專利名稱：寶石的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在刻面部分具有特定數(shù)目刻面的寶石。特別是，該寶石包括可以提高寶石光澤的確定刻面。
背景信息通常，珍貴和半珍貴寶石切割刻面以經(jīng)濟的方式提供寶石的光澤。切割寶石以得到特定刻面的方法和寶石上這些刻面的位置在現(xiàn)有技術(shù)中已熟知。

圖1-4顯示了在寶石10表面具有現(xiàn)有技術(shù)刻面結(jié)構(gòu)的傳統(tǒng)寶石10的說明。特別是，圖1顯示了傳統(tǒng)圓形寶石10的側(cè)視圖。傳統(tǒng)寶石10包括冠部20和底部30。冠部20在底部30上面，并且由環(huán)帶40與底部30分開。冠部20和底部30在這里有特定的刻面。對已知的具有普通技能的技術(shù)，這些刻面被安排以提高寶石10的光澤。圖2顯示了傳統(tǒng)寶石10的分離部分，如冠部20，底部和冠部40的擴大說明。
圖3顯示了傳統(tǒng)寶石10的冠部20的放大側(cè)視圖，圖4顯示了傳統(tǒng)寶石10的冠部20的放大頂視圖。冠部20包括一安裝在冠部20上的八角型平面50。另外，刻面對角布置在冠部20的端25。該刻面包括星形刻面110(每個具有一個三角形)，上部主刻面120(每個具有四個端)，左端上部環(huán)帶刻面130(每個具有一正對左端的點端)，右端上部環(huán)帶刻面140(每個具有一正對右端的點端)。該冠部通常具有八個星形刻面110，八個上部主刻面120，八個左端上部環(huán)帶刻面130和八個右端上部環(huán)帶刻面140。從而，冠部20具有總共32個刻面和平面50(該平面可看作另一刻面)。
星形刻面110的最長邊115組成平面50的邊55。每個星形刻面110的右邊118組成各自上主刻面120的較短左邊126。每個星形刻面110的左邊117組成另一上主刻面120的較短右邊128。當相同左邊上部環(huán)帶刻面130的左邊135組成另一上部主刻面120的較長右邊122時，每個左端上部環(huán)帶刻面130的右邊137組成各自上部主刻面120的較長左邊124。左端上部環(huán)帶刻面130的底邊138和右端上部環(huán)帶刻面140的底邊148共同組成環(huán)帶40的上邊45。
使用冠部20的刻面的該結(jié)構(gòu)，可能使傳統(tǒng)寶石10獲得使消費者通常接受的光澤效果。
這樣，依照本發(fā)明的實施例的寶石可以實現(xiàn)這個目的。寶石包括一底部，一冠部和在底部和冠部中間的環(huán)帶部。該冠部包括在表面的許多刻面。冠部可以具有八個縱向截面來共同確定它。至少一個縱向截面包括預(yù)先確定數(shù)目的特定刻面。每個特定刻面有至少一個邊為環(huán)帶部份分界。特定刻面的一單獨刻面由切割特定刻面的至少另兩個刻面的最少部份組成。
本發(fā)明的另一實施例中，每一預(yù)先確定的刻面包括至少另一個為冠部特定縱向截面內(nèi)的預(yù)先確定刻面分界的邊。每個縱向截面可以包括預(yù)先確定數(shù)目的特定刻面。所有的縱向截面也可以具有充分的相同的尺寸。
本發(fā)明的另一實施例，首先四個連續(xù)縱向截面可以確定冠部的第一半，下四個連續(xù)縱向截面可以確定冠部的下一半。在依照本發(fā)明的實施例中，第一半和第二半組成了冠部。另外，為環(huán)帶部分界的特定刻面的所有邊共同確定了環(huán)帶部的上邊界。另外，為環(huán)帶部分界的特定刻面的至少一條邊可為曲線狀。
