專利名稱：足弓矯正器鞋組及該鞋組內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種足弓矯正器鞋組及該鞋組內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法。
背景技術：
人類的足部包含沈塊骨骼，是由復雜且致密的韌帶和筋膜包圍連結，整個足部就 像拱形或弓形結構，具有良好的彈性，能承受來自身體重量的壓力，以供我們走路、跑步和 跳躍。然而由于先天或后天的影響，有些足部的足弓不完整，不但會讓足底的壓力分布失 調(diào)，還會影響到步態(tài)，身體的重心也會轉換到不正確的位置，于是足底、膝蓋、骨盆、脊椎的 受壓失衡，長久以后即會發(fā)生一些病癥。例如「扁平足」的足弓塌陷，力量偏內(nèi)側，走路呈內(nèi) 八字，且脛骨內(nèi)轉、骨盆內(nèi)旋，形成X型腿，容易造成膝蓋外側磨損，而「高弓足」的足弓過 高，力量偏外側，走路呈外八字，且脛骨外轉、骨盆外旋，形成0型腿，容易造成膝蓋內(nèi)側磨 損。為此目前市面上已出現(xiàn)有一種用來矯正足底腳型的足弓矯正器，可借以改善足部 的力學機制，導正扁平足和高弓足不正常的內(nèi)、外旋動作，用以矯正腳型使之趨向正常的生 理角度。然而，由于足部是由許多的骨頭以及關節(jié)組成，隨著年齡的增長，肌肉、韌帶和關節(jié) 都會發(fā)生松弛或病變，而且在人體的重量壓迫下就會出現(xiàn)很多問題，更何況以前已經(jīng)形成 磨損或偏轉的部位，此時只借由提供正常腳型的規(guī)格式足弓矯正器來矯正，已不足以讓身 體脊骨完全回復平衡。足弓矯正器雖已提供標準應矯正至正常位置的規(guī)格，但是每個人腳 底情況不同，過去舊習慣所導致的狀態(tài)可能被使用人員習以為常，使用足弓矯正器一段時 間后，反而會產(chǎn)生新的不平衡及新的不舒服點。由此可見，上述現(xiàn)有的用來矯正足底腳型的足弓矯正器在使用上，顯然仍存在有 不便與缺陷，而亟待加以進一步改進。為了解決上述存在的問題，相關廠商莫不費盡心思來 謀求解決之道，但長久以來一直未見適用的設計被發(fā)展完成，而一般產(chǎn)品及方法又沒有適 切的結構及方法能夠解決上述問題，此顯然是相關業(yè)者急欲解決的問題。因此如何能創(chuàng)設 一種新的足弓矯正器鞋組及該鞋組內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，實屬當前重要研發(fā)課題 之一，亦成為當前業(yè)界極需改進的目標。有鑒于上述現(xiàn)有的用來矯正足底腳型的足弓矯正器存在的缺陷，本發(fā)明人基于從 事此類產(chǎn)品設計制造多年豐富的實務經(jīng)驗及專業(yè)知識，并配合學理的運用，積極加以研究 創(chuàng)新，以期創(chuàng)設一種新的足弓矯正器鞋組及該鞋組內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，能夠改 進一般現(xiàn)有的用來矯正足底腳型的足弓矯正器，使其更具有實用性。經(jīng)過不斷的研究、設 計，并經(jīng)過反復試作樣品及改進后，終于創(chuàng)設出確具實用價值的本發(fā)明。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于，克服現(xiàn)有的用來矯正足底腳型的足弓矯正器存在的缺 陷，而提供一種新的足弓矯正器鞋組及該鞋組內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，所要解決的 技術問題是使其可微調(diào)使得足底壓力由不平衡趨向于平衡，非常適于實用。
本發(fā)明的目的及解決其技術問題是采用以下技術方案來實現(xiàn)的。依據(jù)本發(fā)明提 出的一種足弓矯正器鞋組，用于供人體的一個足部穿著，并包含一個鞋底裝置，該鞋底裝 置形成有一個對應所述足部的一個腳跟的鞋跟區(qū)，該鞋底裝置包括一個中底片，及一個可 拆離地安裝在該中底片上方以供所述足部踏置的足弓矯正器；其中該足弓矯正器鞋組還包 含一個墊片裝置，該墊片裝置包括一個可拆離地安裝在該鞋底裝置內(nèi)的偏置墊片單元，該 偏置墊片單元是對應位于該鞋底裝置涵蓋有鞋跟區(qū)的一個后半段區(qū)域，且位于該后半段區(qū) 域的一個右半部位與一個左半部位的其中一個部位上。本發(fā)明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現(xiàn)。前述的足弓矯正器鞋組，其中所述的鞋底裝置還包括一個對應迭置在該中底片上 方且位于該足弓矯正器下方的內(nèi)襯片，該偏置墊片單元是安裝在該中底片與內(nèi)襯片間。前述的足弓矯正器鞋組，其中所述的鞋底裝置還包括一個對應迭置在該中底片上 方且位于該足弓矯正器下方的內(nèi)襯片，該偏置墊片單元是安裝在該中底片與內(nèi)襯片間，以 及該內(nèi)襯片與足弓矯正器間。前述的足弓矯正器鞋組，其中所述的偏置墊片單元具有至少一片呈扇形的側頂墊 片，該側頂墊片是可拆離地安裝在該鞋底裝置的后半段區(qū)域的右半部位與左半部位的其中 一個部位上，且位于該鞋跟區(qū)前方，該側頂墊片的邊緣對齊該鞋底裝置的邊緣，該側頂墊片 的直徑為15mm至45mm。前述的足弓矯正器鞋組，其中所述的偏置墊片單元具有至少一片呈圓形的微調(diào)墊 片，該微調(diào)墊片是可拆離地安裝在該鞋底裝置的后半段區(qū)域的右半部位與左半部位的其中 一個部位上，且位于該鞋跟區(qū)前方，該微調(diào)墊片局部凸露出該鞋底裝置的邊緣外，該微調(diào)墊 片的直徑為15mm至45mm。前述的足弓矯正器鞋組，其中所述的偏置墊片單元具有至少一片圓形的前調(diào)墊 片，該前調(diào)墊片是可拆離地安裝在該鞋底裝置的后半段區(qū)域的右半部位與左半部位的其中 一個部位上，且位于該鞋跟區(qū)的側邊上，該前調(diào)墊片局部凸露出該鞋底裝置的邊緣外，該微 調(diào)墊片的直徑為15mm至45mm。前述的足弓矯正器鞋組，其中所述的偏置墊片單元具有至少一片圓形的頂舟狀骨 墊片，該頂舟狀骨墊片是可拆離地安裝在該鞋底裝置的后半段區(qū)域的右半部位與左半部位 的其中一個部位上，且位于該足弓矯正器底部，該頂舟狀骨墊片局部凸露出該鞋底裝置的 邊緣外，該頂舟狀骨墊片的直徑為15mm至45mm。本發(fā)明的目的及解決其技術問題還采用以下技術方案來實現(xiàn)。依據(jù)本發(fā)明提出的 一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，所述足弓矯正器鞋組的一 個鞋底裝置包括一個足弓矯正器，其中該微調(diào)方法包含下列步驟初拓腳圖印制具有使 用人員一對足印的初始腳圖；初步分析根據(jù)一個分析模式。分析出初始腳圖上足印的形 狀及墨色濃淡的初始信息，并依據(jù)此初始信息由一個校正數(shù)據(jù)庫中挑選出相對應的微調(diào)模 式，以建立出一份使用人員足底須調(diào)整壓力部位的初調(diào)數(shù)據(jù)；及初調(diào)配置依據(jù)此初調(diào)數(shù) 據(jù)對應在一雙足弓矯正器鞋組的鞋底裝置分別安裝一個墊片裝置，使各足弓矯正器鞋組配 置成為一個初調(diào)足弓矯正器鞋組，使用人員穿著初調(diào)足弓矯正器鞋組能托高足底的局部區(qū) 域，令使用人員足底的壓力趨向平衡。本發(fā)明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現(xiàn)。
