本發(fā)明涉及土豆加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種土豆粉的制備方法及其裝置。

背景技術(shù)：
土豆，屬茄科多年生草本植物，塊莖可供食用，是全球第三大重要的糧食作物，僅次于小麥和玉米。土豆又稱地蛋、馬鈴薯、洋山芋等，茄科植物的塊莖。與小麥、玉米、稻谷、高粱并成為世界五大作物。土豆粉的加工過(guò)程通常分為以下幾個(gè)步驟：清洗-去皮-切片-熟化-冷卻-制泥-干燥，現(xiàn)有的土豆粉加工過(guò)程中，由于其各個(gè)工序大都是直接在空氣中進(jìn)行，這就導(dǎo)致土豆中的多酚氧化酶(PPO)很容易與空氣中的氧接觸，會(huì)發(fā)生氧化聚合，導(dǎo)致褐變，土豆發(fā)生褐變后不但會(huì)使土豆變黑，同時(shí)會(huì)破壞土豆的氨基酸、蛋白質(zhì)和抗壞血酸發(fā)生病變，導(dǎo)致土豆的營(yíng)養(yǎng)價(jià)值降低，再者，土豆發(fā)生褐變后，其風(fēng)味較差，褐變產(chǎn)生的產(chǎn)物有抗氧化作用，會(huì)產(chǎn)生有害成分，如丙烯酰胺，危害人體健康。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種避免土豆在加工過(guò)程中發(fā)生褐變的土豆粉生產(chǎn)線。本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案為：該土豆粉生產(chǎn)線，包括依次設(shè)置的清洗裝置、去皮裝置、切片裝置、熟化裝置、冷卻裝置、制泥裝置、微波干燥裝置；所述清洗裝置包括輸送帶A、被動(dòng)滾筒A、驅(qū)動(dòng)滾筒A、驅(qū)動(dòng)電機(jī)A、一次清洗槽A、二次清洗槽A，所述被動(dòng)滾筒A、驅(qū)動(dòng)滾筒A將輸送帶A繃緊，驅(qū)動(dòng)電機(jī)A用于使驅(qū)動(dòng)滾筒A轉(zhuǎn)動(dòng)，所述一次清洗槽A、二次清洗槽A依次沿輸送帶A的運(yùn)行方向設(shè)置，所述輸送帶A為網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，所述一次清洗槽A包括第一水槽A，所述第一水槽A位于上層的輸送帶A與下層的輸送帶A之間，第一水槽A內(nèi)設(shè)置有多根互相平行設(shè)置的第一下噴管A，所述第一下噴管A上間隔設(shè)置有多個(gè)第一下噴嘴A，所述第一下噴嘴A朝向上層的輸送帶A，所述第一水槽A的上方設(shè)置有多個(gè)第一上噴管A，所述第一上噴管A上間隔設(shè)置有多個(gè)第一上噴嘴A，所述第一上噴嘴A朝向上層的輸送帶A，第一水槽A的底部連接有與其連通的第一排污管A；所述二次清洗槽A包括第二水槽A，所述第二水槽A位于上層的輸送帶A與下層的輸送帶A之間，第二水槽A內(nèi)設(shè)置有多根互相平行設(shè)置的第二下噴管A，所述第二下噴管A上間隔設(shè)置有多個(gè)第二下噴嘴A，所述第二下噴嘴A朝向上層的輸送帶A，所述第二水槽A的上方設(shè)置有多個(gè)第二上噴管A，所述第二上噴管A上間隔設(shè)置有多個(gè)第二上噴嘴A，所述第二上噴嘴A朝向上層的輸送帶A，第二上噴管A、第二下噴管A均與高壓水管連通，第二水槽A的底部連接有與其連通的第二排污管A，所述第二排污管A末端連接有水池A，所述水池A上設(shè)置有入水口A與出水口A，所述入水口A與第二排污管A末端連通，所述出水口A上連接有引水管A，所述引水管A上設(shè)置有水泵A，引水管A的末端分別與第一上噴管A、第一下噴管A連通；所述去皮裝置包括密閉的外筒體B、驅(qū)動(dòng)電機(jī)B，所述外筒體B內(nèi)設(shè)置有轉(zhuǎn)盤(pán)B，所述轉(zhuǎn)盤(pán)B的外徑與外筒體B的內(nèi)徑相匹配，所述轉(zhuǎn)盤(pán)B的下表面中心位置固定有轉(zhuǎn)軸B，轉(zhuǎn)軸B下端延伸至外筒體B外，驅(qū)動(dòng)電機(jī)B的輸出軸與轉(zhuǎn)軸B的下端相連，所述轉(zhuǎn)盤(pán)B的上表面為波浪形，轉(zhuǎn)盤(pán)B將外筒體B的內(nèi)部分為去皮空腔B與儲(chǔ)水空腔B，所述去皮空腔B內(nèi)設(shè)置有噴水頭B，所述噴水頭B位于轉(zhuǎn)盤(pán)B上方且朝向轉(zhuǎn)盤(pán)B，所述噴水頭B上連接有引流管B，引流管B上設(shè)置有截止閥B，所述引流管B與高壓水管相連，所述外筒體B的筒壁上設(shè)置有出料口B，所述出料口B位于轉(zhuǎn)盤(pán)B所在水平面之上，所述去皮空腔B內(nèi)設(shè)置有環(huán)形套筒B，所述環(huán)形套筒B的外徑與外筒體B的內(nèi)徑相匹配，環(huán)形套筒B的內(nèi)壁表面為研磨面，環(huán)形套筒B的上端設(shè)置有升降裝置B，當(dāng)環(huán)形套筒B的下端靠進(jìn)轉(zhuǎn)盤(pán)B時(shí)，環(huán)形套筒B將出料口B擋住，當(dāng)環(huán)形套筒B向上移動(dòng)至最高點(diǎn)時(shí)，出料口B與去皮空腔B連通，所述轉(zhuǎn)盤(pán)B上設(shè)置有多個(gè)過(guò)水孔B，所述過(guò)水孔B將去皮空腔B與儲(chǔ)水空腔B連通，所述外筒體B的底部設(shè)置有排水口B，排水口B上連接有第一排污管B，第一排污管B上設(shè)置有第一導(dǎo)通閥B，第一排污管B的末端連接有密閉的過(guò)渡水箱B，所述過(guò)渡水箱B的底部連接有與之連通的第二排污管B，所述第二排污管B上設(shè)置有第二導(dǎo)通閥B，所述外筒體B上方設(shè)置有過(guò)渡筒體B，所述過(guò)渡筒體B的下端與外筒體B的上端密封連接且在過(guò)渡筒體B的下端設(shè)置有第一控制閥B，過(guò)渡筒體B的上端設(shè)置有第二控制閥B；所述切片裝置包括密閉的殼體C，所述殼體C內(nèi)設(shè)置有水平壓板C、伸縮氣缸C、多個(gè)條形刀片C組成的刀陣C、多塊擋料板C，所述伸縮氣缸C固定在殼體C的頂部，伸縮氣缸C的推拉桿C朝下，所述水平壓板C固定在推拉桿C的末端，多個(gè)條形刀片C互相平行設(shè)置且位于水平壓板C正下方，多個(gè)條形刀片C的刀刃均處于同一水平面且朝向水平壓板C，多塊擋料板C設(shè)置在刀陣C的四周，所述刀陣C的橫截面大小與水平壓板C的橫截面大小相同，所述殼體C上連接有導(dǎo)料管C，所述導(dǎo)料管C的一端與出料口B密封連接，另一端穿過(guò)殼體C延伸至擋料板C的上邊緣，所述水平壓板C上固定有擋板C，當(dāng)水平壓板C向下移動(dòng)至水平壓板C的下表面與條形刀片的刀刃相接觸時(shí)，所述擋板C位于導(dǎo)料管C的出料口處且將其堵住，當(dāng)水平壓板C向上移動(dòng)至最高點(diǎn)時(shí)，所述擋板C位于導(dǎo)料管C的出料口上方，所述導(dǎo)料管C上設(shè)置有截止閥C，所述殼體C底部設(shè)置有出料口C，所述出料口C位于刀陣C正下方；所述熟化裝置包括蒸汽發(fā)生器D、內(nèi)筒體D與外筒體D，所述內(nèi)筒體D設(shè)置在外筒體D內(nèi)，所述外筒體D與內(nèi)筒體D之間形成一個(gè)密閉的夾層空間D，所述內(nèi)筒體的筒壁上設(shè)置有蒸汽通孔D，蒸汽發(fā)生器D與夾層空間D通過(guò)蒸汽管D連通，所述內(nèi)筒體D的上端設(shè)置有第一截止閥D，內(nèi)筒體D的下端設(shè)置有第二截止閥D，所述內(nèi)筒體D的上端連接有過(guò)渡筒體D，所述過(guò)渡筒體D的上端連接有料斗D，所述料斗D的出料口設(shè)置有第三截止閥D，所述料斗D的進(jìn)料口與出料口C密封連接；