專利名稱:卷制層壓體的制作方法
技術領域:
本發(fā)明涉及光學用聚碳酸酯膜的卷制層壓體以及使用了它的光盤的制造方法。更詳細地說,涉及作為用激光等進行信息記錄、讀取、消除等的光盤的透明保護層用薄聚碳酸酯膜(本說明書中把膜或薄片合起來簡單通稱為膜)及使用了它的光盤的制造方法。
背景技術:
由于聚碳酸酯樹脂具有優(yōu)異的透明性、耐沖擊性、耐熱性、尺寸穩(wěn)定性以及加工性,在光學用途中得到了廣泛的應用。例如,使用激光的光盤作為高密度、大容量的記錄媒體人們已經進行了種種研究、開發(fā)、商品化。特別是,隨著近年來多媒體時代的到來,已經開發(fā)了可以在光盤中包含動畫信息的大容量記憶的各種技術。其一是,已經提出了利用與聚碳酸酯基板相反一側的保護面從一面讀取信息的膜面入射方式光盤的技術,并公開發(fā)表了下面的文獻特開平8-235638的“單面12千兆比特的大容量光盤”(Oplus E,20卷,第2期,183頁(1998年2月))以及“光盤及其外圍材料98-2”(高分子光電子研究會報告摘要集,高分子學會高分子光電子研究會(平成11年1月22日))。
在這些膜面入射方式技術中,參照圖1來說明,其特征在于,在其至少一面上形成了作為信息記錄層2的坑或凹槽等凹凸圖案的光盤基板1上形成反射膜或記錄膜,在其上面形成厚度0.1mm左右的薄膜面,進而,作為此膜面的特征是塑料膜4用粘接層3與光盤基板貼合而形成的。信息的記錄和讀取的特征在于它是從膜面一側進行的,用由透鏡5集束的激光照射凹凸圖案。
在光盤基板上粘著透明保護層時,邊從作為透明保護層的塑料膜的卷制層壓體中拉出塑料膜,邊依次粘著到光盤基板上。從生產性觀點而言,這是優(yōu)選的。然而,對于一般要求表面非常平整的光學用膜來說,這樣因其高平整性而使滑動性變差,因此不能使用通常的以輥狀卷起來的卷制層壓體。
過去,為得到光學用聚碳酸酯卷制層壓體一般是用有粘接性的保護膜層積在聚碳酸酯膜上,即,在光學用的極平整塑料膜上粘貼具有弱粘接性面的塑料膜并層積,保護其表面的同時,保護膜的反面被適當粗糙化形成容易滑動的結構,可把此層積膜卷成容易成輥的長尺狀。這樣的保護膜是有由例如聚乙烯與聚乙酸乙烯酯等聚合物共擠壓而制成的結構,在與聚碳酸酯膜相對的聚乙酸乙烯酯一側面上具有粘接性。在卷起來之前,把膜彼此粘貼,輕輕夾持之后用卷繞機卷起來而制成卷制層壓體。
因此,在光盤上形成薄透明保護層的工序中,即在使用聚碳酸酯膜作為塑料膜時,把膜從利用由此聚乙烯/聚乙酸乙烯酯所構成的共擠壓保護膜等的卷制層壓體上松開,剝下保護膜,把聚碳酸酯膜沖壓成圓盤狀,試著把它貼在成形的聚碳酸酯光盤上。然而,帶有這樣制作的薄透明保護層的光盤,用肉眼看起來(盡管也有在通常光的情況下不能看出其表面凹凸的情況),表面上產生凹凸(光學失真)的情況較多,此表面凹凸(光學失真)成為了光盤的信號輸出、輸入時使輸出功率變動變大的原因之一。
本發(fā)明是基于所述現(xiàn)狀而提出的,其目的在于可以無上述問題且便宜地提供大量媒體、在工業(yè)上以更簡便方法和高的生產性來提供作為記錄信息媒體用的薄塑料膜卷制層壓體以及使用此卷制層壓體的光盤的制造方法。
發(fā)明內容
為了達到上述目的,本發(fā)明通過刻意的努力,發(fā)現(xiàn)通過如下所述可以達到此目的。
(1)以在由以雙酚A作為芳香族二羥基化合物成分的芳香族聚碳酸酯所構成的塑料膜與由芳香族聚酯構成的保護膜之間使用粘接強度為3gf~50gf(0.0294~0.49N)的弱粘接性粘接劑而層壓、卷繞起來為特征的卷制層壓體。
(2)塑料膜是厚度斑點在4μm以下、熱尺寸變化率在0.07%以下、面內延遲值在15nm以下的上述(1)所述卷制層壓體。
(3)保護膜是由聚對苯二甲酸乙酯和聚萘二甲酸乙酯構成且楊氏模量在450kgf/mm2(4413MPa)以上的聚酯的上述(1)、(2)所述卷制層壓體。
(4)塑料膜是厚度在30μm~100μm、總透光率在90%以上、殘余溶劑量在0.3重量%以下、厚度方向延遲值(K值)在100nm以下、兩面的表面粗糙度Ra均為5.0nm以下的上述(2)、(3)所述卷制層壓體。
(5)塑料膜是由溶液澆鑄法制膜的上述(1)~(4)所述卷制層壓體。
(6)形成光盤透明保護層用的上述(1)~(5)所述卷制層壓體。
(7)以在形成膜面入射方式光盤的透明保護層中使用的上述(1)~(6)所述卷制層壓體為特征的光盤制造方法。
(8)包括從所述卷制層壓體沖壓圓盤狀層積膜工序、粘接構成圓盤狀層積膜的塑料膜與光盤基板的工序的上述(7)所述光盤制造方法。
(9)把保護膜從上述圓盤狀層積膜上剝離后把塑料膜粘接在光盤基板上的上述(8)所述光盤制造方法。
(10)在把構成圓盤狀層積膜的塑料膜與光盤基板粘接之后把保護膜從所述盤狀層積膜上剝離的上述(8)所述光盤制造方法。
(11)用液狀粘接劑或膜狀粘接劑進行塑料膜與光盤基板的粘接的上述(7)~(10)所述光盤制造方法。
本說明書中使用的下述術語的含義如下“光盤”是指主要由聚碳酸酯樹脂形成的帶有記錄信息層的盤狀記憶媒體。
“透明保護層(光透過形成層)”是指用透明材料覆蓋在光盤的信息記錄層之上的、在保護信息記錄層的同時通過此透明材料用激光照射來進行記錄、讀取動作的層。
“保護膜”是指在形成塑料膜等卷制層壓體時與塑料膜一起卷起來以防止此塑料膜的表面損傷而同時又良好保持所述卷制層壓體的成卷特性所用的膜。
