專利名稱：等離子體手術(shù)設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及等離子體手術(shù)設(shè)備，通過(guò)氣體等離子體用于減小活組織的出血，包括等離子體生成系統(tǒng)，含有陽(yáng)極，陰極和將氣體供應(yīng)給等離子體生成系統(tǒng)的氣體供應(yīng)通道，等離子體生成系統(tǒng)包括至少一個(gè)電極，排列在所述陰極和所述陽(yáng)極之間，以及等離子體生成系統(tǒng)由一種導(dǎo)電材料的外殼所密封，該外殼連接到陽(yáng)極。
背景技術(shù)：
這里的等離子體手術(shù)設(shè)備是指手術(shù)中通過(guò)一個(gè)氣體等離子體來(lái)阻止出血的一類設(shè)備。這種氣體等離子體生成設(shè)備具有鋼筆的形狀，這可以很容易地應(yīng)用到一個(gè)希望的區(qū)域，例如出血組織。在鋼筆的頂端存在一個(gè)氣體等離子體，它的極高溫度通過(guò)在靠近頂端的組織上形成一個(gè)類似痂塊的壞死層，導(dǎo)致了凝結(jié)和止血效果。
WO 96/06572(Suslov)根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)公開(kāi)了一個(gè)等離子體手術(shù)設(shè)備。該設(shè)備含有一個(gè)導(dǎo)電體，連接到一個(gè)具有正電勢(shì)的能源正極。此外，該導(dǎo)電體用一個(gè)圓柱形通道形成，設(shè)計(jì)為加熱等離子體生成氣體，該通道由多個(gè)電學(xué)上互相隔離的節(jié)構(gòu)成。該設(shè)備含有一個(gè)陰極，由導(dǎo)電管構(gòu)成，它的一端安裝有一個(gè)電極。管子的另一端連接一個(gè)能源的負(fù)極。管子的這一端還連接一個(gè)氣體供應(yīng)單元，以允許將氣體通過(guò)陰極管供應(yīng)給該設(shè)備。
使用中，氣體通過(guò)陰極管供應(yīng)，同時(shí)跨過(guò)正極和負(fù)極施加上一個(gè)電壓，使得在負(fù)極和導(dǎo)電體之間得到一個(gè)電壓差。最初，電壓差產(chǎn)生一個(gè)電弧，它加熱供應(yīng)的氣體形成等離子體，然后等離子體便維持。
US-A-3,991,764(Incropera等)根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)公開(kāi)了另一個(gè)設(shè)備。這里氣體也是通過(guò)一個(gè)管子供應(yīng)，該管子電學(xué)上連接到設(shè)備負(fù)極并達(dá)到所述負(fù)極。這里設(shè)備的正極通過(guò)一個(gè)導(dǎo)體實(shí)現(xiàn)，它反過(guò)來(lái)由一個(gè)外殼封閉。進(jìn)一步，提供水管用于冷卻設(shè)備。
這種類型的一個(gè)進(jìn)一步設(shè)備公開(kāi)于WO 92/19166(Nauchno-Issledovatelsky Institute)。
由于近來(lái)外科手術(shù)技術(shù)方面的發(fā)展，開(kāi)口手術(shù)的使用越來(lái)越少，而腹腔鏡(鍵孔)手術(shù)更經(jīng)常使用。這意味著在使用的儀器上有新的需求，尤其是必須可能制作相對(duì)小的儀器。類似地，醫(yī)療保健中提高效率的需要已經(jīng)導(dǎo)致了放棄需要特殊處理的儀器，例如每次使用后的消毒。
本發(fā)明的目的因此是提供一種等離子體手術(shù)設(shè)備，它能滿足上面陳述的一個(gè)或更多需要。

發(fā)明內(nèi)容
上面的目的通過(guò)一個(gè)設(shè)備來(lái)取得，如通過(guò)介紹所描述的，其中外殼形成所述氣體供應(yīng)通道。
該結(jié)構(gòu)允許設(shè)計(jì)不那么龐大的儀器，它方便了在腹腔鏡手術(shù)中的使用。進(jìn)一步，它允許低成本地制作該儀器，由此使得它們可能作為現(xiàn)成消毒的，可隨意使用的儀器。
