污濁性優(yōu)越。評價若在7以上，則作為耐污濁性顯著的平版印刷版是可以實用的水平。
(4)實地部的著色性用三菱TIA型F2印刷機(三菱重工業(yè)制)，使用DIC-GEOS(s)紅的油墨印刷，用實地部的圖像的缺損、即，產(chǎn)生油墨的著色不良的張數(shù)，評價實地部的著色性。此外，作為印刷用紙，使用的是涂漆再生紙(OK-涂層，王子制紙公司制)。
其結(jié)果如第[2]-9表所示。以產(chǎn)生油墨的著色不良的張數(shù)，分12檔評價。數(shù)字越大則表示實地部的著色性優(yōu)越。評價若在7以上，則作為耐污濁性顯著的平版印刷版是可以實用的水平。
(5)有無泡狀殘膜產(chǎn)生用與上述[1]的第1實施方式的1-(5)平版印刷版的評價(4)一樣的條件進行評價。
其結(jié)果如第[2]-9表所示。按照版面能量的最小值從小到大的順序，以◎、○、○△、×表示。
如第[2]-8表以及第[2]-9表所示，使用了從用原子力顯微鏡并對表面的50μm[進行512×512點測定所得到的三維數(shù)據(jù)求出的表面積比△S50及陡波度a4550(0.2-2)分別滿足特定條件的本發(fā)明的平版印刷版用支承體(實施例2-1～2-8)的本發(fā)明的平版印刷版原版，在作為平版印刷版時的耐印性及耐污濁性優(yōu)越且難于產(chǎn)生實地部的著色不良。
另外，使用了從用原子力顯微鏡、對表面的5μm□進行512×512點測定所得到的三維數(shù)據(jù)求出的表面積比△S5(0.02-0.2)及陡波度a455(0.02-0.2)分別滿足特定條件的本發(fā)明的平版印刷版用支承體(實施例2-1～2-8)的本發(fā)明的平版印刷版原版，其清洗耐印性優(yōu)越。
并且，使用存在于表面的深度為4μm以上的局部深部的個數(shù)，為每400μm×400μm上有6個以下的本發(fā)明的平版印刷版用支承體(實施例2-1～2-8)的本發(fā)明的平版印刷版原版，難于產(chǎn)生泡狀殘膜。
第[2]-8表第[2]-9表[3]本發(fā)明的第3實施方式的實施例及比較例3-(1).平版印刷版用支承體的制造(實施例3-1～3-13及比較例3-1～3-7)<鋁板>
以第[3]-1表上所示的量(質(zhì)量％)、含有Si、Fe、Cu、Ti，其余是Al及不可避免的不純物的鋁合金、調(diào)制熔融液體，進行了熔融液處理及過濾以后，用DC鑄造法制作厚度為500mm、寬為1200mm的鑄塊。用加工機械將表面切削到平均為10mm厚之后，以550℃，均熱保溫約5小時，溫度降到400℃以下時，用熱軋機軋成厚度為2.7mm厚的軋板。然后，用連續(xù)退火機進行用550℃的熱處理之后，用冷軋精加工到0.24mm的厚度，獲得鋁板。將該鋁板加工成寬度為1030mm之后，提供給以下所示的表面處理。
第[3]-1表

<表面處理>
表面處理，是以連續(xù)地進行以下(a)～(k)的各種表面處理而進行的。此外，在各處理及水洗之后用擠壓輥進行除液。
(a)機械粗糙化表面處理(刷子粗糙化法)使用圖1所示的裝置，以比重1.1g/cm3的浮石的懸濁液作為漿液一邊向鋁板的表面供給，一邊用旋轉(zhuǎn)的集束栽毛刷子進行機械粗糙化表面處理。使用第[3]-2表所示的研磨材料的中值粒徑(μm)、刷子根數(shù)、刷子的轉(zhuǎn)速(rpm)。集束栽毛刷子其刷毛的直徑為0.3mm、毛長為45mm、是在Φ400mm的不銹鋼制的筒上開孔并栽上刷毛。刷子下部的兩根支撐輥(Φ200mm)的距離為300mm。刷輥其使刷子旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動馬達的負荷，是刷輥壓在鋁板上且其相對于壓上之前增加10kW。刷子的旋轉(zhuǎn)方向與鋁板的移動方向相同。
第[3]-2表 表面處理條件

