專(zhuān)利名稱(chēng)：全息大腦組織芯片組及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及生物芯片領(lǐng)域，具體涉及全息大腦組織芯片組及其制作方法。
背景技術(shù)：
組織芯片是將數(shù)十個(gè)甚至數(shù)千個(gè)不同個(gè)體(可以是同一個(gè)體)的組織標(biāo)本集成在一張固相載體上所形成的組織微陣列。組織芯片的出現(xiàn)，使人類(lèi)可有效利用成百上千份自然或處于疾病狀態(tài)下的組織標(biāo)本來(lái)研究特定基因及其所表達(dá)的蛋白質(zhì)與疾病之間的相關(guān)關(guān)系，對(duì)于疾病的分子診斷，預(yù)后指標(biāo)和治療靶點(diǎn)的定位、抗體篩選等方面均有十分重要的實(shí)用價(jià)值。相對(duì)于傳統(tǒng)的病理組織切片，組織芯片具有以下優(yōu)勢(shì)①高通量一次檢測(cè)可以獲取大量的生物學(xué)信息；②多樣本一次實(shí)驗(yàn)可分析成百上千種同一或不同疾病的組織標(biāo)本；③省時(shí)1-2周內(nèi)可完成數(shù)千個(gè)組織標(biāo)本的數(shù)十個(gè)基因檢測(cè)或蛋白分子的定位、定量和定性分析；④簡(jiǎn)便經(jīng)濟(jì)是傳統(tǒng)組織學(xué)方法所需費(fèi)用的1/100-1/10 ；⑤結(jié)果可靠一次實(shí)驗(yàn)可同時(shí)完成數(shù)千個(gè)組織標(biāo)本的分析，減少批內(nèi)和批間誤差，實(shí)驗(yàn)結(jié)果更準(zhǔn)確可靠；⑥便于設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)對(duì)照；⑦用途廣泛即可用于基礎(chǔ)研究，又可用于臨床研究?？捎糜诜肿釉\斷、預(yù)后指標(biāo)的篩選、治療靶點(diǎn)的定位、抗體和藥物的篩選、基因和蛋白表達(dá)分析等；⑧可進(jìn)行自動(dòng)化分析用特殊的掃描和分析儀器即可對(duì)組織芯片進(jìn)行自動(dòng)化分析；⑨與其他生物醫(yī)學(xué)技術(shù)(HE染色、免疫組織化學(xué)、原位雜交、原位PCR、原位RT-PCR等)相結(jié)合，就可以組成免疫組織化學(xué)檢測(cè)分析系統(tǒng)，若再與基因芯片、蛋白芯片相結(jié)合，即可組成完整的基因表達(dá)分析系統(tǒng)。目前，組織芯片技術(shù)已經(jīng)成熟，國(guó)內(nèi)外均有公司生產(chǎn)銷(xiāo)售。但目前市面上見(jiàn)到的組織芯片產(chǎn)品上的每個(gè)組織標(biāo)本點(diǎn)，僅有生物學(xué)信息(有的可能會(huì)附帶臨床資料)，均沒(méi)有標(biāo)本的空間位置信息，不能反映出每一個(gè)組織點(diǎn)的空間相關(guān)關(guān)系。同時(shí)，在市面上也沒(méi)有見(jiàn)到有關(guān)完整大腦的組織芯片產(chǎn)品。大腦是當(dāng)前神經(jīng)科學(xué)、神經(jīng)藥物研制、人工智能、老年病等領(lǐng)域研究的首要對(duì)象。 比如，要研究某種成癮性藥物的靶位置在大腦中的分布情況，人們只能通過(guò)動(dòng)物試驗(yàn)，用藥物將動(dòng)物致癮，然后處死動(dòng)物，取腦來(lái)進(jìn)行取材，對(duì)每塊組織塊進(jìn)行研究，得到結(jié)論。一旦腦組織比較大，如靈長(zhǎng)類(lèi)，組織塊數(shù)量將會(huì)有成百上千，沒(méi)有正確的取材方法和對(duì)每塊組織進(jìn)行編碼管理的方案，研究工作將會(huì)舉步維艱。