本發(fā)明的另一實施例可提供有三個刻面排列在縱向截面。縱向截面的第一部分的第一和第二刻面的每一個具有兩個第一平行邊。第三刻面具有為第一和第二刻面的特定平行邊的分界的邊。另外，環(huán)帶部通常沿第一平面延伸，至少一個特定刻面沿第二平面延伸。更佳的是第一平面與第二平面保持預(yù)先確定的角度，該角度大約在43.7°和50.7°之間。
本發(fā)明的另一實施例，寶石可以細分成兩個縱向半部。至少一個縱向半部的冠部具有12個刻面來為縱向半部的環(huán)帶部分界。
附圖的基本描述本發(fā)明的進一步的目的，特性和優(yōu)點在對較佳實施例和附加的附圖的詳細描述后將變得明顯。
圖1顯示了傳統(tǒng)寶石的側(cè)視圖；圖2顯示了圖1所示的傳統(tǒng)寶石的側(cè)視圖的不同部份；圖3顯示了圖1所示的傳統(tǒng)寶石冠部的放大的側(cè)視圖和冠部的刻面；圖4顯示了圖1所示的圖1描述的寶石冠部的放大的頂視圖和冠部的刻面；圖5顯示了本發(fā)明較佳實施例的寶石的放大側(cè)視圖；圖6顯示了圖5寶石的側(cè)視圖的不同部份；圖7顯示了圖5說明的寶石的放大底視圖；圖8顯示了圖5說明的寶石的放大頂視圖；圖9顯示了依照本發(fā)明的寶石的刻面的頂視圖；圖10顯示了圖5說明的寶石特定部份的相關(guān)尺寸的寶石側(cè)視圖。
詳細描述依照本發(fā)明的寶石200的一個實施例如圖5～10所示。圖5顯示了寶石200的放大側(cè)視圖，從冠部或底部觀察可以看到圓形(如，參閱圖8和圖9)。然而，本發(fā)明的寶石200的其他實施例可能有不同的形狀(如橢圓形或marquis等)。寶石200可以是珍貴寶石(如鉆石)或半珍貴寶石。
和圖1中的傳統(tǒng)寶石10類似，圖5和圖6中說明的本發(fā)明的寶石200包括冠部220，底部230，環(huán)帶部240和冠部220上的特定刻面。圖7顯示了底部230的放大底視圖，圖8顯示了冠部的放大頂視圖。冠部220置于底部230之上，由環(huán)帶部240和底部230分開。冠部220具有平面350和其上的刻面?？堂嬗沙浞值闹边叴_定。然而，為環(huán)帶部240分界的刻面，這些邊中至少一條不必要為直線。更佳的是這些邊為曲線形以形成環(huán)帶部240的曲線邊(如，圓形或橢圓形)。
冠部220的刻面最好包括八個星形刻面310和八個上部主刻面320。依照本發(fā)明，更多的刻面布置在寶石200的冠部220上。如上所述，傳統(tǒng)寶石10布置或制造在冠部20包括八個左邊上部環(huán)帶刻面130和八個右邊上部環(huán)帶刻面140。相反，依照本發(fā)明寶石200的冠部220具有八個左端局部環(huán)帶刻面360，八個右端局部環(huán)帶刻面370和八個中部環(huán)帶刻面380。這樣，布置或制造在寶石200的冠部220的刻面的總數(shù)是40個(不包括平面350)。這樣，依照本發(fā)明實施例的以上描述，寶石200的冠部220有八個額外的刻面。這八個額外的刻面360，370，380為寶石200在內(nèi)部燈光反射引起的閃爍提供了更好的效果。底部230包括24個刻面，與傳統(tǒng)寶石10的底部刻面數(shù)相同。從而，依據(jù)本發(fā)明的寶石200的總刻面數(shù)是65，包括平面350作為刻面之一。
