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一種記憶合金醫(yī)用內(nèi)支架的制作方法

文檔序號(hào):814255閱讀:255來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:一種記憶合金醫(yī)用內(nèi)支架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種記憶合金醫(yī)用內(nèi)支架。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采取以下設(shè)計(jì)方案這種記憶合金醫(yī)用內(nèi)支架,包括醫(yī)用內(nèi)支架本體,在醫(yī)用內(nèi)支架本體上鍍有化學(xué)穩(wěn)定性高、耐蝕性好的金屬層。
所述的金屬層可以是鉑、銠、金層。
本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是安全、使用效果好。
所述的醫(yī)用內(nèi)支架本體1是指現(xiàn)采用的各種醫(yī)用內(nèi)支架,如血管支架,膽道內(nèi)支架(圖4所示)等。
所述的金屬層2可為鉑、銠、金層。
如圖2所示,所述的金屬層可鍍?cè)卺t(yī)用內(nèi)支架本體的兩端側(cè)(多采用鉑、銠層)。
亦可如圖3所示在醫(yī)用內(nèi)支架本體的兩端側(cè)鍍鉑或銠層201,中間段鍍金層202。
所述的金屬層厚度為0.2~2μm。
本實(shí)用新型采用如上設(shè)計(jì),主要是利用鉑、銠、金極高的化學(xué)穩(wěn)定性和在酸、堿介質(zhì)中耐蝕性仍很好的優(yōu)點(diǎn),在合金支架外形成保護(hù)層,防止Ni析出對(duì)人體造成不良影響;另利用鉑、銠、金的金屬層,使合金支架放入人體后在X光下能顯影,以方便醫(yī)生明確位置。
權(quán)利要求1.一種記憶合金醫(yī)用內(nèi)支架,包括醫(yī)用內(nèi)支架本體,其特征在于在醫(yī)用內(nèi)支架本體上鍍有化學(xué)穩(wěn)定性高、耐蝕性好的金屬層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記憶合金醫(yī)用內(nèi)支架,其特征在于所述的金屬層為鉑層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記憶合金醫(yī)用內(nèi)支架,其特征在于所述的金屬層為銠層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記憶合金醫(yī)用內(nèi)支架,其特征在于所述的金屬層為金層。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的記憶合金醫(yī)用內(nèi)支架,其特征在于所述的金屬層鍍?cè)卺t(yī)用內(nèi)支架本體的兩端側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的記憶合金醫(yī)用內(nèi)支架,其特征在于所述的醫(yī)用內(nèi)支架本體的中間段鍍金層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的記憶合金醫(yī)用內(nèi)支架,其特征在于所述的金屬層厚度為0.2~2μm。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種記憶合金醫(yī)用內(nèi)支架,包括醫(yī)用內(nèi)支架本體,在醫(yī)用內(nèi)支架本體上鍍有化學(xué)穩(wěn)定性高、耐蝕性好的金屬層。所述的金屬層可以是鉑、銠、金層。其可防止現(xiàn)有的記憶合金醫(yī)用內(nèi)支架中的Ni析出,并能在X光下顯影明確位置,安全、使用效果好。
文檔編號(hào)A61L29/00GK2542279SQ0220539
公開日2003年4月2日 申請(qǐng)日期2002年3月21日 優(yōu)先權(quán)日2002年3月21日
發(fā)明者江軒, 朱明 , 朱晉, 寇亞明, 陳嶠, 郭海珊, 馮景蘇, 劉昆鵬 申請(qǐng)人:有研億金新材料股份有限公司
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