所述冷卻裝置包括密閉的真空箱體E，所述真空箱體E上連接有真空泵E，所述真空箱體E的底部設(shè)置有出料口E，所述出料口E上密封連接有第一過(guò)渡筒體E，所述第一過(guò)渡筒體E的上端設(shè)置有第一截止閥E，所述第一過(guò)渡筒體E的下端設(shè)置有第二截止閥E，所述真空箱體E上方設(shè)置有第二過(guò)渡筒體E，所述第二過(guò)渡筒體E的下端與真空箱體E密封連接且與真空箱體E內(nèi)部連通，所述第二過(guò)渡筒體E的下端設(shè)置有第三截止閥E，所述第二過(guò)渡筒體E的上端與內(nèi)筒體D的下端密封連接；所述制泥裝置包括密閉的柱狀殼體F，所述柱狀殼體F內(nèi)設(shè)置有旋轉(zhuǎn)軸F，旋轉(zhuǎn)軸F的一端延伸至柱狀殼體F外且該端連接有用于驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)軸F轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)電機(jī)F，所述旋轉(zhuǎn)軸F的軸心線與柱狀殼體F的中心軸線重合，所述旋轉(zhuǎn)軸F上設(shè)置有螺旋式推料板F，所述螺旋式推料板F與旋轉(zhuǎn)軸F的表面、柱狀殼體F的內(nèi)表面共同圍成一個(gè)螺旋式通道F，所述柱狀殼體F上開(kāi)有進(jìn)料口F與出料口F，所述進(jìn)料口F與螺旋式通道F的一端連通，所述進(jìn)料口F與第二過(guò)渡筒體E的下端密封連接，出料口F與螺旋式通道F的另一端連通，所述出料口F上連接有出料管F，所述出料管F的末端延伸至柱狀殼體F外，所述出料管F的末端設(shè)置有截止閥F；所述出料口F處設(shè)置有制泥結(jié)構(gòu)F，所述制泥結(jié)構(gòu)F包括固定在旋轉(zhuǎn)軸F末端的錐臺(tái)F，所述錐臺(tái)F套設(shè)在旋轉(zhuǎn)軸F上，所述錐臺(tái)F的小徑端外徑與旋轉(zhuǎn)軸F的外徑大小相同且錐臺(tái)F的小徑端朝向螺旋式通道F，所述錐臺(tái)F的大徑端外徑小于柱狀殼體F的內(nèi)徑0.5-1mm，所述螺旋式通道F內(nèi)設(shè)置有預(yù)切割裝置F，所述預(yù)切割裝置F包括固定邊框F，所述固定邊框F的固定在螺旋式推料板F上，固定邊框F內(nèi)設(shè)置多個(gè)刀片組成的網(wǎng)格狀刀陣F；所述微波干燥裝置包括密閉的箱體G，所述箱體G內(nèi)設(shè)置有微波發(fā)射器G、微波接收器G、加熱筒體G，所述加熱筒體G的上端密封連接有過(guò)渡筒體G，所述過(guò)渡筒體G的上端延伸至箱體G外且與出料管F的末端密封連接，所述過(guò)渡筒體G的下端設(shè)置有第一截止閥G,所述加熱筒體G的下端延伸至箱體G外且在加熱筒體G的下端設(shè)置有第二截止閥G，所述微波發(fā)射器G、微波接收器G分別設(shè)置在加熱筒體G的兩側(cè)。進(jìn)一步的是，所述水池A內(nèi)設(shè)置有多個(gè)濾網(wǎng)A，多個(gè)濾網(wǎng)A依次設(shè)置在入水口A與出水口A之間；所述輸送帶A上方設(shè)置有料斗A，料斗A的出料口朝向輸送帶A，料斗A位于一次清洗槽A的外側(cè)；所述二次清洗槽A的外側(cè)設(shè)置有接料槽A，過(guò)渡筒體B的上端與接料槽A的下端密封連接，所述接料槽A上連接有導(dǎo)料槽A，所述導(dǎo)料槽A的一端與接料槽A相連，另一端延伸至被動(dòng)滾筒A的外側(cè)且與輸送帶A相接觸。進(jìn)一步的是，所述水平壓板C的下表面設(shè)置有一層緩沖膠墊C。進(jìn)一步的是，所述錐臺(tái)F的外表面設(shè)置有多個(gè)刮板F，所述刮板F與錐臺(tái)F的母線之間的夾角為30-60度。