專利名稱：具有最優(yōu)化離子釋放的毛發(fā)護理裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及毛發(fā)護理裝置，所述毛發(fā)護理裝置具有柄部、可連接到柄部上的操作
頭、以及用于在毛發(fā)上產(chǎn)生離子的離子生成設備，所述操作頭具有毛發(fā)處理設備，特別是刷 毛區(qū)和/或梳齒區(qū)，所述離子生成設備具有至少一個離子出口 。
背景技術：
近來，已知毛發(fā)護理裝置，尤其是毛發(fā)刷，作為除了它們的主要功能(即在毛發(fā)刷 的情況下梳理、刷涂和定型毛發(fā))之外的補充應用，它們還可產(chǎn)生離子。這種離子通常為用 負電子充電的分子。借助于這種離子應用，可改善毛發(fā)和對毛發(fā)的護理；特別是可避免毛發(fā) 上的靜電荷導致毛發(fā)豎起。

發(fā)明內(nèi)容
—種具有集成的刷連結(jié)件的毛發(fā)刷或毛發(fā)烘干機可見于US2005/284495，其在裝 置的背面(背離刷毛區(qū))上和裝置的正面(其承載刷毛區(qū))上均具有離子出口，所述離子 出口在操作頭的方向上釋放離子。 對于這些類型的具有離子應用的毛發(fā)護理裝置，一方面，離子當然應被定向到毛 發(fā)上，并且另一方面，它們不應被選擇性地施加在某些點位中，而是應盡可能均勻地施加到 毛發(fā)上。在這一方面，離子排放不僅受到直接的機械障礙諸如進入到離子出口前面的使用 者的手或毛發(fā)的阻礙，而且還受到靜電反向場的阻礙(所述反向場可由強烈?guī)ж撾姷臅?斥例如帶負電的離子的組件產(chǎn)生)，或受到具有強正電荷的對離子具有吸引場效應的組件 的阻礙。這種電荷甚至可產(chǎn)生自刷毛區(qū)自身，例如當用刷毛區(qū)來刷理毛發(fā)時。此外，在離子 排放區(qū)域中也可產(chǎn)生靜電場，所述靜電場會阻礙離子的出射。 上述類型的先前已知的毛發(fā)護理裝置的另一需要改善的方面是使用安全性，該使 用安全性可因上述的強電荷而受到損害。 因此，本發(fā)明的目的基于創(chuàng)制一種所述類型的毛發(fā)護理裝置，該毛發(fā)護理裝置可
避免現(xiàn)有技術的缺點并且以有利的方式發(fā)展現(xiàn)有技術。特別是，將會通過簡單的部件以均
勻且有效的方式將離子遞送到毛發(fā)上而不會損害使用該裝置的安全性。 根據(jù)本發(fā)明，此目的通過如權(quán)利要求1所述的毛發(fā)護理裝置來實現(xiàn)。本發(fā)明的優(yōu)
選實施方案是從屬權(quán)利要求的主題。 因此，建議通過適當?shù)膶Σ邅硐o電荷和反向場，至少在毛發(fā)護理裝置的部分 上消除，所述部分會阻礙將離子遞送到毛發(fā)上或會妨礙離子的排放。在沒有此類靜電反向 場所造成的妨礙的情況下，可用簡單設計的離子排放裝置將均勻的但仍為定向且有效分布 的離子施加到毛發(fā)上，這在本發(fā)明的一種簡單設計的情況下可僅用單一離子出口來實現(xiàn)。 根據(jù)本發(fā)明，該毛發(fā)護理裝置的特征在于其具有背離毛發(fā)處理設備的裝置的背面、以及用 于將離子排放在毛發(fā)上的離子生成設備，所述離子生成設備具有至少一個開關單元、離子 源、離子出口和圍繞離子出口的護套，其中毛發(fā)護理裝置另外還具有用于去除/限制電子電荷的接地表面，所述接地表面在離子出口附近布置在外殼的一部分上，其中離子源相對 于接地表面的電位水平具有-10KV至-3KV的電位水平，護套相對于接地表面的電位水平具 有-2. 5KV至-1KV的電位水平或為離子源的電位水平的20%至50%，并且該裝置的背面相 對于接地表面的電位水平具有-500V至-100V的電位水平或為離子源的電位水平的2%至 10%。 取決于毛發(fā)護理裝置的類型，離子源相對于接地源的電位水平可具有選自下列范
圍內(nèi)的電位水平負(_) 10千伏(KV)至-8KV或-8KV至-6KV或-6KV至_3KV。 包圍離子出口的護套可以各種形式設計。例如，其可為圓柱形的或圓錐形的。其可
為優(yōu)良電導體以便護套可呈現(xiàn)為幾乎是相鄰接地表面的電位水平，或其可為不良導體以便
其可部分地帶電(盡管存在相鄰接地件)。然而，電荷將被相鄰接地件所限制。護套相對于
接地表面的電位水平可具有選自下列范圍內(nèi)的電位水平-2. 5KV至-2KV或-2KV至-1. 5KV
或-1.5KV至-lKV。護套的電位水平應根據(jù)離子源的電位水平來調(diào)整。護套的電位水平可