已經發(fā)現(xiàn),在帶有透明保護層聚碳酸酯膜的光盤上,為了消除成為發(fā)生上述光學失真的原因的膜表面凹凸,如果把卷制層壓體松開來并剝離保護膜之后,把聚碳酸酯膜在比其玻璃化轉變溫度稍低的溫度下進行熱處理,然后把它沖壓成圓盤狀而粘附在聚碳酸酯光盤上,為好。不過,這就需要在透明保護層的準備工序中增加膜的熱處理工序。但是,在剝離了保護膜之后的聚碳酸酯膜上因剝離而帶靜電,吸附了氣氛中的微細塵埃,夾在光盤與透明保護層之間的這些塵埃不僅損傷了光盤的外觀,而且很多情況下還產生了使輸出功率變動變大的問題。
因此,對于制成所形成的卷制層壓體在放開來使用時不產生上述光學失真的保護膜,應該做進一步的探討。產生上述光學失真的理由盡管被認為主要是由于(i)聚碳酸酯膜有光學失真和(ii)把聚碳酸酯膜與保護膜重合而卷起來時產生光學失真,但是,實驗得知即使使聚碳酸酯膜的厚度斑點充分小而成為光學均勻物質時此問題仍不能解決,判明其主要原因是由(i)保護膜的厚度斑點、(ii)保護膜的粘接面上的物質向聚碳酸酯轉印或轉移、(iii)保護膜的楊氏模量低等對卷制層壓體的聚碳酸酯膜所產生的惡劣影響。
即,聚乙烯/聚乙酸乙烯酯共擠壓膜等通常的保護膜是由其一面具有低粘接性、較軟、楊氏模量較低的高分子材料所制作的。然而,由于保護膜原材料的楊氏模量低,此膜在外力下容易變形。為此,采取來自卷輥上卷起來的聚碳酸酯與保護膜層壓物時,測定其厚度斑點發(fā)現(xiàn),特別在膜的前進方向上,厚度斑點明顯惡化的情況極多,盡管從此層壓體分離的聚碳酸酯膜的厚度斑點沒有完全惡化,但是在保護膜上觀察到厚度斑點。這被認為是,在把保護膜松開時容易變皺,使它平面性良好地貼合到聚碳酸酯膜上時,保護膜受到張力,此時保護膜有一定程度的伸長,產生了塑性變形而引起的。與在此狀態(tài)下與聚碳酸酯膜貼合而層積、卷成卷狀的卷制層壓體時,被推斷保護膜會不會對聚碳酸酯膜產生卷束力或帶來局部微小的變形。被認為保護膜的厚度斑點不太好,再加上松開時保護膜的變形,對層積卷起來的聚碳酸酯膜有很壞的影響。把厚度斑點良好的1000m左右的聚碳酸酯膜與保護膜一起卷起來,把它在常溫下保存數月之后,測定開卷的層積膜的厚度斑點,發(fā)現(xiàn)靠近卷芯部分的膜的厚度斑點稍有變壞的趨勢。然而,從卷制層壓體上剝離了保護膜的聚碳酸酯其厚度斑點并沒有惡化。推測,在卷制層壓體中,可能由于卷束保護膜,而且保護膜對聚碳酸酯膜的粘接力還起作用,對聚碳酸酯膜也施加力因而聚碳酸酯膜的平整性變差。
為了解決此問題,本發(fā)明人等提出了另一種使用以不用粘接劑來把塑料膜與被覆在此塑料膜表面上的保護膜層積、卷起來為特征的塑料卷制層壓體的方法(特愿2000-388724)。然而,在用此卷制層壓體時,又產生了新的問題。即,在用把卷膜剪裁成窄幅而沖壓成圓盤狀的方法來制造光盤的場合,或在沒有保護膜一側的塑料膜面上實施設置硬化樹脂層的加工處理的場合,為了防止保護膜的脫落,有必要用粘接劑層。
因此,最優(yōu)選的卷制層壓體是對沖壓成圓盤狀的膜中不產生變形等影響的、直到貼合在光盤上之前起到最初保護膜功能那樣作用的卷制層壓體。
本發(fā)明人等發(fā)現(xiàn)如果使用作卷制層壓體的保護膜的材料的楊氏模量高而難以變形,且在保護膜的表面可采用形成具有特定粘接強度的粘接層的物質,可提供這樣的卷制層壓體。為此完成了本發(fā)明。
圖1是膜面入射方式光盤及其記錄、讀取方法的示意圖。
圖2是構成卷制層壓體的膜的截面示意圖。
圖3表示了卷制層壓體的制造方法。
圖4表示用液狀粘接劑時的透明保護層的制作方法。
圖5和圖6表示用膜狀粘接劑時的透明保護層的制作方法。
具體實施例方式
下面來更詳細說明本發(fā)明。
(卷制層壓體)本發(fā)明所述卷制層壓體是用聚碳酸酯塑料膜,在把它與于此塑料膜的一個表面被覆的保護膜層積時,通過對于聚碳酸酯膜的粘接強度為3gf~50gf(0.0294N~0.49N)的粘接層與作為保護膜用的聚酯膜層積,卷成卷狀。
圖2示出了卷制層壓體的截面層構成,其中數字8是塑料膜,9是粘接層,10是保護膜。
圖3示出了制造卷制層壓體的方法。把表面上已經涂布了粘接層的塑料膜11、保護膜12分別送入(金屬制)夾持輥14和(橡膠制)夾持輥15之間接合。粘接層形成在保護膜12一側也行。在于兩個夾輥之間接合之前,用擴展輥(去皺輥)13向保護膜12加上張力,同時,用張力輥16調整接合后的層積膜的張力。這樣做成的層積膜用卷繞機卷繞得到了卷制層壓體17。在表面涂了粘接層的保護膜12通常是在其粘接面上覆蓋有脫模紙或脫模膜而卷成卷狀供應的。在此場合,用輥50把脫模紙或脫模膜從保護膜上剝離。還有,在輥13之類其表面與保護膜的粘接面接觸的場合,輥13采取實施了非粘接處理的表面為好。
(塑料膜)<聚碳酸酯保護膜(透明保護層)>
本發(fā)明所用的塑料膜是以雙酚A為芳香族二羥基成分的芳香族聚碳酸酯膜。本發(fā)明作為塑料膜用的聚碳酸酯樹脂的化學組成、制法等在后面再詳細敘述,不過,由于聚碳酸酯一般有優(yōu)異的透明性、耐沖擊性、耐熱性、尺寸穩(wěn)定性、尤其是加工性,因此,作為本發(fā)明的光盤用透明保護層所用的塑料膜最為合適。再是,本發(fā)明中所說的透明是指對用于光盤記錄、讀取的光(激光等)是透明(光透過)的。
