專利名稱：暴露設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及活體細胞培養(yǎng)物中流體混合物的暴露設備，特別是香煙煙氣和/或氣體混合物。
已知有各種暴露設備將氣體物質(zhì)傳送至活體細胞培養(yǎng)物。每種所述已知設備有利于將煙傳送至細胞培養(yǎng)室，以及有利于將營養(yǎng)物介質(zhì)傳送至生長在細胞培養(yǎng)室中的細胞培養(yǎng)物基底。所述已知設備提供了復雜而且通常價格昂貴的裝置，其設計用于防止氣體物質(zhì)和營養(yǎng)物介質(zhì)混合。例如DE19526533描述了一種暴露設備，其中將氣體物質(zhì)引入設備的頂板中，由放射狀煙氣分配裝置供給至不同且隔離的細胞培養(yǎng)室。然后，所述氣體物質(zhì)從上述細胞培養(yǎng)室上方離開進入位于暴露設備底板的中央出氣孔。所述氣體物質(zhì)被直接供給至細胞培養(yǎng)物的頂部表面。所述營養(yǎng)物介質(zhì)通過與設備底板內(nèi)的儲存池相連的進入通道和排出通道供給至每個細胞培養(yǎng)室，每個細胞培養(yǎng)室位于單獨的儲存池中，從而使氣體物質(zhì)和營養(yǎng)物介質(zhì)分隔開，而且為每個細胞培養(yǎng)室單獨提供介質(zhì)供應。所描述的設備生產(chǎn)較為復雜而且昂貴，要求對細胞上的氣體物質(zhì)的流速進行監(jiān)測，從而確保所述氣體流速不對細胞造成損害。此外，由于每個介質(zhì)儲存池具有各自的進入和排出通道，因此需要大量的介質(zhì)進入和排出管。
在國際專利申請WO99/36505中，介質(zhì)通過進入管道進入大量的分隔的細胞培養(yǎng)室中。每個細胞培養(yǎng)室的下面具有各自的分散介質(zhì)腔室。所述裝置生產(chǎn)較為復雜而且昂貴，每個細胞培養(yǎng)室不能進行連續(xù)的介質(zhì)交換。營養(yǎng)物介質(zhì)必須通過與將營養(yǎng)物介質(zhì)供給細胞的相同裝置除去，從而在新鮮介質(zhì)和/或含有添加劑的介質(zhì)供給至細胞培養(yǎng)物的基底之前必須將介質(zhì)除去。
本發(fā)明的一個目的是提供一種活細胞培養(yǎng)物的暴露設備，其具有所有細胞培養(yǎng)室共有的介質(zhì)腔室，從而允許每個細胞培養(yǎng)室進行連續(xù)的介質(zhì)交換。
本發(fā)明的另一目的是提供一種活細胞培養(yǎng)物的暴露設備，其生產(chǎn)較為簡單而且便宜，易于使用。
本發(fā)明的另一目的是提供一種活細胞培養(yǎng)物的暴露設備，其可操作地為細胞提供基礎或浸沒供料條件，其中可以以選擇的進入和排出流速設置介質(zhì)的供給，而不需要進一步的人為或電子干預。
本發(fā)明的另一目的是提供一種活細胞培養(yǎng)物的暴露設備，其操作過程中不需要介質(zhì)進入和排出流速之間保持平衡，從而維持介質(zhì)供應至生長在其中的細胞培養(yǎng)物。
本發(fā)明提供了一種活細胞培養(yǎng)物的暴露設備，其包括基底部、頂部、流體進入裝置、流體排出裝置、介質(zhì)進入裝置、介質(zhì)排出裝置、介質(zhì)腔室和多個細胞培養(yǎng)室，其中所述介質(zhì)腔室是所有細胞培養(yǎng)室所共有的。