(b)堿腐蝕處理將在上述獲得的鋁板，用第[3]-3表所示的苛性鈉濃度(質(zhì)量％)及鋁離子濃度(質(zhì)量％)的苛性鈉水溶液進行噴灑的腐蝕處理，用第[3]-3表中所示的鋁溶解量(g/m2)進行溶解。然后，進行噴淋水洗。此外堿腐刻處理溫度為70℃。
第[3]-3表

(c)去除附著物處理用條件D-1用溫度30℃的硝酸濃度為1質(zhì)量％水溶液(包含0.5質(zhì)量％鋁離子)，條件D-2用溫度60℃的硝酸濃度為25質(zhì)量％水溶液，分別用噴淋進行去除附著物處理，然后，進行噴淋水洗。用于去除附著物處理的硝酸水溶液，是在硝酸水溶液中使用進行交流的電化學粗糙化表面處理工序的廢液。
(d)電化學粗糙化表面處理(d-1)硝酸電解使用60Hz交流電壓連續(xù)地進行電化學粗糙化表面處理。此時的電解液，是硝酸為1質(zhì)量％水溶液(包含0.5質(zhì)量％鋁離子)、液溫50℃。交流電源波形是圖2所示的波形，使用的是電流值是從零到峰值的時間TP為0.8msec、duty比1∶1、梯形的矩形波交流電，將石墨電極作為對極進行電化學粗糙化表面處理。在輔助陽極上使用鐵氧體。電解槽使用的是圖3所示的電解槽。
電流密度是電流的峰值為30A/dm2，在輔助陽極上，分流從電源流過電流的5％。電量(C/dm2)是鋁板陽極時的電量總和，如第[3]-4表所示的值。
然后，進行噴淋水洗。
第[3]-4表

(d-2)鹽酸電解使用60Hz交流電壓連續(xù)地進行電化學粗糙化表面處理。電解液的液溫為50℃。交流電源波形是圖2所示的波形，使用的是電流值是從零到峰值的時間TP為0.8msec、duty比1∶1、梯形的矩形波交流電，將石墨電極作為對極進行電化學粗糙化表面處理。在輔助陽極上使用鐵氧體。電解槽使用的是圖3所示的電解槽。
電流密度是電流的峰值為25A/dm2，輔助陽極上分流從電源流過電流的5％。此時的電解液，第[3]-5表所示的鹽酸濃度(質(zhì)量％)的水溶液(包含0.5質(zhì)量％鋁離子)，電量(C/dm2)是鋁板陽極時的電量總和，同樣如第[3]-5表所示。
然后，進行噴淋水洗。
第[3]-5表