前述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，其中該微 調(diào)方法還包含下列步驟再拓腳圖當使用人員穿著初調(diào)足弓矯正器鞋組一段時間以后， 再印制具有使用人員一對足印的改善后腳圖；再調(diào)分析根據(jù)該分析模式，分析出改善后 腳圖上足印的形狀及墨色濃淡的調(diào)后信息，將此調(diào)后信息與該初始信息比對，并由校正數(shù) 據(jù)庫中挑選出相對應的微調(diào)模式，以建立出一份使用人員足底須微調(diào)壓力部位的再調(diào)資 料；及微調(diào)配置取出初調(diào)足弓矯正器鞋組內(nèi)的墊片裝置，并依據(jù)再調(diào)數(shù)據(jù)對應在鞋底裝 置分別設置另一個墊片裝置，使各足弓矯正器鞋組配置成為一個調(diào)后足弓矯正器鞋組，使 用人員穿著調(diào)后足弓矯正器鞋組，借以微調(diào)使用人員足底的局部區(qū)域的高度，令使用人員 足底的壓力再度更趨向平衡完美。前述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，其中該微 調(diào)方法還包含下列步驟再拓腳圖當使用人員穿著初調(diào)足弓矯正器鞋組一段時間以后， 再印制具有使用人員一對足印的改善后腳圖；再調(diào)分析根據(jù)該分析模式，分析出改善后 腳圖上足印的形狀及墨色濃淡的調(diào)后信息，將此調(diào)后信息與該初始信息比對，并由校正數(shù) 據(jù)庫中挑選出相對應的微調(diào)模式，以建立出一份使用人員足底須微調(diào)壓力部位的再調(diào)資 料；及微調(diào)配置取出初調(diào)足弓矯正器鞋組內(nèi)的墊片裝置，使各足弓矯正器鞋組成為一個 調(diào)后足弓矯正器鞋組，使用人員穿著調(diào)后足弓矯正器鞋組，可使足底的壓力再度更趨向平 衡完美。前述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，其中該分 析模式是先沿著足印的外圍輪廓劃出一條輪廓線，接著劃出一條水平通過腳跟部后緣的后 跟線，并劃出一條通過第二趾部中心且垂直于后跟線的垂直線，再劃出一條通過拇趾部根 端內(nèi)側且垂直于后跟線的拇趾側線，分析足印以垂直線為界內(nèi)、外部位的面積及墨色分布， 依內(nèi)、外面積的大小來分析足印的偏斜方向，并依足印的墨色濃淡來分析壓力的分布，再依 拇趾部延伸方向與拇趾側線間的傾斜角度來分析拇趾部的外翻傾斜度。前述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，其中該鞋 底裝置形成有一個對應足部的腳跟部的鞋跟區(qū)，該墊片裝置包括一片對應鞋跟區(qū)的足后跟 墊片，并將該足后跟墊片黏貼在該鞋跟區(qū)上。前述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，其中該墊 片裝置包括一個偏置墊片單元，該偏置墊片單元具有至少一片側頂墊片，將該側頂墊片黏 貼在該鞋跟區(qū)的外側前方。前述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，其中該偏 置墊片單元還具有至少一片微調(diào)墊片，將該微調(diào)墊片黏貼在該側頂墊片上方。前述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，其中該墊 片裝置包括一個偏置墊片單元，該偏置墊片單元具有至少一片前調(diào)墊片，將該前調(diào)墊片黏 貼在該鞋跟區(qū)的側邊上。前述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，其中該墊 片裝置包括一個偏置墊片單元，該偏置墊片單元具有至少一片頂舟狀骨墊片，將該頂舟狀 骨墊片黏貼在該鞋跟區(qū)的內(nèi)側前方。前述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，其中該足 弓矯正器鞋組的鞋底裝置由下而上依序還包括一個大底片、一個中底片，及一個內(nèi)襯片，將該足弓矯正器安裝在該內(nèi)襯片上方，并將該墊片裝置安裝在該鞋底裝置的中底片上。前述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，其中將足 印的一個足前部及數(shù)根腳趾所在區(qū)域，框圍在一個馬蹄形的假想線范圍內(nèi)，并以一條假想 直線將其區(qū)分成內(nèi)、外兩半部分，再以兩條前后間隔的假想橫線區(qū)分成位于內(nèi)側的一個掌 內(nèi)前部、一個掌內(nèi)中部及一個掌內(nèi)后部，以及位于外側的一個掌外前部、一個掌外中部及一 個掌外后部，接著將足印的腳跟部框圍在一個馬蹄形的假想線范圍內(nèi)，并以一條假想直線 將其區(qū)分成內(nèi)、外兩半部分，再以兩條前后間隔的假想橫線區(qū)分成位于內(nèi)側的一個跟內(nèi)前 部、一個跟內(nèi)中部及一個跟內(nèi)后部，以及位于外側的一個跟外前部、一個跟外中部及一個跟 外后部，在掌內(nèi)前部受壓時將該偏置墊片單元墊在跟外后部，在掌內(nèi)中部受壓時將該偏置 墊片單元墊在跟外中部，在掌內(nèi)后部受壓時將該偏置墊片單元墊在跟外前部，在掌外前部 受壓時將該偏置墊片單元墊在跟內(nèi)后部，在掌外中部受壓時將該偏置墊片單元墊在跟內(nèi)中 部，在掌外后部受壓時將該偏置墊片單元墊在跟內(nèi)前部。本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比具有明顯的優(yōu)點和有益效果。由以上技術方案可知，本發(fā) 明的主要技術內(nèi)容如下本發(fā)明足弓矯正器鞋組，用于供人體的一足部穿著，并包含一鞋底裝置，及一墊 片裝置。