優(yōu)選地，所述介質(zhì)腔室具有位于其中的介質(zhì)引導裝置。有利的是，所述介質(zhì)引導裝置由所述暴露設備的基底部的凸起區(qū)域形成。適當?shù)兀鼋橘|(zhì)引導裝置為位于介質(zhì)腔室中的一個島狀物，營養(yǎng)物介質(zhì)可以環(huán)繞其流動。所述介質(zhì)引導裝置位于介質(zhì)腔室中從而引導介質(zhì)在每個細胞培養(yǎng)室的下面流動。優(yōu)選地，所述介質(zhì)引導裝置位于介質(zhì)腔室的中央，更優(yōu)選地，其與每個細胞培養(yǎng)室距離相等。
優(yōu)選地，所述暴露設備包括兩個或多個細胞培養(yǎng)室，它們的位置使得每個細胞培養(yǎng)室的基底部位于介質(zhì)腔室中。有利地是，所述暴露設備包括三個細胞培養(yǎng)室。所述暴露設備可以適當?shù)匕ㄈ我鈹?shù)量的細胞培養(yǎng)室以及具有不同尺寸的細胞培養(yǎng)室。適合用于本發(fā)明的暴露設備的細胞培養(yǎng)室是本領域技術人員易于知曉的。
優(yōu)選地，每個細胞培養(yǎng)室的基底部通過間隙與暴露設備的基底部分隔開，從而使得介質(zhì)在介質(zhì)腔室中的每個細胞培養(yǎng)室的下面自由流動。介質(zhì)在每個細胞培養(yǎng)室的下面自由流動有利于每個細胞培養(yǎng)室的連續(xù)介質(zhì)交換。通過設置介質(zhì)引導裝置進一步加強了連續(xù)介質(zhì)交換。
適當?shù)?，使介質(zhì)在每個細胞培養(yǎng)室的基底部和暴露設備的基底部之間自由流動的所述間隙至少為1mm。優(yōu)選地，位于每個細胞培養(yǎng)室的基底部和暴露設備的基底部之間的所述間隙大約為2mm或更大。更優(yōu)選地是，位于每個細胞培養(yǎng)室的基底部和暴露設備的基底部之間的所述間隙大約為4mm。
介質(zhì)通過介質(zhì)進入裝置供給至暴露設備的介質(zhì)腔室中，并通過介質(zhì)排出裝置從暴露設備的介質(zhì)腔室除去。
優(yōu)選地，所述介質(zhì)進入裝置的設置使得向暴露設備的基底部提供介質(zhì)，從而介質(zhì)直接流至介質(zhì)腔室中。更優(yōu)選地，所述介質(zhì)進入裝置位于暴露設備的基底部的側(cè)壁或底壁上。
適當?shù)?，所述介質(zhì)進入裝置為管道或管子。
有利地是，所述介質(zhì)排出裝置與所述介質(zhì)進入裝置分隔開，并通過所有細胞培養(yǎng)室和/或介質(zhì)引導裝置與所述介質(zhì)進入裝置間隔開。
優(yōu)選地，所述介質(zhì)排出裝置的操作使得介質(zhì)從其頂部除去，所述介質(zhì)排出裝置適當?shù)貜乃霰┞对O備的頂部延伸進入介質(zhì)腔室中。相對于細胞培養(yǎng)室的基底部，所述介質(zhì)排出裝置的吸入端的位置可以進行調(diào)整從而可以實現(xiàn)對細胞培養(yǎng)物的基礎或浸沒供料。此外，所述介質(zhì)排出裝置可以包括兩個排出裝置，第一個的位置可以實現(xiàn)細胞培養(yǎng)物的基礎供料，第二個排出裝置的位置可以實現(xiàn)細胞培養(yǎng)物的浸沒供料。
在基礎供料期間，保持介質(zhì)水平從而介質(zhì)總是與細胞培養(yǎng)物的基底部接觸。在另一實驗體系下，保持介質(zhì)水平從而細胞培養(yǎng)物總是被介質(zhì)覆蓋，所述供料體系為本領域公知的浸沒供料。