刻面360，370，380可以在傳統(tǒng)寶石10的冠部20或者環(huán)帶部40的可能確定部位切割特定的部份來布置或制造。冠部20的每個部位在各自左端環(huán)帶刻面130和各自右端環(huán)帶刻面140之間被切割。另外，環(huán)帶部40的每一部份被切割作為各自左端上部環(huán)帶刻面130的底邊138的邊界，和各自右端上部環(huán)帶刻面140的底邊148的邊界。這些部份被完美切割以使各自左端和右端上部環(huán)帶刻面130，140充分相等。這樣，刻面360，370的表面區(qū)域也可以充分相同。本發(fā)明通過提供寶石200的額外八個刻面，只損失大約2％的寶石克拉重量，獲得寶石更好的光澤是可能的，如此，形成圖5和圖6中顯示的寶石200的冠部220的刻面360，370，380是可能的。不首先制造左端和右端環(huán)帶刻面130和140而單獨制造或切割刻面360，370，380也是可能的。上述寶石10部份的切割是以本技術(shù)領(lǐng)域公知的方式完成的。
圖8顯示了本發(fā)明寶石200的放大頂視圖，圖9是寶石200的刻面310，320，360，370，380和平面350頂視圖。特別是，星形刻面310的最長邊315構(gòu)成了平面350的邊355。每個星形刻面310的一右邊318組成各自上部主刻面320的較短左邊界326。每個星形刻面310的一左邊317構(gòu)成另一上部主刻面320的較短左邊界328。每個局部左端上部環(huán)帶刻面360的一左端邊界366構(gòu)成了各自上部主刻面320的較長右邊界322。每個局部右端上部環(huán)帶刻面370的一右端邊線372構(gòu)成了另一上部主刻面320的較長左邊界324。
每個局部左端上部環(huán)帶刻面360的短右端邊364與各自局部右端上部環(huán)帶刻面370的短左端邊374連接。每個中部環(huán)帶刻面380的一左邊384與各自局部左端上部環(huán)帶刻面360的長右端邊362連接，相同中部環(huán)帶刻面380的右邊382和另一局部右端上部環(huán)帶刻面370的長左端邊376連接。上部環(huán)帶刻面360，370，380的底邊368，378，388共同組成環(huán)帶部240的上部邊243。
為了進一步解釋本發(fā)明的寶石200，寶石200可以概念地分為八個縱向延伸的部分510-580，如圖10所示。特別是從上部觀察時，寶石200的的每一部份包括至少一個局部左端上部環(huán)帶刻面360，至少一局部右端上部環(huán)帶刻面370和至少一中央環(huán)帶刻面380。這樣，每個有邊的部分的至少三個刻面360，370，380為環(huán)帶部240分界。依照本發(fā)明，可以想象截面510-580的每一個具有為環(huán)帶部分界的其他刻面(如，最好總計到五個刻面)。另外，每個截面最好包括至少一個星形刻面310。
圖10顯示了依照本發(fā)明寶石200特定部份的相關(guān)尺寸的寶石側(cè)視圖。特別是，寶石200的環(huán)帶部240的相對直徑φ設(shè)定在100％，并在沿直徑φ的方向A延伸。同樣的，環(huán)帶部240的直徑φ可以充當以下描述的依照本發(fā)明寶石200的其他尺寸的參考值。冠部220的對角端225可以以介于大約32°和37.5°的頂角β延伸，作為測量所述環(huán)帶部240的直徑φ。底部230的對角端235可以以大約介于39.6°和42.2°的底角α延伸作為測量所述環(huán)帶部240的直徑φ。每個中部環(huán)帶刻面380以介于43.7°和50.7°的刻面角測量所述方向A。
平面350的寬度φ1大約是環(huán)帶部240的直徑φ的53％至66％。冠部220具有一冠高hc(從冠部230的平面350至環(huán)帶部240的上部邊243)和環(huán)帶部240的直徑φ比大約是11％到16％。環(huán)帶240具有一環(huán)帶厚與環(huán)帶部240的直徑φ相比大約是2％到4.5％。底部230具有底高hp(從底部230的點部238至環(huán)帶部240的較低邊245測量)大約是環(huán)帶部240直徑的φ的41.5％至45％。寶石200的總高Td(從平面350到底部230的點部238測量)大約是環(huán)帶部240直徑φ的55.5％至63.9％。
