專利名稱：陶瓷基輕質(zhì)防彈頭盔的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種人體頭部的安全防護(hù)裝置，特別涉及一種防彈頭盔。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的防彈頭盔大部分為金屬防彈板沖壓而成，重量大，紅外線易發(fā)現(xiàn)目標(biāo)，通常只能防護(hù)54式手槍彈，防護(hù)水平低。目前有少量的高分子材料防彈頭盔，重量有所減輕，但防護(hù)水平很低，面對輕武器的不斷升級，半自動步槍、自動步槍、狙擊步槍威力加大，原有防彈頭盔已難以滿足防彈要求，必須生產(chǎn)出更好的防彈頭盔以適應(yīng)未來戰(zhàn)爭和防恐怖斗爭的需要。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的就是提供一種陶瓷基輕質(zhì)防彈頭盔，以解決現(xiàn)有的重量大、易被發(fā)現(xiàn)目標(biāo)以及高分子材料防彈頭盔防護(hù)水平較低的問題。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是該頭盔由中間的陶瓷基體層與附在其兩側(cè)的PE層復(fù)合構(gòu)成。
所述的陶瓷基體層為多個多棱柱體、多棱錐體和多棱臺的拼合體，它們的相鄰個體之間的棱面相互基本無間隙，錐體和多棱臺與多棱柱體的拼合體構(gòu)成頭盔不同區(qū)域的不同曲率的曲面。
所述的多棱柱體、多棱錐體和多棱臺為3～7棱體。
所述的陶瓷基體層的材料包括氧化鋁、碳化硼、碳化硅或氮化硅。
本實(shí)用新型的三層復(fù)合結(jié)構(gòu)在遭到槍彈射擊時，首先被外層的PE層吸收一部分動能，中間的陶瓷基體層在遭到槍彈的沖擊時，其內(nèi)側(cè)端發(fā)生龜裂，該龜裂過程收到內(nèi)層PE層的彈性反作用力，槍彈的能量基本被吸收，明顯提高了防彈性能。采用不同多棱體的拼接并通過內(nèi)外PE材料復(fù)合，很好的解決了頭盔上不同區(qū)域的不同曲率的結(jié)構(gòu)構(gòu)造，并使陶瓷基體層基本沒有間隙，保證了頭盔整體的保護(hù)性能。由于沒有采用金屬材料，使其具有重量輕、保溫性能好、不易被紅外探測器發(fā)現(xiàn)等優(yōu)點(diǎn)。


圖1是本實(shí)用新型的剖視結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是圖1中A處的放大示意圖。
具體實(shí)施方式
參見圖1和圖2，本實(shí)用新型的頭盔由中間的陶瓷基體層1、附在陶瓷基體層1內(nèi)側(cè)的PE層2、附在陶瓷基體層1外側(cè)的PE層3熱壓粘接復(fù)合構(gòu)成。
所述的陶瓷基體層1由多個多棱柱體、多棱錐體和多棱臺4拼合而成，它們的相鄰個體之間的棱面相互基本無間隙地貼緊。所述的多棱柱體、多棱錐體和多棱臺4的棱數(shù)為3～7棱。頭盔不同區(qū)域的不同曲率是通過不同的錐度的多棱錐體和多棱臺與多棱柱體的拼接而構(gòu)成。所述的陶瓷基體層1的材料包括氧化鋁、碳化硼、碳化硅或氮化硅。
經(jīng)過試驗(yàn)，本實(shí)用新型能有效抵御自動步槍，能夠達(dá)到美國III-A級(NIJ標(biāo)準(zhǔn)0101.03)以上、中國6級以上防護(hù)標(biāo)準(zhǔn)。優(yōu)于現(xiàn)有高分子材料防彈頭盔的防護(hù)等級(請補(bǔ)充現(xiàn)有頭盔的防護(hù)等級)。
權(quán)利要求1.一種陶瓷基輕質(zhì)防彈頭盔，其特征在于該頭盔由中間的陶瓷基體層與附在其兩側(cè)的PE層復(fù)合構(gòu)成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷基輕質(zhì)防彈頭盔，其特征在于所述的陶瓷基體層為多個多棱柱體、多棱錐體和多棱臺的拼合體，它們的相鄰個體之間的棱面相互基本無間隙，錐體和多棱臺與多棱柱體的拼合體構(gòu)成頭盔不同區(qū)域的不同曲率的曲面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的陶瓷基輕質(zhì)防彈頭盔，其特征在于所述的多棱柱體、多棱錐體和多棱臺為3～7棱體。
專利摘要一種陶瓷基輕質(zhì)防彈頭盔，該頭盔由中間的陶瓷基體層與附在其兩側(cè)的PE層熱壓粘接構(gòu)成。所述的陶瓷基體層由多個多棱柱體、多棱錐體和多棱臺拼合而成，它們的相鄰個體之間的棱面相互基本無間隙地貼緊，頭盔不同區(qū)域的不同曲率是通過不同的錐度的多棱錐體和多棱臺與多棱柱體的拼接而構(gòu)成。本實(shí)用新型在遭到槍彈射擊時，首先被外層的PE層吸收一部分動能，中間的陶瓷基體層在遭到槍彈的沖擊時，其內(nèi)側(cè)端發(fā)生龜裂，該龜裂過程收到內(nèi)層PE層的彈性反作用力，槍彈的能量基本被吸收，明顯提高了防彈性能。由于沒有采用金屬材料，使其具有重量輕、保溫性能好、不易被紅外探測器發(fā)現(xiàn)等優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號A42B3/04GK2852760SQ20052010338
公開日2007年1月3日 申請日期2005年8月5日 優(yōu)先權(quán)日2005年8月5日
發(fā)明者馬斌, 王雨生, 郭勇, 俞保平 申請人:馬斌, 王雨生, 郭勇, 俞保平