適當?shù)?，所述介質(zhì)排出裝置為管道或管子。優(yōu)選地，所述介質(zhì)排出裝置為可自由伸縮的管子，其可以被鎖在暴露設備內(nèi)，從而所述管子的吸入端的高度高于操作者所選擇的暴露設備基底部。管子吸入端高出暴露設備基底部的高度可以等于細胞培養(yǎng)物高出所述設備基底部的距離，從而有利于培養(yǎng)物的基礎供料，或者，管子吸入端高出暴露設備基底部的高度可以大于細胞培養(yǎng)物高出所述設備基底部的高度從而有利于培養(yǎng)物的浸沒供料。
可以通過鎖定裝置鎖定介質(zhì)排出裝置的位置。所述鎖定裝置可以是具有中央孔的帶螺紋的螺釘裝置，介質(zhì)排出裝置通過所述帶螺紋的螺釘?shù)闹醒肟?。另外，也可以提供摩擦鎖定裝置，對其進行操作可以調(diào)整介質(zhì)排出裝置的位置。
優(yōu)選地，所述介質(zhì)排出裝置可操作地連接在第一泵裝置上，所述泵裝置可以在可控的第一泵速率下工作。適當?shù)?，所述第一泵速率在大約1ml/min和大約20ml/min的范圍之間，優(yōu)選地，所述第一泵速率大約為10ml/min。
所述介質(zhì)進入裝置適當?shù)乜刹僮鞯剡B接在第二泵裝置上，所述第二泵裝置可以在可控的第二泵速率下工作。適當?shù)?，所述第二泵速率在大約1ml/min和大約10ml/min的范圍之間，優(yōu)選地，所述第二泵速率大約為7ml/min。
有利地是，所述第一泵速率至少等于第二泵速率，從而在操作中保持所選定的介質(zhì)水平，而不需要進一步的干預。優(yōu)選地，第一泵速率大于第二泵速率。優(yōu)選地，第一泵速率大于第二泵速率，并且介質(zhì)腔室中的介質(zhì)水平的變化在操作過程中不超過大約3mm。優(yōu)選地，所述介質(zhì)腔室中的介質(zhì)水平的變化在操作過程中不超過大約0.5mm。
所述介質(zhì)排出裝置和/或介質(zhì)進入裝置可以連續(xù)運行，或者，可以操作者選擇的流速脈沖式地提供/去除營養(yǎng)物介質(zhì)。當介質(zhì)進入裝置連續(xù)運行，介質(zhì)排出裝置的第一泵速率大于介質(zhì)進入裝置的第二泵速率，從而泵之間不需要平衡以維持由操作者選定的介質(zhì)水平。
優(yōu)選地，所述介質(zhì)腔室、介質(zhì)引導裝置、介質(zhì)進入和排出裝置有利于每個細胞培養(yǎng)室的基本同步的介質(zhì)交換。所述介質(zhì)引導裝置和細胞培養(yǎng)室相互設置，從而在每個細胞培養(yǎng)室發(fā)生同步介質(zhì)交換。
所述暴露設備進一步包括所述細胞培養(yǎng)室共有的流體暴露室，以及流體分配裝置，從而為每個細胞培養(yǎng)室提供基本同步的流體暴露。
優(yōu)選地，本發(fā)明的流體進入裝置位于暴露設備的頂部。更優(yōu)選地，所述流體進入裝置位于暴露設備頂部的中央。
所述流體進入裝置可以連接流體發(fā)生裝置，從而流體可以通過所述流體進入裝置傳送至暴露設備。
流體通過所述流體進入裝置經(jīng)流體分配裝置進入流體暴露室中。適當?shù)?，所述流體分配裝置可以是位于細胞培養(yǎng)室上部的盤狀板，從而在流體到達流體暴露室之前分配液體。
有利地是，供給細胞培養(yǎng)室的流體流速高至每分鐘大約700％的可利用空氣隙。
優(yōu)選地，所述流體排出裝置位于介質(zhì)腔室內(nèi)介質(zhì)水平以上，從而介質(zhì)不流經(jīng)所述流體排出裝置。更優(yōu)選地，所述流體排出裝置的位置使得所述介質(zhì)排出裝置在介質(zhì)腔室中的水平低于流體排出裝置。
