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霧化裝置及氣溶膠生成設(shè)備的制作方法

文檔序號:40818518發(fā)布日期:2025-01-29 10:15閱讀:2208來源:國知局
霧化裝置及氣溶膠生成設(shè)備的制作方法

本技術(shù)涉及電子煙,特別是涉及一種霧化裝置及氣溶膠生成設(shè)備。


背景技術(shù):

1、卷煙燃燒的煙霧中含有焦油等有害物質(zhì),長期吸入這些有害物質(zhì)會對人體產(chǎn)生非常大的危害。為了克服卷煙燃燒產(chǎn)生有害物質(zhì),出現(xiàn)了煙油電子煙、加熱不燃燒電子煙等低危害的卷煙替代品。

2、傳統(tǒng)的霧化裝置主要由霧化器和本體組件構(gòu)成。霧化器一般包括儲液件和霧化組件,儲液件用于儲存可霧化基質(zhì),霧化組件用于對可霧化基質(zhì)進行加熱并霧化,以形成可供吸食者食用的氣霧;本體組件用于向霧化組件提供能量。由于儲液件內(nèi)存儲的霧化基質(zhì)量有限,無法滿足大抽吸量的用戶的需求,故出現(xiàn)了可以添加霧化基質(zhì)的儲液瓶,儲液件也需開設(shè)用于與儲液瓶對接的開口。

3、然而,傳統(tǒng)方案中的儲液瓶在向霧化裝置內(nèi)注入霧化基質(zhì)后,存在儲液件內(nèi)的霧化基質(zhì)分布不均勻、霧化基質(zhì)容易從開口流出并出現(xiàn)漏液等問題。

4、本技術(shù)的背景技術(shù)所公開的以上信息僅用于理解本技術(shù)構(gòu)思的背景,并非指示或暗示其包含了現(xiàn)有技術(shù)的信息。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、基于此,有必要針對上述問題,提供一種霧化裝置及氣溶膠生成設(shè)備。

2、一種霧化裝置,其包括:

3、殼體,所述殼體具有頂部和底部,所述殼體開設(shè)有貫穿所述頂部和所述底部的霧化通道;

4、儲液件,所述儲液件設(shè)于所述殼體內(nèi)且所述霧化通道貫穿所述儲液件,所述儲液件用于吸收存儲霧化基質(zhì)并將所述霧化基質(zhì)傳輸至所述霧化通道內(nèi);

5、霧化組件,所述霧化組件設(shè)于所述霧化通道內(nèi)并用于將所述霧化基質(zhì)霧化生成氣溶膠;

6、阻液件,所述阻液件嵌設(shè)于所述殼體的底部,所述阻液件上開設(shè)有用于與儲液瓶連接的進液孔,所述進液孔的一端延伸至所述殼體內(nèi),所述阻液件延伸至所述殼體內(nèi)的一端的端面為阻液面,在所述殼體的高度方向上,所述阻液面高于所述儲液件的底面。

7、本技術(shù)上述的霧化裝置至少可以實現(xiàn)如下有益效果:阻液件嵌入殼體的底部,其上所開設(shè)的進液孔的一端延伸至殼體內(nèi),進液孔可以與儲液瓶連接。將霧化裝置倒置時,儲液瓶內(nèi)的霧化基質(zhì)可以從進液孔注入殼體內(nèi)并被儲液件吸收。霧化裝置正常使用時不倒置,即進液孔的開口朝下,此時在重力作用下,儲液件靠下的區(qū)域的霧化基質(zhì)的飽和度會高于儲液件靠上的區(qū)域的霧化基質(zhì)的飽和度??梢岳斫獾?,若進液孔在高度方向上低于或齊平于儲液件的底面,儲液件內(nèi)底部的霧化基質(zhì)十分容易直接滲出,產(chǎn)生漏液問題;而本技術(shù)所設(shè)置的阻液件特別強調(diào)了其阻液面在殼體的高度方向上高于儲液件的底面,則儲液件底部的霧化基質(zhì)即便要從進液孔流出也需繞過阻液件的上端面,即繞過阻液面,換言之,阻液件的阻液面在殼體的高度方向上高于儲液件的底面,可以對儲液件底部的霧化基質(zhì)起到攔截作用,降低漏液風(fēng)險。