本發(fā)明的目的，首創(chuàng)一種全息大腦組織芯片組產(chǎn)品，同時(shí)創(chuàng)造出一種結(jié)合編碼方案的取材方法，對(duì)全大腦進(jìn)行取材并編碼，保留了每個(gè)組織塊的空間位置信息，芯片上每個(gè)標(biāo)本點(diǎn)包含空間位置信息，每一張芯片上的樣本點(diǎn)來(lái)自于全息大腦取材的同一個(gè)切面，一系列來(lái)自同一類(lèi)型切面(冠狀切面、矢狀切面或水平切面)的芯片組織成一組，完全反映出整個(gè)大腦的空間結(jié)構(gòu)，從而使得進(jìn)一步的研究更方便，更有條理。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明首創(chuàng)了全息大腦組織芯片組產(chǎn)品，芯片上每個(gè)標(biāo)本點(diǎn)包含空間位置信息，每一張芯片上的樣本點(diǎn)來(lái)自于全息大腦取材的同一個(gè)切面，一系列來(lái)自同一類(lèi)型切面(冠狀切面、矢狀切面或水平切面)的芯片組織成一組，完全反映出整個(gè)大腦的空間結(jié)構(gòu)。本發(fā)明同時(shí)創(chuàng)造出一種以結(jié)合編碼方案的取材方法為主要內(nèi)容的制作方法，對(duì)全大腦進(jìn)行取材并編碼，保留了每個(gè)組織塊的空間位置信息，使得進(jìn)一步的研究更方便，更有條理。全息大腦組織芯片組，其特征是這一組芯片上的組織樣本點(diǎn)來(lái)自于同一個(gè)大腦， 每張芯片上的組織樣本點(diǎn)均來(lái)自同一個(gè)全息取材得到的切面，每張芯片均是同一類(lèi)型切面 (矢狀切面、冠狀切面或水平切面)，每張芯片上組織樣本點(diǎn)的排列方式，反映出其來(lái)源的全息大腦組織蠟塊在該切面上的相對(duì)空間位置。一種全息大腦取材方法及編碼方案，其特征在于通過(guò)一系列冠狀切面、矢狀切面和水平切面將大腦組織分割成組織塊，用三維正交坐標(biāo)系標(biāo)注了每一組織塊的空間位置， 包括以下步驟(一)取材及編碼(1)按正常體位放置腦底向下，腦頂向上，額葉向前，枕葉向后，(2)從胼質(zhì)體處剖開(kāi)大腦成左右兩個(gè)半球，位置不變，(3)沿大腦兩半球的中線(xiàn)，做冠狀切，每個(gè)半球分為前后兩個(gè)部分，此冠狀切面叫做冠狀基面，(4)左半球位置不變，將右半球水平旋轉(zhuǎn)180度，并平移到左半球額葉前方，將兩半球的胼質(zhì)體切面對(duì)齊，(5)沿大腦兩半球的中線(xiàn)，做矢狀切，貫穿兩個(gè)半球。此矢狀切面叫做矢狀基面，每個(gè)半球被分為四個(gè)部分，全腦被分為八塊。將右半球的位置還原成1)的模樣，(6)在每個(gè)半球，按照平面垂直直角坐標(biāo)系的象限規(guī)定，分別編碼為右I、右II、 右III、右IV、左 I、左II、左III、左IV，(7)自腦底到腦頂?shù)闹虚g位置，做水平切，橫貫兩半球，此水平切面叫做水平基面，(8)編碼方案i.三維正交坐標(biāo)系冠狀基面、矢狀基面、水平基面的交點(diǎn)定義為三維正交坐標(biāo)系的原點(diǎn)，冠狀基面與水平基面的交線(xiàn)定義為X軸，矢狀基面與水平基面的交線(xiàn)定義為Y 軸，冠狀基面與矢狀基面的交線(xiàn)定義為Z軸，這樣每個(gè)半腦存在一個(gè)坐標(biāo)系，ii.X軸方向以(1)的位置放置，自左至右為X軸的正向，iii.Y軸方向以(1)的位置放置，自后向前為Y軸的正向，iv.Z軸方向以(1)的位置放置，自下向上為Z軸的正向，(9)右I部分的取材(上下兩部分):i.