(e)堿腐蝕處理進行上述(b)所述的堿腐蝕處理。
(f)去除附著物處理進行上述(c)所述的去除附著物處理。
(g)電化學粗糙化表面處理進行上述(d)所述的電化學粗糙化表面處理。然后，進行噴淋水洗。關(guān)于比較例除了比較例5以外沒有進行電化學粗糙化表面處理。
(h)堿腐蝕處理進行上述(b)所述的堿腐蝕處理。然后，進行噴淋水洗。關(guān)于比較例沒有進行堿腐蝕處理。
(i)去除附著物處理進行上述(c)所述的去除附著物處理。然后，進行噴淋水洗。關(guān)于比較例除了比較例5以外沒有進行去除附著物處理。
(j)陽極氧化處理陽極氧化處理，以與上述[1]的第1實施方式的(j)同樣的條件A-1進行。
(k)硅酸鹽處理硅酸鹽處理，以與上述[1]的第1實施方式的(k)同樣的條件S-1進行。
實施例3-1～3-13及比較例3-1～3-7，分別以第[3]-6表所述的表面處理條件進行，獲得平版印刷版用支承體。
第[3]-6表3-(2).平版印刷版用支承體的表面形狀因數(shù)的計算關(guān)于上述獲得的平版印刷版用支承體的表面，求出如下所述的△S5、△S5(0.2-50)、△S5(0.02-0.2)、Ra。
其結(jié)果出示在第[3]-7表、第[3]-8表中。
(1)用原子力顯微鏡的表面形狀測定在本發(fā)明中，為了求Ra、△S5，用原子力顯微鏡(Atomic ForceMicroscopeAFM、SPA300/SPI3800N、精工INSTSURUMENTSU公司制)測定表面形狀，求出三維數(shù)據(jù)。
三維數(shù)據(jù)的求出方法，與上述[1]的第1實施方式一樣。
在計測時，對表面的5μm□進行512×512點測定。XY方向的分辨率為0.1μm、Z方向的分辨率為0.15nm、掃描速度為5μm/sec。
②△S5的測定用在上述(1)求出的三維數(shù)據(jù)(f(x，y))，抽取相鄰的3點，并求出以該3點形成的微小三角形的面積的總和，作為實際面積Sx。表面積比△S5，從所得的實際面積Sx與幾何學的測定面積S0，用下式求出。
△S5＝[(Sx5-So)/So]×100(％)(i)在△S5的計算中原封不動地使用上述(1)求出的三維數(shù)據(jù)。
(ii)在表面積比△S5(0.2-5)的計算中，使用了從在上述(1)求出的三維數(shù)據(jù)中抽取的波長為0.2μm以上5μm以下的成分。在波長為0.2μm以上5μm以下成分的抽取中，對用上述(1)求出的三維數(shù)據(jù)進行高速傅里葉轉(zhuǎn)換并求出頻率分布，然后，在除去波長不足0.2μm的成分之后，進行傅里葉逆轉(zhuǎn)換。
(iii)在表面積比△S5(0.02-0.2)的計算中，使用了從在上述(1)求出的三維數(shù)據(jù)中抽取的波長為0.02μm以上0.2μm以下的成分。在波長為0.02μm以上0.2μm以下成分的抽取中，對用上述(1)求出的三維數(shù)據(jù)進行高速傅里葉轉(zhuǎn)換并求出頻率分布，然后，在除去波長不足0.02μm的成分及超過0.2μm的成分之后，進行傅里葉逆轉(zhuǎn)換。
(2)Ra用上述(1)求出的三維數(shù)據(jù)(f(x，y))，從下式計算出表面光潔度Ra。
數(shù)2Ra=1So∫oLx∫oLy|f(x,y)|dx·dy]]>式中，LX及LY，分別表示測定區(qū)域(長方形)的x方向及y方向的邊長，在本發(fā)明中LX＝LY＝5μm。SO是幾何學的測定面積，SO＝LX×LY＝25μm2。
第[3]-7表第[3]-8表