已經清楚,對于由這樣特定的聚碳酸酯塑料膜,作為保護膜使用特定的聚酯保護膜,在其之間通過粘接強度為3gf~50gf(0.0294N~0.49N)的粘接層層積而卷起來的卷制層壓體意外地解決了上述的全部問題,它是在貼到光盤之前起到了最初保護膜功能的卷制層壓體,而且在作為光盤的透明保擴層使用時的功能也優(yōu)異。顯然,為了達到這個目的,作為光盤透明保護層使用的塑料膜具有特定物性的場合特別有利。
據此,本發(fā)明用的塑料膜,以其厚度斑點為4μm以下、熱尺寸變化率為0.07%以下、面內延遲值為15nm以下范圍者為優(yōu)選,特別是,厚度為30μm~100μm、厚度斑點為4μm以內、熱尺寸變化率為0.07%以下、總的光線透過率為90%以上、殘留溶劑量為0.3重量%以內、面內延遲值為15nm以下、厚度方向延遲值(K值)的最大值為100nm、表面粗糙度Ra在膜的兩面上均為5.0nm以下范圍者為更優(yōu)選。
本發(fā)明中的塑料膜也稱保護層,由于是作為所述的保護層而成為光學系統(tǒng)中的一個部件來使用的,由于要在最佳狀態(tài)下輸入輸出光盤信號,所以重要的是其厚度。塑料膜的厚度優(yōu)選范圍是40μm~100μm,40μm~80μm范圍更優(yōu)選。普通是,塑料膜的厚度隨光盤寫入或讀出信號時所用的激光光源的波長來選擇(例如,“單面12千兆比特的大容量光盤”,O plus E,20卷,第2期,第183頁(1998年2月))。
塑料膜的厚度斑點在4μm以內為優(yōu)選,2μm以內更優(yōu)選,1μm以內為更進一步優(yōu)選。塑料膜的厚度斑點過大時,產生了所謂的光學失真明顯、光盤信號的輸出入變動(噪音)也變大的問題。
光盤的記錄層中用激光等以高能量密度反復入射到μm級的微小區(qū)域。由此使得在記錄層附近的微小區(qū)域產生了熱應力。特別是在反復用光進行寫入時,其所給予材料的影響引起了記錄層界面等有微細的剝離而降低了記錄的可靠性。為此,此膜有高的熱穩(wěn)定性是優(yōu)選的。熱尺寸穩(wěn)定性是熱穩(wěn)定性的尺度,當熱尺寸變化過大時,在光盤與透明保護層的界面由于熱應力而容易引起上述的問題(記錄層與透明保護層界面的微剝離),不選用。熱尺寸變化率在0.07%以下為優(yōu)選,0.05%以下為更優(yōu)選。
本發(fā)明的塑料膜的總光線透過率在90%以上為優(yōu)選,92%以上更優(yōu)選。為防止通過透明保護層的光信號變差,總光線透過率越高越好。以90%為下限,低于此使光信號差而難以作為光盤使用。
本發(fā)明的塑料膜中的殘留溶劑量以在0.3重量%以下為優(yōu)選,0.1重量%以下為更優(yōu)選。在膜中所含的殘留溶劑量過多的場合,用涂布和濺射處理等來進行表面處理時,殘留溶劑蒸發(fā),帶來惡劣的影響,不選用。
在本發(fā)明的塑料膜中,激光在信號輸出入時通過了薄膜的內部。此時,有時引起了光學擾動。它也影響了光拾波器的伺服信號和信號水平等。為此,塑料膜的面內延遲值小者為好,15nm以下為優(yōu)選,8nm以下更優(yōu)選,6nm為進一步優(yōu)選。進而,為了使讀出光的讀取信號的調制小,穩(wěn)定化讀取信號的水平,膜面內的離散在8nm以下為優(yōu)選,6nm以下為更優(yōu)選。盡管可以使塑料膜的面內延遲值不到2nm,但是在多數場合沒有必要。
更有,在本發(fā)明的塑料膜中,厚度方向上的延遲值(K值)在100nm以下為優(yōu)選,70nm以下為更優(yōu)選,50nm以下為進一步優(yōu)選。在后面示出的三維折光率各向異性中,所定義的參數K變大,成為噪音增大的原因。由這點規(guī)定了塑料膜的K值。
本發(fā)明的塑料膜中,表面粗糙度Ra在兩面上均為5.0nm以下為優(yōu)選,3.0nm以下為更優(yōu)選,2.5nm以下為進一步優(yōu)選。表面粗糙度過大時,表面的凹凸部使光散射,結果成為噪音增大的原因,不選用。表面粗糙度Ra越小越好,但下限通常為1.5nm左右。
本發(fā)明的塑料膜以用溶液流延法把芳香族聚碳酸酯制膜為優(yōu)選。溶液流延法制膜為優(yōu)選的原因在于,在塑料膜中不易生成筋狀微細的厚度斑點和不易生成雜質。溶液流延法中,溶解聚碳酸酯的溶劑以二氯甲烷或1,3-二氧雜戊環(huán)或兩者的混合溶劑為優(yōu)選。
本發(fā)明的塑料膜作為光盤的透明保護層使用。在光盤操作時,有必要注意防止表面破損和受傷。為此,塑料膜的至少一面用已有的已知方法使表面硬化處理(鍍膜處理)也行。
<高分子樹脂>
可以在本發(fā)明的塑料膜中使用的高分子樹脂是以耐熱性、透明性、光學特性、制膜性良好的2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷(也稱雙酚A)為芳香族二羥基成分的聚碳酸酯。
還有,塑料膜可以用溶液澆鑄法制膜,不過,由于聚合物是芳香族聚碳酸酯時,本發(fā)明的效果好而被優(yōu)選,下面來敘述聚碳酸酯膜的制膜方法。
這里所說的聚碳酸酯是指,把芳香族二羥基化合物與碳酰氯、二苯基碳酸酯之類碳酸鍵生成性化合物在溶液狀態(tài)、膨脹、熔融狀態(tài)等狀態(tài)下反應而得到的聚合物。
本發(fā)明中的聚碳酸酯,在用雙酚A為其芳香族二羥基成分之外,也可以合并使用下述芳香族二羥基化合物(例如在總體的20%以下)。作為例子,可以具體列舉以下所示化合物。