有利地是，所述流體排出裝置可以位于暴露設備的基底部的側(cè)壁上，或者位于暴露設備頂部的側(cè)壁上。
優(yōu)選地，所述流體可以是煙、氣體、氣溶膠等，或它們的混合物。
每個細胞培養(yǎng)室懸掛在介質(zhì)腔室中，并適當?shù)赝ㄟ^細胞培養(yǎng)室支撐物固定。有利地是，所述細胞培養(yǎng)室的側(cè)壁上具有流體通過間隙。適當?shù)?，如果采用浸沒供料，細胞培養(yǎng)室可以進行適當?shù)馗膭?，從而確保在每個細胞培養(yǎng)室中進行介質(zhì)交換。適當?shù)兀毎囵B(yǎng)室可以包括例如介質(zhì)通過間隙。較為優(yōu)選地是，介質(zhì)通過間隙(如果有的話)位于細胞培養(yǎng)室的側(cè)壁。適用于本發(fā)明的細胞培養(yǎng)室是本領域技術人員所公知的。
所述細胞培養(yǎng)室支撐物可以有利地包括具有多個接收孔的材料的片層，細胞培養(yǎng)室可以向下放置于所述孔中。所述細胞培養(yǎng)室支撐物可以進一步地作為流體暴露室和介質(zhì)腔室之間的部分隔離物，從而確保流體在經(jīng)流體排出裝置流出暴露設備之前流過細胞培養(yǎng)室。
優(yōu)選地，所述細胞培養(yǎng)室支撐物由與暴露設備相同的材料構成。優(yōu)選地，構成暴露設備和細胞培養(yǎng)室支撐物的材料為惰性材料。在本文中，惰性材料是指不與能夠在前述設備中使用的流體發(fā)生化學反應的材料。適當?shù)兀霰┞对O備和細胞培養(yǎng)室支撐物可以由選自以下組的材料構成，包括PTFE，不銹鋼，PerspexTM以及玻璃。其它適當?shù)牟牧鲜潜绢I域技術人員公知的。
本發(fā)明進一步提供了一種向細胞培養(yǎng)室提供營養(yǎng)物介質(zhì)的方法，其中營養(yǎng)物供給裝置、介質(zhì)引導裝置和細胞培養(yǎng)室相互設置，從而為每個所述細胞培養(yǎng)室提供基本同步的介質(zhì)補給。
本發(fā)明進一步提供了用于活細胞培養(yǎng)物的暴露設備，其具有多個細胞培養(yǎng)室和介質(zhì)引導裝置共有的介質(zhì)腔室，所述細胞培養(yǎng)室和介質(zhì)引導裝置相互設置從而為每個所述細胞培養(yǎng)室提供基本同步的介質(zhì)交換。
為了便于理解和實施本發(fā)明，以下通過舉例參考以下示意圖，其中附

圖1顯示了根據(jù)本發(fā)明的暴露設備的縱向橫截面圖。
附圖2顯示了根據(jù)本發(fā)明一個實施方式的暴露設備的平面圖，其中去除了設備的頂部、細胞培養(yǎng)室和介質(zhì)排出裝置。
示意圖的附圖1顯示了根據(jù)本發(fā)明的暴露設備1。所述暴露設備包括圓形基底部2和圓形頂部3，它們通過閉合螺釘(未示出)裝配在一起。頂部3和基底部2當閉合時形成密封單元。位于頂部3和基底部2之間的橡膠密封件(未示出)確保在所述設備操作期間沒有流體從設備中泄漏出去。介質(zhì)腔室4包括中空的孔用于容納營養(yǎng)物介質(zhì)，位于暴露設備1的基底部2內(nèi)。在頂部3和基底部2之間，設置有細胞培養(yǎng)室支撐物5。細胞培養(yǎng)室6位于細胞培養(yǎng)室支撐物5的接收孔21內(nèi)。每個細胞培養(yǎng)室6的基底7由滲透膜構成，在該滲透膜上，可以播種和生長細胞培養(yǎng)物8。