該鞋底裝置形成有一對應所述足部的一腳跟的鞋跟區(qū)，并包括一中底片，及一可拆 離地安裝在該中底片上方以供所述足部踏置的足弓矯正器。該墊片裝置包括一偏置墊片單 元，該偏置墊片單元是可拆離地安裝在該鞋底裝置內(nèi)，且對應位于該鞋底裝置涵蓋有鞋跟 區(qū)的一后半段區(qū)域，且位于該后半段區(qū)域的一右半部位與一左半部位的其中的一部位，用 于相對頂撐托高該足弓矯正器的局部偏側位置。本發(fā)明穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，所述足弓矯正 器鞋組的一鞋底裝置包括一足弓矯正器，該微調(diào)方法包含下列步驟初拓腳圖是印制具 有使用人員一對足印的初始腳圖。初步分析是根據(jù)一個分析模式，分析出初始腳圖上足印 的形狀及墨色濃淡的初始信息，并依據(jù)此初始信息由一校正數(shù)據(jù)庫中挑選出相對應的微調(diào) 模式，以建立出一份使用人員足底須調(diào)整壓力部位的初調(diào)數(shù)據(jù)。初調(diào)配置依此初調(diào)數(shù)據(jù)由 一墊片備材庫中挑選所需的墊片構成兩墊片裝置，并對應在一雙足弓矯正器鞋組的鞋底裝 置分別安裝一墊片裝置，使足弓矯正器鞋組配置成為一初調(diào)足弓矯正器鞋組，使用人員穿 著初調(diào)足弓矯正器鞋組，借以托高使用人員足底的局部區(qū)域，令使用人員足底的壓力趨向 平衡。上述分析模式是先沿著足印的外圍輪廓劃出一輪廓線，接著劃出一條水平通過一腳 跟部后緣的后跟線，并劃出一條通過第二趾部中心且垂直于后跟線的垂直線，再劃出一條 通過拇趾部根端內(nèi)側且垂直于后跟線的拇趾側線，分析足印以垂直線為界內(nèi)、外部位的面 積及墨色分布，依內(nèi)、外面積的大小來分析足印的偏斜方向，并依足印的墨色濃淡來分析壓 力的分布，再依拇趾部延伸方向與拇趾側線間的傾斜角度來分析拇趾部的外翻傾斜度。本發(fā)明穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，還包含下列步 驟再拓腳圖當使用人員穿著初調(diào)足弓矯正器鞋組一段時間以后，再印制具有使用人員 一對足印的改善后腳圖；再調(diào)分析根據(jù)該分析模式，分析出改善后腳圖上足印的形狀及 墨色濃淡的調(diào)后信息，將此調(diào)后信息與該初始信息比對，并由校正數(shù)據(jù)庫中挑選出相對應 的微調(diào)模式，以建立出一份使用人員足底須微調(diào)壓力部位的再調(diào)資料；及微調(diào)配置取出 初調(diào)足弓矯正器鞋組內(nèi)的墊片裝置，并依據(jù)再調(diào)數(shù)據(jù)對應在鞋底裝置分別設置另一墊片裝置，使足弓矯正器鞋組配置成為一調(diào)后足弓矯正器鞋組，使用人員穿著調(diào)后足弓矯正器鞋 組，借以微調(diào)使用人員足底的局部區(qū)域的高度，令使用人員足底的壓力再度更趨向平衡完美。借由上述技術方案，本發(fā)明足弓矯正器鞋組及該鞋組內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方 法至少具有下列優(yōu)點及有益效果依據(jù)使用人員足印狀況，在鞋底裝置對應安裝墊片裝置，借以托高使用人員足底 的局部區(qū)域，在搭配足弓矯正器的狀態(tài)下，令使用人員足底壓力趨向達到平衡狀態(tài)。使用人員足底壓力經(jīng)過初調(diào)足弓矯正器鞋組調(diào)整一段時間以后，可再視使用人員 調(diào)整后的足印狀況，再進行第二次的微調(diào)甚至第三次微調(diào)，令足底的壓力更趨向平衡完美。上述說明僅是本發(fā)明技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術手段， 而可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)點能夠 更明顯易懂，以下特舉較佳實施例，并配合附圖，詳細說明如下。


圖1是本發(fā)明穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法的一較 佳實施例所制成的一初調(diào)足弓矯正器鞋組的一分解立體圖；圖2是該較佳實施例的一部份立體分解圖，說明一墊片裝置的部份構造；圖3是該較佳實施例的墊片裝置安裝在一鞋底裝置的一正視示意圖，說明一初調(diào) 配置步驟后的的設置；圖4是該較佳實施例的一墊片備材庫的一正視示意圖；圖5是該較佳實施例的一初始腳圖的一正視示意圖，說明一第一個微調(diào)態(tài)樣的一 初拓腳圖步驟；圖6是該較佳實施例的第一個微調(diào)態(tài)樣的初始腳圖于一初步分析的一過程示意 圖；圖7是該較佳實施例的一校正數(shù)據(jù)庫中的一部份構造示意圖；圖8是該較佳實施例的該校正數(shù)據(jù)庫中的一部份構造示意圖；圖9是該較佳實施例的該校正數(shù)據(jù)庫中的一部份構造示意圖；圖10是該較佳實施例的該校正數(shù)據(jù)庫中的一部份構造示意圖；圖11是該較佳實施例的一足印的劃分位置示意圖；圖12是該較佳實施例的該校正數(shù)據(jù)庫中的一部份構造示意圖；圖13是該較佳實施例的該校正數(shù)據(jù)庫中的一部份構造示意圖；圖14是該較佳實施例所制成的初調(diào)足弓矯正器鞋組的一部份剖視示意圖；圖15是該較佳實施例的一調(diào)后腳圖的一正視示意圖，說明該第一個微調(diào)態(tài)樣的 一再拓腳圖步驟；圖16是該較佳實施例的第一個微調(diào)態(tài)樣的調(diào)后腳圖于一初步分析的一過程示意 圖；圖17是該較佳實施例的另一墊片裝置安裝在鞋底裝置的一正視示意圖，說明一 微調(diào)配置步驟后的設置；圖18是本發(fā)明穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法的一初始腳圖的一正視示意圖，說明一第二個微調(diào)態(tài)樣的一初拓腳圖步驟；圖19是該較佳實施例的一墊片裝置安裝在一鞋底裝置的一正視示意圖，說明一 初調(diào)配置步驟后的的設置；圖20是該較佳實施例的一調(diào)后腳圖的一正視示意圖，說明該第二個微調(diào)結構狀 態(tài)的一再拓腳圖步驟；圖21是該較佳實施例的另一墊片裝置安裝在鞋底裝置的一正視示意圖，說明一 微調(diào)配置步驟后的設置；圖22是本發(fā)明穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法的一初 始腳圖的一正視示意圖，說明一第三個微調(diào)態(tài)樣的一初拓腳圖步驟；圖23是該較佳實施例的一墊片裝置安裝在一鞋底裝置的一正視示意圖，說明一 初調(diào)配置步驟后的的設置；圖M是該較佳實施例的一調(diào)后腳圖的一正視示意圖，說明該第三個微調(diào)結構形 狀的一再拓腳圖步驟；圖25是該較佳實施例的另一墊片裝置安裝在鞋底裝置的一正視示意圖，說明一 微調(diào)配置步驟后的設置。