該外殼除了適合形成所述氣體供應(yīng)通路，還適合形成額外的通路。該通路可以用于不同目的，方便地允許一種液體流經(jīng)它。例如，該額外的通路可以用于供應(yīng)活放出一種冷卻劑，或者用于從實(shí)施手術(shù)等的區(qū)域排除液體。
優(yōu)選地，該外殼除了形成所述氣體供應(yīng)通路，還形成至少兩條額外的通路。該設(shè)計(jì)尤其簡(jiǎn)單且節(jié)省空間。方便地，該氣體供應(yīng)通路可以安裝在外殼中央，以及額外的通路沿氣體供應(yīng)通路的周圍排列。在這種情況下，額外的通路優(yōu)選為用于分別供應(yīng)和放出一種冷卻劑的冷卻通路。
這樣，一種描述它的方式是外殼形成一個(gè)供應(yīng)部分，其中形成所述氣體供應(yīng)通路，以及一個(gè)等離子體生成部分，其中提供一個(gè)所述等離子體生成系統(tǒng)。這意味著氣體供應(yīng)部分的外殼截面可以例如形成一個(gè)或多個(gè)通路，而等離子體生成部分中的截面例如要顧及等離子體生成系統(tǒng)。不同部分的長(zhǎng)度可以依賴該設(shè)備的應(yīng)用而不同。
等離子體生成系統(tǒng)就其本身的已知方式，包括一個(gè)負(fù)極，它連接到一個(gè)導(dǎo)體用于連接到一個(gè)電能源。優(yōu)選地，所述導(dǎo)體通過(guò)所述管狀外殼中的任何一個(gè)通路延伸，合適地通過(guò)一個(gè)排列在中心的氣體供應(yīng)通路。然后氣體將在導(dǎo)體附近流過(guò)，流向等離子體生成系統(tǒng)和負(fù)極。
等離子體生成系統(tǒng)進(jìn)一步包括至少一個(gè)電極，它安裝在所述負(fù)極和正極之間。優(yōu)選地，等離子體生成系統(tǒng)包括至少兩個(gè)電極，通過(guò)一種絕緣方式互相絕緣。通過(guò)使用兩個(gè)互相絕緣的電極，系統(tǒng)中產(chǎn)生的不希望的雙電弧風(fēng)險(xiǎn)可以減小。該電極或兩個(gè)電極以及任何絕緣體，適合于是環(huán)形截面并形成一個(gè)通道，其中等離子體在負(fù)極和正極之間加熱。
該電極和任何絕緣體方便地安裝在一個(gè)電絕緣材料的支撐裝置中。為了確保容易制作和可靠的結(jié)構(gòu)，電極和任何絕緣體可以方便地壓配合到所述支撐裝置。
此外，負(fù)極夾具可以以這種方式合適地安裝在支撐裝置中，使得負(fù)極與最靠近負(fù)極的一個(gè)電極同心地放置并隔開(kāi)，借助于壓配合該支撐裝置的一個(gè)負(fù)極夾具，方便地通過(guò)負(fù)極安裝在支撐裝置中。
在這種情況下，支撐裝置形成了一個(gè)方便的組件單元，用于保持電極和絕緣體在一起并用于確保負(fù)極相對(duì)于那里緊排在正確位置。為防止支撐裝置免于由于在負(fù)極周圍產(chǎn)生極高溫度(達(dá)3200℃)的破壞，一種陶瓷材料的絕緣管方便地安裝在支撐裝置的內(nèi)部，使得封閉負(fù)極，用于保護(hù)支撐裝置。
進(jìn)一步，支撐裝置適合于含有一個(gè)連接端，它連接到所述氣體供應(yīng)通路，使得氣體由支撐裝置通過(guò)負(fù)極，然后通過(guò)所述至少一個(gè)電極到正極。然而，該支撐裝置優(yōu)選含有一個(gè)外形，以允許一種液體分別從額外通路流出或流向額外通路，使得該液體可以到達(dá)支撐裝置之間形成的空間，包括所述電極和任何絕緣體，以及管狀外殼的內(nèi)壁。這樣，支撐裝置的外形應(yīng)該分別不阻塞等離子體生成部分中額外通路的出口和入口。
一個(gè)墊圈可以合適地在正極和一個(gè)靠近正極的電極之間提供。在這種情況下，等離子體生成系統(tǒng)在外殼中以這樣一種方式排列，使得正極連接外殼，一個(gè)預(yù)定的壓縮力施加到墊圈上。這樣，在外殼和正極之間確保了一種防水密封，并在二者之間建立了電學(xué)接觸。
此外，外殼可以由與此電學(xué)接觸的第一接觸環(huán)所環(huán)繞，接觸環(huán)接到地。這使得該儀器對(duì)使用者更安全。在這種情況下，還可以提供一個(gè)電學(xué)接觸外殼的第二接觸環(huán)，該接觸環(huán)適合用于不變地控制外殼的接地。