每個細胞培養(yǎng)室6可以進一步包括惰性材料(未示出)插件。所述插件優(yōu)選為惰性材料環(huán)，該環(huán)放置在細胞培養(yǎng)室6的滲透膜上。細胞培養(yǎng)物8可以在滲透膜上播種和生長，所述插件位于適當位置。在將細胞培養(yǎng)室6放入細胞培養(yǎng)室支撐物5的接收孔21內(nèi)之前，將所述插件從細胞培養(yǎng)室中移開。所述插件(未示出)防止細胞培養(yǎng)物8環(huán)繞細胞培養(yǎng)室6的滲透膜的周圍生長。
流體通過間隙9位于每個細胞培養(yǎng)室6內(nèi)，從而流體可以從細胞培養(yǎng)室6中流出。每個細胞培養(yǎng)室6的基底7與所述暴露設備的底部間隔開，從而介質(zhì)可以在介質(zhì)腔室4內(nèi)的每個細胞細胞培養(yǎng)室6下面自由流動。在平面圖上，介質(zhì)引導裝置10位于中央，與每個細胞培養(yǎng)室6等距離。
介質(zhì)進入裝置11位于基底部2，通過泵(未示出)向介質(zhì)腔室4提供介質(zhì)。介質(zhì)排出裝置12可以是連接至第二泵(未示出)的管道，從而將營養(yǎng)物介質(zhì)從介質(zhì)腔室4中提取出來。介質(zhì)排出裝置12可以從暴露設備1的頂部3除去。介質(zhì)排出裝置12的吸入端通過細胞培養(yǎng)室支撐物5的孔22進入介質(zhì)腔室4中。介質(zhì)排出裝置12可以通過鎖定裝置(未示出)固定。所述鎖定裝置可以通過帶有螺紋的螺釘提供，所述螺釘具有貫穿其中的中央孔。在該例中，介質(zhì)排出裝置12可以通過所述帶有螺紋的螺釘?shù)闹醒肟住?br> 流體進入裝置13位于頂部3的中央，包括穿過外套15的進入孔14，進入孔14通過位于流體分配裝置17上部的三個放射狀設置的孔16使流體分散進入流體暴露室18中。流體排出裝置19位于基底部側(cè)壁20上。所述流體排出裝置19另外可以連接至泵裝置(未示出)上，從而快速去除流體。
在操作中，營養(yǎng)物介質(zhì)(未示出)被泵入介質(zhì)腔室4(泵未示出)中，所述營養(yǎng)物介質(zhì)被預加熱至維持細胞所需要的溫度。營養(yǎng)物介質(zhì)以固定泵入速率被泵入介質(zhì)腔室4中，直至介質(zhì)與細胞培養(yǎng)室的底部接7觸，這是細胞培養(yǎng)物8的基礎供料所需要的，或者介質(zhì)在介質(zhì)腔室4中的水平使得細胞培養(yǎng)物8被營養(yǎng)物介質(zhì)浸沒，這是細胞培養(yǎng)物8的浸沒供料所需要的。
介質(zhì)排出泵的泵速率大于介質(zhì)進入泵的泵速率，從而保證介質(zhì)腔室4內(nèi)營養(yǎng)物介質(zhì)的恒定水平。當營養(yǎng)物介質(zhì)與介質(zhì)排出管12的底部接觸時，介質(zhì)通過排出泵裝置被吸出。應選擇介質(zhì)排出裝置的各自泵速率和高度，從而使營養(yǎng)物介質(zhì)水平的偏差在泵工作期間不超過0.5mm。一旦在介質(zhì)排出管12的吸入端形成的介質(zhì)彎液面破裂，停止排出泵的液體吸取。從而維持介質(zhì)水平，這樣在基礎供料期間介質(zhì)總是與細胞培養(yǎng)室6的底部7接觸，或者在浸沒供料期間介質(zhì)總是浸沒細胞培養(yǎng)物8至相同深度。