具體實施例方式為更進一步闡述本發(fā)明為達成預定發(fā)明目的所采取的技術手段及功效，以下結合 附圖及較佳實施例，對依據(jù)本發(fā)明提出的足弓矯正器鞋組及該鞋組內(nèi)部足底壓力平衡的微 調(diào)方法，其具體實施方式
、結構、方法、步驟、特征及其功效，詳細說明如后。參閱圖1、圖2與圖3，本發(fā)明足弓矯正器鞋組的較佳實施例，是用于供人體的一足 部3穿著，并包含一鞋底裝置1，及一墊片裝置21。本發(fā)明足弓矯正器鞋組的構造是左右 對應，所以圖中只顯示供右腳穿著的鞋底裝置1，也只顯示對應安裝的墊片裝置21。各鞋底 裝置1由下而上依序包括一大底片11、一中底片12、一內(nèi)襯片13，及一足弓矯正器14。該 足弓矯正器14為一拱曲形的足弓撐板，是可拆離地安裝在該內(nèi)襯片13上，是供人體的一足 部3踏置，用以撐托矯正該足部3結構，由于其為一般設計且非本發(fā)明重點，所以在此不再 詳細說明。此外，該鞋底裝置1整體還形成有一對應足部3的一腳跟31的鞋跟區(qū)15。上 述足弓矯正器14是可拆離地定位于內(nèi)襯片13上，且令該足弓矯正器14的后側與鞋跟區(qū) 15的后側對齊，而本實施例的鞋底裝置1更采用兩片皆呈刺狀的魔術氈16，分別黏貼在內(nèi) 襯片13頂面與足弓矯正器14底面，借由所述魔術氈16的沾粘防滑特性，使得足弓矯正器 14能止滑的安裝在內(nèi)襯片13上，并能輕易地向上脫離，下列圖式中就不再顯示足弓矯正器 14。而且在以下說明中皆以朝向足部3的腳尖的方向為前方，朝向腳跟的方向為后方，并以 鄰近另一足部3的位置為內(nèi)側，遠離另一足部3的位置為外側。而該墊片裝置21包括一呈馬蹄形且對應安裝在鞋跟區(qū)15上的足后跟墊片22，及 一具有數(shù)片墊片的偏置墊片單元20，該偏置墊片單元20是可拆離地安裝在該鞋底裝置1 內(nèi)，若該鞋底裝置1的前側緣至后側緣的長度的一半為界，令位于界線前方的區(qū)域視為一 前半段區(qū)域17，且位于界線后方的區(qū)域視為一后半段區(qū)域18，該后半段區(qū)域18涵蓋該鞋跟 區(qū)15，且該后半段區(qū)域18以左側緣至右側緣的長度的一半為界，令位于界線右方的部位視 為一右半部位181，而位于界線左方的部位視為一左半部位182，則該偏置墊片單元20是對應位于該后半段區(qū)域18的右半部位181與左半部位182的其中的一部位，用于相對頂撐托 高該足弓矯正器的局部偏側位置。該偏置墊片單元20是由一墊片備材庫2 (見圖4)中挑選出來的墊片所構成，該墊 片備材庫2具有一種呈扇形的側頂墊片23、一種呈圓形的微調(diào)墊片24、一種呈圓形的前調(diào) 墊片25，及一種呈圓形的頂舟狀骨墊片26，在本實施例的墊片備材庫2中可備置多片側頂 墊片23、多片微調(diào)墊片24、多片前調(diào)墊片25，及多片頂舟狀骨墊片沈以供選用，且側頂墊片 23、微調(diào)墊片24、前調(diào)墊片25，及頂舟狀骨墊片沈的直徑皆為15mm至45mm，所述墊片是由 可彼此黏貼的魔術氈所制成，而且所述魔術氈表面皆呈綿狀，底部設有類似膠水功能的黏 性層例如雙面膠帶，可輕易黏貼于另一魔術氈的表面。就一第一個微調(diào)態(tài)樣而言，該墊片裝置21是選用一片足后跟墊片22、兩片側頂墊 片23、兩片微調(diào)墊片24、一片前調(diào)墊片25，及一片頂舟狀骨墊片沈，而且本實施例墊片裝置 21的足后跟墊片22、側頂墊片23、微調(diào)墊片M及前調(diào)墊片25，是黏貼在該鞋底裝置1的中 底片12上，而該頂舟狀骨墊片沈則是黏貼在該鞋底裝置1的足弓矯正器14底部。當然在 設計上也可以將該墊片裝置21安裝在大底片11或內(nèi)襯片13上，位于片體頂面或底面皆 可，不以本實施例為限。而且本實施例是在該鞋跟區(qū)15黏貼該足后跟墊片22，在該足后跟墊片22的外側 前方排列黏貼所述側頂墊片23，令該側頂墊片23的邊緣對齊該鞋底裝置1的邊緣，在所述 側頂墊片23上黏貼所述微調(diào)墊片24，并在該足后跟墊片22的外側黏貼該前調(diào)墊片25，另 將該頂舟狀骨墊片26黏貼在對應該足后跟墊片22的內(nèi)側前方處。本發(fā)明穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法的較佳實施例， 是包含下列步驟，以下是以第一個微調(diào)態(tài)樣為例來說明一、初拓腳圖如圖5所示，印制一張具有使用人員一對足印41的初始腳圖4。印制腳圖以前，必須要確實的將油墨滾均勻，而 < 拓印腳圖 > 的過程如下步驟一、在一拓印板上以滾輪直接添加油墨。步驟二、以滾輪在已添加油墨的拓印板上來回滾動，將油墨均勻地被覆在拓印板 上。步驟三、將空白的腳圖紙左右對折平置，讓要先拓印的單腳區(qū)朝上。步驟四、再將拓印板輕輕的覆蓋于腳圖紙上，令有油墨的板面朝下。步驟五、假設先拓印的是受拓印人員的右腳，則左腳必須先踏入非拓印油墨區(qū)，即 空白腳圖紙的左外側，再將右腳踏上拓印板，受拓印人員踩上后先呈正常雙腳站立姿勢不 得移動，如有晃動情況就必須重印。步驟六、接著受拓印人員眼睛直視正前方，雙手自然下垂，屈膝向下微蹲，以在腳 圖紙上拓印出顯示右腳底所受壓力的足印41。步驟七、受拓印人員雙腳欲移離腳圖紙時，以左腳為重心，令右腳垂直向上抬并退 后離開腳圖紙，再換左腳退后，以后掀離拓印板，即完成右腳的拓印。如發(fā)生抬錯腳，則會導 致足印失真，必須重新拓印。步驟八、將拓印好的腳圖紙旋轉方向，換印制左腳，重復步驟一到步驟七，只是由 右腳印制改為左腳印制。須注意的是，第二次蹲下的高度必須與第一次蹲下的高度相同。二、初步分析根據(jù)一個分析模式，分別分析出初始腳圖4上左、右足印41的形狀及墨色濃淡的初始信息，并依據(jù)此初始信息由一校正數(shù)據(jù)庫中挑選出相對應的微調(diào)模式， 以建立出一份使用人員足底須調(diào)整壓力部位的初調(diào)數(shù)據(jù)。須說明的是，該校正數(shù)據(jù)庫并不 限定記載形式，也就是說不一定需要記載在有形物例如紙面資料上，也可以是存放在其它 記錄媒體中或網(wǎng)絡上。如圖6所示，上述分析模式如下(1)先沿著足印41的外圍輪廓劃出一條輪廓線32。接著劃出一條水平通過足印 41的腳跟部411后緣的后跟線33，當然也可以加劃一條水平通過足印41前緣的前端線36。 并劃出一條通過足印41的第二趾部412中心且垂直于后跟線33的垂直線34。再劃出一條 通過足印41的拇趾部413的根端內(nèi)側且垂直于后跟線33的拇趾側線35。