將冠狀基面翻轉(zhuǎn)向下放置，自矢狀基面起每隔相同間隔向另一側(cè)做平行于矢狀基面的矢狀切，切下的第一部分組織定義為X = 0，第二片X = 1，……，依此類(lèi)推，ii.將這些片層整理整齊，將矢狀基面翻轉(zhuǎn)向下放置，自冠狀基面每隔相同間隔向另一側(cè)，做平行于冠狀基面的冠狀切，切下的第一部分組織定義為Y = 0，第二片Y = 1，……，依此類(lèi)推。此時(shí)已將右I全部切割分解成了垂直于水平基面的柱狀組織，每一個(gè)組織柱具有了一對(duì)(χ，γ)坐標(biāo)，并且都被水平基面一分為二，iii.將每一個(gè)組織柱(上下兩段)取出，自水平基面起分別(上下兩段)每隔相同間隔向另一側(cè)(腦頂或腦底)做平行于水平基面的水平切，向腦頂側(cè)切下的第一塊組織定義為Z = 0，第二塊Z = 1，……，依此類(lèi)推；向腦底側(cè)切下的第一塊組織定義為Z = -1， 第二塊Z = -2，……，依此類(lèi)推。按相同方法將右I的全部組織柱切割完畢形成若干具有三維正交坐標(biāo)值的組織塊；(10)右II部分的取材(上下兩部分)i.同(9) i.，只是坐標(biāo)定義不同切下的第一部分組織定義為X = -1，第二片X =_2，……，依此類(lèi)推。其余相同。ii.同(9)ii.，iii.同(9)iii.，(11)右III部分的取材(上下兩部分):i.同(10)i.，ii.同(9)ii.，只是坐標(biāo)定義不同切下的第一部分組織定義為Y = -1，第二片Y =_2，……，依此類(lèi)推，其余相同，iii.同(9) iii.，(12)右IV部分的取材(上下兩部分):i.同(9) i.，ii.同(11) ii.，iii.同(9) iii.，(13)左I部分的取材(上下兩部分)同(9)，(14)左II部分的取材(上下兩部分)同(10)，(15)左III部分的取材(上下兩部分)同(11)，(16)左IV部分的取材(上下兩部分)同(12)，(17)至此，已將整個(gè)大腦全部分解切割成具有三維正交坐標(biāo)的組織塊，但兩個(gè)半球可能會(huì)有許多組織塊坐標(biāo)相同，需要進(jìn)一步進(jìn)行坐標(biāo)值的標(biāo)準(zhǔn)化；( 二 )坐標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)化只需將X坐標(biāo)進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化就可以使整個(gè)大腦的每塊組織塊具有唯一一個(gè)坐標(biāo)值， 方法如下(1)列出右半球的 X 值(XR)范圍(-NR，_NR+l，…，_1，0，1，…，MR_1，MR)(2)列出左半球的 X 值(XL)范圍(-NL，_NL+l，...，_1，0，1，…，ML_1，ML)(NR、MR、NL、ML 都是自然數(shù))(3UR 均加上 NR，得到 XR，的范圍(0，1，2，···, MR+NR)(4) XL 均減去(ML+1)，得至Ij XL，的范圍(-NL-ML-l，-NL-ML,…，-2，-1)(5)XL'和XR’分別是左半球和右半球組織塊標(biāo)準(zhǔn)化后的X坐標(biāo)，標(biāo)準(zhǔn)化后的X軸坐標(biāo)范圍是(-NL-ML-l，-NL-ML，…，-2，-1，0，1，2，...，MR+NR)。至此全部的組織塊被唯一一個(gè)正交坐標(biāo)系的三個(gè)坐標(biāo)值一一確定，全息取材、編碼完成，(6)將全部矢狀切面的組織芯片集合起來(lái)，制作出全息大腦冠狀切面組織芯片組和全息大腦水平切面組織芯片組。有益效果全息大腦組織芯片組及其制作方法，填補(bǔ)了世界空白，為神經(jīng)科學(xué)研究生物信息的空間分布位置提供了極大便利。本發(fā)明可以保持全息組織塊在原大腦中的位置信息，使得接下來(lái)的研究可以始終知道組織塊的生物學(xué)性狀與解剖學(xué)部位的聯(lián)系，并且盡可能的保存了完整的大腦組織，為腦的研究提供了更全面、更豐富的素材，同時(shí)也使大腦標(biāo)本更易保存、管理，不但可以滿(mǎn)足完整大腦的研究需要，更可滿(mǎn)足區(qū)域腦組織研究的需要，填補(bǔ)了世界空白，為神經(jīng)科學(xué)研究生物信息的空間分布位置提供了極大便利。