在另一設置中，暴露設備1具有兩個介質(zhì)排出裝置12。第一介質(zhì)排出裝置12的吸入端高出暴露設備的基底部的距離與細胞培養(yǎng)物8相同，第二介質(zhì)排出裝置12的吸入端高出暴露設備的基底部的距離大于細胞培養(yǎng)物8的底部。第一介質(zhì)排出裝置12的操作允許對細胞培養(yǎng)物8進行基礎供料，第二介質(zhì)排出裝置12的操作允許對細胞培養(yǎng)物8進行浸沒供料。
在介質(zhì)排出裝置12的另一設置(未示出)中，提供了倒置的Y型管子和轉(zhuǎn)換裝置。介質(zhì)排出裝置12的兩個吸入端可以固定在高于暴露設備基底部的不同距離處，從而允許在基礎供料和浸沒供料條件之間轉(zhuǎn)換。所述轉(zhuǎn)換裝置可以進一步包括定時裝置，從而在定時的時間間隔內(nèi)在基礎供料和浸沒供料條件之間轉(zhuǎn)換。
營養(yǎng)物介質(zhì)在介質(zhì)腔室4中自由流動，從而其在每個細胞培養(yǎng)室6的底部7下面流動。介質(zhì)引導裝置10確保在每個細胞培養(yǎng)室6的下面幾乎同時地發(fā)生介質(zhì)交換。
在操作中，流體通過流體進入裝置13輸送，并通過流體分配裝置17分配，并進入流體暴露室18中。流體在細胞培養(yǎng)物8上自由流動。然后流體通過流體通過間隙9流出細胞培養(yǎng)室6，通過流體排出裝置19離開暴露設備1。
在本發(fā)明的另一實施方式中，流體排出裝置可以位于暴露設備的頂部。已經(jīng)分配進入細胞培養(yǎng)室6的流體可以分配經(jīng)過流體暴露室18，從流體排出裝置19中排出。在該實施方式中，所述細胞培養(yǎng)室6可以具有實心壁，其中沒有流體通過間隙9。
將暴露設備1放在加熱裝置(未示出)上，可以維持營養(yǎng)物介質(zhì)的溫度。所述加熱裝置適當?shù)貫榧訙匕?，其覆蓋有能夠傳熱的材料，從而防止暴露設備1的基底部2上形成過熱點。能夠傳熱的材料可以是例如泡沫紗。
在另一設置中(未示出)，可以將所述設備放于一個或多個保溫箱(未示出)中從而維持營養(yǎng)物介質(zhì)和暴露設備1的溫度。在該設置中，營養(yǎng)物介質(zhì)和進入泵裝置可以位于第一保溫箱內(nèi)，至少一個本發(fā)明的暴露設備1位于第二保溫箱內(nèi)。排出泵裝置可以位于第二保溫箱的外部?？梢詫Φ谝缓偷诙叵溥M行改動，從而位于第一保溫箱內(nèi)的設備能夠與位于第二保溫箱內(nèi)的設備可操作地連接在一起。而且，可以對第二保溫箱進行改動，從而其中的設備可操作地與本發(fā)明的排出泵裝置連接在一起?？梢詫⒌谝缓偷诙叵渚S持在適于細胞培養(yǎng)物8維持和生長的溫度。
在本發(fā)明的另一實施方式中，暴露設備1的外周可以是任意形狀，例如正方形或矩形，所述介質(zhì)引導裝置位于介質(zhì)腔室的中央，并與每個細胞培養(yǎng)室等距離。
實施例1可以根據(jù)以下方法使用本發(fā)明的暴露設備。
在開始試驗前至少兩小時，將兩大瓶營養(yǎng)物介質(zhì)預熱至細胞維持所需要的溫度，對設備進行消毒。
培養(yǎng)細胞附著在Costar TranswellsTM下部的膜上，將CostarTranswellsTM向下放置于暴露設備的細胞室支撐物的接收孔內(nèi)。暴露設備的頂部用閉合螺釘與基底部裝配在一起并且閉合。設置介質(zhì)排出管高出暴露設備基底部的高度，從而有利于基礎和/或浸沒供料條件，用帶螺紋的螺釘鎖定介質(zhì)排出管。連接介質(zhì)進入和排出管，流體進入管與產(chǎn)煙機器連接起來。