選自下列范圍離子源的電位水平的50%至40%或40%至30%或30%至20%。 裝置的背面也可同樣以各種形式來設計。其可為優(yōu)良電導體以便裝置的背面呈現(xiàn)
至少接近于相鄰接地表面的電位水平，或其可為不良導體以便其可部分地帶電(盡管存在
相鄰接地件)。然而，電荷將被相鄰接地件所限制。裝置的背面相對于接地表面的電位水
平可具有選自下列范圍的電位水平-500V至-300V或-300V至-200V或-200V至-IOOV。
裝置的背面的電位水平應根據(jù)離子源的電位水平來調(diào)整。裝置的背面的電位水平可選自下
列范圍離子源的電位水平的10%至8%或8%至5%或5%至2%。 在非導電或至少導電不良的外殼組件(如外殼背面或護套)的情況下，外殼組件 的電位水平在各種部位中可以不同。在這些情況下，電位水平最佳地在組件的外側(cè)上測量。 在本發(fā)明的范圍內(nèi)，如果面向離子流的組件的外側(cè)上的多個點中的一個處的電位水平處在 上述范圍內(nèi)就足夠了 。該電位水平可被認為是組件的電位水平。 最優(yōu)電位分布可受到毛發(fā)護理裝置上的接地表面的分布的影響并且可受到所選 擇的材料的影響，尤其是與它們的導電性有關。 接地表面，S卩，在每種情況下的第一接地表面和第二接地表面以及更多的接地表 面，可單獨地或一起以任何方式來配置。它們可具有用來去除/限制電子電荷的平面區(qū)域 或點接觸區(qū)域。此外，它們還可具有連結(jié)到另一個表面例如連結(jié)到塑料組件的內(nèi)表面或外 表面上的接觸板，例如通過粘附力來連結(jié)。接觸表面可被設計為剛性的或撓性的。此外，接 地表面可包括電接觸螺桿，該電接觸螺桿被螺紋連結(jié)到塑料組件中的螺桿轂中。
如果接地表面可影響另一個組件，換句話講，如果其能夠去除/限制另一個組件 的電子電荷，則其被認為是位于另一個的"附近"。該組件可與接地表面直接接觸或僅間接 接觸。即使間接接觸，與該組件相距的距離也不應大于1毫米或5毫米或10毫米。間隔可 取決于該組件或其所跨越的組件的電導率而定。 此外，操作頭和/或離子出口附近的外殼組件還可具有至少一個用于去除/限制 靜電荷的附加接地表面("第三接地表面")。操作頭和/或封裝離子出口的外殼組件中的 一個上的這種接地表面可防止或限制過多的電荷，并且可相應地防止或限制操作頭區(qū)域中 和離子出口區(qū)域中的靜電場，所述靜電場會阻礙將離子施加到毛發(fā)上。特別是，此類接地表 面可存在于操作頭上，并且同時也可在離子出口的附近存在于外殼組件上。
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接地表面可以完全不同的方式設計。特別是，接地表面可被設計為金屬表面，所述 金屬表面可安裝在非導電的、優(yōu)選由塑料制成的操作頭和/或離子出口的主體或外殼組件 上。操作組件或離子出口的主體自身還可被設計為注塑塑料組件或以某種其它方式制造的 塑料組件。呈金屬表面形式的接地表面有利地連結(jié)到所述主體組件的外表面上并且可形成 其外表面；這不僅可防止由離子排放所產(chǎn)生的場，而且還可增強毛發(fā)護理裝置的操作安全 性。 在本發(fā)明的另一個有利實施方案中，作為另外一種選擇或除了主體組件外側(cè)上的 接地表面以外，還可將接地表面設置在主體組件的內(nèi)表面上。以此方式，取決于組件的情 況，在內(nèi)表面或外表面上的布置可有變化。盡管所述操作頭上和/或封裝離子出口的出口 外殼中的一個上的接地表面可有利地處在對應的主體組件的外表面上，但另一方面，某些 優(yōu)點與在離子出口附近在另一個對應的主體組件的內(nèi)表面上提供接地表面有關，尤其是在 主體組件上(離子云擴散在該主體組件上)提供，在排放方向上設置在出口的后面。
關于接地表面的布置，各種實施方案可為有利的。在操作頭上，一種有利的布置可 以是將接地表面連結(jié)到毛發(fā)處理設備上，特別是連結(jié)到刷毛區(qū)和/或梳齒區(qū)上。例如，接地 表面可形成例如床，所述床承載刷毛區(qū)的刷毛或梳齒，或任選地也承載用于毛發(fā)處理設備 的其它不同設計的處理工具。作為另外一種選擇或除了上述刷毛區(qū)和/或梳齒區(qū)以外，毛 發(fā)處理設備還可具有由合適的材料例如陶瓷制成的毛發(fā)護理表面。作為另外一種選擇或除 此之外，還可提供加熱表面，所述加熱表面具有合適的形狀，特別是平坦的、凹的、或圓凸的 施用表面。 同樣關于離子出口 ("第一接地表面")以及其附近的布置，各種構(gòu)型可為有利的。 