3-(3).平版印刷版原版的制造(1)在上述獲得的各平版印刷版用支承體上，同樣地使用在上述[1]的第1實施方式的1-(3)中所用的熱正型的圖像記錄層A、B，也同樣地進行底涂處理。并且進行下述的底涂處理及設(shè)置常規(guī)正型的圖像記錄層而獲得平版印刷版原版。
此外，實施例3-1～3-12、及比較例3-1～3-6使用熱正型的圖像記錄層A，實施例3-13、及比較例3-7使用熱正型的圖像記錄層B。雖然常規(guī)正型的圖像記錄層，在實施例3-1、3-11、3-12及3-13中使用的與A、B不同，但評價結(jié)果，與使用熱正型的圖像記錄層A或B時一樣。
(2)常規(guī)正型的圖像記錄層在上述所獲得的平版印刷版用支承體上，不進行硅酸鹽處理而涂布下述組分的底涂液，以80℃干燥30秒，使其形成涂膜。干燥后的涂膜的覆蓋量為10mg/m2。
<底涂液組分>
·二羥基乙基甘氨酸 0.05重量份·甲醇 94.95重量份·水 5重量份在底涂層上涂布下述組分的感光性樹脂溶液，以100℃干燥2分鐘，使其形成感光層(常規(guī)正型的圖像記錄層)并獲得平版印刷版原版。干燥后的覆蓋量為2.5g/m2。
<感光性樹脂溶液組分>
·萘醌-1，2-二疊氮基-5-磺酰氯與鄰苯三酚丙酮樹脂之間的酯化合物 0.73g·甲酚酚醛樹脂 2.00g·染料(油蘭#603，ORIENT化學工業(yè)制) 0.04g·二氯乙烷 16g·2-甲氧基乙酸乙酯 12g3-(4).曝光及顯影處理在上述所獲得的各平版印刷版原版上，對應(yīng)于圖像記錄層，用下述方法進行曝光及顯影處理，獲得平版印刷版。
(1)熱正型的圖像記錄層A、B的情況進行與在上述[1]的第1實施方式的1-(4)中同樣的曝光及顯影處理，并獲得完成制版的平版印刷版。
此外，即使使用以同樣添加量添加下述化合物b或c取代化合物a的堿顯影液時，也可以同樣地進行顯影處理。
<化合物a～c>
化合物aC12H25N(CH2CH2COONa)2化合物bC12H25O(CH2CH2O)7H化合物c(C6H13)2CHO(CH2CH2O)20H(2)常規(guī)正型的圖像記錄層的情況將平版印刷版原版在真空印相框中通過正片膠卷，從1m的距離、用3kW的金屬鹵素燈進行50秒曝光。
其后，用顯影液1進行顯影處理。顯影處理，是用裝滿顯影液1的自動顯影機PS900NP(富士膠卷(株)制)，在顯影溫度為25℃、12秒的條件下進行。在顯影處理結(jié)束以后，經(jīng)過水洗工序，用橡膠(GU-7(1∶1))等處理，并獲得制版結(jié)束了的平版印刷版。此外，即使使用以同樣添加量添加上述化合物b或c取代化合物a的堿顯影液時，也可以同樣地進行顯影處理。
3-(5).平版印刷版的評價用下述的方法評價上述所獲得的平版印刷版的UV油墨耐印性、油墨印過張數(shù)、間隙污濁。其結(jié)果如第[3]-9表、第[3]-10表所示。
(1)UV油墨耐印性將獲得的平版印刷版，裝在印刷機(HIDERUBERUKU(株)制GTO)上，并在表層紙上印刷。印刷油墨使用的是一般油性油墨(東洋油墨(株)制HYPLUS)、UV油墨(東洋油墨(株)制FLASHDRY)。潤濕水使用的是(富士膠片制IF102)。在使用UV油墨的印刷中，使用UV印刷用清洗油(東洋油墨(株)制FLASHDRY板清潔劑)，進行以1次/500張的比率擦拭版面的操作。進行印刷、直到在印刷物的圖像部出現(xiàn)著色不良，或在非圖像部粘附油墨為止，求出此時的印刷張數(shù)，以此作為UV油墨耐印性。將實施例3-7的結(jié)果作為100％進行評價。數(shù)字越大則表示其UV油墨耐印性優(yōu)越。評價若為100％以上，則作為能保證UV油墨耐印性的平版印刷版，達到了實用水平。