具體實(shí)施例方式為了使本發(fā)明的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、工作流程、使用方法達(dá)成目的與功效易于明白了解，下面結(jié)合具體實(shí)施例，進(jìn)一步闡述本發(fā)明。一、固定大腦標(biāo)本離體后，立即放置于固定液中進(jìn)行固定，以防止腐爛、保存形態(tài)。二、大腦全息取材將完整大腦按全息取材的方法進(jìn)行取材，得到若干組織塊，并將每個(gè)組織塊進(jìn)行坐標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)化(按上次申報(bào)的方法)，組織塊的長(zhǎng)寬厚分別為2cm、1.5cm和0. 5cm。(一 )取材及編碼1)按正常體位放置腦底向下，腦頂向上，額葉向前，枕葉向后。2)從胼質(zhì)體處剖開(kāi)大腦成左右兩個(gè)半球，位置不變。幻沿大腦兩半球的中線(xiàn)，做冠狀切，每個(gè)半球分為前后兩個(gè)部分。此冠狀切面叫做冠狀基面。4)左半球位置不變，將右半球水平旋轉(zhuǎn)180度，并平移到左半球額葉前方，將兩半球的胼質(zhì)體切面對(duì)齊。5)沿大腦兩半球的中線(xiàn)，做矢狀切，貫穿兩個(gè)半球。此矢狀切面叫做矢狀基面。每個(gè)半球被分為四個(gè)部分，全腦被分為八塊。將右半球的位置還原成1)的模樣。6)在每個(gè)半球，按照平面垂直直角坐標(biāo)系的象限規(guī)定，分別編碼為右I、右II、 右III、右IV、左 I、左II、左III、左IV。7)自腦底到腦頂?shù)闹虚g位置，做水平切，橫貫兩半球。此水平切面叫做水平基面。8)編碼方案i.三維正交坐標(biāo)系冠狀基面、矢狀基面、水平基面的交點(diǎn)定義為三維正交坐標(biāo)系的原點(diǎn)，冠狀基面與水平基面的交線(xiàn)定義為X軸，矢狀基面與水平基面的交線(xiàn)定義為Y 軸，冠狀基面與矢狀基面的交線(xiàn)定義為Z軸。這樣每個(gè)半腦存在一個(gè)坐標(biāo)系。ii.X軸方向以1)的位置放置，自左至右為X軸的正向。iii.Y軸方向以1)的位置放置，自后向前為Y軸的正向。iv.Z軸方向以1)的位置放置，自下向上為Z軸的正向。9)右I部分的取材(上下兩部分):i.將冠狀基面翻轉(zhuǎn)向下放置，自矢狀基面起每隔相同間隔向另一側(cè)做平行于矢狀基面的矢狀切，切下的第一部分組織定義為X = 0，第二片X = 1，……，依此類(lèi)推。ii.將這些片層整理整齊，將矢狀基面翻轉(zhuǎn)向下放置，自冠狀基面每隔相同間隔向另一側(cè)，做平行于冠狀基面的冠狀切，切下的第一部分組織定義為Y = 0，第二片Y = 1，……，依此類(lèi)推。此時(shí)已將右I全部切割分解成了垂直于水平基面的柱狀組織，每一個(gè)組織柱具有了一對(duì)(X，Y)坐標(biāo)，并且都被水平基面一分為二。iii.將每一個(gè)組織柱(上下兩段)取出，自水平基面起分別(上下兩段)每隔相同間隔向另一側(cè)(腦頂或腦底)做平行于水平基面的水平切。向腦頂側(cè)切下的第一塊組織定義為Z = 0，第二塊Z = 1，……，依此類(lèi)推；向腦底側(cè)切下的第一塊組織定義為Z = -1， 第二塊Z = -2，……，依此類(lèi)推。