根據(jù)本發(fā)明的一個有利實施方案，離子出口包括優(yōu)選獨立的成型為箱或盒的外殼模組，所 述外殼模組封裝了可產(chǎn)生離子的高電壓元件并且具有孔口，其中設有出口孔以用于排放由 高電壓元件所產(chǎn)生的離子。有利的是，上述接地表面布置在背離上述外殼模組的孔口的側(cè) 面上。特別是，外殼模組的孔口可被設計成完全不含反電極。以此方式，接地表面可鄰近孔 口布置在出口外殼的側(cè)面上，所述孔口周向包圍上述高電壓元件，所述元件優(yōu)選為棒形、銷 形或尖的。作為另外一種選擇或除此之外，接地表面也可設置在與孔口相對的出口外殼的 背部表面上。 作為另外一種選擇或除了出口外殼上的這種接地表面以外，鄰近離子出口的外殼 模組和/或離子出口附近的外殼表面也可具有接地表面("第二接地表面")。特別是，外 殼模組可在離子出口(離子云擴散或應擴散在該離子出口之上)的下游接地，其中此外殼 模組有利地以上述方式由非導電材料制成并且可具有安裝在其上的接地表面。在此方面， 在最簡單的實施方案中，外殼模組在離子出口附近的電接地可通過電接觸螺桿來實現(xiàn)，所 述螺桿螺紋連結(jié)到塑料組件中的螺桿轂中。作為另外一種選擇或除此之外，電接地還可通 過源自金屬電極的接觸壓力來實現(xiàn)，所述電極形成上述類型的接地表面。以此方式，所述外 殼組件可通過接觸裝置的電路的接地件來接地，從而靜電荷(盡管不是完全不可能的)會 受到足夠的限制以保持由電荷產(chǎn)生的反向電場很小，以致它們不會阻礙離子從離子出口的 分散。 外殼組件(離子云分散在該外殼組件之上)的電接地有利地不在離子云的視場中 實現(xiàn)，而是在背離離子出口的外殼組件的側(cè)面之一上實現(xiàn)，特別是是在外殼組件的內(nèi)表面之一上實現(xiàn)。 根據(jù)本發(fā)明的一個有利實施方案并且特別是第二接地表面的一個有利實施方案， 裝置的外殼在從離子出口排放出的離子云所分散的區(qū)域中和/或在離子出口附近具有離 子導向機構(gòu)或離子控制裝置。對離子的控制可有利地以此方式來實現(xiàn)。換句話講，在離子 出口附近提供若干個獨立的外殼組件，它們中的至少一個為接地的，并且至少另一個為未 接地的。盡管未接地的外殼組件會變得帶電荷并且因此可偏移離子，但離子可無阻礙地展 開在接地的外殼組件上，以便(用合適模式的接地和未接地的外殼組件)適當?shù)乜刂扑?放的離子的分布。 取決于應用，這種離子導向裝置可以不同的方式來設計以便產(chǎn)生不同的分布模 式。在本發(fā)明的一個優(yōu)選的實施方案中，接地和未接地的外殼組件的對稱模式是可能的，所 述組件圍繞裝置的縱向平面對稱地布置在離子出口附近，從而導致完全對稱的離子分布。 然而，作為另外一種選擇，為了產(chǎn)生特別地針對例如慣用右手的使用者或慣用左手的使用 者的裝置，不同于圍繞縱向平面的對稱布置的構(gòu)型也是可能的。 作為另外一種選擇或除了上述的實施方案以外，為了將接地表面直接連結(jié)到毛發(fā) 處理設備上，操作頭上的接地表面("第三接地表面")也可周向地至少以分段方式包圍毛 發(fā)處理設備，優(yōu)選布置成環(huán)的形式和/或直接鄰近毛發(fā)處理設備。特別是，可在操作頭上圍 繞毛發(fā)處理設備提供金屬條作為接地表面。以此方式，毛發(fā)處理設備自身，換句話講例如刷 毛區(qū)和/或梳齒區(qū)、或操作頭的外殼主體自身，應由非導電材料制成。有利的是，操作頭上 的接地表面不緊鄰至少一個離子出口。有利的是，接地表面可在包含毛發(fā)處理設備的操作 頭中緊接毛發(fā)處理設備設置在邊緣上。 在本發(fā)明的另一個實施方案中，外殼電位也與使用者的身體電接觸。在本發(fā)明的
另一個實施方案中，毛發(fā)護理裝置的柄部可具有導電的接觸表面以去除毛發(fā)護理裝置使用
者身上的正電荷。以此方式，可防止使用者帶上靜電荷。負離子的排放甚至可使得使用者
帶上負電荷。另一方面，正電荷可通過柄部上的接觸表面轉(zhuǎn)移到使用者身上，從而補償負離
子的充電效應。這在不連接到電網(wǎng)上的毛發(fā)護理裝置的設計中是尤其有利的，所述電網(wǎng)特
別是是電池和/或可再充電電池裝置。對于這種非網(wǎng)絡裝置，負離子的生成通常會在裝置
上產(chǎn)生等同量的正電荷，因為電池裝置或可再充電電池裝置缺乏基準電位。通過裝置上的
這種正電荷，使用者所帶的負電荷可由上述柄部上的電活性接觸表面抵消。 通過大體上無妨礙地將離子遞送到毛發(fā)上(通過可消除或減小裝置上的電荷場
的接地表面來實現(xiàn))， 一種尤其簡單的離子遞送裝置的設計成為可能的，特別是是關于離子
釋放構(gòu)型的設計。在本發(fā)明的另一個實施方案中，特別是，離子遞送可只發(fā)生在裝置的背面
