專利名稱：頭顱固定帽的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及醫(yī)療用帽子，具體是一種頭顱固定帽。
背景技術(shù)：
目前醫(yī)院頭顱開顱手術(shù)的病人，頭顱的殘缺會出現(xiàn)不美觀的現(xiàn)象，病人往往有比 較嚴(yán)重的心理障礙，在休息時影響睡覺的姿勢和心態(tài)。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的是排除病人因頭顱缺損引起外觀的改變而擔(dān)心頭部再次受損 帶來的心里問題，以便使之恢復(fù)正常的睡覺的姿勢，提出一種頭顱固定帽。為此本實用新型的技術(shù)方案為，頭顱固定帽，包括帽子本體，其特征在于所述帽 子本體設(shè)為三層，其中內(nèi)層是和頭顱吻合的內(nèi)襯層，中間層為硬質(zhì)材料防護(hù)層，外層為外護(hù) 層；其中硬質(zhì)材料防護(hù)層是活動設(shè)置在頭顱缺損處的鑲塊，鑲塊比頭顱缺損處的尺寸大。對上述方案的改進(jìn)在于硬質(zhì)材料防護(hù)層的鑲塊為輕質(zhì)納米PBT材料制成的。有益效果本實用新型對于頭顱開顱手術(shù)的病人來講，直接把本實用新型套在頭上，在開顱 處把中間層的硬質(zhì)材料即輕質(zhì)納米PBT的鑲塊對準(zhǔn)創(chuàng)口位置，起到有效的防護(hù)作用，病人 就可以心安理得的休息和生活，不會應(yīng)為頭顱缺損的不美觀而擔(dān)心頭部再次受損帶來的心 里問題。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單，成本低，不僅有效地保護(hù)了頭顱缺損處，還會全方位地對病 人進(jìn)行呵護(hù)。

圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)簡圖。圖中1是帽子本體，2是帽子的外層，3是硬質(zhì)材料防護(hù)層的鑲塊，4是內(nèi)襯層。
具體實施方式
如圖1所示，帽子1設(shè)為三層，內(nèi)層是和頭顱吻合的內(nèi)襯層4，中間層為硬質(zhì)材料防 護(hù)層3，外層為外護(hù)層2 ；其中硬質(zhì)材料防護(hù)層3是活動設(shè)置在開顱創(chuàng)口處的鑲塊，鑲塊比創(chuàng) 口的尺寸大。硬質(zhì)材料防護(hù)層的鑲塊為輕質(zhì)納米PBT材料制成的。
權(quán)利要求頭顱固定帽，包括帽子本體，其特征在于所述帽子本體設(shè)為三層，其中內(nèi)層是和頭顱吻合的內(nèi)襯層，中間層為硬質(zhì)材料防護(hù)層，外層為外護(hù)層；其中硬質(zhì)材料防護(hù)層是活動設(shè)置在頭顱缺損處的鑲塊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頭顱固定帽，其特征在于硬質(zhì)材料防護(hù)層的鑲塊為輕質(zhì)納 米PBT材料制成的。
專利摘要本實用新型頭顱固定帽，是把帽子本體設(shè)為三層，其中內(nèi)層是和頭顱吻合的內(nèi)襯層，中間層為硬質(zhì)材料防護(hù)層，外層為外護(hù)層；其中硬質(zhì)材料防護(hù)層是活動設(shè)置在頭顱缺損處的鑲塊，鑲塊比頭顱缺損處的尺寸大；硬質(zhì)材料防護(hù)層的鑲塊為輕質(zhì)納米PBT材料制成的。對于頭顱開顱手術(shù)的病人來講，直接把本實用新型套在頭上，在開顱處把中間層的硬質(zhì)材料即輕質(zhì)納米PBT的鑲塊對準(zhǔn)頭顱缺損處，不會因為頭顱缺損引起外觀的改變而擔(dān)心頭部再次受損帶來的心里問題，使之恢復(fù)正常的睡覺的姿勢。本實用新型結(jié)構(gòu)簡單，成本低，不僅有效地保護(hù)了頭顱缺損處，還會全方位地對病人進(jìn)行呵護(hù)。
文檔編號A41D13/05GK201631433SQ20102013567
公開日2010年11月17日 申請日期2010年3月17日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月17日
發(fā)明者馮曉敏, 葉寶霞, 呂文彩, 姜佩娥, 朱紅霞, 楊海力, 王靜, 秦雪琴, 羅芳, 黃敏 申請人:鄖陽醫(yī)學(xué)院附屬太和醫(yī)院