提供一個(gè)連接設(shè)備，適合于用于將氣體供應(yīng)連接到所述氣體供應(yīng)通路，以及對(duì)額外通路的任何希望功能，例如供應(yīng)冷卻劑或用于蒸發(fā)液體的抽氣功率。連接設(shè)備可以含有一個(gè)出口端，它定義了連接通路，該連接通路用于在所述氣體供應(yīng)通路和額外通路中獲得一種不透液體的配合，以及含有一個(gè)提供了軟管接合的入口端，用于將軟管連接到每個(gè)所述連接通路。進(jìn)一步，該連接設(shè)備還可以含有一個(gè)導(dǎo)體開(kāi)口，通過(guò)它負(fù)極導(dǎo)體可以延伸用于連接到一個(gè)電壓源。這樣，該設(shè)備可以很容易地連接到一個(gè)或更多適合于供應(yīng)例如能量，氣體和冷卻劑等的供應(yīng)單元。
此外，該設(shè)備合適地包括一個(gè)手柄部分，它至少部分地封閉所述外殼，用于容易握住該設(shè)備。
為了允許不同類型的設(shè)備連成一個(gè)以及連接到適合于供應(yīng)例如氣體，冷卻劑或能量的相同供應(yīng)單元，該設(shè)備可以方便地包括一個(gè)適合于區(qū)分設(shè)備類型的電路。該電路包括一個(gè)其電阻選擇地代表設(shè)備類型的部件。方便地，該電阻可以參考一個(gè)接地的接觸環(huán)讀出。通過(guò)讀出電阻便獲得了一個(gè)何種類型的設(shè)備連接到供應(yīng)單元的指示。不同種類設(shè)備的實(shí)例是用于開(kāi)口手術(shù)的儀器和用于腹腔鏡手術(shù)的儀器。
從下面對(duì)本發(fā)明一個(gè)具體實(shí)施例并參考附圖的描述，使本發(fā)明的進(jìn)一步特征和優(yōu)點(diǎn)將會(huì)非常明顯。


圖1是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)設(shè)備的一個(gè)實(shí)施例的分解圖。
圖2是從圖1所示設(shè)備外殼的等離子體生成部分看的圖。
圖3是如圖1所示設(shè)備的負(fù)極導(dǎo)體和等離子體生成系統(tǒng)的分解圖。
圖4示出了圖1所示的設(shè)備含有電極的支撐元件。
圖5示出了圖1中當(dāng)組裝好了的設(shè)備，等離子體生成系統(tǒng)暴露出來(lái)。
圖6示出了圖1中當(dāng)組裝好了的設(shè)備。
圖7示出了適合于實(shí)現(xiàn)連接到一個(gè)供應(yīng)單元的一個(gè)耦合終端，該供應(yīng)單元適合于供應(yīng)氣體，冷卻劑和能量。
圖8示出了圖1中的設(shè)備在一個(gè)手柄部分的安裝。
圖9示出了含有根據(jù)圖8的手柄部分的設(shè)備。
圖10示出了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)設(shè)備的第二實(shí)施例。
具體實(shí)施例方式
圖1是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)等離子體手術(shù)設(shè)備的一個(gè)實(shí)施例的分解圖。該設(shè)備包括一個(gè)伸長(zhǎng)外殼12，它密封了一個(gè)用于生成一種等離子體的等離子體生成系統(tǒng)，該等離子體在外殼12的末端放出并用來(lái)止血。
圖1示出了當(dāng)從等離子體生成系統(tǒng)上移開(kāi)了的外殼12。如圖1所示，該外殼含有一個(gè)供應(yīng)部分(圖中離的最遠(yuǎn)的)和一個(gè)其中安裝等離子體生成系統(tǒng)的等離子體生成部分(圖的前臺(tái)中)。供應(yīng)部分形成一個(gè)氣體供應(yīng)通路17，以及在這種情況下的兩個(gè)額外通路15，16，用作冷卻通路。該外殼12這里由一個(gè)管狀部分形成。
圖2示出了從等離子體生成部分末端看(該圖的前臺(tái))的外殼12。該圖示出了外殼供應(yīng)部分的截面。氣體供應(yīng)通路17排列在管狀外殼12的中央，冷卻通路15，16沿氣體供應(yīng)通路17周圍排列。這里氣體供應(yīng)通路17截面為圓形，而冷卻通路15，16截面為C形，并一起沿氣體供應(yīng)通路17的周圍的更大部分延伸。