上，所述背面背離執(zhí)行毛發(fā)護理裝置的主要功能的毛發(fā)處理設備。令人驚訝的是，可以此方
式將均勻分布的且仍為定向遞送的離子導向到毛發(fā)上。迄今為止，為了將離子直接提供在
要處理的區(qū)域中，已普遍嘗試將離子的至少一部分在毛發(fā)處理工具附近遞送到裝置的正面
上，因為據(jù)信從裝置的背面排放的離子會或多或少地偏離目標，即要處理的毛發(fā)。特別是，
結(jié)合上述的接地表面和對破壞性電荷場的消除或限制，在裝置的背面上排放離子可導致離
子尤其均勻的分布并且?guī)缀跬耆嘏欧诺矫l(fā)上，因為毛發(fā)通常具有正電荷，所述正電荷
會吸引離子以補償所排放的離子。如果沒有更強的干擾場存在而阻礙離子的排放，則該效
應是足夠的。通過將離子出口或全部的離子出口布置在裝置的背面上，離子可在沒有由使用者的手或由靠近離子出口的毛發(fā)束所造成的機械干擾的情況下發(fā)射。 原則上，單一離子出口可以是足夠的。任選地，可將若干個離子出口布置在裝置的 背面上。在這兩種情況下，所述布置均有利地圍繞毛發(fā)護理裝置的縱向平面對稱。優(yōu)選地， 可產(chǎn)生所述至少一個離子出口或所述若干個離子出口以便離子發(fā)射的主方向或離子發(fā)射 的主方向的總體朝背部表面的平面定向，或?qū)ΨQ于縱向平面定向在背部表面的平面上。以 此方式，從離子出口開始的離子發(fā)射的主方向有利地基本上平行于背部表面對齊，以便離 子基本平行于裝置的背面在此背部表面上發(fā)射出來。作為另外一種選擇或除此之外，離子 還可以很小的銳角(向上)釋放。在這種情況下，離子可釋放成朝背面的表面傾斜優(yōu)選O。 至45° ，優(yōu)選0。至30°的角度。 為了獲得毛發(fā)上的均勻的離子分布，將所述至少一個離子出口布置在與毛發(fā)處理
設備相對定位的裝置的背部表面的邊緣上，以便在操作頭的背面上形成離子云。 在僅布置單一離子出口時，將其有利地放置在縱向平面自身中。在將兩個離子出
口布置在裝置的背面上時，可將它們布置成使得它們在縱向部位上以相同的高度伸出，優(yōu)
選朝中心平面成很小的角度。作為另外一種選擇，在將兩個離子出口定位在裝置的背面上
時，可使用相對的構(gòu)型以便將這兩個離子出口設置在操作頭的背部表面的相對邊緣上，并
且以一個處在另一個上面的方式對齊以致允許離子例如在彼此的上面排放。 毛發(fā)處理設備可牢固地安裝到操作頭上，并且也可永久性地集成到操作頭中。作
為另外一種選擇，毛發(fā)處理設備可有利地以可互換的方式連結(jié)到操作頭上，以便各種毛發(fā)
處理設備均可連結(jié)到操作頭上并且可用于操作頭。除了刷毛區(qū)或梳齒區(qū)以外，還可考慮其
它毛發(fā)處理設備，例如用于熱處理的設備、可加熱的毛發(fā)拉直器、或許呈毛發(fā)烘干機或熱
空氣刷形式的熱空氣裝置。 一般來講，此類各種毛發(fā)處理設備要求不同類型的對裝置的操
縱和抓持，以便其有利地提供所公開的類型的導電表面。此外，離子流應以如下方式遞送
其強度和其幾何分布均非常相容于多種操作頭。


本發(fā)明的這些和其它特征是基于權(quán)利要求，并且也基于以下的說明和/或附圖， 其中所述特征可以彼此的各種組合和子組合的方式以及單獨的方式構(gòu)成本發(fā)明的主題，而 不考慮它們在權(quán)利要求中的概述。本發(fā)明將根據(jù)優(yōu)選的實施方案和相關的附圖來說明。在 附圖中 圖1顯示了根據(jù)本發(fā)明的一個有利實施方案的呈毛發(fā)刷形式的毛發(fā)護理裝置的 背面的頂視圖，其顯示了操作頭的背面的邊緣處的處在縱向平面中的離子出口；
圖2顯示了沿圖1中所示的線A-A的圖1的毛發(fā)刷的縱截面，其中接地表面設置 在操作頭上，位于提供在那里的齒區(qū)的下方； 圖3顯示了根據(jù)本發(fā)明的另一個有利實施方案的毛發(fā)刷的正面的頂視圖，其中接 地表面設置在操作頭上作為梳齒區(qū)的邊緣上的圍繞的金屬條； 圖4顯示了根據(jù)本發(fā)明的另一個有利實施方案的毛發(fā)刷的背面的頂視圖，其顯示 了對稱于縱向軸線而布置在操作頭的背面的邊緣上的兩個離子出口 ； 圖5顯示了圖4中的毛發(fā)刷的正視圖，其顯示了離子出口的主排放方向，所述出口 成角度地彼此背離并且基本平行于刷的背部表面；
圖6顯示了根據(jù)本發(fā)明的另一個有利實施方案的毛發(fā)刷的背面的頂視圖，其中兩 個離子出口彼此相對地布置在毛發(fā)刷的縱向軸線上； 圖7顯示了沿圖6中所示的線AA的毛發(fā)刷的縱截面，其顯示了毛發(fā)刷的背面上的 離子出口的各種傾斜度； 圖8顯示了根據(jù)本發(fā)明的另一個有利實施方案的離子出口和其出口外殼的示意 性透視圖，其中出口外殼的底部表面被設計為接地表面；
