專利名稱：醫(yī)用磁共振成像系統(tǒng)及其消除渦流的裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明屬于磁共振成像技術領域，特別是涉及一種醫(yī)用磁共振成像系統(tǒng)及其消除渦流的裝置。
在
背景技術：
中，醫(yī)用磁共振成像系統(tǒng)內(nèi)包括立柱和成像空間，在成像空間的上下兩側依次對稱設置有梯度線圈、機頭、磁性體和極板，梯度線圈由勻場環(huán)相圍繞。醫(yī)用磁共振的成像是在非常均勻的靜磁場上疊加強的快速變化的梯度場，這些梯度場是由載有精確控制的電流脈沖的梯度線圈產(chǎn)生的，梯度場所在的空間確定了成像容積。梯度線圈由三組線圈組成，分別代表了X、Y、Z三個方向，他們之間成正交關系。由于梯度線圈靠近機頭，在梯度線圈上施加大的脈沖電流會在機頭上感應產(chǎn)生X、Y、Z三個方向的渦流，他們相互之間也成正交關系，方向與梯度電流方向相反。渦流的大小決定于梯度線圈上施加的脈沖電流的大小，施加的電流愈大渦流亦愈大，反之亦然。渦流的存在時間決定于渦流流動路徑的長短，路徑愈短渦流存在的時間愈短，渦流存在時間愈短，其產(chǎn)生的感應電流的時間愈短，對靜磁場的影響時間就愈短，最終得到的圖像質(zhì)量就高。在醫(yī)療檢查中，人們對醫(yī)用磁共振成像中的梯度場要求越來越高，梯度脈沖電流越來越大，致使極板上的渦流亦愈來愈大，結果是梯度上升沿時間延長、磁共振系統(tǒng)功能減弱、圖像質(zhì)量下降，因此，解決渦流問題已成為磁共振成像中的關鍵。
在開放型具有垂直磁場的磁共振成像系統(tǒng)中，通常采用在機頭表面涂刷具有一定消除渦流效果的非晶金屬混合物涂料或用非晶金屬材料制作機頭的方法，以達到減小渦流的目的。這種方法消除渦流的效果較好，但價格昂貴、工藝復雜、成本極高，難以普遍使用推廣。
例如在1995年5月31日公開的公開號CN110971A的專利申請文件上記載了一種“用于降低磁共振成像設備中的渦流的裝置”，該裝置由C形磁體、極靴、永磁體和梯度線圈組成。在非常靠近梯度線圈處，采用含鐵的薄片制成為極靴表面上的層狀絕緣盤，盤的結構有兩種在盤沿極靴面的平面取向的那部分中，它們由從鐵片切割成的環(huán)形板構成；在沿極靴面的軸取向的部分中，它們由用帶狀鐵片螺旋繞成的環(huán)構成。在極靴表面上裝有由多層疊置成的薄盤狀或環(huán)狀鐵磁部件，每一層通過漆或固定膠與相鄰表面點絕緣。疊裝前在這些層上切出窄的徑向槽，以減少渦流。相鄰層中的槽轉位至不重合，從而導致在所有方向上均勻傳導磁通。
在2000年5月17日公開的公開號CN 1252977A的專利申請文件上記載了“磁共振成像中的渦流低磁滯的磁極面”，它具有極片，每一個極片具有彼此相對的、限定成像容積的極面，具有勵磁線圈和極片的勵磁裝置，所述極面包括多個具有疊片的磁塊，每個疊片由非晶鐵磁材料構成，所述疊片由基片隔開并且于該基片結合在一起，疊片的排列基本上平行于所極面。該結構降低了在極面中感生的渦流，同時也降低了剩余磁化強度，因而可提高圖像的質(zhì)量。
以上兩篇公開的專利申請文件所描述的降低渦流的計算方案，沒有能夠解決渦流流動路徑長的問題，其渦流感應電流產(chǎn)生的磁場對靜磁場的影響持續(xù)時間仍較長，需進一步改善消除渦流裝置才能更好的提高圖像質(zhì)量。
本發(fā)明的目的在于解決梯度脈沖電流感應在機頭上產(chǎn)生的渦流對梯度上升時間的影響以及渦流產(chǎn)生的磁場對靜磁場的影響問題，提供一種結構簡單、制作容易、能消除渦流影響、提高圖像質(zhì)量的醫(yī)用磁共振成像系統(tǒng)及其消除渦流的裝置。
本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的它包括立柱和成像空間，在成像空間的上下兩側依次對稱設置有梯度線圈、機頭、磁性體和極板，梯度線圈的外側與勻場環(huán)相配合，其特征在于所述機頭與梯度線圈之間設有渦流消除的裝置。
本發(fā)明所稱的渦流消除的裝置，包括金屬疊片層和絕緣層，其特征在于所述金屬疊片層至少為兩層，相鄰的金屬疊片層之間有絕緣層相隔，金屬疊片層由金屬疊片條排列組成，金屬疊片條由金屬片疊合而成，相鄰金屬疊片層中的金屬疊片條呈相交狀設置。
