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美甲照射機(jī)的制作方法

文檔序號(hào):712469閱讀:243來(lái)源:國(guó)知局
專(zhuān)利名稱(chēng):美甲照射機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
美甲照射機(jī)技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實(shí)用新型涉及一種美甲照射機(jī),尤指一種于指甲彩繪或美容后的照射紫外線設(shè)備。
背景技術(shù)
[0002]指甲的美容包含了彩繪、鉆刻、繪畫(huà)等,主要是以指甲油、亮片及接著劑涂繪于手 指或腳趾上,尤其是有些美容的上色是需要有層次的,也就是要多次的著色或多道彩繪鉆 刻的程序,因此在每一次的程序中間,都需要等指甲油或接著劑干了,才能再進(jìn)行下一個(gè)步 驟;為了節(jié)省時(shí)間,需要將指甲油或接著劑加速凝固,通常會(huì)使用紫外線的美甲照射機(jī)來(lái)照 射指甲,以使指甲上的指甲油或接著劑能加速變干凝固,如中國(guó)臺(tái)灣專(zhuān)利第M427838號(hào)所 示,即為較新且常見(jiàn)的設(shè)計(jì)。[0003]請(qǐng)參看圖6、圖7所示,是前述現(xiàn)有常用的美甲照射機(jī)的照射結(jié)構(gòu)示意圖,主要是 設(shè)有一具開(kāi)口 51的箱形外殼50,在內(nèi)部的頂部密布設(shè)有多個(gè)光源體60,一般是紫外線的發(fā) 光二極管,由于手指或腳趾有長(zhǎng)短不同,所以上方的光源體60為能適應(yīng)各種大小尺寸的手 指或腳趾,或者左、右手指或腳趾的指甲都能使用,且能被充分的照射到,該光源體60通常 是以矩陣式的排列,這種設(shè)計(jì)雖然是提供了大片的照射區(qū)域,光線是由上垂直向下的照射, 造成了將手(腳)掌背面也被大面積且大量的紫外線所照射,長(zhǎng)期下來(lái),皮膚容易產(chǎn)生病變。[0004]甚至于在制造上,將該箱形外殼50的底部52設(shè)為銀色或裸露的金屬色澤,雖是 美觀,卻也將上方的大片光源體60所產(chǎn)生的紫外線直接或間接的反射,很容易即由箱形外 殼50的開(kāi)口 51處漫射而出,就實(shí)際的測(cè)試,多半手臂及眼睛(面部)均有大量的紫外線照射 到,對(duì)人體產(chǎn)生了危害,這都是現(xiàn)有光源設(shè)計(jì)不佳所造成的缺點(diǎn),也是該種機(jī)具最應(yīng)改善的 所在。[0005]另外,由于大量的光源體60的密集設(shè)置,將產(chǎn)生大量的熱能留在該箱形外殼50 內(nèi),所以又必需使用較高速或較大的風(fēng)扇將熱能散去,是增加體積同時(shí)制造的成本增加,浪 費(fèi)能源,是其另一缺點(diǎn)。發(fā)明內(nèi)容[0006]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,本實(shí)用新型的目的在于提供一種美甲照射機(jī),解決現(xiàn)有技 術(shù)存在的照射區(qū)域過(guò)大、紫外線漫射以及浪費(fèi)能源的問(wèn)題。[0007]為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是[0008]一種美甲照射機(jī),其特征在于,至少包括[0009]一底板;[0010]一殼體,是一拱形體而罩設(shè)于底板的上方,使殼體與底板間形成一空間;[0011]數(shù)個(gè)照射光源組分別設(shè)于殼體的頂部及兩側(cè)部而形成環(huán)狀的分布,該照射光源組 包括有光源體及散熱片,且設(shè)在殼體頂部的照射光源組的光線投射方向是朝向前方,所述 前方是指殼體與底板所形成空間的開(kāi)口對(duì)面延伸處。[0012]殼體在上方頂部設(shè)有一彎折,該彎折的底部垂直線是朝向前方,所述前方是指殼 體與底板所形成空間的開(kāi)口對(duì)面延伸處。[0013]該殼體頂部的彎折由外而內(nèi)的呈凹陷的槽狀。[0014]該殼體頂部的彎折由內(nèi)而外的呈拱起狀。[0015]殼體的內(nèi)側(cè)設(shè)有黑色涂層。[0016]底板在表面設(shè)有黑色涂層。