8、在其中一個實施例中,在所述殼體的高度方向上,所述阻液面與所述儲液件的頂面的最小距離與所述阻液面與所述儲液件的底面的最小距離之比為0.25-4。這樣設(shè)置的考量是,若阻液部的阻液面在殼體內(nèi)的相對位置過高,則會影響所注入的霧化基質(zhì)被儲液件吸收的速度和霧化基質(zhì)在儲液件內(nèi)分布的均勻度;若阻液部的阻液面在殼體內(nèi)的相對位置過低,則其對儲液件底部的霧化基質(zhì)的阻攔效果就可能十分有限。因此,本實施例所選擇的所述阻液面與所述儲液件的頂面的最小距離與所述阻液面與所述儲液件的底面的最小距離之比是經(jīng)過深思熟慮的所得出的,其是對儲液件對霧化基質(zhì)的吸收速度、霧化基質(zhì)在儲液件內(nèi)的分布均勻程度、阻液件對霧化基質(zhì)的阻攔多種效果的一個較為平衡的范圍。

9、在其中一個實施例中,所述儲液件的頂面與所述殼體間隔設(shè)置并形成有過液空間。當要對霧化裝置進行注液時,霧化裝置倒置,儲液瓶內(nèi)的霧化基質(zhì)從進液孔流入,霧化基質(zhì)可以在重力作用下大量流入過液空間,再經(jīng)過過液空間快速分散至整個儲液件的端面,有利于霧化基質(zhì)快速均勻地被吸收至儲液件內(nèi)。

10、在其中一個實施例中,所述霧化裝置還包括支撐件,所述殼體與所述儲液件兩者中的任一者與所述支撐件固定,所述支撐件設(shè)于所述過液空間內(nèi),所述支撐件抵持于所述殼體與所述儲液件的頂面之間。支撐件可以起到支撐效果,維持過液空間的存在。

11、在其中一個實施例中,所述儲液件內(nèi)還開設(shè)有過液通道,在所述殼體的高度方向上,所述過液通道的任意部分均高于所述阻液面。當要對霧化裝置進行注液時,過液通道中空,霧化基質(zhì)在過液通道內(nèi)的流動速度更快,即過液通道有利于霧化基質(zhì)在儲液件內(nèi)的快速傳導(dǎo),有利于儲液件對霧化基質(zhì)的均勻快速的吸收。

12、在其中一個實施例中,所述過液通道的數(shù)量設(shè)置為多個,多個所述過液通道間隔設(shè)置。通過合理增加過液通道的數(shù)量,可以進一步提升儲液件的吸收速度,且可進一步提升霧化基質(zhì)在儲液件內(nèi)的均勻分布程度。

13、在其中一個實施例中,所述過液通道的長度延伸方向與所述殼體的高度方向垂直。

14、在其中一個實施例中,所述過液通道與所述霧化通道連相互隔離。

15、在其中一個實施例中,所述儲液件包括儲油棉、多孔陶瓷、多孔纖維儲液件中的至少一種。

16、在其中一個實施例中,所述阻液件的一部分與所述儲液件間隔設(shè)置并圍合形成集液腔。集液腔的設(shè)置可以對儲液件底部之外的霧化基質(zhì)進行收集,避免霧化基質(zhì)直接從進液孔流出,且同時有利于集液腔內(nèi)的霧化基質(zhì)再次被儲液件吸收。

17、在其中一個實施例中,所述阻液件包括均嵌設(shè)于所述殼體底部的第一部分和第二部分,所述第二部分層疊設(shè)置于所述第一部分的上方,所述第二部分的頂面為阻液面,所述第二部分的頂面開設(shè)有貫穿所述第一部分和所述第二部分的所述進液孔,所述第一部分與所述儲液件抵接,所述第二部分與所述儲液件間隔設(shè)置并圍合形成集液腔。例如,阻液件的第一部分與儲料件的底端緊貼,阻液件的第二部分朝向儲液件的一面可以是斜面,斜面朝遠離儲液件的方向傾斜,斜面便可與儲液件的表面間隔圍合形成集液腔。又如,阻液件的第一部分與儲料件的底端緊貼,阻液件的第二部分朝向儲液件的一面可以是曲面,第二部分不會與儲液件的表面緊貼,便可與儲液件的表面間隔圍合形成集液腔。

18、在其中一個實施例中,所述阻液件包括均嵌設(shè)于所述殼體底部的第一部分和第二部分,所述第二部分層疊設(shè)置于所述第一部分的上方,所述第二部分的頂面為阻液面,所述第二部分的頂面開設(shè)有貫穿所述第一部分和所述第二部分的所述進液孔,所述第一部分和所述第二部分在靠近所述儲液件的一側(cè)形成有階梯槽,所述階梯槽的槽壁與所述儲液件間隔設(shè)置并圍合形成集液腔。

19、在其中一個實施例中,所述儲液件的頂面內(nèi)凹形成有缺口,且所述缺口的底面在所述高度方向上低于所述阻液面。

20、在其中一個實施例中,所述儲液件包括儲液主體及與所述儲液主體連接的抵接部,所述抵接部凸出于所述儲液主體的側(cè)面,所述抵接部抵接于所述阻液件,且所述抵接部的上端面在所述高度方向上高于所述阻液面。

21、在其中一個實施例中,所述霧化裝置還包括底板,所述底板與所述阻液件連接,所述底板蓋設(shè)于所述殼體的底部,且所述底板上開設(shè)有與所述霧化通道連通的進氣口。底板與阻液件可以是一體設(shè)置。

22、在其中一個實施例中,所述霧化裝置還包括間隔件,所述間隔件嵌設(shè)于所述殼體底部且位于所述阻液件與所述儲液件之間,所述儲液件、所述間隔件與所述阻液件共同圍合形成所述集液腔。

23、本技術(shù)還提供一種氣溶膠生成設(shè)備,其包括儲液瓶、供電裝置及如上述任一實施例所述的霧化裝置,所述霧化裝置與所述儲液瓶可拆卸連接,所述儲液瓶的出液端插入所述進液孔內(nèi)。

24、上述氣溶膠生成設(shè)備,因包括上述任一實施例所述的霧化裝置,故所述氣溶膠生成設(shè)備亦至少包括如下有益效果:當儲液瓶內(nèi)的霧化基質(zhì)用完時,可以更換另一個具有霧化基質(zhì)的儲液瓶插入霧化裝置的進液孔內(nèi)。霧化裝置的阻液件嵌入殼體的底部,其上所開設(shè)的進液孔的一端延伸至殼體內(nèi),進液孔可以與儲液瓶連接。將霧化裝置倒置時,儲液瓶內(nèi)的霧化基質(zhì)可以從進液孔注入殼體內(nèi)并被儲液件吸收。霧化裝置正常使用時不倒置,即進液孔的開口朝下,此時在重力作用下,儲液件靠下的區(qū)域的霧化基質(zhì)的飽和度會高于儲液件靠上的區(qū)域的霧化基質(zhì)的飽和度??梢岳斫獾?,若進液孔在高度方向上低于或齊平于儲液件的底面,儲液件內(nèi)底部的霧化基質(zhì)十分容易直接滲出,產(chǎn)生漏液問題;而本技術(shù)所設(shè)置的阻液件特別強調(diào)了其阻液面在殼體的高度方向上高于儲液件的底面,則儲液件底部的霧化基質(zhì)即便要從進液孔流出也需繞過阻液件的上端面,即繞過阻液面,換言之,阻液件的阻液面在殼體的高度方向上高于儲液件的底面,可以對儲液件底部的霧化基質(zhì)起到攔截作用,降低漏液風(fēng)險。

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