圖9顯示了圖8中的離子出口的孔口的正面頂視圖；
圖IO顯示了穿過前述兩個圖的離子出口的示意縱截面； 圖11顯示了根據(jù)本發(fā)明的一個可供選擇的有利實施方案的離子出口的透視示意 圖，其中出口外殼的底側(cè)的僅局部區(qū)域被設計為接地表面； 圖12顯示了根據(jù)本發(fā)明的另一個有利實施方案的離子出口的示意性透視圖，其 中出口外殼的一個側(cè)面的一部分被設計為接地表面； 圖13顯示了根據(jù)本發(fā)明的另一個有利實施方案的離子出口的示意性透視圖，其 中出口外殼的與孔口相對的背面被設計為接地表面； 圖14顯示了根據(jù)本發(fā)明的另一個有利實施方案的離子出口的示意性透視圖，其 中出口外殼的彼此相對設置的兩個側(cè)面每個均被設計為局部的接地表面；
圖15顯示了根據(jù)本發(fā)明的另一個有利實施方案的呈毛發(fā)刷形式的在毛發(fā)刷的背 面上具有離子出口的毛發(fā)護理裝置的示意性透視圖，其中裝置的外殼組件在離子出口附近 接地；并且 圖16顯示了類似于圖15的毛發(fā)護理裝置的示意性透視圖，其中將若干個獨立的 組件提供在裝置的背面上的離子出口附近，所述組件中的僅一個為接地的并且其它組件為 未接地的。
具體實施例方式
圖1和2所示的毛發(fā)護理裝置1包括裝置接地體2，所述接地體具有柄部3并且在 其內(nèi)部中或在其外殼上具有下述的電子機構(gòu)。所述柄部3支撐操作頭4，所述頭部在裝置的 正面7上承載作為毛發(fā)處理設備5的刷區(qū)6。然而應當了解，如果毛發(fā)護理裝置被設計為毛 發(fā)定型裝置和/或毛發(fā)烘干機，則可提供其它毛發(fā)處理工具例如加熱元件或毛發(fā)定型元件 或甚至可能提供鼓風機出口 。所述毛發(fā)處理工具也可任選地彼此組合。
所述毛發(fā)處理設備5可永久性地集成到操作頭4中。作為另外一種選擇，毛發(fā)處 理設備5可有利地安裝以致以可互換的方式安裝在操作頭4上，以便一個操作頭4可裝備 有并可用于各種毛發(fā)處理設備5。 有利的是，毛發(fā)護理裝置1可具有包括若干個可互換的組件的模組化設計，其中 特別是，整個操作頭4和/或毛發(fā)處理設備5可獨立地由裝置的接地體2以上述的方式形 成。在此方面，可有利地在各種組件之間提供呈扣合銷軸和承窩形式的型面配合扣件，從而 使各組件可被移除和重新安裝而無需使用工具。 如圖1和2所示，離子釋放裝置9附加地設置在裝置的接地體2上，即，設置在背 離毛發(fā)處理設備5的裝置的背面8上，所述釋放裝置包括離子發(fā)射器，所述離子發(fā)射器可具 有布置在裝置的接地體2的內(nèi)部中和/或離子出口 11中的用于釋放離子的高電壓元件12。所述高電壓元件12可布置在箱狀或殼狀的出口外殼13中，所述外殼的壁在孔口側(cè)面14上 具有出口孔17，所生成的離子可通過該出口孔排出。 在所示的實施方案中，離子出口 ll被設計為噴嘴或擴散器因而產(chǎn)生定向離子排 放；參見圖2。有利的是，離子出口 11布置在裝置的背面8上，所述背面與刷毛區(qū)6相對和 /或背離它并且形成例如毛發(fā)刷的背面。有利的是，離子出口 11布置在縱向平面18中，所 述平面形成圖2的投影面，其中離子出口 11的主出口方向19有利地與裝置的背部表面傾 斜成很小的銳角并且定向成與其背離；參見圖2，其中傾斜角可有利地介于0。和45°之 間，并且在所示的實施方案中可有利地大約介于20。和30°之間。特別是，如圖1和2所 示，離子出口 11布置在操作頭的與刷毛區(qū)6相對的背部表面的邊緣上，以便從離子出口 11 排放的離子在操作頭4的背面上形成離子云。特別是，離子出口 11 (例如，如圖1所示)可 粗略地講大約設置在柄部3和操作頭4之間的過渡區(qū)域中。 將電源單元(未具體示出)封裝在裝置的接地體2內(nèi)，所述單元可被優(yōu)選地設計 成電池或可再充電電池裝置的形式。有利的是，毛發(fā)護理裝置1被設計成為能量自給自足 的，即，其不具有可從電源插座遞送電力的永久電源適配器。當然，可插接電源線以對裝置 的接地體2內(nèi)的可再充電電池進行充電。通過所述電源單元向離子排放裝置9供電以便生