即,1,1-雙(4-羥基-3-叔丁基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-3-叔丁基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-3-溴苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-3-溴苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-3,5-二溴苯基)丙烷等雙(羥基芳基)烷類;1,1-雙(4-羥基苯基)環(huán)己烷、1,1-雙(4-羥基苯基)-3,3,5-三甲基環(huán)己烷等雙(羥基芳基)環(huán)烷類;9,9-雙(4-羥基苯基)芴等芴類;4,4’-二羥基二苯基醚、4,4’-二羥基-3,3’-二甲基苯基醚等二羥基芳基醚類;4,4’-二羥基二苯基亞砜、4,4’-二羥基-3,3’-二甲基苯基亞砜等二羥基芳基亞砜類;4,4’-二羥基二苯基砜、4,4’-二羥基-3,3’-二甲基苯基砜等二羥基芳基砜類等。其中,特別以2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷(雙酚A)為優(yōu)選使用。這些芳香族二羥基化合物可以單獨或組合來使用。
還有,用對苯二甲酸和/或間苯二甲酸成分置換芳香族二羥基成分的一部分所得到的聚碳酸酯也可以使用。把這樣的構成單元用作由雙酚A構成的聚碳酸酯的構成成分的一部分,就可以改善聚碳酸酯的例如耐熱性、溶解性性能。這樣的共聚物也可以在本發(fā)明中使用。
<高分子樹脂的分子量>
進而,對于在本發(fā)明中可以使用的高分子樹脂的分子量并沒有特別的限制,可以列舉的有,例如,作為芳香族聚碳酸酯的分子量,由在濃度0.5g/dL的二氯甲烷溶液中于20℃測定的粘度求出的粘均分子量在30,000以上120,000以下,優(yōu)選在30,000以上80,000以下的范圍。
在粘均分子量過小的場合,把膜或薄片沖壓成薄圓盤狀時,沖壓端面或嵌入微小切口,或容易產生切粉,因此不選用。另外,在粘均分子量過高的場合,溶液制膜時容易產生所說的均化不良、膜厚度斑點惡化的問題。
<溶劑>
對于在用流延法制作本發(fā)明的塑料膜時可以使用的溶劑沒有特別的限制,可以使用通常知道的溶劑。例如,可以列舉的有,二氯甲烷或1,3-二氧戊環(huán)及它們的混合物或以它們?yōu)橹黧w的溶劑。
這些溶劑以在通常的膜生產中,盡量不含水者為優(yōu)選。在用二氯甲烷作為溶劑的場合其含水率在50ppm以下為優(yōu)選,30ppm以下為更優(yōu)選。此溶劑的脫水(干燥)可以由通常知道的填充了分子篩的脫水裝置來實施。
<溶液制膜>
把芳香族聚碳酸酯溶解在上述溶劑中制成溶液。此溶液通常調制成含聚碳酸酯15重量%~35重量%。把上述調制的樹脂溶液用擠壓模擠壓到支撐體上流延。
<干燥>
澆鑄在支撐體上的液膜可以用例如下述的方法干燥成膜。以使用分成若干區(qū)并可以改變各區(qū)的干燥條件(熱風溫度、風速等)的爐子來干燥為好。在澆鑄于支撐體上之后的液膜,要盡可能使其表面不產生紋理、不產生所謂均化斑點那樣來干燥。為了提高干燥效率,加熱的方法可以采用用熱風干燥流延膜的方法或用熱介質加熱帶狀物的液膜反面的方法。從容易處理而言,以用熱風為優(yōu)選。
在澆鑄后的帶狀物表面的溫度以及氣氛溫度必須比溶解高分子的溶劑的沸點低。在沸點以上時,隨液膜的溫度上升使溶劑突沸而在膜中產生氣泡。當溶劑為二氯甲烷時,其溫度在40℃以下、優(yōu)選在30℃以下為好。
進一步說,在溶劑為二氯甲烷的場合,第2區(qū)取45℃~50℃,干燥到液膜中的二氯甲烷濃度變?yōu)?5重量%而不使液膜變形。溶劑是二氯甲烷時,第3區(qū)中取45℃~50℃,使膜中的溶劑量為25重量%。在第4區(qū)中,干燥溫度取為50℃~55℃,此時膜中的溶劑量約為20重量%。第5區(qū)中,冷卻到15℃,從支撐體上剝取膜。
<后干燥>
接下來,在把膜做了后干燥之后,針對不拉伸原樣使用或拉伸使用的用途來進一步干燥。此時,邊控制膜的光學特性(折射率)邊干燥。此干燥用的是卡住膜幅度方向的兩端來輸送的方式的針拉幅式烘燥機、輥懸垂型干燥機或空氣浮游式干燥機等已知的干燥方法的適當組合,可以控制膜的光學特性。把這樣得到的膜卷起來作為光學用芳香族聚碳酸酯膜。
<卷繞制膜工序>
如后所述,在卷繞塑料膜工序中,優(yōu)選的是與作為保護膜的帶有粘接層的聚對苯二甲酸乙酯膜重合在一起而共同卷起來。
(保護膜)<聚酯膜>
從具有高楊氏模量考慮,作為本發(fā)明中與聚碳酸酯膜一起卷起來的保護膜,可以優(yōu)選使用聚酯單軸或雙軸拉伸膜。
所述聚酯列舉有,例如,以由對苯二甲酸為主要酸成分和乙二醇為主要二醇成分所構成的聚對苯二甲酸乙酯、由萘二甲酸為主要酸成分和乙二醇為主要二醇成分所構成的聚萘二甲酸乙酯為優(yōu)選。
這些聚酯中,可以使用在對苯二甲酸和萘二甲酸以外的各種二元酸和各種二醇,例如,間苯二甲酸和萘甲酸、三亞甲基乙二醇、四亞甲基乙二醇等來作為副成分(例如5mol%以下)的共聚物。可以在不降低雙軸拉伸聚酯膜的楊氏模量的范圍內來含有這些主成分以外的共聚物成分。
本發(fā)明的聚酯膜中,可以含有光、熱穩(wěn)定劑、著色劑、阻燃劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑以及潤滑劑等。潤滑劑可以含有,例如,碳酸鈣、氧化鋁、高嶺土、二氧化硅、二氧化鈦、硫酸鋇、沸石等無機粒子、硅氧烷樹脂、交聯(lián)聚苯乙烯、丙烯酸樹脂等有機微粒。