在等離子體生成部分中，外殼12的截面為單圓形，并由冷卻通路15，16的外壁延伸形成。
外殼12由導(dǎo)電材料形成，是一種適合制作含有上述截面的單元的材料，例如鋁。
圖1還示出了位于外殼12旁邊的等離子體生成系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括一個(gè)正極1，一個(gè)負(fù)極8(見(jiàn)圖3)以及放置在它們之間的一套電極3，5。電極3，5是環(huán)形的，并且就其本身的已知方式形成一個(gè)通路，其中等離子體在正極1放出前被加熱。
圖3更清楚地示出了等離子體生成系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括一個(gè)負(fù)極8，安裝在一個(gè)負(fù)極夾具9中，依次連接到一個(gè)導(dǎo)電體11，用于連接到一個(gè)電能源。導(dǎo)體11由一個(gè)絕緣體10密封。
負(fù)極夾具9設(shè)計(jì)成配合夾具元件7中的某一位置，該元件由一個(gè)絕緣材料形成，例如一種耐熱塑料材料。為保護(hù)夾具元件7免于發(fā)生于負(fù)極周圍的高溫(高達(dá)3200℃)，在夾具元件7中的負(fù)極8和夾具元件7內(nèi)部之間提供一個(gè)圓柱形絕緣管6。合適地，絕緣管6由一種絕熱陶瓷材料制成。
進(jìn)一步，由絕緣體4隔開(kāi)的電極5，3以這種方式排列在支撐裝置內(nèi)，使得它們形成了一個(gè)用于加熱等離子體的通道。這里，提供了兩個(gè)電極5，3，由一個(gè)絕緣體隔開(kāi)。電極的形狀和通道直徑可以適合于任何希望的目的。第一電極5，絕緣體4和第二電極3壓配合在一起。進(jìn)一步，電極5，3和絕緣體4這里壓配合到夾具元件7。圖4中，示出了當(dāng)安裝在夾具元件7中時(shí)的電極5，3和絕緣體4。
夾具元件7這里根據(jù)這個(gè)目的方便地設(shè)計(jì)，它的一個(gè)圓柱形部分用于連接到負(fù)極夾具9，以及向外的延伸臂，在它們之間電極5，3和絕緣體4可以被壓配合。到負(fù)極夾具9的連接使得負(fù)極8與最靠近負(fù)極8的電極5同心地放置并隔開(kāi)。
離負(fù)極8最遠(yuǎn)的電極3接觸一個(gè)環(huán)形墊圈2，它反過(guò)來(lái)對(duì)著正極1。
當(dāng)組裝好時(shí)，夾具元件7和負(fù)極夾具9安裝在管狀外殼12的等離子體生成部分中。連接到負(fù)極以及與之毗連絕緣體10的導(dǎo)體11，在外殼的供應(yīng)部分中通過(guò)氣體供應(yīng)通路17延伸。正極1連接到外殼12并且等離子體生成系統(tǒng)含有相對(duì)于外殼12這樣的尺寸，使得一個(gè)預(yù)定的壓縮力施加到正極1和最靠近它的電極3之間的墊圈2上。這確保了在正極和外殼12之間得到一種防水密封?？刂茐嚎s力可以通過(guò)在正極1和外殼12之間套絲，焊接或錫焊。在任何情況下，正極1和外殼12的互連使得在二者之間提供一種電學(xué)接觸。
為提供連接到氣體供應(yīng)通路17，夾具元件7密封負(fù)極8的圓柱形部分設(shè)計(jì)成可配合氣體供應(yīng)通路17。此外，電極尺寸和夾具元件臂的形狀使得不阻擋冷卻劑通過(guò)冷卻通路15，16流出和流入，以及流到電極5，3和外殼12的內(nèi)壁之間。盡管可以想象出其它液體，冷卻劑優(yōu)選為水。
此外，為提供連接到供應(yīng)單元，用于供應(yīng)等離子體氣體，能量和冷卻劑，提供了一個(gè)耦合設(shè)備(圖1中分離的)。該耦合設(shè)備包括兩部分，一個(gè)出口端13，它定義了耦合通路以配合管狀外殼12的通路15，16，17，以及一個(gè)入口端14，與軟管耦接頭18，19，20一起提供，用于將軟管耦合到每個(gè)所述耦合通路。軟管耦接頭18，19，20可以例如為“橄欖形耦接頭”。進(jìn)一步，耦合設(shè)備提供了一個(gè)導(dǎo)體開(kāi)口，通過(guò)它導(dǎo)體11延伸用于連接到一個(gè)能量源。