成離子。 如圖2所示，毛發(fā)護理裝置1有利地具有接地裝置20以防止不希望發(fā)生的對裝置 的充電，從而可防止妨礙離子排放并且改善裝置的操作安全性。在根據(jù)圖2所示的實施方 案中，操作頭4中的接地裝置20可具有接地表面21 ("第三接地表面")，所述接地表面可 防止強電荷場在操作頭4的附近生成，尤其是在毛發(fā)處理設備5的附近生成。在根據(jù)圖2 的實施方案中，接地表面21直接連結(jié)到毛發(fā)處理設備5上，其中其被設計為載體并且設置 在毛發(fā)處理設備5的下方并連結(jié)到其上；參見圖2。接地表面21有利地由施加到操作頭的 主體上的金屬表面和/或金屬涂層制成，所述主體通常是由塑料制成的。接地表面21可連 接到電路的地電位上，例如通過布置在裝置內(nèi)的慣例組件來連結(jié)。 作為另外一種選擇，或除此之外，操作頭側(cè)面上的接地表面21也可具有包括金屬 表面的主體，所述主體處在刷毛區(qū)6的邊緣上，優(yōu)選呈環(huán)形地圍繞刷毛區(qū)6或如圖3所示以 U形在三個側(cè)面上圍繞刷毛區(qū)的金屬條的形式。刷毛區(qū)6和操作頭4的主體的其余部分可 被設計為非導電的，特別是由塑料制成。在根據(jù)圖3的刷毛區(qū)6的邊緣處的接地表面21的 情況下，接地表面21圍繞刷毛區(qū)6的足夠大的部分以足夠地補償在那里產(chǎn)生的電荷。有利 的是，金屬條將在毛發(fā)處理設備5的區(qū)域的至少50%上延伸。 如圖4和5所示，毛發(fā)護理裝置1的背面8也可具有若干個離子出口 ll，其中在根 據(jù)圖4和5所示的實施方案中，提供了兩個離子出口。當從裝置的縱向軸線觀察時，它們處 在相同的高度并且相對于縱向平面18彼此對稱地設置。有利的是，離子出口 11設置在操 作頭的背面的邊緣上，其中它們彼此傾斜成60。至120° ，優(yōu)選大約9(T大小的角度以產(chǎn) 生均勻地分布的離子云。在所示的實施方案中，具有主出口方向18的離子出口 ll平行于 背面8的表面，以便離子基本上平行于操作頭的背面排放。在所示的實施方案中，離子可在 發(fā)散的方向上從離子出口 11排放，以便在操作頭4上或在其背面上均勻地分布離子云。
作為根據(jù)圖4和5的實施方案的供選擇的替代方案，可將若干個離子出口 11布置 在縱向平面18中；參見圖6和7。有利的是，這兩個離子出口 ll彼此相對設置，其中將它們沿操作頭的背面的相對側(cè)上的邊緣布置，以便允許離子云分散在操作頭的背面上；參見 圖6禾口 7。 因而有利地的是，這兩個離子出口 11可相對于裝置的背面的表面以各種方式傾 斜。盡管一個離子出口的主出口方向18基本上平行于裝置的背面8的表面，但另一個離子 出口 11略微朝裝置的背面8的所述表面傾斜成優(yōu)選0。至40° ，特別是IO。至30°的角 度。如圖6和7所示，如果布置在柄部3和操作頭4之間的過渡區(qū)域中的離子出口 11略微 傾斜，則可為尤其有利的，而布置在遠離柄部3的操作頭的背面末端上的離子出口 11可布 置成平行于裝置的背面8。 如圖8至10所示，上述接地裝置20也有利地包括連結(jié)到離子出口 11的接地表面 22 ("第一接地表面")。特別是，此接地表面22設置在出口外殼13的外表面上，所述外殼 包圍離子發(fā)射器或其高電壓元件12。如圖8最佳所示，大致盒形的出口外殼13包圍形成正 面的孔口 14，其中設有出口孔17以用于排放所發(fā)射的離子。高電壓元件12布置在出口外 殼13的中心，并且在出口外殼13內(nèi)在所述出口孔17之前不遠處終止；參見圖10。通常， 高電壓元件12包括線材或由線材組成，所述線材一般被導向在隔離的護套內(nèi)，而出口外殼 一般由不同的第三材料制成，例如由塑料制成(示意10未明顯示出材料的差別)。
在根據(jù)圖8至10的實施方案中，基于高電壓元件12的圓周，側(cè)面16具有接地表 面22。根據(jù)圖8至10，這可為面對接地體2的出口外殼13的底側(cè)。作為另外一種選擇或 除此之外，這也可為出口外殼13的側(cè)壁表面16，如圖12所示。 根據(jù)圖8至10，出口外殼13的整個底側(cè)被設計為接地表面22，特別是呈金屬表面 的形式，其中外殼的其余部分為非導電的，并且特別是可由塑料制成。如圖11所示，出口外 殼13的對應的表面-在圖11的情況下為側(cè)面的底側(cè)-也可僅以分段方式具有接地表面 22，S卩，接地表面22不必一定覆蓋整個側(cè)面；參見圖11。 同樣在根據(jù)圖12的實施方案中，側(cè)面16的僅約一半被設計為接地表面22。
如圖13所示，出口外殼13的與孔口 14相對的背面也可被設計為接地表面22。