所用的聚酯的本征濃度以[η]=0.5~0.7為合適。
本發(fā)明所用的聚酯膜的厚度以10μm~50μm為優(yōu)選。
聚酯膜可以用歷來已知的方法來制造。即,首先把干燥的聚酯熔融,用平模在冷卻鼓上擠壓冷卻制成未拉伸膜。接著,把此未拉伸膜進行至少單軸或雙軸方向拉伸的后熱處理,提高熱尺寸穩(wěn)定性。在拉伸了的聚酯膜的表面上,通常形成了由于所加入的潤滑劑或聚合催化劑等所引起的突起,提高了滑動性。膜的表面粗糙度Ra是10nm~30nm為優(yōu)選,以沒有粗大的表面突起者為優(yōu)選。粗糙度Ra過大的場合和有粗大表面突起的場合,在作為保護膜使用時,它們被轉印到聚碳酸酯膜面上,而在表面上產生了疵點,不選用。聚酯膜表面的粗糙度小于10nm時,難以滑動,難以高效率地制造。
更有,聚酯膜的縱、橫方向上的楊氏模量都在450kgf/mm2(4413MPa)以上為優(yōu)選,更優(yōu)選的是在500kgf/mm2(4903MPa)以上。楊氏模量過低的膜在從輥卷出時容易引起變形,發(fā)生了由所謂的卷束現(xiàn)象導致的聚碳酸酯膜的變形,因此不選用。
<賦予粘接層>
本發(fā)明的卷制層壓體是在塑料膜與保護膜之間具有弱粘接的粘接層以使與塑料膜聚碳酸酯膜粘接。所述粘接層的形成,可以在保護膜和塑料膜的至少任一膜的表面用弱粘接性的粘接劑預先形成粘接層。而且,把所述粘接層夾起來那樣層積塑料膜與保護膜并以卷狀卷起來,就可以得到本發(fā)明的卷制層壓體。
這里,以在作為保護膜所用的聚酯膜的一個表面上形成粘接層的方法為例來說明。
所述粘接層與聚酯膜牢固粘接,與聚碳酸酯膜的粘接力為3gf~50gf(0.0294N~0.49N),這樣比較好的是在從卷制層壓體把聚酯膜剝下時基本上不轉移粘附到聚碳酸酯膜上。只要是賦予了這樣的粘接層的粘接劑的話,就可以沒有特別限制地使用,例如可以列舉有,橡膠類、硅氧烷類、丙烯酸類。其中,丙烯酸類粘接劑透明性優(yōu)異、而且此粘接劑的成分不易轉移到聚碳酸酯膜上,因此優(yōu)選。作為丙烯酸類,雖然有溶劑類、乳劑類等,不過從粘附力、與聚酯膜基材的密合性等的穩(wěn)定性來說,可以優(yōu)選使用溶劑類粘接劑。
作為粘接層的形成方法,可以使用任何已知的方法。例如,調制含粘接劑的溶液,接著把它直接涂布在聚酯膜基材上,進而根據需要由加熱等來干燥?;蛘?,使用在脫模紙上涂敷、干燥一下后在其上面貼上聚酯膜以把粘接劑向此聚酯膜的表面轉印的轉印法也行。作為涂敷方法,例如可列舉出模涂、石版凹印滾涂法等。
涂敷時把所用的涂布粘接劑溶液涂敷在聚酯膜上的這一步操作可在任何階段進行。還有,把涂敷溶液涂布在聚酯膜上時,根據需要,通過在聚酯膜的表面實施電暈處理、等離子放電處理等物理表面處理,或者實施涂布有機樹脂類或無機樹脂類涂料的化學表面處理來作為提高密合性、涂布性的預處理,可以加固粘接劑與聚酯膜的密合性。
所述粘接劑層的厚度以1μm~500μm為優(yōu)選,3μm~50μm為更優(yōu)選。
在一面賦予了粘接性的聚酯膜與塑料膜的粘接力是3gf~50gf(0.0294N~0.49N)。粘接力過弱的場合,在把卷制層壓體裁切時,塑料膜與保護膜容易分離,限制了加工工序的處理方法。還有,裁切時的脫落等容易成為發(fā)生異常的原因,因此不選用。還有,當粘接力過強的場合,在把塑料膜沖壓成圓盤狀之前的剝離保護膜工序中難以剝下保護膜,使得塑料膜彎曲等而容易受損,因此不選用。還有,向聚碳酸酯膜轉移而附著在此膜上的結果,有招致產生光學失真、由靜電而導致雜質的附著之虞。與塑料膜的粘接力以3gf~30gf(0.0294N~0.294N;在本說明書的實施例中使用的樣品寬度25mm,換算成每1m寬為1.16N/m~11.6N/m)為優(yōu)選。
(卷繞制膜工序)如前所述,在卷繞塑料膜工序中,如果使用例如賦予有粘接層的聚對苯二甲酸乙酯作為保護膜的話,塑料膜的卷繞就可以很合適地進行。從輥拉出賦予了此粘接層的聚對苯二甲酸乙酯膜的頭,剝開脫模紙或脫模膜后,與聚碳酸酯膜重疊,用夾輥夾持(夾持的線壓例如為10kgf~2kgf/1m(98N/m~19.6N/m),優(yōu)選為7kgf~3kgf/1m(68.9N/m~29.4N/m)),擠壓膜間的空氣,不起皺地一起卷起來。這樣就可以制造本發(fā)明的卷制層壓體。
(卷制層壓體的塑料膜的后加工)為了提高本發(fā)明的卷制層壓體在光盤制造工序上的處理性能,或為了賦予鍍膜性、耐化學試劑性等,在塑料膜的保護膜的反面設置硬化樹脂層也行。為了防止塵埃的附著或為了容易除去塵埃,使所述層含有抗靜電劑和/或脫模劑也可以。
(光盤及其制造方法)現(xiàn)在來敘述本發(fā)明卷制層壓體適合于光盤保護層中使用的場合的所述光盤之結構與制造方法。
用注塑成型在塑料基板的至少一面上形成記錄信息層的坑或凹槽等凹凸圖案。還有,在玻璃基板上用感光性樹脂法(玻璃2P法光聚合反應)來形成凹凸圖案也可以。
在凹凸圖案上,根據只可讀的ROM型或只可記錄的WORAM型、可以擦寫的RAM型,形成了鋁等反射膜或相變材料、磁記錄材料、有機色素等記錄膜。