舉例來說，如果寶石200有2.5克拉重，環(huán)帶部240的直徑φ為10mm。相應(yīng)的，平面寬度φ1介于5.3mm至6.6mm，冠高hc介于1.1mm至1.6mm，環(huán)帶厚介于0.2mm至0.45mm，底高hp介于4.15mm至4.5mm，總高Td最好介于4.37mm至5.07mm。
以上所述相對尺寸是示范的。實際上，其他冠部，底部和中部刻面角，和寶石200的不同相對尺寸一樣是可以的，并包含在本發(fā)明的范圍內(nèi)。本技術(shù)可以產(chǎn)生許多的實施例，即使未在這里展示或描述，收錄在發(fā)明原理和本發(fā)明精神內(nèi)的內(nèi)容也是本發(fā)明的范圍。
權(quán)利要求
1.一種寶石，包括一底部；一在表面有許多刻面的冠部；一介于底部和冠部之間的環(huán)帶部，其中冠部具有八個充分相同的縱向截面并共同確定冠部，其中環(huán)帶部具有八個環(huán)帶截面共同確定環(huán)帶部，其中至少一個縱向截面包括預(yù)先確定數(shù)目的刻面，其中三個預(yù)先確定的刻面是具有鄰接至少一個環(huán)帶狀截面的全部外圍的邊的特定刻面；其中特定刻面的第一刻面只具有三條邊，三條邊的第一邊鄰接特定刻面的第二刻面的一邊，三條邊的第二邊鄰接特定刻面的第三刻面的一邊，三條邊的第三邊鄰接至少一個環(huán)帶狀截面，且其中至少兩個特定刻面每個包括至少一條邊為另一在冠部的各自縱向截面之一的預(yù)先確定的刻面分界。
2.如權(quán)利要求1的寶石，其中每個縱向截面包括三個特定刻面。
3.如權(quán)利要求1的寶石，其中首先四個連續(xù)縱向截面確定冠部的第一半，第二組四個連續(xù)縱向截面確定冠部的第二半，其中第一半和第二半組成冠部。
4.如權(quán)利要求1的寶石，其中特定刻面的所有邊為環(huán)帶部分界，并共同確定環(huán)帶部的上邊界。
5.如權(quán)利要求1的寶石，其中為環(huán)帶部分界的每個特定刻面的至少一條邊為曲線形。
6.如權(quán)利要求1的寶石，其中環(huán)帶部沿第一平面伸展，至少一個特定刻面沿第二平面伸展，并且其中第一平面提供一關(guān)于第二平面的預(yù)先設(shè)定的角度，該預(yù)先確定的角度介于43.7°和50.7°之間。
7.如權(quán)利要求1的寶石，其中至少一個縱向截面包括至少另一不為環(huán)帶部分界的刻面。
8.一寶石包括兩個充分一致縱向半截面，至少一個半截面包括一底部，一冠部和介于底部和冠部中間的環(huán)帶部，冠部包括在其表面設(shè)置的一系列刻面，其中，冠部包括預(yù)先確定數(shù)目的許多刻面，其中許多刻面中的十二個刻面是具有鄰接環(huán)帶部的全部外圍的邊的特定刻面，其中特定刻面的第一刻面僅具有三條邊，三條邊中的第一邊鄰接特定刻面的第二刻面的一邊，三條邊中的第二邊鄰接特定刻面的第三刻面的一邊，三條邊中的第三邊鄰接環(huán)帶部，且其中第二和第三刻面的至少其一在各自縱向半截面之一的冠部的第二和第三刻面間包括至少另一邊。
9.如權(quán)利要求8的寶石，其中縱向半截面具有充分相同的尺寸。
10.如權(quán)利要求8的寶石，其中為環(huán)帶部分界的特定刻面的所有邊共同確定環(huán)帶部的上邊界。
11.如權(quán)利要求8的寶石，其中為環(huán)帶部分界的特定刻面的至少一邊具有曲線形。