[0017]與現(xiàn)有技術(shù)相比較,采用上述技術(shù)方案的本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)在于[0018]本實(shí)用新型設(shè)有一任意造型的底板與一拱形殼體而構(gòu)成照射空間;數(shù)個(gè)照射光源 組分別設(shè)于殼體的頂部及兩側(cè)部,而使光源呈環(huán)狀的分布,該照射光源組包括有光源體及 散熱片,且設(shè)在殼體頂部的照射光源組,它的光線投射方向是朝向前方,即殼體與底板所形 成空間的開(kāi)口對(duì)面處,如此不但能使光源集中于指甲,且使紫外線從各種角度均勻照在弧 形指甲上,且不易被反射出機(jī)體外部,使用更為安全,且避免浪費(fèi)過(guò)多的能源。[0019]本實(shí)用新型在殼體頂部設(shè)有彎折,這個(gè)彎折是配合照射光源組的光線投射方向是 朝向前方,即殼體與底板所形成空間的開(kāi)口對(duì)面處,這樣結(jié)構(gòu)將使照射光源組的設(shè)置更為 穩(wěn)固。[0020]本實(shí)用新型在底板或殼體的內(nèi)側(cè)面涂布有黑色涂層,可以避免光線的反射出機(jī) 體,使用上更為安全。


[0021]圖1是本實(shí)用新型的主要結(jié)構(gòu)組合圖;[0022]圖2是本實(shí)用新型的主要結(jié)構(gòu)分解圖;[0023]圖3是本實(shí)用新型的剖視結(jié)構(gòu)圖;[0024]圖4由側(cè)剖方向說(shuō)明本實(shí)用新型的照射示意圖;[0025]圖5由俯視方向說(shuō)明本實(shí)用新型的照射示意圖;[0026]圖6是現(xiàn)有結(jié)構(gòu)圖;[0027]圖7是現(xiàn)有結(jié)構(gòu)剖視圖。[0028]附圖標(biāo)記說(shuō)明10底板;11透孔;20殼體;201頂部;202側(cè)部;203側(cè)部;21彎折; 30照射光源組;301照射光源組;302照射光源組;303照射光源組;304照射光源組;305照 射光源組;31光源體;32散熱片;33聚光罩杯;34光束;35光束;40涂層;50外殼;51開(kāi)口; 52底部;60光源體;70手;L垂直線。
具體實(shí)施方式
[0029]為使貴審查委員能清楚了解本實(shí)用新型的內(nèi)容,僅以下列說(shuō)明搭配圖式,說(shuō)明如后。[0030]請(qǐng)參看圖1、圖2所示,本實(shí)用新型至少包含有[0031]一底板10,為一任意造型板體,在周側(cè)設(shè)有數(shù)個(gè)透孔11,并于表面設(shè)有黑色(吸光 的)涂層40,以防止由上方或側(cè)面照下的紫外線光到達(dá)底板10后反射出機(jī)體。[0032]請(qǐng)參看圖1、圖2、圖3所不,一殼體20,是一拱形體而罩設(shè)于底板10的上方,使殼 體20與底板10間形成一空間;其中,殼體20于上方頂部201設(shè)有一彎折21,該彎折21可以是凹陷如槽狀(如本實(shí)用新型第1、2、3圖所示),也或是相對(duì)的拱起(本實(shí)用新型未另贅 設(shè)圖式),但于彎折21本身的底部垂直線L (如圖4所示)是略朝向前方,即殼體20與底板 10所形成空間的開(kāi)口對(duì)面延伸處。[0033]上述的殼體20的內(nèi)側(cè),也可設(shè)有黑色吸光涂層(不另標(biāo)號(hào)),以減少光線的反射。[0034]數(shù)個(gè)照射光源組30、301、302、303、304、305分別設(shè)于殼體20的頂部201及兩側(cè)部 202,203而形成環(huán)狀的分布;該照射光源組30、301、302、303、304、305包括有(照射紫外線 的)光源體31及散熱片32,且在環(huán)設(shè)的照射光源組301、302、303、304、305的光源體31前方設(shè)有聚光罩杯33。[0035]本實(shí)用新型在外部可以套設(shè)或鑲粘各種造型外殼,以形成完整的機(jī)具,惟因該造 型外殼的外觀造型設(shè)計(jì)并非本實(shí)用新型的特征,故不予贅繪。[0036]請(qǐng)?jiān)賲⒖磮D3、圖4所示,本實(shí)用新型的實(shí)用新型精神即在于設(shè)在殼體20頂部201 的照射光源組30,它的光線投射方向是略朝向前方,即是殼體20與底板10所形成空間的開(kāi) 口對(duì)面延伸處,為了配合這個(gè)特別的設(shè)計(jì),該照射光源組30最佳的設(shè)置是抵靠著殼體20頂 部201的彎折21,這樣的照射光源組30將更形穩(wěn)固。[0037]本實(shí)用新型在使用時(shí),如圖4、圖5所示,當(dāng)手70 (或腳)的指甲涂上了彩繪后,即 可伸入殼體20與底板10所形成空間內(nèi),而環(huán)狀設(shè)置于殼體20的照射光源組301、302、303、 304、305除了就所對(duì)應(yīng)的指甲照射之外,在殼體20頂部201的照射光源組30能以略向前方 照射的方式,將光束34投射在指甲上,配合原來(lái)其他照射光源組301、302、303、304、305的 光束35,能很均勻的將具有弧面的指甲照射,能快速的將彩繪的指甲油或膠油凝固。