由于本發(fā)明采用了在機頭與梯度線圈之間設置渦流消除裝置的結構，它將梯度線圈與極板被隔離，當施加梯度時即梯度線圈中有大的脈沖電流通過時，梯度線圈的感應電流直接作用于渦流消除裝置，機頭上不產(chǎn)生渦流，從而解決了解決梯度脈沖電流感應在機頭上產(chǎn)生的渦流對梯度上升時間的影響以及渦流產(chǎn)生的磁場對靜磁場的影響問題，縮短了梯度上升時間，改善了成像質(zhì)量。
結合附圖和實施例，對本實用新型作進一步描述如下

圖1為本發(fā)明的結構示意2為消除渦流裝置的結構示意圖示意圖之一圖3為消除渦流裝置的結構示意圖示意圖之二圖4為金屬疊片條的結構示意圖參照附圖本發(fā)明包括立柱4和成像空間12，在成像空間12的上下兩側依次對稱設置有梯度線圈3和梯度線圈8；機頭5和機頭10；磁性體2和磁性體7；極板1和極板9，梯度線圈3、8的外側與勻場環(huán)13、11相配合，所述的梯度線圈3、8、機頭5、10、磁性體2、7和極板1、9均與立柱4相接并相互緊貼，在所述機頭5與梯度線圈3之間設有渦流消除裝置602，機頭9與梯度線圈8之間設有渦流消除裝置601，立柱4與機頭1、9都由金屬材料制成，立柱4在使用時能構成磁回路；極板1、9是由金屬材料制成，具有良好的導磁率；磁性體為永磁材料，它可產(chǎn)生靜磁場；梯度線圈3、8由金屬銅材制成，勻場環(huán)11、13由金屬材料制成，它能對靜磁場進行勻場，消除渦流裝置6采用導磁率高、剩磁少的金屬材料制作而成，本發(fā)明所稱的渦流消除的裝置6，它包括金屬疊片層15、19和絕緣層16，所述金屬疊片層一般為2-4層，相鄰的金屬疊片層15、19之間有絕緣層16相隔，金屬疊片層15、19由金屬疊片條20排列組成，金屬疊片條20由金屬片201用絕緣粘膠21粘結而成，相鄰金屬疊片層15、19中的金屬疊片條20呈正交狀設置。金屬片201采用磁導率高、剩磁少的硅鋼片制成，其厚度為0.1-0.4mm，寬度為5-12mm，長度不小于10mm，長度也可按勻場環(huán)限定的位置確定。由于本發(fā)明中的消除渦流裝置6能將梯度線圈與極板隔開，因而在施梯度時即梯度線圈中有大的脈沖電流通過時，梯度線圈的感應電流直接作用在消除渦流的裝置6上，使得機頭上不產(chǎn)生渦流，梯度的上升不受渦流阻滯的作用，因此，梯度上升時間就短，保障了靜磁場的穩(wěn)定性、提高了醫(yī)用磁共振成像系統(tǒng)的性能和圖像質(zhì)量。
權利要求
1.一種醫(yī)用磁共振成像系統(tǒng)，包括立柱和成像空間，在成像空間的上下兩側依次對稱設置有梯度線圈、機頭、磁性體和極板，梯度線圈的外側與勻場環(huán)相配合，其特征在于所述機頭與梯度線圈之間設有渦流消除的裝置。
2.一種醫(yī)用磁共振成像系統(tǒng)消除渦流的裝置，包括金屬疊片層和絕緣層，其特征在于所述金屬疊片層至少為二層，相鄰的金屬疊片層之間有絕緣層相隔，金屬疊片層由金屬疊片條排列組成，金屬疊片條由金屬片疊合而成，相鄰金屬疊片層中的金屬疊片條呈相交狀設置。
3.根據(jù)權利要求2所述的醫(yī)用磁共振成像系統(tǒng)消除渦流的裝置，其特征在于所述的金屬片采用磁導率高、剩磁少的硅鋼片制成，其厚度為0.1-0.4mm，寬度為5-12mm，長度不小于10mm。
全文摘要
本發(fā)明屬于磁共振成像技術領域,特別是涉及一種醫(yī)用磁共振成像系統(tǒng)及其消除渦流的裝置。它包括立柱和成像空間,在成像空間的上下兩側依次對稱設置有梯度線圈、機頭、磁性體和極板,梯度線圈的外側與勻場環(huán)相配合,其特征在于所述機頭與梯度線圈之間設有渦流消除的裝置。由于在機頭與梯度線圈之間設置渦流消除裝置,使得梯度線圈的感應電流直接作用于渦流消除裝置,機頭上不產(chǎn)生渦流,從而縮短了梯度上升時間,改善了成像質(zhì)量。
文檔編號A61B5/055GK1389177SQ0111308
公開日2003年1月8日 申請日期2001年6月6日 優(yōu)先權日2001年6月6日
發(fā)明者鄭杰, 陳一心, 郭江黔, 黎小文, 肖圣前 申請人:寧波鑫高益磁材有限公司