進(jìn)一步的是，所述箱體G的下方設(shè)置有振動(dòng)篩G，所述振動(dòng)篩G上連接有振動(dòng)電機(jī)G，所述振動(dòng)篩G與箱體G通過(guò)彈性元件G相連。進(jìn)一步的是，所述振動(dòng)篩G下方設(shè)置有第一接料槽G與第二接料槽G，所述第一接料槽G設(shè)置在振動(dòng)篩G正下方，所述振動(dòng)篩G傾斜設(shè)置，振動(dòng)篩G的右端距離地面的高度大于左端距離地面的距離，所述第二接料槽G設(shè)置在振動(dòng)篩G的左側(cè)，所述振動(dòng)篩G的左端連接有導(dǎo)料板G，所述導(dǎo)料板G的右端延伸至第二接料槽G內(nèi)。進(jìn)一步的是，所述外筒體B上連接有用于向外筒體B內(nèi)充入氮?dú)獾牡獨(dú)夤蹷；所述殼體C上連接有用于向殼體C內(nèi)充入氮?dú)獾牡獨(dú)夤蹸；所述外筒體D上連接有用于向外筒體D內(nèi)充入氮?dú)獾牡獨(dú)夤蹹；所述殼體F上連接有用于向殼體F內(nèi)充入氮?dú)獾牡獨(dú)夤蹻；所述箱體G上連接有用于向箱體G內(nèi)充入氮?dú)獾牡獨(dú)夤蹽。本發(fā)明的有益效果是：該土豆粉生產(chǎn)線由依次設(shè)置的清洗裝置、去皮裝置、切片裝置、熟化裝置、冷卻裝置、制泥裝置、微波干燥裝置組成，各個(gè)裝置均在密閉的環(huán)境中工作，同時(shí)各個(gè)裝置之間均密封連接，使得土豆除了清洗工序外，其他工序均在密封的環(huán)境中進(jìn)行，從保證土豆在整個(gè)加工過(guò)程中與氧氣接觸的幾率大大降低，可以有效防止在加工過(guò)程土豆中的多酚氧化酶(PPO)與空氣中的氧接觸，避免發(fā)生氧化聚合，可以有效防止土豆褐變，從而保證最后生產(chǎn)出的土豆粉品質(zhì)較高。附圖說(shuō)明為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。圖1是本發(fā)明所述土豆粉生產(chǎn)線的結(jié)構(gòu)示意圖；圖中標(biāo)記說(shuō)明：清洗裝置1、包括輸送帶A101、被動(dòng)滾筒A102、驅(qū)動(dòng)滾筒A103、驅(qū)動(dòng)電機(jī)A104、一次清洗槽A105、第一水槽A1051、第一下噴管A1052、第一下噴嘴A1053、第一上噴管A1054、第一上噴嘴A1055、第一排污管A1056、二次清洗槽A106、第二水槽A1061、第二下噴管A1062、第二下噴嘴A1063、第二上噴管A1064、第二上噴嘴A1065、第二排污管A1066、水池A1067、引水管A1068、水泵A1069、濾網(wǎng)A107、料斗A108、接料槽A109、導(dǎo)料槽A110；去皮裝置2、外筒體B201、去皮空腔B2011、儲(chǔ)水空腔B2012、驅(qū)動(dòng)電機(jī)B202、轉(zhuǎn)盤(pán)B203、轉(zhuǎn)軸B204、噴水頭B205、引流管B206、截止閥B207、出料口B208、環(huán)形套筒B209、升降裝置B210、過(guò)水孔B211、排水口B212、第一排污管B213、第一導(dǎo)通閥B214、過(guò)渡水箱B215、第二排污管B216、第二導(dǎo)通閥B217、過(guò)渡筒體B218、第一控制閥B219、第二控制閥B220、氮?dú)夤蹷221；切片裝置、殼體C301、水平壓板C302、伸縮氣缸C303、條形刀片C304、刀陣C305、擋料板C306、推拉桿C307、導(dǎo)料管C308、擋板C309、截止閥C310、出料口C311、緩沖膠墊C312、氮?dú)夤蹸313；熟化裝置4、蒸汽發(fā)生器D401、內(nèi)筒體D402、外筒體D403、夾層空間D404、蒸汽通孔D405、第一截止閥D406、第二截止閥D407、過(guò)渡筒體D408、料斗D409、第三截止閥D410、氮?dú)夤蹹411；冷卻裝置5、真空箱體E501、真空泵E502、出料口E503、第一過