另一個實施方案顯示于圖14中。在這種情況下，出口外殼13的相對的側(cè)面16每 一個均具有接地表面22，其中在所示的實施方案中，它們被設計成僅呈局部地覆蓋側(cè)面16 的條的形式。 圖15顯示了根據(jù)本發(fā)明的另一個實施方案的毛發(fā)護理裝置1。除非另外指明，此 毛發(fā)護理裝置可對應于前述實施方案，其中對應的附圖標號用于圖15中的對應的組件。根 據(jù)圖15的毛發(fā)護理裝置與前述裝置的基本不同之處在于操作頭的整個背面均為接地的。 外殼組件108(其形成操作頭4的背面并且包圍離子出口 11)自身由非導電材料、特別是 塑料組成，以便外殼組件108可因此而帶靜電。然而，所述外殼組件108通過接觸高電壓 電路的地電位來接地，從而靜電荷(盡管不是不可能的)會受到足夠的限制使得由電荷產(chǎn) 生的反向電場很小以致不會阻礙離子從離子出口的分布。以此方式，電接地可在接地表面 122 ("第二接地平面")上發(fā)生。以此方式，接地表面122也可被設計為外殼組件108中的 螺桿轂中的電接觸螺桿。作為另外一種選擇或除此之外，可將壓力從金屬電極施加到外殼 組件108上，優(yōu)選施加在內(nèi)側(cè)上。因此，在這兩種情況下，設置在外殼組件108上的連結(jié)到 地電位上的接地表面可防止或抑制靜電充電。 如圖15所示，接地的外殼組件108延伸至離子出口 11的附近，基本遍及裝置主體
11的背部表面的整個表面或其如下的分段發(fā)生自離子出口 11的離子云在所述分段上分散。 接地的外殼組件108從背離離子出口 11的孔口 14的離子出口 11的背面延伸，初始時遍及 直至離子出口 11的大部分表面，即在從所述離子出ll排放的離子的方向上處在所述離子 出口 11的下游；參見圖15。離子出口 11在接地的外殼組件108的表面中形成(例如)一 個島，其中外殼組件108的大部分(在所示的實施方案中為外殼組件108的三分之二以上) 位于離子出口 11的排放側(cè)面上；參見圖15。 以此方式，所述離子出口 11集成到所述外殼組件108中，特別是，后者拱起成穹頂 形狀以便為離子出口 11的出口孔17留出空間，所述離子出口在所示的實施方案中優(yōu)選地 由塑料套管170形成，所述套管在出口側(cè)上包納離子發(fā)射器；參見圖15。
替代在圖15所示的整個表面上將外殼組件在離子發(fā)射器的排出區(qū)域中接地，可 在離子出口附近提供若干個獨立的外殼組件108a和108b，如圖16所示，所述組件中的至少 一個為接地的，同時至少一個其它組件為不接地的。非接地的部件可帶靜電，從而離子會被 偏轉(zhuǎn)。與此形成對比的是，離子可不受影響地在接地的部件上展開，以便實現(xiàn)對離子云的總 體控制。以此方式，離子出口 ll的附近的接地和未接地的外殼部件的模式形成離子控制機 構(gòu)。 如圖16所示，此離子控制機構(gòu)或接地的和未接地的外殼組件108a和108b的模式 可被有利地布置或設計成對稱于毛發(fā)護理裝置1的縱向軸線18。特別是，圖16示出了呈梯 形形狀的從離子出口 11延伸的中心外殼組件108a，其以前述方式接地。此中心條外殼組件 108a在左側(cè)和右側(cè)上與兩個側(cè)部外殼組件108b相接，所述側(cè)部外殼組件保持為未接地的， 因此可帶靜電。在此實施方案中，離子控制機構(gòu)形成例如排出通道或槽，所述通道或槽允許 形成定向離子排放并且抑制過度的側(cè)向展開。然而，取決于應用，也可提供其它模式的接地 或未接地的外殼組件，以便根據(jù)該應用實現(xiàn)對分布的離子云的合適的控制。
權(quán)利要求
一種毛發(fā)護理裝置，所述毛發(fā)護理裝置具有柄部(3)、可連結(jié)到所述柄部(3)上的操作頭(4)、以及背離所述毛發(fā)處理設備(5)的所述裝置的背面(8)，此外還具有用于在所述毛發(fā)上產(chǎn)生離子的離子生成設備(9)，所述操作頭(4)具有毛發(fā)處理設備(5)，特別是刷毛區(qū)和/或梳齒區(qū)(6)，所述離子生成設備具有至少一個開關單元、離子源、離子出口(11)、和圍繞所述離子出口(11)的護套，其中所述毛發(fā)護理裝置附加地具有用于去除/限制電荷的接地表面(22)，所述接地表面在所述離子出口(11)的附近布置在外殼組件(13)上，其特征在于所述離子源相對于所述接地表面的電位水平具有-10KV至-3KV的電位水平，所述護套(13、170)相對于所述接地表面的電位水平具有-2.5KV至-1KV的電位水平或為所述離子源的電位水平的20％至50％，并且所述裝置的背面(8)相對于所述接地表面的電位水平具有-500V至-100V的電位水平或為所述離子源的電位水平的2％至10％。
2. 如前述權(quán)利要求所述的毛發(fā)護理裝置，其中所述開關單元具有與所述接地表面相同的電位水平。