(2)油墨印過張數(shù)使用三菱重工業(yè)制的IF2型2色單頁印刷機進行印刷，在以通常的印刷條件開始印刷以后，在能獲得良好印刷物之后，調(diào)節(jié)水刻度，使供給版面的水暫時停止，使油墨粘附印刷版的全部表面。隨后，再次調(diào)節(jié)水刻度，并用從供給版面的水量恢復到正常的量時開始、到獲得良好的印刷物為止所產(chǎn)生的廢紙的張數(shù)進行評價。油墨印過性好時廢紙少，油墨印過性差時廢紙多。此外，在此，油墨印過性被用作耐污濁性的一個指標。
(3)間隙污濁從被卷成版筒的PS版被固定在與橡膠筒體接觸側(cè)的部分(下側(cè)的夾頭部)附近到圖像部之間的非圖像部被稱為間隙，在印刷開始時油墨容易粘在該間隙上而被污濁(間隙污濁)的狀態(tài)，以在印刷工序中供給水及油墨而慢慢消減之間的中間適當?shù)膹垟?shù)，在紙上觀測與間隙部鄰接的部分的污濁。以在旋轉(zhuǎn)方向上產(chǎn)生污濁的長度作為評價的基準。
最高的耐間隙污濁性為10，是2mm以下的狀態(tài)，5，是10mm～15mm的狀態(tài)，最低的耐間隙污濁性為1，是50mm以上的狀態(tài)，分成10檔評價。數(shù)字越大則表示耐污濁性越優(yōu)越。評價若在5以上，則作為耐間隙污濁性優(yōu)越的平版印刷版，達到了可以實用的水平。
(4)油墨的連片難易程度以與上述[1]的第1實施方式的1-(5)平版印刷版評價的(1)同樣的條件進行評價。
如第[3]-9表所示，使用了從用原子力顯微鏡、對表面的5μm□進行512×512點測定所得到的三維數(shù)據(jù)求出的表面積比△S5、△S5(0.2-5)、△S5(0.02-0.2)分別滿足特定條件的本發(fā)明的平版印刷版用支承體(實施例3-1～3-7)的本發(fā)明的平版印刷版原版，其在作為平版印刷版時的UV油墨耐印性、油墨印過性、耐間隙污濁性都優(yōu)越。此外，使用了△S5、△S5(0.2-5)、△S5(0.02-0.2)及Ra分別滿足特定條件的本發(fā)明的平版印刷版用支承體(實施例3-8～3-12)的本發(fā)明的平版印刷版原版，其UV油墨耐印性、油墨印過性、耐間隙污濁性、油墨的連片難易程度優(yōu)越。
(發(fā)明效果)如以上所說明，若使用本發(fā)明的第1實施方式的平版印刷版用支承體，則在作為平版印刷版時，其非圖像部的污濁難度優(yōu)越，并且，不分油墨或水的種類，難于產(chǎn)生網(wǎng)點部的油墨連片且在低濕度環(huán)境下的耐放置性顯著。
另外，若使用本發(fā)明的第2實施方式的平版印刷版用支承體，則能以高水平維持不能從以往權(quán)衡的關(guān)系中脫離出的耐污濁性及耐印性的平衡，并且，可以抑制使用涂漆再生紙時發(fā)生實地部的油墨著色不良。
進而，若使用本發(fā)明的第2實施方式的平版印刷版用支承體，則作為平版印刷版時的UV油墨耐印性、油墨印過性、耐間隙污濁性也都顯著。
第[1]-1表