(2)觀察輪廓線32分析足印41屬于何種腳型，也就是說分析是否形成有內(nèi)側凹弧 的足弓，以及腳心部414的寬度，若腳心部414較寬則為扁平足，若腳心部414較窄或斷開 則為高弓足，分析第一個微調(diào)態(tài)樣的足印41得知，左、右足印41的足弓不完全，腳心部414 過寬，所以都是扁平足腳型。(3)以垂直線34為基準線，觀察足印41于內(nèi)、外部位的面積分布，并以垂直線34 是否通過腳跟部411中心，或是位于腳跟部411中心的內(nèi)側或外側，來分析足印41是否偏 斜或旋轉，分析第一個微調(diào)態(tài)樣的左、右足印41得知，垂直線34皆位于腳跟部411中心的 外側，所以左足印41重心較偏向內(nèi)側，而右足印41重心也有些偏向內(nèi)側。(4)由于正常足各部位受到的壓力均勻，所以足印41的墨色濃淡應一致，觀察足 印41墨色濃淡，若有墨色濃淡明顯偏差，表示所受到的壓力不均，墨色越濃處所受到的壓 力越大，所以可經(jīng)由觀察足印41的墨色濃淡分布，來分析力量在前、在后或偏內(nèi)、偏外，而 分析第一個微調(diào)態(tài)樣的左、右足印41得知，腳跟部411的墨色濃，所以得知重心在后，而且 以垂直線34為界，內(nèi)側部位的墨色較濃于外側部位，特別是足印41于拇趾部413根端外側 的足前部415，墨色由外側向內(nèi)側逐漸變濃，所以力量偏內(nèi)，其中，右足印41的拇趾部413的 墨色較濃，因此力量也集中于拇趾部413處。(5)觀察腳型是否有不正常的凸出，分析拇趾部413延伸方向與拇趾側線35間的 傾斜角度，若超過20°即有拇趾部413外翻現(xiàn)象，而分析第一個微調(diào)態(tài)樣的左、右足印41得 知，左足的傾斜角度略大于20°，所以左足有拇趾部413外翻現(xiàn)象，另外觀察到左、右足印 41于腳跟部411前方內(nèi)側處凸出，所以也有舟狀骨凸出的情況。而前述校正數(shù)據(jù)庫具有下列微調(diào)模式(a)當重心在后的狀況-如圖7所示，在鞋底裝置1對應鞋跟區(qū)15的部位黏貼一 片足后跟墊片22，壓力越大，迭置黏貼越多片足后跟墊片22。(b)當力量向內(nèi)的狀況-如圖8所示，在足后跟墊片22的內(nèi)側前方排列黏貼兩片 側頂墊片23，且在兩側頂墊片23間黏貼一片微調(diào)墊片24，并在此微調(diào)墊片M前方再黏貼 一片微調(diào)墊片對，令微調(diào)墊片M的2/3部份貼在側頂墊片23上，且留1/3部份凸出襯墊在 旁側，安裝入足弓矯正器鞋組內(nèi)時，此1/3部份會向上彎折且靠置在鞋底裝置1旁側。當然 依據(jù)鞋底裝置1的尺寸大小可增減側頂墊片23及微調(diào)墊片M的數(shù)量。(c)當力量向外的狀況-如圖9所示，在鞋底裝置1對應足后跟墊片22的外側前 方排列黏貼兩片側頂墊片23，并在兩側頂墊片23間，以及位于前方的側頂墊片23上分別黏 貼一片微調(diào)墊片24，并再黏貼一片微調(diào)墊片24，同樣令微調(diào)墊片M的1/3部份凸出襯墊在旁側。當然可視情況增減側頂墊片23及微調(diào)墊片M的數(shù)量。(d)當拇趾部外翻的狀況-如圖10所示，在足后跟墊片22的外前側上黏貼一片前 調(diào)墊片25，同樣令前調(diào)墊片25的1/3部份凸出襯墊在旁側。(e)當足前部及所述腳趾所在區(qū)域受力的狀況-參閱圖11，須先說明的是，為因應 壓力作用在足前部415及所述腳趾所在區(qū)域的部位不同，墊片設置的位置即須左右相反且 上下顛倒，如圖所示將足印41的足前部415及腳趾所在區(qū)域，框圍在一馬蹄形的假想線416 范圍內(nèi)，并以一條假想直線將的區(qū)分成內(nèi)、外兩半部分，再以兩條前后間隔的假想橫線區(qū)分 成位于內(nèi)側且由前向后排列的一掌內(nèi)前部A、一掌內(nèi)中部B及一掌內(nèi)后部C，以及位于外側 且由前向后排列的一掌外前部D、一掌外中部E及一掌外后部F，接著將足印41的腳跟部 411框圍在一馬蹄形的假想線417范圍內(nèi)，并以一條假想直線將的區(qū)分成內(nèi)、外兩半部分， 再以兩條前后間隔的假想橫線區(qū)分成位于內(nèi)側且由前向后排列的一跟內(nèi)前部f、一跟內(nèi)中 部e及一跟內(nèi)后部d，以及位于外側且由前向后排列的一跟外前部C、一跟外中部b及一跟 外后部a。當掌內(nèi)前部A受壓時須將墊片墊在跟外后部a，當掌內(nèi)中部B受壓時須將墊片墊 在跟外中部b，當掌內(nèi)后部C受壓時須將墊片墊在跟外前部c，當掌外前部D受壓時須將墊 片墊在跟內(nèi)后部d，當掌外中部E受壓時須將墊片墊在跟內(nèi)中部e，當掌外后部F受壓時須 將墊片墊在跟內(nèi)前部f。如圖11及圖12所示，當拇趾部受力，即掌內(nèi)前部A受壓時，須在跟 外后部a設置墊片，即在足后跟墊片22的外后側上黏貼一片前調(diào)墊片25，同樣令前調(diào)墊片 25的1/3部份凸出襯墊在旁側。(f)當舟狀骨凸出的狀況-如圖1及圖13所示，在足弓矯正器14下方對應位于足 后跟墊片22的內(nèi)側前方黏貼一片頂舟狀骨墊片26。以第一個微調(diào)態(tài)樣為例所取得的初始信息，并由該校正數(shù)據(jù)庫中挑選出相對應的 微調(diào)模式，是符合「重心在后，扁平足腳型，力量偏內(nèi)，舟狀骨凸出，及右足印41的拇趾部 413受力」等情況，所以依此建立出一份使用人員足底須調(diào)整壓力部位的初調(diào)數(shù)據(jù)，也就是 說如圖1所示須在鞋跟區(qū)15黏貼一片足后跟墊片22，在足后跟墊片22的外側前方排列黏 貼兩片側頂墊片23，且在足后跟墊片22與側頂墊片23間以及兩側頂墊片23間，分別黏貼 一片微調(diào)墊片24，并在足弓矯正器14下方對應位于足后跟墊片22的內(nèi)側前方黏貼一片頂 舟狀骨墊片沈，最后在右側足弓矯正器鞋組的鞋跟區(qū)15上，于足后跟墊片22的外后側上黏 貼一片前調(diào)墊片25。三、初調(diào)配置如圖3所示，依據(jù)此初調(diào)資料挑選出一片足后跟墊片22、兩片側頂 墊片23、兩片微調(diào)墊片24、一片頂舟狀骨墊片26，及一片前調(diào)墊片25，構成該墊片裝置21， 并將此墊片裝置21黏貼于足弓矯正器鞋組的鞋底裝置1，使足弓矯正器鞋組配置成為一初 調(diào)足弓矯正器鞋組，如圖1及圖14所示，使用人員穿著初調(diào)足弓矯正器鞋組，借由足后跟墊 片22、側頂墊片23、頂舟狀骨墊片沈，及前調(diào)墊片25相對托高使用人員足底的局部區(qū)域，且 利用所述微調(diào)墊片M旁側外凸的1/3部份頂靠于使用人員足部，以將足部的相對區(qū)域往中 央頂推。