本發(fā)明涉及一種用于從氣溶膠生成材料生成氣溶膠的氣溶膠供應(yīng)裝置。本發(fā)明還涉及一種氣溶膠供應(yīng)系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

1、吸煙制品(例如香煙、雪茄等)在使用期間燃燒煙草以產(chǎn)生煙草煙霧。已經(jīng)嘗試通過產(chǎn)生釋放化合物而不燃燒的產(chǎn)品來提供這些燃燒煙草的制品的替代品。這種產(chǎn)品的實例是通過加熱而不是燃燒材料來釋放化合物的加熱裝置。該材料可以是例如煙草或其他非煙草產(chǎn)品，其可以含有或不含有尼古丁。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、根據(jù)本文所述的實施方式，提供了一種用于從氣溶膠生成材料生成氣溶膠的氣溶膠供應(yīng)裝置，該氣溶膠供應(yīng)裝置包括：主體，其限定開口；加熱區(qū)，其布置成接收通過開口插入的包括氣溶膠生成材料的制品的至少一部分；以及蓋機構(gòu)，其包括：蓋構(gòu)件，其布置成選擇性地至少部分地覆蓋開口；致動構(gòu)件，其布置成在主體上旋轉(zhuǎn)以致動蓋構(gòu)件；其中，致動構(gòu)件相對于主體的旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致蓋構(gòu)件在相對打開位置和相對閉合位置之間移動，在相對打開位置，制品的該至少一部分能夠穿過開口，在相對閉合位置，防止制品的該至少一部分能夠穿過開口；以及磁性偏壓布置(magnetic?biasing?arrangement)，其配置為將蓋構(gòu)件朝向相對打開位置和相對閉合位置中的至少一個偏壓。

2、在上述任一項的實施方式中，磁性偏壓布置配置為偏壓蓋構(gòu)件遠離相對打開位置和相對閉合位置之間的中間位置。

3、在上述任一項的實施方式中，中間位置在相對打開位置和相對閉合位置之間的一半處。

4、在上述任一項的實施方式中，磁性偏壓布置配置為在鄰近相對打開位置的第一運動范圍內(nèi)將蓋構(gòu)件朝向相對打開位置偏壓。

5、在上述任一項的實施方式中，磁性偏壓布置配置為在鄰近相對閉合位置的第二運動范圍內(nèi)將蓋構(gòu)件朝向相對閉合位置偏壓。

6、在上述任一項的實施方式中，磁性偏壓布置配置為將蓋構(gòu)件朝向相對打開位置偏壓。

7、在上述任一項的實施方式中，磁性偏壓布置配置為將蓋構(gòu)件朝向相對閉合位置偏壓。

8、在上述任一項的實施方式中，磁性偏壓布置配置為將蓋構(gòu)件從相對打開位置偏壓到完全閉合位置。

9、在上述任一項的實施方式中，磁性偏壓布置配置為將蓋構(gòu)件從相對閉合位置偏壓到完全打開位置。

10、在上述任一項的實施方式中，磁性偏壓布置包括第一磁性構(gòu)造和第二磁性構(gòu)造，其中，第一磁性構(gòu)造和第二磁性構(gòu)造布置成相互作用以對致動構(gòu)件相對于主體的旋轉(zhuǎn)進行偏壓。

11、在上述任一項的實施方式中，致動構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致第一磁性構(gòu)造和第二磁性構(gòu)件之間的相對運動。

12、在上述任一項的實施方式中，第一磁性構(gòu)造與致動構(gòu)件成固定關(guān)系，并且第二磁性構(gòu)造與主體成固定關(guān)系。

13、在上述任一項的實施方式中，第一磁性構(gòu)造包括第一磁性元件，并且第二磁性構(gòu)造包括第二磁性元件，其中，第一磁性元件定向為具有與第二磁性元件相反的磁極性，使得第一磁性元件和第二磁性元件彼此吸引。

14、在上述任一項的實施方式中，第一磁性元件布置成，當蓋構(gòu)件處于相對打開位置和相對閉合位置中的至少一個時，靠近第二磁性元件。

15、在上述任一項的實施方式中，第二磁性構(gòu)造包括第三磁性元件，第三磁性元件定向為具有與第一磁性元件相反的磁極性，使得第一磁性元件和第三磁性元件彼此吸引。

16、在上述任一項的實施方式中，第一磁性元件布置成，當蓋構(gòu)件處于相對打開位置和相對閉合位置中的另一個時，靠近第三磁性元件。

17、在上述任一項的實施方式中，第二磁性構(gòu)造包括中間磁性元件，其中，第一磁性元件定向為具有與中間磁性元件相同的磁極性，使得第一磁性元件和中間磁性元件彼此排斥。