3. 如前述任一項權(quán)利要求所述的毛發(fā)護理裝置，其中所述裝置的所述背面(8)在所述離子出口 (11)的附近具有至少一個優(yōu)選位于組件部件的內(nèi)側(cè)上的附加接地表面(122)。
4. 如前述權(quán)利要求所述的毛發(fā)護理裝置，其中所述附加接地表面(122)布置在外殼組件(108)上，所述接地表面相對于發(fā)射所述離子的方向鄰近所述離子出口 (11)設置在其下游。
5. 如前述任一項權(quán)利要求所述的毛發(fā)護理裝置，其中至少一個接地表面(22、122)包括金屬表面，所述金屬表面施加到優(yōu)選由塑料制成的所述操作頭(4)的非導電主體組件或外殼組件上，和/或在所述離子出口 (11)的附近施加到所述外殼組件(13)的非導電主體組件或外殼組件上。
6. 如前述任一項權(quán)利要求所述的毛發(fā)護理裝置，其中附加接地表面(21)布置在所述操作頭(4)上。
7. 如前述權(quán)利要求所述的毛發(fā)護理裝置，其中所述操作頭(4)上的接地表面(21)至少以分段方式，優(yōu)選呈環(huán)的形式包圍所述毛發(fā)處理設備(5)，和/或布置成直接鄰近所述毛發(fā)處理設備(5)。
8. 如前述任一項權(quán)利要求所述的毛發(fā)護理裝置，其中所述接地表面(22)布置在所述外殼組件(13)上，所述外殼組件包圍所述離子出口 (11)并且形成所述離子出口 (11)的外殼表面，所述外殼表面包圍用于排放離子的高電壓元件(12)。
9. 如前述權(quán)利要求所述的毛發(fā)護理裝置，其中所述包圍離子出口 (11)的外殼組件(13)具有孔口 (14)，其中設有排放口 (17)以用于排放離子，并且具有至少一個附加的封閉外殼側(cè)面(16)，其中所述接地表面(22)設置在所述封閉的外殼側(cè)面上。
10. 如前述兩項權(quán)利要求中的一項所述的毛發(fā)護理裝置，其中包圍離子出口 (11)的所述外殼組件(13)被設計為護套。
11. 如前述任一項權(quán)利要求所述的毛發(fā)護理裝置，其中所述離子出口 (11)的孔口 (14)被設計成不含反電極。
12. 如權(quán)利要求1的前序或前述任一項權(quán)利要求所述的毛發(fā)護理裝置，其中所述單一離子出口 (11)或全部離子出口 (11)均布置在背離所述毛發(fā)處理設備(5)的所述裝置的背面(8)上。
13. 如前述任一項權(quán)利要求所述的毛發(fā)護理裝置，其中所述至少一個離子出口 (11)或全部所述離子出口 (11)均布置在所述操作頭(4)的背面的邊緣周圍，使得離子云可在所述操作頭的背面上生成。
14. 如前述權(quán)利要求所述的毛發(fā)護理裝置，其中設有優(yōu)選呈電池和/或可再充電電池形式的能量存儲裝置以便為所述離子排放裝置(9)供電。
15. 如前述權(quán)利要求所述的毛發(fā)護理裝置，其中所述操作頭(4)和/或所述毛發(fā)處理設備(5)可拆卸地連結(jié)到形成柄部(3)的所述裝置的接地體(2)上。
全文摘要
本發(fā)明涉及毛發(fā)護理裝置(1)，所述毛發(fā)護理裝置具有柄部(3)、可連接到柄部(3)上的操作頭、以及用于在毛發(fā)上產(chǎn)生離子的離子生成設備(9)，所述操作頭具有毛發(fā)處理設備(5)，特別是刷毛區(qū)和/或梳齒區(qū)，所述離子生成設備具有至少一個離子出口(11)。根據(jù)本發(fā)明，毛發(fā)護理裝置(1)的特征在于所述毛發(fā)護理裝置具有背離毛發(fā)處理設備(5)的背面(8)的特征和用于在毛發(fā)上產(chǎn)生離子的離子生成設備(9)，所述設備具有至少一個開關單元、離子源、離子出口(1)和圍繞離子出口(11)的護套。此外，所述毛發(fā)護理裝置(1)還具有用于去除/限制電子負載的接地表面，所述接地表面在離子出口的區(qū)域中布置在外殼的一部分上，其中離子源相對于接地表面的電位水平具有-10KV至-3KV的電位水平，護套相對于接地表面的電位水平具有-2.5KV至-1KV的電位水平或為離子源的電位水平的20％至50％，并且裝置的背面(8)相對于接地表面的電位水平具有-500V至-100V的電位水平或為離子源的電位水平的2％至10％。
文檔編號A45D20/10GK101765386SQ200880100748
公開日2010年6月30日 申請日期2008年7月25日 優(yōu)先權(quán)日2007年7月27日
發(fā)明者J·森, K·洪納費勒, M·克勒佩爾-里希, N·斯梅塔納, O·澤倫森, T·哈森普夫盧格 申請人:博朗有限公司