按相同方法將右I的全部組織柱切割完畢形成若干具有三維正交坐標(biāo)值的組織塊。10)右II部分的取材(上下兩部分)i.同9) i.，只是坐標(biāo)定義不同切下的第一部分組織定義為X = -1，第二片X =_2，……，依此類(lèi)推。其余相同。ii.同 9)ii.。iii.同 9) iii.。11)右III部分的取材(上下兩部分)i.同 10)i.。ii.同9) ii.，只是坐標(biāo)定義不同切下的第一部分組織定義為Y = -1，第二片Y =_2，……，依此類(lèi)推。其余相同。iii.同 9) iii.。12)右IV部分的取材(上下兩部分)i.同 9) i.。ii.同 11) ii.。iii.同 9) iii.。13)左I部分的取材(上下兩部分)同9)。14)左II部分的取材(上下兩部分)同10)。15)左III部分的取材(上下兩部分)同11)。16)左IV部分的取材(上下兩部分)同12)。17)至此，已將整個(gè)大腦全部分解切割成具有三維正交坐標(biāo)的組織塊，但兩個(gè)半球可能會(huì)有許多組織塊坐標(biāo)相同，需要進(jìn)一步進(jìn)行坐標(biāo)值的標(biāo)準(zhǔn)化。( 二 )坐標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)化只需將X坐標(biāo)進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化就可以使整個(gè)大腦的每塊組織塊具有唯一一個(gè)坐標(biāo)值。 方法如下1)列出右半球的 X 值(XR)范圍(-NR，_NR+l，...，_1，0，1，...，MR_1，MR)2)列出左半球的 X 值(XL)范圍(-NL，_NL+l，...，_1，0，1，…，ML_1，ML)3) (NR、MR、NL、ML 都是自然數(shù))4)XR 均加上 NR，得到 XR，的范圍(0，1，2，···, MR+NR)5) XL 均減去(ML+1)，得至Ij XL，的范圍(-NL-ML-l，-NL-ML,…，-2，-1)6)XL'和XR’分別是左半球和右半球組織塊標(biāo)準(zhǔn)化后的X坐標(biāo)，標(biāo)準(zhǔn)化后的X軸坐標(biāo)范圍是(-NL-ML-l，-NL-ML，…，-2，-1，0，1，2，...，MR+NR)。至此全部的組織塊被唯一一個(gè)正交坐標(biāo)系的三個(gè)坐標(biāo)值一一確定，全息取材、編碼完成。三、組織塊脫水、處理、包埋組織塊按常規(guī)病理技術(shù)進(jìn)行脫水、透明、浸蠟處理，最后包埋成石蠟組織塊，程序如下70%酒精2小時(shí)一80%酒精2小時(shí)一95%酒精I(xiàn) 2小時(shí)一95%酒精I(xiàn)I 2小時(shí)一無(wú)水乙醇I 2小時(shí)一無(wú)水乙醇II 2小時(shí)一正丁醇2小時(shí)一二甲苯I 2小時(shí)一二甲苯II 0小時(shí))一浸蠟I缸2小時(shí)一浸蠟II缸2小時(shí)一浸蠟III缸2小時(shí)。四、陣列設(shè)計(jì)與芯片制作選擇X坐標(biāo)相同(同一矢狀切面)的組織蠟塊，按其Y、Z軸坐標(biāo)的相對(duì)位置排列整齊，按照這種排列，在空白蠟塊(組織陣列塊)上打孔(洞)。每行孔的行間距相同，列間距也相同。再?gòu)倪@些蠟塊上各挖取一個(gè)組織圓柱，并按其在該切面上的相對(duì)位置在空白陣列塊上點(diǎn)樣(將組織圓柱填入孔洞中)。按常規(guī)病理切片技術(shù)將陣列塊切片，制成組織芯片。五、產(chǎn)品組合將全部矢狀切面的組織芯片集合起來(lái)，就成為全息大腦矢狀切面組織芯片組。同理，可以制作出全息大腦冠狀切面組織芯片組和全息大腦水平切面組織芯片組。