[0038]故在使用本實(shí)用新型時(shí),將具有如下的優(yōu)點(diǎn)[0039]本實(shí)用新型在以環(huán)狀的照射光源組剛好將指甲的分布作定點(diǎn)的照射,另外再以上 方的照射光源組以略向前方的照射,能將指甲表面的弧面均勻照射,達(dá)到快速完成照射的 效果,依實(shí)際產(chǎn)品的測(cè)試,僅需十秒即可完成,大幅縮減了照射的時(shí)間,為本實(shí)用新型的主 要優(yōu)點(diǎn)。[0040]如上述的重點(diǎn)光源設(shè)計(jì),能減少許多的光源體的設(shè)置,不但節(jié)省成本及功率,依實(shí) 際測(cè)試本實(shí)用新型僅需約十瓦的功率,照射時(shí)無(wú)灼熱感,相對(duì)于現(xiàn)有以陣列式排列的的照 射方式,本實(shí)用新型自然更為優(yōu)良。[0041]本實(shí)用新型在底板表面,甚至于殼體的內(nèi)側(cè)均設(shè)有黑色或防止反光的涂層,故紫 外線更不容易反射出來(lái),不容易傷到使用者的手臂、臉部及眼睛,使用上更為安全。[0042]由于本實(shí)用新型的光源體使用較少,故配合散熱板及通風(fēng)透孔的設(shè)計(jì),即能達(dá)到 優(yōu)良的散熱,是本實(shí)用新型再一優(yōu)點(diǎn)。[0043]以上說(shuō)明對(duì)本實(shí)用新型而言只是說(shuō)明性的,而非限制性的,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員 理解,在不脫離權(quán)利要求所限定的精神和范圍的情況下,可作出許多修改、變化或等效,但 都將落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種美甲照射機(jī),其特征在于,至少包括一底板;一殼體,是一拱形體而罩設(shè)于底板的上方,使殼體與底板間形成一空間;數(shù)個(gè)照射光源組分別設(shè)于殼體的頂部及兩側(cè)部而形成環(huán)狀的分布,該照射光源組包括有光源體及散熱片,且設(shè)在殼體頂部的照射光源組的光線投射方向是朝向前方,所述前方是指殼體與底板所形成空間的開(kāi)口對(duì)面延伸處。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的美甲照射機(jī),其特征在于殼體在上方頂部設(shè)有一彎折,該彎折的底部垂直線是朝向前方,所述前方是指殼體與底板所形成空間的開(kāi)口對(duì)面延伸處。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的美甲照射機(jī),其特征在于該殼體頂部的彎折由外而內(nèi)的呈凹陷的槽狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求拱起狀。2所述的美甲照射機(jī),其特征在于該殼體頂部的彎折由內(nèi)而外的呈
5.根據(jù)權(quán)利要求
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的美甲照射機(jī),其特征在于 I所述的美甲照射機(jī),其特征在于:殼體的內(nèi)側(cè)設(shè)有黑色涂層。 :底板在表面設(shè)有黑色涂層。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型是一種美甲照射機(jī),主要設(shè)有一任意造型的底板與一拱形殼體而構(gòu)成照射空間,數(shù)個(gè)照射光源組分別設(shè)于殼體的頂部及兩側(cè)部,而使光源呈環(huán)狀的分布,該照射光源組至少包括有光源體及散熱片,且設(shè)在殼體頂部的照射光源組,它的光線投射方向是朝向前方,即殼體與底板所形成空間的開(kāi)口對(duì)面處,如此不但能節(jié)省光源的數(shù)量,且使紫外線從各種角度均勻照在弧形指甲上,且不易被反射出機(jī)體外部,使用更為安全。
文檔編號(hào)A45D29/00GK202842705SQ20122043896
公開(kāi)日2013年4月3日 申請(qǐng)日期2012年8月30日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月30日
發(fā)明者陳建源, 莊英德, 陳健中, 邱美君 申請(qǐng)人:崇光照明股份有限公司, 東岱實(shí)業(yè)股份有限公司
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