從軟管耦接頭18，19，20，柔軟的軟管方便地延伸到一個(gè)耦合終端，用于連接到一個(gè)供應(yīng)單元。圖7示出了這樣一個(gè)耦合終端的一個(gè)實(shí)例。
圖8示出了圖1安裝了一個(gè)手柄部分的設(shè)備。在該附圖中，去掉了手柄部分的一半，使得可以清楚地看到連接到其它部分。手柄部分局部地密封外殼12并延伸到耦合設(shè)備以及一部分供應(yīng)軟管。這里提供給外殼12第一接觸環(huán)27，它連接到地。這是為了確保該設(shè)備具有零電勢(shì)。另外，提供給外殼第二接觸環(huán)24，可用于控制外殼12的接地。
手柄部分進(jìn)一步包括一個(gè)印刷電路卡25，它特別包含一個(gè)指示元件，它的電阻可以讀出并用于指示什么類型的設(shè)備正在使用。在該實(shí)施例中，手柄部分還提供了按鈕26來(lái)使設(shè)備開(kāi)或關(guān)。
圖9示出了含有根據(jù)圖8的手柄部分的設(shè)備。手柄具有人體工程學(xué)設(shè)計(jì)，允許舒適地握住和操作。
圖10示出了本發(fā)明的第二實(shí)施例。管狀外殼12這里比前面實(shí)施例中的要長(zhǎng)，并且手柄形狀稍微不同。該實(shí)施例尤其適合于腹腔鏡手術(shù)。手柄部分沒(méi)有任何按鈕，相反該設(shè)備通過(guò)一個(gè)腳踏開(kāi)關(guān)的方式開(kāi)和關(guān)。
方便地，該設(shè)備可以提供作為一個(gè)可隨意使用的儀器。整個(gè)設(shè)備，包括外殼，耦合設(shè)備，軟管和耦合終端可以焊接作為一個(gè)可隨意使用的儀器。作為選擇，僅外殼和它的內(nèi)容可以是可隨意使用的，并適合于連接到非可隨意使用的手柄和軟管等。
方便地，該等離子體生成氣體與現(xiàn)有技術(shù)的儀器中使用的氣體是同一類型的，例如氬。
在本發(fā)明的范圍內(nèi)其它實(shí)施例和變更是可能的。例如，電極數(shù)目和設(shè)計(jì)可以依賴于使用的等離子體生成氣體和希望的等離子體性質(zhì)改變。此外，外殼的長(zhǎng)度，以及它的供應(yīng)部分和等離子體生成部分分別可以改變，以配合不同應(yīng)用。耦合設(shè)備可以如手柄一樣以幾種方式設(shè)計(jì)。額外通路的數(shù)目和它們的截面可以改變。例如，可以提供三個(gè)額外的通路，兩個(gè)用于供應(yīng)和放出一種制冷劑，以及一個(gè)用于從手術(shù)區(qū)吸取液體。此外，外殼和正極可以制作在一片上，而不是根據(jù)上述的實(shí)施例作為兩個(gè)單元放在一起。
權(quán)利要求
1.一種等離子體手術(shù)設(shè)備，用于借助氣體等離子體減少活組織中的出血，包括一個(gè)等離子體生成系統(tǒng)，含有一個(gè)正極(1)，一個(gè)陰極(8)和將氣體供應(yīng)給等離子體生成系統(tǒng)的一個(gè)氣體供應(yīng)通道(17)，等離子體生成系統(tǒng)包括至少一個(gè)電極(3，5)，布置在所述陰極(8)和所述陽(yáng)極(1)之間，以及等離子體生成系統(tǒng)由一種導(dǎo)電材料的外殼(12)所包封，該外殼連接到陽(yáng)極(1)，其特征在于所述外殼(12)形成所述氣體供應(yīng)通道(17)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中所述外殼(12)除了所述氣體供應(yīng)通道(17)，形成至少一個(gè)額外通路(15，16)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中所述外殼(12)除了所述氣體供應(yīng)通道(17)，形成至少兩個(gè)額外通路(15，16)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中所述氣體供應(yīng)通道(17)安裝在外殼(12)的中央，以及額外的通路(15，16)沿氣體供應(yīng)通路(17)的周圍排列。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中所述額外的通路(15，16)為用于供應(yīng)和排放一種冷卻劑的冷卻通路。