(guò)渡筒體E504、第一截止閥E505、第二截止閥E506、第二過(guò)渡筒體E507、第三截止閥E508；制泥裝置、柱狀殼體F601、旋轉(zhuǎn)軸F602、驅(qū)動(dòng)電機(jī)F603、螺旋式推料板F604、螺旋式通道F605、進(jìn)料口F606、出料口F607、制泥結(jié)構(gòu)F608、錐臺(tái)F6081、刮板F6082、預(yù)切割裝置F609、固定邊框F6091、網(wǎng)格狀刀陣F6092、出料管F610、截止閥F611、氮?dú)夤蹻612；微波干燥裝置7、箱體G701、微波發(fā)射器G702、微波接收器G703、加熱筒體G704、過(guò)渡筒體G705、第一截止閥G706、第二截止閥G707、振動(dòng)篩G708、振動(dòng)電機(jī)G709、彈性元件G710、第一接料槽G711、第二接料槽G712、導(dǎo)料板G713、氮?dú)夤蹽714。具體實(shí)施方式為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。如圖1所示，該土豆粉生產(chǎn)線，包括依次設(shè)置的清洗裝置1、去皮裝置2、切片裝置、熟化裝置4、冷卻裝置5、制泥裝置、微波干燥裝置7；所述清洗裝置1包括輸送帶A101、被動(dòng)滾筒A102、驅(qū)動(dòng)滾筒A103、驅(qū)動(dòng)電機(jī)A104、一次清洗槽A105、二次清洗槽A106，所述被動(dòng)滾筒A102、驅(qū)動(dòng)滾筒A103將輸送帶A101繃緊，驅(qū)動(dòng)電機(jī)A104用于使驅(qū)動(dòng)滾筒A103轉(zhuǎn)動(dòng)，所述一次清洗槽A105、二次清洗槽A106依次沿輸送帶A101的運(yùn)行方向設(shè)置，所述輸送帶A101為網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，所述一次清洗槽A105包括第一水槽A1051，所述第一水槽A1051位于上層的輸送帶A101與下層的輸送帶A101之間，第一水槽A1051內(nèi)設(shè)置有多根互相平行設(shè)置的第一下噴管A1052，所述第一下噴管A1052上間隔設(shè)置有多個(gè)第一下噴嘴A1053，所述第一下噴嘴A1053朝向上層的輸送帶A101，所述第一水槽A1051的上方設(shè)置有多個(gè)第一上噴管A1054，所述第一上噴管A1054上間隔設(shè)置有多個(gè)第一上噴嘴A1055，所述第一上噴嘴A1055朝向上層的輸送帶A101，第一水槽A1051的底部連接有與其連通的第一排污管A1056；所述二次清洗槽A106包括第二水槽A1061，所述第二水槽A1061位于上層的輸送帶A101與下層的輸送帶A101之間，第二水槽A1061內(nèi)設(shè)置有多根互相平行設(shè)置的第二下噴管A1062，所述第二下噴管A1062上間隔設(shè)置有多個(gè)第二下噴嘴A1063，所述第二下噴嘴A1063朝向上層的輸送帶A101，所述第二水槽A1061的上方設(shè)置有多個(gè)第二上噴管A1064，所述第二上噴管A1064上間隔設(shè)置有多個(gè)第二上噴嘴A1065，所述第二上噴嘴A1065朝向上層的輸送帶A101，第二上噴管A1064、第二下噴管A1062均與高壓水管連通，第二水槽A1061的底部連接有與其連通的第二排污管A1066，所述第二排污管A1066末端連接有水池A1067，所述水池A1067上設(shè)置有入水口A與出水口A，所述入水口A與第二排污管A1066末端連通，所述出水口A上連接有引水管A1068，所述引水管A1068上設(shè)置有水泵A1069，引水管A1068的末端分別與第一上噴管A1054、第一下噴管A1052連通；所述去皮裝置2包括密閉的外筒體B201、驅(qū)動(dòng)電機(jī)B202，所述外筒體B201內(nèi)設(shè)置有轉(zhuǎn)盤(pán)B203，所述轉(zhuǎn)盤(pán)B203的外徑與外筒體B201的內(nèi)徑相匹配，所述轉(zhuǎn)盤(pán)B203的下表面中心位置固定有轉(zhuǎn)軸B204，轉(zhuǎn)軸B204下端延伸至外筒體B201外，驅(qū)動(dòng)電機(jī)B202的輸出軸與轉(zhuǎn)軸B204的下端相連，所述轉(zhuǎn)盤(pán)B203的上表面為波浪形，轉(zhuǎn)盤(pán)B203將外筒體B201的內(nèi)部分為去皮空腔B2011與儲(chǔ)水空腔B2012，所述去皮空腔B2011內(nèi)設(shè)置有噴水頭B205，所述噴水頭B205位于轉(zhuǎn)盤(pán)B203上方且朝向轉(zhuǎn)盤(pán)B203，所述噴水頭B205上連接有引流管B206，引流管B206上設(shè)置有截止閥B207，所述引流管B206與高壓水管相連，所述外筒體B201的筒壁上設(shè)置有出料口B208，所述出料口B208位于轉(zhuǎn)盤(pán)B203所在水平面之上，所述去皮空腔B2011內(nèi)設(shè)置有環(huán)形套筒B209，所述環(huán)形套筒B209的外徑與外筒體B201的內(nèi)徑相匹配，環(huán)形套筒B209的內(nèi)壁表面為研磨面，環(huán)形套筒B209的上端設(shè)置有升降裝置B210，當(dāng)環(huán)形套筒B209的下端靠進(jìn)轉(zhuǎn)盤(pán)B203時(shí)，環(huán)形套筒B209將出料口B208擋住，當(dāng)環(huán)形套筒B209向上移動(dòng)至最高點(diǎn)時(shí)，出料口B208與去皮空腔B2011連通，所述轉(zhuǎn)盤(pán)B203上設(shè)置有多個(gè)過(guò)水孔B211，所述過(guò)水孔B211將去皮空腔B2011與儲(chǔ)水空腔B2012連通，所述外筒體B201的底部設(shè)置有排水口B212，排水口B212上連接有第一排污管B213，第一排污管B213上設(shè)置有第一導(dǎo)通閥B214，第一排污管B213的末端連接有密閉的過(guò)渡水箱B215，所述過(guò)渡水箱B215的底部連接有與之連通的第二排污管B216，所述第二排污管B216上設(shè)置有第二導(dǎo)通閥B217，所述外筒體B201上方設(shè)置有過(guò)渡筒體B218，所述過(guò)渡筒體B218的下端與外筒體B201的上端密封連接且在過(guò)渡筒體B218的下端設(shè)置有第一控制閥B219，過(guò)渡筒體B218的上端設(shè)置有第二控制閥B220；所述切片裝置包括密閉的殼體C301，所述殼體C301內(nèi)設(shè)置有水平壓板C302、伸縮氣缸C303、多個(gè)條形刀片C304組成的刀陣C305、多塊擋料板C306，所述伸縮氣缸C303固定在殼體C301的頂部，伸縮氣缸C303的推拉桿C307朝下，所述水平壓板C302固定在推拉桿C307的末端，多個(gè)條形刀片C304互相平行設(shè)置且位于水平壓板C302正下方，多個(gè)條形刀片C304的刀刃均處于同一水平面且朝向水平壓板C302，多塊擋料板C306設(shè)置在刀陣C305的四周，所述刀陣C305的橫截面大小與水平壓板C302的橫截面大小相同，所述殼體C301上連接有導(dǎo)料管C308，所述導(dǎo)料管C308的一端與出料口B208密封連接，另一端穿過(guò)殼體C301延伸至擋料板C306的上邊緣，所述水平壓板C302上固定有擋板C309，當(dāng)水平壓板C302向下移動(dòng)至水平壓板C302的下表面與條形刀片C304的刀刃相接觸時(shí)，所述擋板C309位于導(dǎo)料管C308的出料口處且將其堵住，當(dāng)水平壓板C302向上移動(dòng)至最高點(diǎn)時(shí)，所述擋板C...