所述暴露設備和介質(zhì)進入管道用泡沫紗包裹，從而保證完全隔離。所述設備放置在設定在所需溫度的加熱板上。
選擇介質(zhì)排出泵速率，使其大于介質(zhì)進入泵速率，營養(yǎng)物介質(zhì)被泵入暴露設備的介質(zhì)腔室中，其所達到的水平由介質(zhì)排出管的吸入端高出暴露設備基底部的高度決定。
打開產(chǎn)煙機器，由機器產(chǎn)生的煙經(jīng)流體進入管道在設定時間內(nèi)傳送進入流體暴露室中。
權利要求
1.一種用于活細胞培養(yǎng)物的暴露設備，包括基底部、頂部、流體進入裝置、流體排出裝置、介質(zhì)進入裝置、介質(zhì)排出裝置、介質(zhì)腔室和多個細胞培養(yǎng)室，其中所述介質(zhì)腔室是所有細胞培養(yǎng)室所共有的。
2.如權利要求1所述的暴露設備，其中所述介質(zhì)腔室中具有介質(zhì)引導裝置。
3.如權利要求2所述的暴露設備，其中所述介質(zhì)引導裝置由所述暴露設備基底部的凸起區(qū)域形成。
4.如權利要求2或3所述的暴露設備，其中所述介質(zhì)引導裝置為位于所述介質(zhì)腔室中的島狀物，營養(yǎng)物介質(zhì)圍繞其流動。
5.如權利要求2-4任意所述的暴露設備，其中所述介質(zhì)引導裝置位于所述介質(zhì)腔室的中央。
6.如權利要求2-5任意所述的暴露設備，其中所述介質(zhì)引導裝置與所述每個細胞培養(yǎng)室等距離。
7.如前任意權利要求所述的暴露設備，其中所述暴露設備包括三個細胞培養(yǎng)室。
8.如前任意權利要求所述的暴露設備，其中每個細胞培養(yǎng)室的底部通過間隙與所述暴露設備的基底部間隔開，從而在操作時，營養(yǎng)物介質(zhì)在所述介質(zhì)腔室中的每個細胞培養(yǎng)室下面自由流動。
9.如權利要求8所述的暴露設備，其中所述間隔至少為1mm。
10.如權利要求8或9所述的暴露設備，其中所述間隔為大約2mm或更大。
11.如前任意權利要求所述的暴露設備，其中所述介質(zhì)進入裝置位于所述暴露設備的所述基底部內(nèi)，從而在操作中，介質(zhì)直接流入所述介質(zhì)腔室。
12.如權利要求11所述的暴露設備，其中所述介質(zhì)進入裝置位于所述暴露設備所述基底部的側(cè)壁內(nèi)。
13.如權利要求11所述的暴露設備，其中所述介質(zhì)進入裝置位于所述暴露設備所述基底部的底壁內(nèi)。
14.如前任意權利要求所述的暴露設備，其中所述介質(zhì)進入裝置為管道或管子。
15.如前任意權利要求所述的暴露設備，其中所述介質(zhì)排出裝置與所述介質(zhì)進入裝置間隔開。
16.如權利要求16所述的暴露設備，其中所述介質(zhì)排出裝置通過所有的細胞培養(yǎng)室和/或介質(zhì)引導裝置與所述介質(zhì)進入裝置間隔開。
17.如前任意權利要求所述的暴露設備，其中所述介質(zhì)排出裝置可操作地從其頂面除去營養(yǎng)物介質(zhì)。
18.如權利要求17所述的暴露設備，其中所述介質(zhì)排出裝置從所述暴露設備的頂部延伸進入所述介質(zhì)腔室。
19.如權利要求1-18任意所述的暴露設備，其中所述介質(zhì)排出裝置包括兩個排出裝置。
20.如權利要求19所述的暴露設備，其中一個所述排出裝置的設置允許對所述細胞培養(yǎng)物進行基礎供料，而另一個排出裝置的設置允許對所述細胞培養(yǎng)物進行浸沒供料。