6.根據(jù)前述任何一個(gè)權(quán)利要求的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中外殼(12)形成在其中形成所述氣體供應(yīng)通路(17)的一個(gè)供應(yīng)部分，以及在其中提供所述等離子體生成系統(tǒng)的一個(gè)等離子體生成部分。
7.根據(jù)前述任何一個(gè)權(quán)利要求的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中所述負(fù)極(8)連接到一個(gè)用于連接到一個(gè)電壓源的導(dǎo)體(11)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中所述導(dǎo)體(11)適合于通過(guò)所述外殼(12)中的通路(15，16，17)之一延伸。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中所述導(dǎo)體(11)通過(guò)一個(gè)布置在所述外殼(12)中央的氣體供應(yīng)通路(17)延伸。
10.根據(jù)前述任何一個(gè)權(quán)利要求的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中所述等離子體生成系統(tǒng)包括至少兩個(gè)電極(3，5)，它們通過(guò)一個(gè)絕緣體(4)互相絕緣。
11.根據(jù)前述任何一個(gè)權(quán)利要求的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中所述至少一個(gè)電極(3，5)安裝在由一種電絕緣材料制成的一個(gè)支撐裝置(7)中。
12.根據(jù)權(quán)利要求11的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中如果有絕緣體(4)的話，所述電極(3，5)和絕緣體(4)壓入配合到所述支撐裝置(7)。
13.根據(jù)權(quán)利要求11或12的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中所述負(fù)極(8)與最靠近負(fù)極(8)的一個(gè)電極(5)同心地布置在支撐裝置(7)中并隔開(kāi)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中所述負(fù)極(8)借助一個(gè)負(fù)極夾具(9)安裝在支撐裝置(7)中，該負(fù)極夾具(9)壓入配合到該支撐裝置(7)。
15.根據(jù)權(quán)利要求13或14的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中一個(gè)陶瓷材料的絕緣管(6)安裝在支撐裝置(7)的內(nèi)部，使得包封該負(fù)極(8)。
16.根據(jù)權(quán)利要求13-15任何一個(gè)的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中所述支撐裝置(7)含有一個(gè)連接端，它連接到所述氣體供應(yīng)通路(17)，使得氣體由支撐裝置(7)通過(guò)負(fù)極(8)，然后通過(guò)所述至少一個(gè)電極(3，5)到正極(1)。
17.根據(jù)權(quán)利要求16的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中支撐裝置(7)含有的外形使得允許流體分別在具有所述電極(5，3)的支撐裝置(7)，和絕緣體(4)(如果有的話)，以及支撐裝置(7)的外殼(12)的內(nèi)壁之間從額外通路(15，16)流出或流向它。
18.根據(jù)前述任何一個(gè)權(quán)利要求的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中一個(gè)墊圈(2)布置在正極(1)和最靠近正極(1)的電極(3)之間，以及等離子體生成系統(tǒng)在外殼(12)中以這樣一種方式布置，使得正極(1)連接外殼(12)，一個(gè)預(yù)定的壓縮力施加到墊圈(2)上，使得在外殼(12)和正極(1)之間建立了一種防水密封，并在二者之間確保電學(xué)接觸。