進一步來看使用人員穿著初調(diào)足弓矯正器鞋組行走時的情況，由于「足弓」是由足 部3骨骼排列和足底的跖膜及肌腱所組成，所以當使用人員腳底完全接觸地面時，足弓需 要變得扁平，肌腱和筋膜也要展開來吸收體重及行走時的重量，而當步態(tài)轉換到腳跟31離 地時，這些軟組織會集中，這個能量則會轉換成推動身體前進的力量，每當踏出一步，如圖1及圖3的箭頭所示，腳的壓力轉換都是由足跟31沿著外緣的外側縱弓的方向往前，再朝內(nèi) 沿著橫弓的方向橫跨前足的部位直到拇趾部下方，因為足跟31是足部3最靠近身體的部 位，身體的重心主要是由足跟31來承擔，足跟31的施力方向會決定足底壓力的分布方向， 所以足后跟墊片22能讓重心前移，且當腳的壓力往前移動時，借由后方外側的側頂墊片23 及微調(diào)墊片M的墊高隆起，使得人體重心往前向內(nèi)傾斜，但因足弓矯正器14的內(nèi)側較為 凸翹，而且透過人體力學及工學的平衡機制，會促使足部重新自動修正偏向外側，使力量向 外，再透過頂舟狀骨墊片沈頂撐舟狀骨，可矯正使足弓回復正常位置。另外在右側足弓矯 正器鞋組的鞋底裝置1加上后方前調(diào)墊片25，同樣可借由人體平衡機制，對稱拉回前端拇 趾部力量減輕拇趾部受力。也就是，除了利用足弓矯正器14來頂托足部3矯正腳型以外，更能因應使用人員 狀態(tài)，借由相對應的墊片裝置21來托高使用人員足底的局部區(qū)域，令使用人員足底的壓力 由不平衡趨向于平衡，讓足弓朝向平衡的位置改變，隨的令脛骨外轉、骨盆外旋，讓膝關節(jié) 外開以避免繼續(xù)磨損，所以能調(diào)整膝關節(jié)周圍軟組織，舒緩肌腱韌帶肌肉的張力，可減輕疼 痛與腫脹。又，在初次配穿足弓矯正器鞋組后，使用人員借由走路行進間，每踏一步前進的動 作，透過(1)腳跟著地( 腳掌承受貼地C3)腳尖離地三步驟，往復地借由自身身體重量及 人體動力工學在每踏一步間進行矯正。如此經(jīng)過一段時間，例如三個月后，使用人員腳底的 失衡狀況可能已改變成另一雖較輕微但已與第一次不同的型態(tài)，若繼續(xù)穿著原有的足弓矯 正器鞋組已不復適用，此時即須再進行另一次微調(diào)矯正。四、再拓腳圖當使用人員穿著初調(diào)足弓矯正器鞋組一段時間，例如2-3個月以 后，再如圖15所示，印制具有使用人員一對足印51的調(diào)后腳圖5，如圖15所示繪出輪廓。五、再調(diào)分析根據(jù)前述分析模式，如圖16分析出調(diào)后腳圖5上足印51的形狀及 墨色濃淡的調(diào)后信息，將此調(diào)后信息與該初始信息比對，可得知「重心在后但壓力已減輕， 有足弓形成近似正常腳型，舟狀骨已抬高，右足印51的拇趾部513已無明顯受力狀況，力量 由原本偏內(nèi)的情況略為向外」，并由校正數(shù)據(jù)庫中挑選出相對應的微調(diào)模式，以建立出一份 使用人員足底須微調(diào)壓力部位的再調(diào)數(shù)據(jù)，如圖17所示，也就是說仍須維持前述足后跟墊 片22、側頂墊片23及微調(diào)墊片M的貼設，并在足后跟墊片22的內(nèi)前側黏貼一片前調(diào)墊片 25，以借由人體平衡機制讓力量朝內(nèi)。六、微調(diào)配置取出初調(diào)足弓矯正器鞋組內(nèi)的墊片裝置21，并依據(jù)再調(diào)數(shù)據(jù)對應 在鞋底裝置1，設置如圖17所示的由足后跟墊片22、側頂墊片23、微調(diào)墊片M及前調(diào)墊片 25所構成的另一墊片裝置21，當然也可以只取出圖3的頂舟狀骨墊片沈，移動前調(diào)墊片25 的位置，并保留原有的足后跟墊片22、側頂墊片23及微調(diào)墊片24，使足弓矯正器鞋組配置 成為一調(diào)后足弓矯正器鞋組，使用人員穿著調(diào)后足弓矯正器鞋組，可微調(diào)使用人員足底的 局部區(qū)域的高度，令使用人員足底的壓力再度更趨向平衡完美，并能讓身體的各部位歸響 應有的位置，使足部3(見圖1)在站立或行走時均能得到最佳的平衡與穩(wěn)定，所以能舒適地 行走不易感到疲勞。接著，以第二個微調(diào)態(tài)樣為例來說明，其是包含下列步驟一、初拓腳圖如圖18所示，印制一張具有使用人員一對足印41的初始腳圖4。二、初步分析根據(jù)分析模式，分析初始腳圖4上左、右足印41的形狀及墨色濃淡的初始信息，得知「左、右足印41略呈高弓足腳型，力量明顯偏向外側，且外側第五趾受 力」，并依據(jù)此初始信息由校正數(shù)據(jù)庫中挑選出相對應的微調(diào)模式，以建立出一份使用人員 足底須調(diào)整壓力部位的初調(diào)數(shù)據(jù)，也就是如圖11及圖19所示，當力量向外時，在鞋底裝置 1對應跟內(nèi)前部f處黏貼一片微調(diào)墊片24，并令微調(diào)墊片M的1/3部份凸出襯墊在旁側， 且當外側第五趾受力時，在鞋底裝置1對應跟內(nèi)后部d處黏貼一片前調(diào)墊片25，同樣令前調(diào) 墊片25的1/3部份凸出襯墊在旁側。三、初調(diào)配置依據(jù)此初調(diào)資料挑選出一片微調(diào)墊片24，及一片前調(diào)墊片25，構成 該墊片裝置21，并將此墊片裝置21黏貼于足弓矯正器鞋組的鞋底裝置1，使足弓矯正器鞋 組配置成為一初調(diào)足弓矯正器鞋組，當使用人員穿著此初調(diào)足弓矯正器鞋組，借所述墊片 相對托高使用人員足底的局部區(qū)域。使用人員行走時，即能透過人體力學及工學的平衡機 制，促使足部重新自動修正使力量向內(nèi)，減輕第五趾的受力。四、再拓腳圖當使用人員穿著初調(diào)足弓矯正器鞋組一段時間，例如3個月以后， 再如圖20所示，印制具有使用人員一對足印51的調(diào)后腳圖5。五、再調(diào)分析根據(jù)前述分析模式，分析出調(diào)后腳圖5上足印51的形狀及墨色濃淡 的調(diào)后信息，將此調(diào)后信息與該初始信息比對，可得知「外側壓力已減輕，且第五趾已無明 顯受力狀況」，并由校正數(shù)據(jù)庫中挑選出相對應的微調(diào)模式，以建立出一份使用人員足底須 微調(diào)壓力部位的再調(diào)資料，須如圖11及圖21所示，在鞋底裝置1對應跟內(nèi)前部f處黏貼一 片微調(diào)墊片對。六、微調(diào)配置取出初調(diào)足弓矯正器鞋組內(nèi)的墊片裝置21，并依據(jù)再調(diào)數(shù)據(jù)對應 在鞋底裝置1，仍須如圖21所示維持前述微調(diào)墊片M的貼設，并撕離前調(diào)墊片25(見圖 19)，以借由人體平衡機制讓力量繼續(xù)朝內(nèi)，令使用人員足底的壓力再度更趨向平衡完美。最后，以第三個微調(diào)態(tài)樣為例來說明，其是包含下列步驟—、初拓腳圖如圖22所示，印制一張具有使用人員一對足印41的初始腳圖4。