21.如前任意權利要求所述的暴露設備，其中所述介質(zhì)排出裝置為管道或管子。
22.如權利要求21所述的暴露設備，其中所述介質(zhì)排出裝置通過鎖定裝置鎖定在暴露設備內(nèi)。
23.如權利要求22所述的暴露設備，其中所述鎖定裝置為具有中央孔的帶有螺紋的螺釘裝置。
24.如權利要求22所述的暴露設備，其中所述鎖定裝置為摩擦鎖定裝置，其操作可以調(diào)整所述介質(zhì)排出管的位置。
25.如前任意權利要求所述的暴露設備，其中所述介質(zhì)排出裝置可操作地與第一泵裝置連接，所述介質(zhì)進入裝置可操作地與第二泵裝置連接。
26.如權利要求25所述的暴露設備，在操作中，其中所述第一泵裝置具有可控第一泵速率，第二泵裝置具有可控第二泵速率，所述第一泵速率至少等于第二泵速率。
27.如權利要求26所述的暴露設備，其中所述第一泵速率大于第二泵速率。
28.如前任意權利要求所述的暴露設備，其中所述暴露設備進一步包括流體暴露室。
29.如權利要求28所述的暴露設備，其中所述流體暴露室是所述細胞培養(yǎng)室共有的。
30.如權利要求28或29所述的暴露設備，其中所述暴露設備進一步包括流體分配裝置。
31.如權利要求30所述的暴露設備，其中所述流體分配裝置可操作地將流體基本同步地暴露于每個所述細胞培養(yǎng)室。
32.如權利要求30或31所述的暴露設備，其中所述流體分配裝置為位于所述細胞培養(yǎng)室上方的盤狀板。
33.如前任意權利要求所述的暴露設備，其中所述流體進入裝置位于所述暴露設備的所述頂部內(nèi)。
34.如前任意權利要求所述的暴露設備，其中所述流體進入裝置可操作地與流體發(fā)生裝置連接，從而流體通過所述流體進入裝置傳送至所述暴露設備。
35.如前任意權利要求所述的暴露設備，其中所述暴露設備進一步包括細胞培養(yǎng)室支撐物。
36.如前任意權利要求所述的暴露設備，其中所述暴露設備由選自PTFE、不銹鋼、PerspexTM以及玻璃的材料構成。
37.一種向細胞培養(yǎng)室提供營養(yǎng)物介質(zhì)的方法，其中營養(yǎng)物供給裝置、介質(zhì)引導裝置和細胞培養(yǎng)室相互設置，從而向每個所述細胞培養(yǎng)室基本同步地提供營養(yǎng)物介質(zhì)補給。
38.一種活細胞培養(yǎng)物的暴露設備，其具有多個細胞培養(yǎng)物室和介質(zhì)引導裝置所共有的介質(zhì)腔室，所述細胞培養(yǎng)室和介質(zhì)引導裝置相互設置，從而為每個所述細胞培養(yǎng)室提供基本同步的介質(zhì)交換。
39.參照附圖及其例子在上文中描述的暴露設備。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種活細胞培養(yǎng)的暴露設備，所述設備具有多個細胞培養(yǎng)物室和介質(zhì)引導裝置所共有的介質(zhì)腔室。設置所述介質(zhì)腔室、細胞培養(yǎng)室和介質(zhì)引導裝置，從而為每個所述細胞培養(yǎng)室提供基本同步的介質(zhì)交換。
文檔編號C12M3/00GK1672047SQ03817700
公開日2005年9月21日 申請日期2003年5月22日 優(yōu)先權日2002年5月24日
發(fā)明者E·D·梅西, J·威廉遜, J·F·N·菲利普斯 申請人:英美煙草(投資)有限公司