在其上由粘接層貼上厚度為30μm~100μm的上述塑料膜,形成透明保護層。作為粘接層,可以使用紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、環(huán)氧樹脂等液狀粘接劑、或壓敏性粘接劑或紫外線硬化性膜和紫外線硬化性粘接劑等膜狀粘接劑。作為粘接層,只要是有粘接性且光學透明的即可。
作為使用以紫外線硬化樹脂為代表的液狀粘接劑來形成透明保護層的方法,可以是如圖4所示,首先,在光盤基板21上用紫外線硬化樹脂22涂布成環(huán)狀圖案,通過在其上載有沖壓成環(huán)形的塑料膜23的狀態(tài)下旋涂,使紫外線硬化樹脂遍布均勻,用紫外線24照射而硬化來形成。
作為使用壓敏性粘接劑那樣的膜狀粘接劑來形成保護層的方法,如圖5所示,預先把塑料膜31與粘接劑32層壓起來,使用貼上了剝離用的聚對苯二甲酸乙酯(PET)膜33的基材34做為粘接劑的另一面。把它沖壓成環(huán)形之后,用襯墊36或輥貼合在光盤基板35上,形成透明保護層?;?,如圖6所示,使用把膜化粘接劑41夾在剝離用PET膜42、43中間的基材,首先,把粘接劑沖壓成環(huán)形,除去輕剝離用PET膜42,用襯墊45或輥貼合在光盤基板44上,之后,與除去了剝離用PET膜43的光盤基板44的粘接劑41相對地、然后把塑料膜46沖壓層環(huán)形,用襯墊47或輥貼合在光盤基板44上,形成透明保護層。
此時,既可以在從卷制層壓體去除保護膜以后粘接塑料膜,也可以在形成透明保護層后再去除。還有,粘接方法也不限制于上述的方法。
實施例下面,用具體的實施例來說明本發(fā)明,不過,本發(fā)明并不僅限于這些實施例。
另外,實施例中的本發(fā)明的測定、效果評價是按以下方法進行的。
1)膜厚測定方法從卷制層壓體采取剝離了保護膜的聚碳酸酯膜的沿卷繞方向的1m全幅樣品。在此幅度方向(與卷繞方向成直角的方向)和卷繞方向上分割成10cm×10cm的方膜(在幅度方向零頭超過5cm的場合,此部分也取做測定樣品),在其各自的中央,用ミツトヨ公司制造的千分尺測定其厚度,由100個測點的厚度求平均值,以此表示膜厚。
2)膜的厚度斑點測定方法在用上述1)的千分尺的測定方法中,除了測定點以外恐怕會有漏看可能存在的厚度斑點,例如,細筋狀的厚度斑點,因此用アンリツ公司制造的膜厚測試儀KG601來連續(xù)測定厚度斑點。按下面來進行測定樣品的制樣。即,在膜的卷繞方向上按5cm間隔取全幅樣品,連續(xù)共取10片(在膜卷繞方向上合計50cm)。用上述膜厚測試儀測定各自的厚度分布,記錄在記錄紙上。求出上述10片膜所記錄的厚度的最大值與最小值之差(厚度范圍),在此厚度范圍中的最大者表示此膜的厚度斑點。
3)熱尺寸變化率從聚碳酸酯的幅度方向(膜幅大致為1m)上的3處取總樣品。然后,進一步把各總樣品分別制成10個熱尺寸變化率測定用樣品,共計30個。熱尺寸變化率測定用樣品的大小取為,各總樣品的10個樣品內的5個是沿膜的卷繞方向取150mm、與其成直角方向取10mm,而余下的另5個是沿膜的卷繞方向取10mm、與其成直角方向取150mm。對各樣品在150mm的長度方向上以100mm間隔印上測定熱尺寸變化率的標記點。這樣,就準備好了膜卷繞方向有15點和與其直角方向(幅度方向)上也有15點的測定用樣品。
在無負荷下于140℃的恒溫槽中把測定樣品處理1小時,取出冷卻到室溫,測定標記點間隔。尺寸的測定是在23℃、65%RH相對濕度的恒溫恒濕下,用顯微鏡來讀取的。尺寸變化率是由140℃熱處理前后的尺寸來求出的。
熱尺寸變化率={(處理前的尺寸)-(處理后的尺寸)}/(處理前的尺寸)×100%4)總光線透過率此測定方法是與JIS K7105和ASTM D1003相對應的。
從聚碳酸酯膜的幅度方向(膜幅幾乎為1m)的3處取樣。用日本電色工業(yè)公司制造的色差濁度測定儀COH-300A測定樣品的總光線透過率。各樣品測定5點,取幅度方向3個樣品共15點的平均值為總光線透過率。此測定是按JIS K7105標準進行的。
5)聚碳酸酯膜中的溶劑含量測定取含溶劑的膜約5g,用170℃熱風干燥機干燥1小時后冷卻至室溫。此時,用化學天平精確稱量其干燥前后的重量,求出其變化率。由此求出以固體量為基準的溶劑含量。具體方法是,把幅寬約1m的樣品在幅度方向上5等分來測定,在每等分的幅度方向上測3次,求其平均值。當干燥前的重量為a,干燥冷卻后的重量為b,則以固體為基準的溶劑含量的各測定值可以用下式來表示。
{(a-b)/b}×100%6)面內延遲值Re.的測定取聚碳酸酯膜全幅1m的卷繞方向上長度40mm的長方形樣品,在卷繞方向上的3處以50cm間隔來取樣。把此長方形膜按每40mm間隔切成40mm見方的測定用樣品。即,在1000mm長的膜的整個幅度方向上取25個,由于長方形樣品為3個,總共就得到了75個測定用樣品。對這些樣品測定其面內延遲值Re.。數字表示的Re.值的范圍以其最小值~最大值來表示。用王子測量儀器公司制造的雙折射率測定儀KOBRA-21ADH測定光線從垂直方向入射時的面內延遲Re.值。
7)厚度方向的延遲值K的測定與上述6)的測定同樣取樣,用KOBRA-21ADH測定。通過把聚碳酸酯膜樣品用其相位滯后軸或相位超前軸旋轉來改變入射角度以測定其延遲,從這些數據計算折射率nx、ny以及nz。進一步,由這些值計算K值K值=((nx+ny)/2-nz)×d(單位為nm)。這里,nx是卷繞方向上的折射率,ny是與卷繞方向正交的方向上的折射率,nz是厚度方向上的折射率,d表示所測定的膜厚。另外,K值的單位在上述計算時算出的是μm,不過在表示時已經換算成nm單位。本說明書中K值的最大值意指這些中的最大值。