二、初步分析根據(jù)分析模式，分析初始腳圖4上左、右足印41的形狀及墨色濃淡 的初始信息，得知「左、右足印41明顯為高弓足腳型，且力量向外」，并依據(jù)此初始信息由校 正數(shù)據(jù)庫中挑選出相對應的微調(diào)模式，以建立出一份使用人員足底須調(diào)整壓力部位的初調(diào) 數(shù)據(jù)，也就是如圖11及圖23所示，當力量向外時，在鞋底裝置1對應跟內(nèi)前部f處黏貼一 片微調(diào)墊片24，并令微調(diào)墊片M的1/3部份凸出襯墊在旁側。三、初調(diào)配置依據(jù)此初調(diào)資料挑選出一片微調(diào)墊片M構成該墊片裝置21，并將 此墊片裝置21黏貼于足弓矯正器鞋組的鞋底裝置1，使足弓矯正器鞋組配置成為一初調(diào)足 弓矯正器鞋組，當使用人員穿著此初調(diào)足弓矯正器鞋組，即能透過人體力學及工學的平衡 機制，促使足部重新自動修正使力量向內(nèi)。四、再拓腳圖當使用人員穿著初調(diào)足弓矯正器鞋組一段時間，例如1個月以后， 再如圖M所示，印制具有使用人員一對足印51的調(diào)后腳圖5。五、再調(diào)分析根據(jù)前述分析模式，分析出調(diào)后腳圖5上足印51的形狀及墨色濃 淡的調(diào)后信息，將此調(diào)后信息與該初始信息比對，可得知「壓力減輕且力量向內(nèi)」，并由校正 數(shù)據(jù)庫中挑選出相對應的微調(diào)模式，以建立出一份使用人員足底須微調(diào)壓力部位的再調(diào)數(shù) 據(jù)，如圖25所示，不須另外添加墊片。六、微調(diào)配置如圖25所示，依據(jù)再調(diào)數(shù)據(jù)，將鞋底裝置1上的微調(diào)墊片24(見圖23)撕離，即能借由人體平衡機制令使用人員足底的壓力再度更趨向平衡完美。綜上所述，本發(fā)明除了利用足弓矯正器14來頂托足部3矯正腳型以外，更依據(jù)使 用人員的腳圖，分析出足部3的受力狀況，并依壓力大小所對應的補償方位，以模塊化在鞋 底裝置1設置墊片裝置21，借以托高使用人員足底的局部區(qū)域，令使用人員足底壓力由不 平衡狀態(tài)回歸平衡狀態(tài)，連帶使得膝蓋、骨盆、脊椎回復正常位置，以維持人體健康，所以確 實能達成本發(fā)明的目的。以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，雖 然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術人 員，在不脫離本發(fā)明技術方案范圍內(nèi)，當可利用上述揭示的方法及技術內(nèi)容作出些許的更 動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的 技術實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術方案 的范圍內(nèi)。
權利要求
1.一種足弓矯正器鞋組，用于供人體的一個足部穿著，并包含一個鞋底裝置，該鞋底 裝置形成有一個對應所述足部的一個腳跟的鞋跟區(qū)，該鞋底裝置包括一個中底片，及一個 可拆離地安裝在該中底片上方以供所述足部踏置的足弓矯正器；其特征在于該足弓矯正 器鞋組還包含一個墊片裝置，該墊片裝置包括一個可拆離地安裝在該鞋底裝置內(nèi)的偏置 墊片單元，該偏置墊片單元是對應位于該鞋底裝置涵蓋有鞋跟區(qū)的一個后半段區(qū)域，且位 于該后半段區(qū)域的一個右半部位與一個左半部位的其中一個部位上。
2.如權利要求1所述的足弓矯正器鞋組，其特征在于該鞋底裝置還包括一個對應迭 置在該中底片上方且位于該足弓矯正器下方的內(nèi)襯片，該偏置墊片單元是安裝在該中底片 與內(nèi)襯片間。
3.如權利要求1所述的足弓矯正器鞋組，其特征在于該鞋底裝置還包括一個對應迭 置在該中底片上方且位于該足弓矯正器下方的內(nèi)襯片，該偏置墊片單元是安裝在該中底片 與內(nèi)襯片間，以及該內(nèi)襯片與足弓矯正器間。
4.如權利要求1所述的足弓矯正器鞋組，其特征在于該偏置墊片單元具有至少一片 呈扇形的側頂墊片，該側頂墊片是可拆離地安裝在該鞋底裝置的后半段區(qū)域的右半部位與 左半部位的其中一個部位上，且位于該鞋跟區(qū)前方，該側頂墊片的邊緣對齊該鞋底裝置的 邊緣，該側頂墊片的直徑為15mm至45mm。
5.如權利要求1所述的足弓矯正器鞋組，其特征在于該偏置墊片單元具有至少一片 呈圓形的微調(diào)墊片，該微調(diào)墊片是可拆離地安裝在該鞋底裝置的后半段區(qū)域的右半部位與 左半部位的其中一個部位上，且位于該鞋跟區(qū)前方，該微調(diào)墊片局部凸露出該鞋底裝置的 邊緣外，該微調(diào)墊片的直徑為15mm至45mm。
6.如權利要求1所述的足弓矯正器鞋組，其特征在于該偏置墊片單元具有至少一片 圓形的前調(diào)墊片，該前調(diào)墊片是可拆離地安裝在該鞋底裝置的后半段區(qū)域的右半部位與左 半部位的其中一個部位上，且位于該鞋跟區(qū)的側邊上，該前調(diào)墊片局部凸露出該鞋底裝置 的邊緣外，該微調(diào)墊片的直徑為15mm至45mm。
7.如權利要求3所述的足弓矯正器鞋組，其特征在于該偏置墊片單元具有至少一片 圓形的頂舟狀骨墊片，該頂舟狀骨墊片是可拆離地安裝在該鞋底裝置的后半段區(qū)域的右半 部位與左半部位的其中一個部位上，且位于該足弓矯正器底部，該頂舟狀骨墊片局部凸露 出該鞋底裝置的邊緣外，該頂舟狀骨墊片的直徑為15mm至45mm。
8.一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，所述足弓矯正器鞋 組的一個鞋底裝置包括一個足弓矯正器，其特征在于該微調(diào)方法包含下列步驟初拓腳圖印制具有使用人員一對足印的初始腳圖；初步分析根據(jù)一個分析模式，分析出初始腳圖上足印的形狀及墨色濃淡的初始信息， 并依據(jù)此初始信息由一個校正數(shù)據(jù)庫中挑選出相對應的微調(diào)模式，以建立出一份使用人員 足底須調(diào)整壓力部位的初調(diào)數(shù)據(jù)；及初調(diào)配置依據(jù)此初調(diào)數(shù)據(jù)對應在一雙足弓矯正器鞋組的鞋底裝置分別安裝一個墊片 裝置，使各足弓矯正器鞋組配置成為一個初調(diào)足弓矯正器鞋組，使用人員穿著初調(diào)足弓矯 正器鞋組能托高足底的局部區(qū)域，令使用人員足底的壓力趨向平衡。