19.根據(jù)前述任何一個(gè)權(quán)利要求的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中所述外殼(12)由與此電學(xué)接觸的第一接觸環(huán)(27)所環(huán)繞，該接觸環(huán)接到地。
20.根據(jù)權(quán)利要求19的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中所述外殼(12)由第二接觸環(huán)(24)所環(huán)繞，能夠用于恒定地控制外殼(12)的接地。
21.根據(jù)權(quán)利要求2-19任何一個(gè)的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中提供一個(gè)連接設(shè)備，用于將氣體供應(yīng)連接到所述氣體供應(yīng)通路(7)，以及對(duì)額外通路(15，16)提供任何希望的功能。
22.根據(jù)權(quán)利要求21的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中所述連接設(shè)備含有一個(gè)出口端，它限定連接通路，用于在所述氣體供應(yīng)通路(17)和額外通路(15，16)中獲得一種不透流體的配合，以及含有一個(gè)提供了軟管接合(18，19，20)的入口端，用于將軟管連接到每個(gè)所述連接通路。
23.根據(jù)權(quán)利要求21或22的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中所述連接設(shè)備還含有一個(gè)導(dǎo)體開(kāi)口，通過(guò)它負(fù)極導(dǎo)體(11)延伸以便連接到一個(gè)電壓源。
24.根據(jù)權(quán)利要求2-23任何一個(gè)的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中所述外殼(12)連接到軟管，用于供應(yīng)氣體以及對(duì)額外通路提供任何希望的功能，軟管在它們的另一端連接到一個(gè)用于連接到供應(yīng)單元的連接器。
25.根據(jù)前述任何一個(gè)權(quán)利要求的等離子體手術(shù)設(shè)備，其包括一個(gè)手柄部分，它至少部分地包封所述外殼(12)，以允許容易握住該設(shè)備。
26.根據(jù)權(quán)利要求20的等離子體手術(shù)設(shè)備，其包括一個(gè)電路，該電路適合于借助一個(gè)指示元件(25)的電阻來(lái)區(qū)分設(shè)備類型。
27.根據(jù)前述任何一個(gè)權(quán)利要求的等離子體手術(shù)設(shè)備，其含有第一按鈕(26)，用于使等離子體發(fā)生器打開(kāi)或關(guān)閉。
28.根據(jù)權(quán)利要求27的等離子體手術(shù)設(shè)備，其中為了增加可靠性，含有第二按鈕(26)。
全文摘要
一種等離子體手術(shù)設(shè)備，通過(guò)一種氣體等離子體用于減小活組織的出血。該設(shè)備包括一個(gè)等離子體生成系統(tǒng)，含有一個(gè)陽(yáng)極(1)，一個(gè)陰極(8)和將氣體供應(yīng)給等離子體生成系統(tǒng)的一個(gè)氣體供應(yīng)通道(17)，等離子體生成系統(tǒng)包括至少一個(gè)電極(3，5)，排列在所述陰極(8)和所述陽(yáng)極(1)之間，以及等離子體生成系統(tǒng)由一種導(dǎo)電材料的外殼(12)所密封，該外殼連接到陽(yáng)極(1)。該設(shè)備特征在于所述外殼(12)形成所述氣體供應(yīng)通道(17)。
文檔編號(hào)A61B18/00GK1703167SQ200380100907
公開(kāi)日2005年11月30日 申請(qǐng)日期2003年10月2日 優(yōu)先權(quán)日2002年10月4日
發(fā)明者尼古雷·薩斯洛夫 申請(qǐng)人:普拉斯馬外科投資有限公司