以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理和主要特征和本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本發(fā)明不受上述實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例和說(shuō)明書(shū)中描述的只是說(shuō)明本發(fā)明的原理，在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下，本發(fā)明還會(huì)有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本發(fā)明范圍內(nèi)。本發(fā)明要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書(shū)及其等效物界定。
權(quán)利要求
1.全息大腦組織芯片組，其特征在于，組芯片上的組織樣本點(diǎn)來(lái)自于同一個(gè)大腦，每張芯片上的組織樣本點(diǎn)均來(lái)自同一個(gè)全息取材得到的切面，每張芯片均是同一類(lèi)型切面，矢狀切面、冠狀切面或水平切面，每張芯片上組織樣本點(diǎn)的排列方式，反映出其來(lái)源的全息大腦組織蠟塊在該切面上的相對(duì)空間位置。
2.一種全息大腦取材方法及編碼方案，其特征在于，通過(guò)一系列冠狀切面、矢狀切面和水平切面將大腦組織分割成組織塊，用三維正交坐標(biāo)系標(biāo)注了每一組織塊的空間位置，包括以下步驟(一)取材及編碼(1)按正常體位放置腦底向下，腦頂向上，額葉向前，枕葉向后，(2)從胼質(zhì)體處剖開(kāi)大腦成左右兩個(gè)半球，位置不變，(3)沿大腦兩半球的中線(xiàn)，做冠狀切，每個(gè)半球分為前后兩個(gè)部分，此冠狀切面叫做冠狀基面，(4)左半球位置不變，將右半球水平旋轉(zhuǎn)180度，并平移到左半球額葉前方，將兩半球的胼質(zhì)體切面對(duì)齊，(5)沿大腦兩半球的中線(xiàn)，做矢狀切，貫穿兩個(gè)半球，此矢狀切面叫做矢狀基面，每個(gè)半球被分為四個(gè)部分，全腦被分為八塊，將右半球的位置還原成1)的模樣，(6)在每個(gè)半球，按照平面垂直直角坐標(biāo)系的象限規(guī)定，分別編碼為右I、右II、右 III、右IV、左 I、左II、左III、左IV，(7)自腦底到腦頂?shù)闹虚g位置，做水平切，橫貫兩半球，此水平切面叫做水平基面，(8)編碼方案v.三維正交坐標(biāo)系冠狀基面、矢狀基面、水平基面的交點(diǎn)定義為三維正交坐標(biāo)系的原點(diǎn)，冠狀基面與水平基面的交線(xiàn)定義為X軸，矢狀基面與水平基面的交線(xiàn)定義為Y軸，冠狀基面與矢狀基面的交線(xiàn)定義為Z軸，這樣每個(gè)半腦存在一個(gè)坐標(biāo)系，vi.X軸方向以(1)的位置放置，自左至右為X軸的正向，vii.Y軸方向以(1)的位置放置，自后向前為Y軸的正向，viii.Z軸方向以(1)的位置放置，自下向上為Z軸的正向，(9)右I部分的取材(上下兩部分)iv.將冠狀基面翻轉(zhuǎn)向下放置，自矢狀基面起每隔相同間隔向另一側(cè)做平行于矢狀基面的矢狀切，切下的第一部分組織定義為X = 0，第二片X= 1，……，依此類(lèi)推，v.將這些片層整理整齊，將矢狀基面翻轉(zhuǎn)向下放置，自冠狀基面每隔相同間隔向另一側(cè)，做平行于冠狀基面的冠狀切，切下的第一部分組織定義為Y = 0，第二片Y= 1，……， 依此類(lèi)推。此時(shí)已將右I全部切割分解成了垂直于水平基面的柱狀組織，每一個(gè)組織柱具有了一對(duì)(X，Y)坐標(biāo)，并且都被水平基面一分為二，vi.