9.如權利要求8所述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方 法，其特征在于該微調(diào)方法還包含下列步驟再拓腳圖當使用人員穿著初調(diào)足弓矯正器鞋組一段時間以后，再印制具有使用人員一對足印的改善后腳圖；再調(diào)分析根據(jù)該分析 模式，分析出改善后腳圖上足印的形狀及墨色濃淡的調(diào)后信息，將此調(diào)后信息與該初始信 息比對，并由校正數(shù)據(jù)庫中挑選出相對應的微調(diào)模式，以建立出一份使用人員足底須微調(diào) 壓力部位的再調(diào)資料；及微調(diào)配置取出初調(diào)足弓矯正器鞋組內(nèi)的墊片裝置，并依據(jù)再調(diào) 數(shù)據(jù)對應在鞋底裝置分別設置另一個墊片裝置，使各足弓矯正器鞋組配置成為一個調(diào)后足 弓矯正器鞋組，使用人員穿著調(diào)后足弓矯正器鞋組，借以微調(diào)使用人員足底的局部區(qū)域的 高度，令使用人員足底的壓力再度更趨向平衡完美。
10.如權利要求8所述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方 法，其特征在于該微調(diào)方法還包含下列步驟再拓腳圖當使用人員穿著初調(diào)足弓矯正器 鞋組一段時間以后，再印制具有使用人員一對足印的改善后腳圖；再調(diào)分析根據(jù)該分析 模式，分析出改善后腳圖上足印的形狀及墨色濃淡的調(diào)后信息，將此調(diào)后信息與該初始信 息比對，并由校正數(shù)據(jù)庫中挑選出相對應的微調(diào)模式，以建立出一份使用人員足底須微調(diào) 壓力部位的再調(diào)資料；及微調(diào)配置取出初調(diào)足弓矯正器鞋組內(nèi)的墊片裝置，使各足弓矯 正器鞋組成為一個調(diào)后足弓矯正器鞋組，使用人員穿著調(diào)后足弓矯正器鞋組，可使足底的 壓力再度更趨向平衡完美。
11.如權利要求8所述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方 法，其特征在于該分析模式是先沿著足印的外圍輪廓劃出一條輪廓線，接著劃出一條水平 通過腳跟部后緣的后跟線，并劃出一條通過第二趾部中心且垂直于后跟線的垂直線，再劃 出一條通過拇趾部根端內(nèi)側且垂直于后跟線的拇趾側線，分析足印以垂直線為界內(nèi)、外部 位的面積及墨色分布，依內(nèi)、外面積的大小來分析足印的偏斜方向，并依足印的墨色濃淡來 分析壓力的分布，再依拇趾部延伸方向與拇趾側線間的傾斜角度來分析拇趾部的外翻傾斜 度。
12.如權利要求8所述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方 法，其特征在于該鞋底裝置形成有一個對應足部的腳跟部的鞋跟區(qū)，該墊片裝置包括一片 對應鞋跟區(qū)的足后跟墊片，并將該足后跟墊片黏貼在該鞋跟區(qū)上。
13.如權利要求8所述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方 法，其特征在于該墊片裝置包括一個偏置墊片單元，該偏置墊片單元具有至少一片側頂墊 片，將該側頂墊片黏貼在該鞋跟區(qū)的外側前方。
14.如權利要求13所述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào) 方法，其特征在于該偏置墊片單元還具有至少一片微調(diào)墊片，將該微調(diào)墊片黏貼在該側頂 墊片上方。
15.如權利要求8所述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方 法，其特征在于該墊片裝置包括一個偏置墊片單元，該偏置墊片單元具有至少一片前調(diào)墊 片，將該前調(diào)墊片黏貼在該鞋跟區(qū)的側邊上。
16.如權利要求8所述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方 法，其特征在于該墊片裝置包括一個偏置墊片單元，該偏置墊片單元具有至少一片頂舟狀 骨墊片，將該頂舟狀骨墊片黏貼在該鞋跟區(qū)的內(nèi)側前方。
17.如權利要求8所述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方 法，其特征在于該足弓矯正器鞋組的鞋底裝置由下而上依序還包括一個大底片、一個中底片，及一個內(nèi)襯片，將該足弓矯正器安裝在該內(nèi)襯片上方，并將該墊片裝置安裝在該鞋底裝 置的中底片上。
18.如權利要求8所述的一種穿著足弓矯正器鞋組時的鞋內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方 法，其特征在于將足印的一個足前部及數(shù)根腳趾所在區(qū)域，框圍在一個馬蹄形的假想線范 圍內(nèi)，并以一條假想直線將其區(qū)分成內(nèi)、外兩半部分，再以兩條前后間隔的假想橫線區(qū)分成 位于內(nèi)側的一個掌內(nèi)前部、一個掌內(nèi)中部及一個掌內(nèi)后部，以及位于外側的一個掌外前部、 一個掌外中部及一個掌外后部，接著將足印的腳跟部框圍在一個馬蹄形的假想線范圍內(nèi)， 并以一條假想直線將其區(qū)分成內(nèi)、外兩半部分，再以兩條前后間隔的假想橫線區(qū)分成位于 內(nèi)側的一個跟內(nèi)前部、一個跟內(nèi)中部及一個跟內(nèi)后部，以及位于外側的一個跟外前部、一個 跟外中部及一個跟外后部，在掌內(nèi)前部受壓時將該偏置墊片單元墊在跟外后部，在掌內(nèi)中 部受壓時將該偏置墊片單元墊在跟外中部，在掌內(nèi)后部受壓時將該偏置墊片單元墊在跟外 前部，在掌外前部受壓時將該偏置墊片單元墊在跟內(nèi)后部，在掌外中部受壓時將該偏置墊 片單元墊在跟內(nèi)中部，在掌外后部受壓時將該偏置墊片單元墊在跟內(nèi)前部。
全文摘要
本發(fā)明是有關于一種足弓矯正器鞋組及該鞋組內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，一種足弓矯正器鞋組及該鞋組內(nèi)部足底壓力平衡的微調(diào)方法，該足弓矯正器鞋組的一鞋底裝置包括一足弓矯正器，該微調(diào)方法包含下列步驟初拓腳圖印制具有使用人員一對足印的初始腳圖。初步分析根據(jù)一個分析模式，分析初始腳圖上足印的初始信息，并依據(jù)此初始信息建立出一份足底須調(diào)整壓力部位的初調(diào)數(shù)據(jù)。初調(diào)配置依此初調(diào)數(shù)據(jù)對應在一雙足弓矯正器鞋組的鞋底裝置分別安裝一墊片裝置。本發(fā)明是依據(jù)使用人員足印狀況，在鞋底裝置對應安裝墊片裝置，踏置時就能依人體力學及工學，使足底壓力由不平衡趨向于平衡。
文檔編號A43B7/00GK102078232SQ20091024622
公開日2011年6月1日 申請日期2009年11月27日 優(yōu)先權日2009年11月27日
發(fā)明者蘇建德, 謝東辰, 謝宗憲, 謝進興 申請人:俊達生技股份有限公司