第[1]-2表

第[1]-3表

第[1]-4表

第[1]-5表

第[1]-6表

第[1]-7表

第[1]-8表

第[2]-1表

第[2]-3表

第[2]-2表

第[2]-4表

第[2]-5表

第[2]-6表第[2]-7表


第[2]-8表

第[2]-9表

第[3]-6表

第[3]-7表

第[3]-8表

第[3]-9表

第[3]-10表

權(quán)利要求
1.一種平版印刷版用支承體，其特征在于使用原子力顯微鏡，通過對表面的50μm□進行512×512點測定所求出的三維數(shù)據(jù)而得出的表面積比，滿足下述條件(1-i)～(1-iii)，(1-i)表面積比△S50(50)為20％～90％，(1-ii)表面積比△S50(2-50)為1％～30％，(1-iii)表面積比△S50(0.2-2)為5％～40％，此時，△S50(50)，是由用近似三點法從上述三維數(shù)據(jù)求出的實際面積Sx50及幾何學的測定面積So50，用下式求出的表面積比，△S50(50)＝[(Sx50-So50)/So50]×100％ …(1-1)△S50(2-50)是從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長為2μm以上50μm以下的成分所得到的表面積比，△S50(0.2-2)是從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.2μm以上2μm以下的成分所得到的表面積比。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平版印刷版用支承體，其特征在于存在于表面上的深度為4μm以上的凹部的個數(shù)，每400μm×400μm在10個以下，并且存在于表面上的深度為3μm以上的凹部的個數(shù)，每400μm×400μm在30個以下。
3.一種平版印刷版用支承體，其特征在于使用原子力顯微鏡，對表面的50μm□進行512×512點測定并從所得到的三維數(shù)據(jù)、用近似三點法求出的表面積比及陡波度，滿足下述條件(2-i)～(2-ii)，(2-i)表面積比△S50(50)為30％～60％，(2-ii)陡波度a4550(0.2-2)為5％～40％，在此，△S50(50)是用下式(2-1)從實際面積Sx50和幾何學的測定面積So50求出的表面積比，△S50(50)＝[(Sx50-So50)/So50]×100(％) …(2-1)陡波度a4550(0.2-2)，是從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.2μm以上2μm以下的成分所得出的數(shù)據(jù)中的傾斜度為45°以上部分的面積率。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的平版印刷版用支承體，其特征在于使用原子力顯微鏡，對表面的50μm□進行512×512點測定并從所得到的三維數(shù)據(jù)求出的表面積比及陡波度，滿足下述條件(3-i)～(3-ii)，(3-i)表面積比△S5(0.02-0.2)為30％～60％，(3-ii)陡波度a455(0.02-0.2)為10％～40％，在此，△S5(0.02-0.2)，是由從抽取波長為0.02μm以上0.2μm以下的成分所得出的數(shù)據(jù)中、用近似三點法求出的實際面積Sx5(0.02-0.2)及幾何學的測定面積So5，用下式(3-1)所求出，陡波度a455(0.02-0.2)，是從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.02μm以上0.2μm以下的成分所得出的數(shù)據(jù)中的傾斜度為45°以上部分的面積率，△S5(0.02-0.2)＝(Sx5(0.02-0.2)-So5)/So5×100(％) …(3-1)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的平版印刷版用支承體，其特征在于存在于表面上的深度為4μm以上的凹部的個數(shù)，為每400μm×400μm有6個以下。
6.一種平版印刷版用支承體，其特征在于使用原子力顯微鏡，通過對表面的50μm□進行512×512點測定所求出的三維數(shù)據(jù)而得出的表面積比，分別滿足下述條件(4-i)～(4-iii)，(4-i)表面積比△S5(5)為20％～90％，(4-ii)表面積比△S5(0.2-5)為5％～40％，(4-iii)表面積比△S5(0.02-0.2)為15％～70％，在此，△S5(5)是由從上述三維數(shù)據(jù)、用近似三點法求出的實際面積Sx5及幾何學的測定面積So、用下式求出的，是以△S5(5)＝[(Sx5-So)/So]×100(％)…(4-1)表示的表面積比，△S5(0.2-5)是由從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.2μm以上5μm以下的成分所得出的實際面積△S5(0.2-5)及幾何學的測定面積So、用下式求出，是以△S5(0.2-5)＝[(Sx5(0.2-5)-So)/So]×100(％)…(4-2)表示的表面積比，△S5(0.02-0.2)是由從上述三維數(shù)據(jù)中抽取波長為0.02μm以上0.2μm以下的成分所得出的實際面積△Sx5(0.02-0.2)及幾何學的測定面積So、用下式求出，是以△S5(0.2-5)＝[(Sx5(0.02-0.2)-So)/So]×100(％)…(4-3)表示的表面積比。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的平版印刷版用支承體，其特征在于對含Cu量為0.00～0.05質(zhì)量％的鋁合金板的表面實行粗糙化而獲得所述支承體。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的平版印刷版用支承體，其特征在于用觸針式表面光潔度計測定的平均表面光潔度Ra為0.40～0.70。
9.一種平版印刷版原板，其特征在于在權(quán)利要求1～8的中任何一項所述的平版印刷版用支承體上具有圖像記錄層。
全文摘要
一種平版印刷版用支承體，第1實施方式，使用原子力顯微鏡，通過對表面的50μm口進行512×512點測定所求出的三維數(shù)據(jù)而得出的表面積比，滿足權(quán)利要求中條件(1－i)～(1－iii)，在作為平版印刷版時不分油墨或潤濕水的種類，難于產(chǎn)生網(wǎng)點部的油墨連片且在低濕度環(huán)境下的耐放置性顯著；第2實施方式，同樣獲得的表面積比及陡波度滿足權(quán)利要求中條件(2－i)～(2－ii)，在作為平版印刷版時耐印性及耐污濁性顯著并在使用涂漆再生紙時難于發(fā)生實地部的油墨著色不良；第3實施方式，同樣獲得的表面積比分別滿足權(quán)利要求中條件(4－i)～(4－iii)，在作為平版印刷版時的UV油墨耐印性、油墨印過性、耐間隙污濁性都顯著。
文檔編號G01Q60/00GK1488521SQ0315673
公開日2004年4月14日 申請日期2003年9月8日 優(yōu)先權(quán)日2002年9月6日
發(fā)明者澤田宏和, 上杉彰男, 男 申請人:富士膠片株式會社