本申請涉及氣溶膠生成，特別是涉及氣溶膠生成基質(zhì)、氣溶膠生成制品以及電子霧化裝置。

背景技術(shù)：

1、氣溶膠生成基質(zhì)可以通過點(diǎn)燃的方式形成氣溶膠，或者通過加熱而不燃燒的方式形成氣溶膠。以加熱而不燃燒的氣溶膠生成基質(zhì)為例，氣溶膠生成基質(zhì)利用外部熱源加熱，使氣溶膠生成基質(zhì)剛好加熱到足以散發(fā)出氣溶膠的程度，氣溶膠生成基質(zhì)不會燃燒，使用時(shí)通過加熱氣溶膠生成基質(zhì)釋放氣溶膠。

2、相關(guān)技術(shù)中，氣溶膠生成基質(zhì)的實(shí)體介質(zhì)的密度較高，導(dǎo)致氣溶膠無法及時(shí)釋放出來，氣溶膠的提取效率大大降低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、有鑒于此，本申請實(shí)施例期望提供一種能夠提高氣溶膠提取效率的氣溶膠生成基質(zhì)、氣溶膠生成制品以及電子霧化裝置。

2、為達(dá)到上述目的，本申請實(shí)施例提供了一種氣溶膠生成基質(zhì)，包括：

3、基礎(chǔ)部；

4、多個(gè)子單元，位于所述基礎(chǔ)部沿第一方向的外側(cè)，多個(gè)所述子單元沿所述基礎(chǔ)部的第二方向間隔設(shè)置，相鄰的兩個(gè)所述子單元之間的空間為間隙空間，其中，第一方向和第二方向相交。

5、一些實(shí)施例中，所述子單元包括第一部分和第二部分，所述第二部分和所述第一部分沿第一方向排列，所述第一部分沿第二方向的尺寸大于所述第二部分沿第二方向的尺寸；

6、所述第二部分連接所述基礎(chǔ)部和所述第一部分，或者所述第一部分連接所述基礎(chǔ)部和所述第二部分。

7、一些實(shí)施例中，所述子單元包括一個(gè)所述第一部分和多個(gè)所述第二部分，多個(gè)所述第二部分沿第二方向間隔布置并位于所述第一部分的內(nèi)側(cè)，所述第二部分連接所述基礎(chǔ)部和所述第一部分。

8、一些實(shí)施例中，相鄰的兩個(gè)所述第一部分沿第二方向的間距為第一間距，所述第一部分沿第二方向的尺寸與所述第一間距的比值在10:1至1:1之間。

9、一些實(shí)施例中，所述第一部分的壁厚為0.1mm至0.5mm。

10、一些實(shí)施例中，所述第二部分沿第一方向的尺寸為0.5mm至5mm。

11、一些實(shí)施例中，所述第一部分沿第二方向的尺寸與所述第二部分沿第一方向的尺寸的比值為1:2至2:1。

12、一些實(shí)施例中，所述氣溶膠生成基質(zhì)的最大壁厚與最小壁厚兩者之差為第一差值，所述第一差值與所述氣溶膠生成基質(zhì)的最小壁厚的百分比為0％至100％。

13、一些實(shí)施例中，以垂直于第三方向的平面為投影面，所述氣溶膠生成基質(zhì)的投影形狀的水力直徑為5mm至15mm。

14、一些實(shí)施例中，所述子單元的數(shù)量在6個(gè)至30個(gè)之間。

15、一些實(shí)施例中，相鄰的兩個(gè)所述子單元沿第二方向的最小間距為0.1mm至1mm。

16、一些實(shí)施例中，以垂直于第三方向的平面為投影面，所有所述子單元的總投影面積與所有所述間隙空間的總投影面積1:9至1:1之間。

17、一些實(shí)施例中，所述基礎(chǔ)部呈板狀結(jié)構(gòu)，所述基礎(chǔ)部的壁厚方向與第一方向一致；或者，

18、所述基礎(chǔ)部呈圓柱狀結(jié)構(gòu)。

19、一些實(shí)施例中，所述基礎(chǔ)部的內(nèi)部形成有貫穿其沿第三方向至少一端的氣道。

20、一些實(shí)施例中，所述氣道的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)所述氣道間隔布置。

21、一些實(shí)施例中，所述氣溶膠生成基質(zhì)的外側(cè)被配置有發(fā)熱層，所述發(fā)熱層設(shè)置于所述子單元的外表面并能夠加熱所述子單元；和/或，