18、在上述任一項的實施方式中，第一磁性元件布置成，當蓋構(gòu)件處于相對打開位置和相對閉合位置之間的中間位置時，靠近中間磁性元件。

19、在上述任一項的實施方式中，中間磁性元件設(shè)置在第二磁性元件和第三磁性元件之間。

20、在上述任一項的實施方式中，第二磁性元件、中間磁性元件和第三磁性元件按順序布置。

21、在上述任一項的實施方式中，第一磁性構(gòu)造由單個磁性元件組成。

22、在上述任一項的實施方式中，第二磁性構(gòu)造由兩個或三個磁性元件組成。

23、在上述任一項的實施方式中，第二磁性構(gòu)造包括布置在弧形路徑上的三個磁性元件。

24、在上述任一項的實施方式中，第一磁性元件布置成響應(yīng)于致動構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)而沿著弧形路徑行進。

25、在上述任一項的實施方式中，第一磁性構(gòu)造布置成，當蓋構(gòu)件處于相對打開位置、相對閉合位置以及相對打開位置和相對閉合位置之間的中間位置的至少一者時，在氣溶膠供應(yīng)裝置的徑向平面中與第二磁性構(gòu)造的至少一部分重疊。

26、在上述任一項的實施方式中，第一磁性構(gòu)造布置成，當蓋構(gòu)件處于相對打開位置時，在氣溶膠供應(yīng)裝置的徑向平面中與第二磁性構(gòu)造的第一部分重疊。

27、在上述任一項的實施方式中，第一磁性構(gòu)造布置成，當蓋構(gòu)件處于中間位置時，在氣溶膠供應(yīng)裝置的徑向平面中與第二磁性構(gòu)造的第二部分重疊。

28、在上述任一項的實施方式中，第一磁性構(gòu)造布置成，當蓋構(gòu)件處于相對閉合位置時，在氣溶膠供應(yīng)裝置的徑向平面中與第二磁性構(gòu)造的第三部分重疊。

29、在上述任一項的實施方式中，蓋機構(gòu)包括第三磁性構(gòu)造和第四磁性構(gòu)造，其中，第三磁性構(gòu)造和第四磁性構(gòu)造布置成相互作用以對致動構(gòu)件相對于主體的旋轉(zhuǎn)進行偏壓。

30、在上述任一項的實施方式中，第三磁性構(gòu)造和第四磁性構(gòu)造分別相對于第一磁性構(gòu)造和第二磁性構(gòu)造設(shè)置在開口的相對側(cè)上。

31、在上述任一項的實施方式中，第三磁性構(gòu)造類似于第一磁性構(gòu)造。

32、在上述任一項的實施方式中，第四磁性構(gòu)造類似于第二磁性構(gòu)造。

33、在上述任一項的實施方式中，第三磁性構(gòu)造與致動構(gòu)件成固定關(guān)系，并且第四磁性構(gòu)造與主體成固定關(guān)系。

34、根據(jù)本文所述的實施方式，提供了一種包括上述任一項的氣溶膠供應(yīng)裝置的氣溶膠供應(yīng)系統(tǒng)以及一種包括氣溶膠生成材料的制品。

技術(shù)特征：

1.一種用于從氣溶膠生成材料生成氣溶膠的氣溶膠供應(yīng)裝置，所述氣溶膠供應(yīng)裝置包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述磁性偏壓布置配置為將所述蓋構(gòu)件偏壓遠離所述相對打開位置和所述相對閉合位置之間的中間位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述磁性偏壓布置配置為在與所述相對打開位置相鄰的第一運動范圍內(nèi)將所述蓋構(gòu)件朝向所述相對打開位置偏壓，并且所述磁性偏壓布置配置為在與所述相對閉合位置相鄰的第二運動范圍內(nèi)將所述蓋構(gòu)件朝向所述相對閉合位置偏壓。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述磁性偏壓布置包括第一磁性構(gòu)造和第二磁性構(gòu)造，其中，所述第一磁性構(gòu)造和所述第二磁性構(gòu)造布置成相互作用以對所述致動構(gòu)件相對于所述主體的旋轉(zhuǎn)進行偏壓。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述致動構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致所述第一磁性構(gòu)造和所述第二磁性構(gòu)造之間的相對運動。

6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述第一磁性構(gòu)造與所述致動構(gòu)件成固定關(guān)系，并且所述第二磁性構(gòu)造與所述主體成固定關(guān)系。

7.根據(jù)權(quán)利要求4至6中任一項所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述第一磁性構(gòu)造包括第一磁性元件，并且所述第二磁性構(gòu)造包括第二磁性元件，其中，所述第一磁性元件定向為具有與所述第二磁性元件相反的磁極性，使得所述第一磁性元件和所述第二磁性元件彼此吸引。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述第一磁性元件布置成，當所述蓋構(gòu)件處于所述相對打開位置和所述相對閉合位置中的至少一個時，靠近所述第二磁性元件。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或權(quán)利要求8所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述第二磁性構(gòu)造包括第三磁性元件，所述第三磁性元件定向為具有與所述第一磁性元件相反的磁極性，使得所述第一磁性元件和所述第三磁性元件彼此吸引。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述第一磁性元件布置成，當所述蓋構(gòu)件處于所述相對打開位置和所述相對閉合位置中的另一個時，靠近所述第三磁性元件。