8)支撐體的中心線平均表面粗糙度(Ra)的測定中心線平均表面粗糙度(Ra)是JIS-B0601所定義的值,在本申請說明書中的數值是用小坂研究所公司的接觸式表面粗糙度儀(Surfcorder,SE-30C)測定的。
Ra測定的條件如下觸針尖端半徑2μm測定壓力30mg臨界值0.08mm測定長度1.0mm與上述3)的總樣品同樣,在膜的整個幅度方向上取3處制樣供測定用。對同一樣品反復進行5次測定,其測定值(以μm為單位,小數點以下取4位值)除去一個最大的值,得到余下的4個數據。把總共3處的12個數據取平均,取小數點以下第5位四舍五入,用nm為單位以小數點以下4位來表示。
9)保護膜粘接強度的測定方法此測定方法以JIS Z0237為基準。
把由聚碳酸酯構成的塑料膜與涂布了粘接劑的聚酯膜在室溫下用輥擠壓貼合形成層積片。擠壓的線壓力調整為5kgf/1m。從此層積片裁下寬25mm、長150mm的長方形樣品。用小型坦錫倫把聚碳酸酯膜的一端和聚酯膜的一端固定在卡盤上,以180度撕離的方法測定剝離強度。剝離的速度取300mm/min。
10)膜保護層的平整性(光學失真)的評價方法首先來講評價用光盤基板的制作方法。
在直徑12cm的聚碳酸酯制造或玻璃制造光盤基板表面上,用濺射方法形成作為反射膜層的鋁膜,在此反射膜上用紫外線硬化樹脂貼上聚碳酸酯膜來作為光透過層。具體說,在光盤的鋁面上,將紫外線硬化樹脂涂布成環(huán)狀圖案的,載上沖壓成外徑118mm、內徑22.8mm的聚碳酸值膜,用旋涂(例如5000rpm,30sec)把紫外線硬化樹脂均膜。然后,用紫外線照射來貼合。
作為光平整性的評價方法是,把光盤裝在驅動裝置中,在光盤處于旋轉的狀態(tài)下,通過光透過層(透明保護層)相對于鋁膜反射面地裝上聚焦伺服機構,比較此時的聚焦誤差信號的振幅。當聚碳酸值膜的平整性差(光學失真大)的場合,隨光程長的變化,誤差信號的振幅增大。作為引起聚焦誤差的主要原因有,光盤基板自身的表面起伏、主軸馬達的振動等,由于受伺服機構特性的影響,比較是用同一基板、同一驅動裝置進行的。而且,通過用高通濾波器(HPF)取出誤差信號的1kHz~4kHz以上頻率成分,就可以更明確的對聚碳酸酯膜的平整性差異進行比較。
把粘均分子量38,000的芳香族聚碳酸酯樹脂造粒(帝人化成公司制造的商品パンライト,注冊商標グレ-ド C-1400QJ)在120℃下熱風干燥16小時,接著用去濕空氣冷卻到30℃。把此芳香族聚碳酸酯樹脂溶解在二氯甲烷溶劑中,備成18重量%的溶液。把此溶液過濾除去雜質。進而把此溶液導入到溫度調節(jié)為15±0.5℃的1200mm寬的衣架形模中,接著流延在上述支撐體上形成約450μm的液膜。流延開始之前的支撐體溫度(表面溫度)設定為9℃。把流延膜按下面所述進行干燥。
(第1區(qū))在干燥的初期階段,向支撐體的里面吹30℃的溫風加熱,要注意把膜的氣氛溫度取為20℃來干燥,以不至于引起膜的變形(均化不良)。(在溶液澆鑄的場合,澆鑄之后的狀態(tài)為溶液膜,即稱液膜較接近于實際,但這里就稱之為膜了。)(第2區(qū))接著,用溫風吹,在氣氛溫度45℃干燥,直至膜中的二氯甲烷濃度成為35重量%左右。
(第3區(qū))接著,用溫風吹,在氣氛溫度50℃下干燥,膜中的溶劑量為25重量%。
(第4區(qū))在此區(qū)中,在55℃的氣氛溫度下干燥。此時膜中的溶劑量為20重量%。
(第5區(qū))在此區(qū)中,把聚碳酸酯膜與支撐體一起在15℃的氣氛中冷卻。當此工序完了時,膜中的溶劑量為18重量%。
接著,把上述膜從支撐體上剝離。剝離下來的膜進而送入針拉幅式烘燥機方式的干燥機中邊干燥變傳送。
在針拉幅式烘燥機中,輸送膜的兩端用銷把持住的聚碳酸酯膜。用的是在針拉幅式烘燥機的各區(qū)分割成6區(qū)的針拉幅式干燥機。在針拉幅式烘燥機中,從入口開始進行聚碳酸酯膜的干燥,由于在這里其幅度收縮,與此幅度收縮相配合,也縮小針拉幅式烘燥機的軌條幅度地使其干燥。也就是說,隨著進入針拉幅式烘燥機工序的后半部分,使熱風溫度上升,促進了聚碳酸酯的干燥。此時,盡量將針拉幅式烘燥機的軌條幅度設定得聚碳酸酯膜的分子盡量不發(fā)生取向、面內延遲值盡量不增加。前半部分的熱風溫度取為90℃、110℃、120℃,中間的4、5區(qū)的溫度取為130℃,在此5區(qū)段,將聚碳酸酯膜從針刺部斷開。進而,在6區(qū),熱風溫度取為135℃。在針拉幅式烘燥機的出口處,幾乎于室溫下,以使聚碳酸酯膜受到幅度為5kgf/1m的張力來取出。隨之把膜通入輥懸垂型干燥機中。此輥懸垂型干燥機分割成2間,前部的熱風溫度為135℃,后部的熱風溫度為145℃,用幅度為1.5kgf/1m(14.7N/m)的取出張力來取出。所得到的膜的幅度為1.0m。
如此得到的聚碳酸酯膜的特性如下聚碳酸酯膜的厚度為75μm,厚度斑點為1.0μm。熱尺寸變化率為0.06%,總光線透過率為90%,溶劑含量為0.25%,面內延遲值為4nm~10nm,表面粗糙度Ra.兩面為1.8nm,K值的最大值是78nm。進而,把所得到的聚碳酸酯膜用卷繞機卷繞前,在20μm厚的聚對苯二甲酸乙酯雙軸拉伸膜(楊氏模量縱向、橫向共530kg/mm2(5197MPa)、表面粗糙度Ra.兩面均為25nm(聚酯中,加入了0.25重量%的平均粒徑0.6μm的潤滑劑來調整表面粗糙度Ra.))上與帶有粘接層的保護膜的粘接層重合,用每m為5kgf(49N/m)的線壓夾持,取500m長度卷成輥狀形成卷制層壓體。聚碳酸酯膜與保護膜的粘接強度為9.8gf(0.096N,把樣品寬度25mm換算成1m為3.84N/m)。