22、以垂直于第三方向的平面為投影面，所述氣溶膠生成基質(zhì)的投影形狀為圓形、橢圓形或者多邊形。

23、一些實(shí)施例中，所述子單元位于所述氣溶膠生成基質(zhì)沿第一方向的最外側(cè)；和/或，

24、以垂直于第三方向的平面為截面，所述子單元任意一個(gè)位置處的截面相同，其中，第一方向和第三方向相互垂直。

25、一些實(shí)施例中，第一方向和第二方向相互垂直；或者

26、第一方向?yàn)閺较?，第二方向?yàn)橹芟颉?/p>

27、本申請?zhí)峁┮环N氣溶膠生成制品，包括：

28、上述任一項(xiàng)所述氣溶膠生成基質(zhì)；

29、功能段，設(shè)置于所述氣溶膠生成基質(zhì)沿第三方向的一端，所述功能段至少包括用于過濾氣溶膠的過濾段。

30、本申請還提供一種電子霧化裝置，包括：

31、上述所述氣溶膠生成制品；

32、加熱件，設(shè)置于所述子單元沿第一方向的外側(cè)，所述加熱件用于加熱所述氣溶膠生成基質(zhì)以產(chǎn)生氣溶膠。

33、一些實(shí)施例中，所述加熱件為激光發(fā)熱。

34、本申請實(shí)施例中，子單元的外表面先接收熱量再傳遞至基礎(chǔ)部，熱量由外至內(nèi)傳遞，氣溶膠生成基質(zhì)具有間隙空間，間隙空間起到匯集和流通氣溶膠的作用，子單元的釋煙方向不單包括向外、向內(nèi)，還可以向第二方向兩側(cè)的間隙空間釋放氣溶膠，暢通了氣溶膠的釋放路徑，避免氣溶膠無法及時(shí)釋放的情況，因此，可以提高氣溶膠的提取效率。

技術(shù)特征：

1.一種氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，所述子單元包括第一部分和第二部分，所述第二部分和所述第一部分沿第一方向排列，所述第一部分沿第二方向的尺寸大于所述第二部分沿第二方向的尺寸；

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，所述子單元包括一個(gè)所述第一部分和多個(gè)所述第二部分，多個(gè)所述第二部分沿第二方向間隔布置并位于所述第一部分的內(nèi)側(cè)，所述第二部分連接所述基礎(chǔ)部和所述第一部分。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，相鄰的兩個(gè)所述第一部分沿第二方向的間距為第一間距，所述第一部分沿第二方向的尺寸與所述第一間距的比值在10:1至1:1之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，所述第一部分的壁厚為0.1mm至0.5mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，所述第二部分沿第一方向的尺寸為0.5mm至5mm。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，所述第一部分沿第二方向的尺寸與所述第二部分沿第一方向的尺寸的比值為1:2至2:1。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，所述氣溶膠生成基質(zhì)的最大壁厚與最小壁厚兩者之差為第一差值，所述第一差值與所述氣溶膠生成基質(zhì)的最小壁厚的百分比為0％至100％。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，以垂直于第三方向的平面為投影面，所述氣溶膠生成基質(zhì)的投影形狀的水力直徑為5mm至15mm。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，所述子單元的數(shù)量在6個(gè)至30個(gè)之間。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，相鄰的兩個(gè)所述子單元沿第二方向的最小間距為0.1mm至1mm。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，以垂直于第三方向的平面為投影面，所有所述子單元的總投影面積與所有所述間隙空間的總投影面積1:9至1:1間。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，所述基礎(chǔ)部呈板狀結(jié)構(gòu)，所述基礎(chǔ)部的壁厚方向與第一方向一致；或者，

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，所述基礎(chǔ)部的內(nèi)部形成有貫穿其沿第三方向至少一端的氣道。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，所述氣道的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)所述氣道間隔布置。

16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，所述氣溶膠生成基質(zhì)的外側(cè)被配置有發(fā)熱層，所述發(fā)熱層設(shè)置于所述子單元的外表面并能夠加熱所述子單元；和/或，

17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，所述子單元位于所述氣溶膠生成基質(zhì)沿第一方向的最外側(cè)；和/或，

18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣溶膠生成基質(zhì)，其特征在于，第一方向和第二方向相互垂直；或者，

19.一種氣溶膠生成制品，其特征在于，包括：

20.一種電子霧化裝置，其特征在于，包括：

21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的電子霧化裝置，其特征在于，所述加熱件為激光加熱器。

技術(shù)總結(jié)
本申請涉及氣溶膠生成技術(shù)領(lǐng)域，提供一種氣溶膠生成基質(zhì)、氣溶膠生成制品以及電子霧化裝置，氣溶膠生成基質(zhì)包括基礎(chǔ)部和多個(gè)子單元，多個(gè)子單元位于基礎(chǔ)部沿第一方向的外側(cè)，多個(gè)子單元沿基礎(chǔ)部的第二方向間隔設(shè)置，相鄰的兩個(gè)子單元之間的空間為間隙空間，其中，第一方向和第二方向相交。子單元的外表面先接收熱量再傳遞至基礎(chǔ)部，熱量由外至內(nèi)傳遞，氣溶膠生成基質(zhì)具有間隙空間，間隙空間起到匯集和流通氣溶膠的作用，子單元的釋煙方向不單包括向外、向內(nèi)，還可以向第二方向兩側(cè)的間隙空間釋放氣溶膠，暢通了氣溶膠的釋放路徑，避免氣溶膠無法及時(shí)釋放的情況，因此，可以提高氣溶膠的提取效率。

技術(shù)研發(fā)人員：李航,劉鳴,李永福,宋彬,陳孝培,倪軍,湯建國
受保護(hù)的技術(shù)使用者：思摩爾國際控股有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/9