將每一個(gè)組織柱(上下兩段)取出，自水平基面起分別(上下兩段)每隔相同間隔向另一側(cè)(腦頂或腦底)做平行于水平基面的水平切，向腦頂側(cè)切下的第一塊組織定義為Z = 0，第二塊Z = 1，……，依此類(lèi)推；向腦底側(cè)切下的第一塊組織定義為Z = -1，第二塊Z = -2，……，依此類(lèi)推。按相同方法將右I的全部組織柱切割完畢形成若干具有三維正交坐標(biāo)值的組織塊；(10)右II部分的取材(上下兩部分)iv.同(9)i.，只是坐標(biāo)定義不同切下的第一部分組織定義為X = -1，第二片X =_2，……，依此類(lèi)推，其余相同，v.同(9)ii.，vi.同(9)iii.,(11)右III部分的取材(上下兩部分)iv.同(10)i.，v.同(9)ii.，只是坐標(biāo)定義不同切下的第一部分組織定義為Y = -1，第二片Y =-2，……，依此類(lèi)推，其余相同，vi.同(9)iii.,(12)右IV部分的取材(上下兩部分)iv.同(9)i.，v.同(ll)ii.，vi.同(9)iii.,(13)左I部分的取材(上下兩部分)同(9)，(14)左II部分的取材(上下兩部分)同(10)，(15)左III部分的取材(上下兩部分)同(11)，(16)左IV部分的取材(上下兩部分)同(12)，(17)至此，已將整個(gè)大腦全部分解切割成具有三維正交坐標(biāo)的組織塊，但兩個(gè)半球可能會(huì)有許多組織塊坐標(biāo)相同，需要進(jìn)一步進(jìn)行坐標(biāo)值的標(biāo)準(zhǔn)化；(二)坐標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)化只需將X坐標(biāo)進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化就可以使整個(gè)大腦的每塊組織塊具有唯一一個(gè)坐標(biāo)值，方法如下(1)列出右半球的X 值(XR)范圍(-NR，-NR+l，…，-1，0，1，…，MR-I，MR)(2)列出左半球的X 值(XL)范圍:(-NL, -NL+1, ...，-1，0，1，-,ML-1,ML) (NR、MR、NL、ML都是自然數(shù))(3UR均加上NR，得到XR，的范圍:(0,1,2,…，MR+NR)(4)XL 均減去(ML+1)，得至Ij XL，的范圍(-NL-ML-l，-NL-ML,…，-2，-1)(5)XL'和XR’分別是左半球和右半球組織塊標(biāo)準(zhǔn)化后的X坐標(biāo)，標(biāo)準(zhǔn)化后的X軸坐標(biāo)范圍是(-NL-ML-1，-NL-ML,…，-2，-1,0,1,2,…，MR+NR)。至此全部的組織塊被唯—— 個(gè)正交坐標(biāo)系的三個(gè)坐標(biāo)值一一確定，全息取材、編碼完成，(6)將全部矢狀切面的組織芯片集合起來(lái)，制作出全息大腦冠狀切面組織芯片組和全息大腦水平切面組織芯片組。
全文摘要
本發(fā)明首創(chuàng)了全息大腦組織芯片組產(chǎn)品，同時(shí)公開(kāi)了一種全息大腦組織芯片組的制作方法，通過(guò)大腦全息取材，組織塊脫水、處理、包埋，陣列設(shè)計(jì)與芯片制作，制作出全息大腦冠狀切面組織芯片組和全息大腦水平切面組織芯片組。本發(fā)明中制得的全息組織塊在原大腦中的位置信息，為神經(jīng)科學(xué)研究生物信息的空間分布位置提供了極大便利。
文檔編號(hào)C12M1/00GK102517192SQ20111038568
公開(kāi)日2012年6月27日 申請(qǐng)日期2011年11月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月28日
發(fā)明者艾立平 申請(qǐng)人:艾立平