這里,按下面那樣形成粘接層。首先在聚對苯二甲酸乙酯雙軸拉伸膜的一面實施電暈處理。接著,做為丙烯酸類粘接劑,用以丙烯酸2-乙基己酯為主單體、甲基丙烯酸酯為共單體、甲基丙烯酸羥乙基酯為含官能團的單體按3∶1∶1的比例,用乙酸乙酯為溶劑,偶氮二異丁腈為引發(fā)劑,按已知的方法進行溶液聚合,調制成粘接劑用聚合物。在此粘接劑用聚合物中,加入TDI類異氰酸酯交聯(lián)劑,在用后面講的方法制成的剝離紙的脫模層上,按干燥后的厚度為10μm那樣涂布來形成粘接層。接著,把此粘接層貼合在上述已經進行了電暈處理的聚對苯二甲酸乙酯雙軸拉伸膜上,用轉印法在聚對苯二甲酸乙酯雙軸拉伸膜上形成粘接層。作為脫模紙,用的是在38μm的聚對苯二甲酸乙酯膜上形成了由硬化型硅氧烷構成的0.1μm脫模層的膜。
把此卷制層壓體在室溫中保存了6個月之后,評價膜的平整性。即,把膜從卷制層壓體放出來,切割。從幅度1m的總卷制層壓體制作5個170mm幅度的卷制層壓體。在5個當中,對幅度方向的中央部分與兩端的輥由表層及離卷芯250m的部分和卷芯部分取樣。從膜的幅度方向上3處切出樣品,合計9個。把這些樣品沖壓成圓盤狀,用紫外線硬化樹脂貼合在有鋁的玻璃基板上,制作成評價用光盤。
用以上那樣制得的帶有光透過層的光盤基板,進行實際的殘留焦點的測定。在用線速度7.9m/s使光盤旋轉狀態(tài)下,聚焦,對于所取出的聚焦誤差信號通過4kHz的高通濾波片(HPF),只取出高頻的殘留成分。用的透鏡的NA為0.85,激光波長為405nm。
下面示出了高頻的殘留信號的最大振幅值。還有,為了比較,測定了作為保護膜的聚乙烯/聚乙酸乙烯酯的卷制層壓體的卷芯中央部分。
保護膜的種類 卷位置 振幅位置 焦點誤差(任意單位)聚對苯二甲酸乙酯/粘接劑表層右端 0.045表層中央 0.048表層左端 0.047中間右端 0.044中間中央 0.048中間左端 0.045卷芯右端 0.047卷芯中央 0.042卷芯左端 0.045聚乙烯/聚乙酸 卷芯中央 0.079乙烯酯共聚物由此可知,在由表層、中間層、卷芯部分所制成的實施例1的整個膜樣品中,沒有光學失真量的變化,可以維持極好的特性。還有,在比較例1中,聚焦誤差明顯加大,光學失真變大,特性不好。
產業(yè)化應用可能性由本發(fā)明可以提供高度優(yōu)異平整性的、幾乎沒有光學失真的、光學均質性良好的卷制層壓體。把此聚碳酸酯膜用做高密度光盤用的透明保護層,可以提供基本上不發(fā)生光學失真、簡單且工業(yè)生產性高的信息記錄媒體。
權利要求
1.一種卷制層壓體,其特征在于,它是由以雙酚A作為芳香族二羥基化合物成分的芳香族聚碳酸酯所構成的塑料膜與由芳香族聚酯構成的保護膜,并在二者之間使用粘接強度為3gf~50gf(0.0294~0.49N)的弱粘接性粘接劑而層壓、卷繞起來的。
2.權利要求1中所述的卷制層壓體,其特征在于,所述塑料膜的厚度斑點在4μm以下、熱尺寸變化率在0.07%以下、面內延遲值在15nm以下。
3.權利要求1或2中所述的卷制層壓體,其特征在于,所述保護膜是由聚對苯二甲酸乙酯或聚萘二甲酸乙酯構成且楊氏模量在450kgf/mm2(4413MPa)以上的聚酯。
4.權利要求2或3中所述的卷制層壓體,其特征在于,所述塑料膜的厚度為30μm~100μm、總透光率在90%以上、殘余溶劑量在0.3重量%以下、厚度方向上的延遲值(K值)在100nm以下、表面粗糙度Ra在兩面上均為5.0nm以下。
5.權利要求1~4中任一項所述的卷制層壓體,其特征在于,所述塑料膜是由溶液澆鑄法制膜的。
6.權利要求1~5中任一項所述的卷制層壓體,其特征在于,用于形成光盤透明保護層。
7.一種光盤制造方法,其特征在于,在形成膜面入射方式光盤的透明保護層中使用了權利要求1~6中任一項所述的卷制層壓體。
8.權利要求7中所述的光盤制造方法,其特征在于,它包括從所述卷制層壓體沖壓盤狀層積膜的工序、粘接構成盤狀層積膜的塑料膜與光盤基板的工序。
9.權利要求8中所述的光盤制造方法,其特征在于,把保護膜從所述盤狀層積膜上剝離后、把塑料膜粘接在光盤基板上。
10.權利要求8中所述的光盤制造方法,其特征在于,在把構成盤狀層積膜的塑料膜與光盤基板粘接之后把保護膜從所述盤狀層積膜上剝離。
11.權利要求7~10中任一項所述的光盤制造方法,其特征在于,用液狀粘接劑或膜狀粘接劑進行塑料膜與光盤基板的粘接。
全文摘要
一種由以雙酚A作為芳香族二羥基化合物成分的芳香族聚碳酸酯構成的塑料膜與由芳香族聚酯構成的保護膜,并在二者之間使用粘接強度3gf~50gf(0.0294~0.49N)的弱粘接性粘接劑層壓、卷繞起來的卷制層壓體。還有,使用此卷制層壓體作為光盤的透明保護層制造膜面入射方式光盤。
文檔編號A61F13/02GK1464840SQ02802600
公開日2003年12月31日 申請日期2002年7月2日 優(yōu)先權日2001年7月5日
發(fā)明者細井正廣, 八幡一雄, 芝田純一, 山崎剛, 行本智美 申請人:帝人化成株式會社, 索尼公司