12.如權(quán)利要求8的寶石，其中環(huán)帶部沿第一平面伸展，至少一個特定刻面沿第二平面伸展，且其中第一刻面提供一關(guān)于第二平面的預(yù)先確定的角度，該預(yù)先確定的角度介于43.7°和50.7°之間
13.如權(quán)利要求8的寶石，其中至少一個縱向半截面的冠部包括至少另一不為環(huán)帶部分界的刻面。
14.一寶石包括一底部；一包括在其表面設(shè)置的許多刻面的冠部；一在底部和冠部之間設(shè)置的環(huán)帶部；其中該冠部具有共同確定冠部的八個縱向截面，其中至少一個縱向截面包括預(yù)先確定數(shù)目的許多刻面中的特定刻面，每個特定刻面具有至少一個為環(huán)帶部分界的邊，其中縱向截面的第一截面內(nèi)的特定刻面的第一刻面具有兩個第一平行邊，其中第一截面內(nèi)的特定刻面的第二刻面具有兩個第二邊，且其中第一截面內(nèi)的特定刻面的第三刻面具有兩個第三邊，第三邊中的一條為第一平行邊的其一分界，第三邊的另一條為第二邊的其一分界。
15.如權(quán)利要求14的寶石，其中第二邊與另一邊平行。
16.一寶石包括兩縱向半截面，至少一個半截面包括一底部，一冠部和底部和冠部之間的環(huán)帶部，冠部包括布置在其表面的刻面，其中冠部包括預(yù)先確定數(shù)目的刻面的特定刻面，每個特定刻面具有為環(huán)帶部分界的至少一邊，其中在縱向半截面的第一截面的特定刻面的第一刻面具有兩條第一平行邊，其中第一截面內(nèi)的特定刻面的第二刻面具有兩個第二邊，且其中第一截面的特定刻面的第三刻面具有兩個第三邊，第三邊中的一條為第一平行邊其一分界，第三邊的另一邊為第二邊其一分界。
17.如權(quán)利要求16的寶石，其中第二邊平行于另一邊。
18.一寶石包括一底部；一冠部包括一平面和在其表面上布置的刻面；和一在底部和冠部之間的環(huán)帶部，其中該冠部具有八個充分一致的縱向截面共同確定冠部，其中該環(huán)帶部具有八個環(huán)帶截面共同確定環(huán)帶部，其中至少一個縱向截面包括預(yù)先確定數(shù)目的刻面，其中三個預(yù)先確定的刻面為特定刻面，該特定刻面具有鄰接至少一個環(huán)帶部截面全部外圍的邊，其中特定刻面的第一刻面只具有三條邊，三條邊中的第一邊鄰接特定刻面的第二刻面的邊，三條邊中的第二邊鄰接特定刻面的第三刻面的邊，三條邊中的第三邊鄰接至少一環(huán)帶部，且，其中沒有特定刻面直接接觸平面。
19.一寶石包括兩個充分一致的縱向半截面，至少一個半截面包括底部，冠部和介于底部和冠部之間的環(huán)帶部，該冠部包括一平面和布置在表面的刻面，其中冠部包括一預(yù)先確定數(shù)目的刻面，其中十二個刻面是具有鄰接全部外圍環(huán)帶部的特定刻面，其中特定刻面的第一刻面只具有三條邊，三邊中的第一邊鄰接特定刻面第二刻面的邊，三條邊中的第二邊鄰接特定刻面第三刻面的邊，三條邊中的第三邊鄰接環(huán)帶部，且，其中沒有特定邊直接接觸該平面。
全文摘要
一寶石包括底部，冠部和介于底部和冠部之間的環(huán)帶部。該冠部包括布置于其表面的許多刻面。該冠部具有八個共同確定它的縱向截面。至少一個縱向截面包括刻面中預(yù)先確定數(shù)目的特定刻面。每個特定刻面具有為環(huán)帶部分界的至少一邊。特定刻面的一單獨刻面以切割至少特定刻面中另兩個刻面來組成。寶石也可分為兩個縱向半截面，具有為縱向半截面的環(huán)帶部分界的12個刻面的冠部。
文檔編號A44C17/00GK1446062SQ01803138
公開日2003年10月1日 申請日期2001年10月5日 優(yōu)先權(quán)日2000年10月17日
發(fā)明者鄭乃仁 申請人:恒和珠寶(美國)公司