11.根據(jù)權(quán)利要求7至10中任一項所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述第二磁性構(gòu)造包括中間磁性元件，其中，所述第一磁性元件定向為具有與所述中間磁性元件相同的磁極性，使得所述第一磁性元件和所述中間磁性元件彼此排斥。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述第一磁性元件布置成，當所述蓋構(gòu)件處于所述相對打開位置和所述相對閉合位置之間的中間位置時，靠近所述中間磁性元件。

13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述中間磁性元件設(shè)置在所述第二磁性元件和所述第三磁性元件之間。

14.根據(jù)權(quán)利要求4至13中任一項所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述第一磁性構(gòu)造由單個磁性元件組成。

15.根據(jù)權(quán)利要求4至14中任一項所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述第二磁性構(gòu)造包括布置在圓形路徑上的三個磁性元件。

16.根據(jù)權(quán)利要求4至15中任一項所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述第一磁性構(gòu)造布置成，當所述蓋構(gòu)件處于所述相對打開位置、所述相對閉合位置以及所述相對打開位置和所述相對閉合位置之間的中間位置中的至少一者時，在所述氣溶膠供應(yīng)裝置的徑向平面中與所述第二磁性構(gòu)造的至少一部分重疊。

17.根據(jù)權(quán)利要求4至16中任一項所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述第一磁性構(gòu)造布置成，當所述蓋構(gòu)件處于所述相對打開位置時，在所述氣溶膠供應(yīng)裝置的徑向平面中與所述第二磁性構(gòu)造的第一部分重疊。

18.根據(jù)權(quán)利要求4至17中任一項所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述第一磁性構(gòu)造布置成，當所述蓋構(gòu)件處于所述中間位置時，在所述氣溶膠供應(yīng)裝置的徑向平面中與所述第二磁性構(gòu)造的第二部分重疊。

19.根據(jù)權(quán)利要求4至18中任一項所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述第一磁性構(gòu)造布置成，當所述蓋構(gòu)件處于所述相對閉合位置時，在所述氣溶膠供應(yīng)裝置的徑向平面中與所述第二磁性構(gòu)造的第三部分重疊。

20.根據(jù)權(quán)利要求4至19中任一項所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述磁性偏壓布置包括第三磁性構(gòu)造和第四磁性構(gòu)造，其中，所述第三磁性構(gòu)造和所述第四磁性構(gòu)造布置成相互作用以對所述致動構(gòu)件相對于所述主體的旋轉(zhuǎn)進行偏壓。

21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述第三磁性構(gòu)造和所述第四磁性構(gòu)造分別相對于所述第一磁性構(gòu)造和所述第二磁性構(gòu)造設(shè)置在所述開口的相對側(cè)上。

22.根據(jù)權(quán)利要求20或21所述的氣溶膠供應(yīng)裝置，其中，所述第三磁性構(gòu)造與所述致動構(gòu)件成固定關(guān)系，并且其中，所述第四磁性構(gòu)造與所述主體成固定關(guān)系。

23.一種氣溶膠供應(yīng)系統(tǒng)，包括根據(jù)權(quán)利要求1至22中任一項所述的氣溶膠供應(yīng)裝置以及制品，所述制品包括氣溶膠生成材料。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種用于從氣溶膠生成材料生成氣溶膠的氣溶膠供應(yīng)裝置。氣溶膠供應(yīng)裝置包括：主體，其限定開口；加熱區(qū)，其布置成接收通過開口插入的包括氣溶膠生成材料的制品的至少一部分；以及蓋機構(gòu)。蓋機構(gòu)包括：蓋構(gòu)件，其布置成選擇性地至少部分地覆蓋開口；以及致動構(gòu)件，其布置成在主體上旋轉(zhuǎn)以致動蓋構(gòu)件。致動構(gòu)件相對于主體的旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致蓋構(gòu)件在相對打開位置和相對閉合位置之間移動，在相對打開位置，制品的該至少一部分能夠穿過開口，在相對閉合位置，防止制品的該至少一部分能夠穿過開口。蓋機構(gòu)包括磁性偏壓布置，其配置為將蓋構(gòu)件朝向相對打開位置和相對閉合位置中的至少一個偏壓。

技術(shù)研發(fā)人員：張玉東,戴燈
受保護的技術(shù)使用者：尼科創(chuàng)業(yè)貿(mào)易有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/23