專利名稱：磁共振成象系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種利用磁共振的磁共振成象系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
如例如專利文獻(xiàn)1(日本未審查的專利申請書出版物No.2002-159465)中所述，磁共振成象(MRI)系統(tǒng)是一種利用磁共振對躺在靜磁場空間中的人體的受檢查部位進(jìn)行成象的方式。
一個磁體如永久磁體用于感應(yīng)一個靜磁場。
該磁體由支腳支承，這些支腳用于調(diào)整該磁體的姿態(tài)并安置在一個MRI系統(tǒng)的安裝場所的地板上。
例如，當(dāng)該磁體安置在該安裝場所中或如果在地板和任何支腳之間由于地板已逐漸變形而產(chǎn)生間隙時，必須調(diào)整磁體的姿態(tài)，以便校正靜磁場的方向，從而使該靜磁場的方向?qū)⑴c一預(yù)定方向?qū)?zhǔn)。
通常，夾在地板和支腳之間的是一個具有預(yù)定厚度的調(diào)整板，以便調(diào)整該磁體的姿態(tài)。
為了調(diào)整磁體的姿態(tài)，例如，使用一個千斤頂將磁體和支腳撬起在地板上方。然后在地板和支腳之間插進(jìn)該調(diào)整板。
日本未審查的專利申請書出版物No.2002-159465但是，用一種專用工具如千斤頂來調(diào)整該磁體的姿態(tài)是費(fèi)時的。如果該千斤頂用一種磁性材料如鐵制成，那么該千斤頂被磁體吸引。這妨礙調(diào)整工作。
其次，當(dāng)該調(diào)整板僅僅夾在地板和支腳之間時，地板的振動通過支腳下地板的那部分安置面而傳遞給磁體。該振動可能給磁共振成象形成的圖象造成壞影響。
發(fā)明概述因此，本發(fā)明的目的是提供這樣一種磁共振成象系統(tǒng)，其中能夠容易地調(diào)整一個磁體的姿態(tài)和能夠抑制調(diào)整對圖象的壞影響。
按照本發(fā)明的磁共振成象系統(tǒng)包括一個能感應(yīng)磁共振成象所需的靜磁場的磁體和一個支承該磁體并直立在一安置面上的支承機(jī)構(gòu)。該支承機(jī)構(gòu)包括一個調(diào)整磁體姿態(tài)的姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)和一個衰減機(jī)構(gòu)，該衰減機(jī)構(gòu)衰減通過該安置面而加入一其頻率不同于磁體的共振頻率的振動的振動。
按照本發(fā)明，一個磁共振成象系統(tǒng)包括一個感應(yīng)磁共振成象所需的靜磁場的磁體和三個支承該磁體并直立在一安置平面上的支承機(jī)構(gòu)。這三個支承機(jī)構(gòu)每個包括一個衰減機(jī)構(gòu)，該衰減機(jī)構(gòu)衰減通過該安置面而加入一其頻率不同于磁體的共振頻率的振動的振動。而且，這三個支承機(jī)構(gòu)中的至少兩個包括一個調(diào)整磁體的姿態(tài)的姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)。
在實施本發(fā)明第一方面的磁共振成象系統(tǒng)中，一個磁體感應(yīng)出磁共振成象所需的靜磁場。該磁體由一支承機(jī)構(gòu)支承而安置在一安置面上。
一個包括在該支承機(jī)構(gòu)中的姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)，用于調(diào)整該已安置的磁體的姿態(tài)。
一個包括在該支承機(jī)構(gòu)中的衰減機(jī)構(gòu)，用以衰減通過該安置面而加入頻率不同于磁體的共振頻率的振動的振動。
在實施本發(fā)明第二方面的磁共振成象系統(tǒng)中，一個磁體感應(yīng)出磁共振成象所需的靜磁場。該磁體由三個支承機(jī)構(gòu)支承而安置在一安置面上。
這三個支承機(jī)構(gòu)中的至少兩個包括一姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)。這兩個姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)用于調(diào)整該磁體的姿態(tài)。
包括在這三個支承機(jī)構(gòu)中的衰減機(jī)構(gòu)，用以衰減通過該支承表面而加入頻率不同于該磁體的共振頻率的振動的振動。
按照本發(fā)明，提供這樣一種磁共振成象系統(tǒng)，其中能容易地調(diào)整一磁體的姿態(tài)，并能抑制對圖象的壞影響。
從下面例示于附圖中的本發(fā)明的優(yōu)選實施例的描述中將清楚本發(fā)明的其它目的和優(yōu)點。
附圖簡述

圖1A是本發(fā)明的一個實施例中包括的一種磁體系統(tǒng)的透視圖；而圖1B是該磁體系統(tǒng)中包括的一個磁體的沿圖1A中的I-I方向看到的截面圖。
圖2表示按照本發(fā)明的實施例的一種MRI系統(tǒng)的總體構(gòu)型。
圖3是圖1中所示的一個支腳的截面圖。
圖4是圖3中所示的支腳的分解透視圖。
圖5是指示本發(fā)明的實施例中包括的衰減墊和磁體的頻率特性的曲線。
圖6是在用新的衰減墊替換舊的衰減墊的場景中磁體和支腳的側(cè)視圖。
圖7是在地板的一部分已變形而下沉的情況下磁體和支腳的側(cè)視圖。
發(fā)明詳述下面參照附圖描述本發(fā)明的一個實施例。圖1和圖2表示按照本發(fā)明實施例的一種MRI系統(tǒng)的主要部件和該MRI系統(tǒng)的外觀。
如圖1和圖2中所示，按照該實施例的MRI系統(tǒng)100包括一個MRI系統(tǒng)主體110和操作系統(tǒng)280。
MRI系統(tǒng)主體110包括一個磁體系統(tǒng)140、一個RF線圈驅(qū)動單元271、一個梯度線圈驅(qū)動單元272、一個數(shù)據(jù)獲得單元273和一個控制單元274。
圖1A是磁體系統(tǒng)140的透視圖。如圖(a)中所示，磁體系統(tǒng)140包括座體141和支腳150。
支腳150用作本發(fā)明中包括的支承機(jī)構(gòu)的具體例子。
磁體145安置在座體141內(nèi)。圖1B是沿圖1A中指示的I-I方向看到的磁體145的截面圖。
按照該實施例，例如，磁體145采用一個永久磁體。但是，除了永久磁體外，磁體145也可采用感應(yīng)磁場的磁體如超導(dǎo)磁體或電阻性磁體。
采用永久磁體的磁體145包括多個軛250a～250c和磁極單元260a和260b。多個軛250a～250c統(tǒng)稱為軛250。
按照該實施例，如圖1B中所示的磁體145利用多個軛250形成字母C形。作為制造軛250的材料，例如采用鐵。軛250用來支承磁體145的整個構(gòu)造。
磁極單元260a和260b這樣安裝在軛250上，使得它們沿圖1中指示的Z方向彼此對置。
每個磁板單元260a和260b用疊合的鐵磁性陶瓷塊制成，它們用軛上的一個電磁鐵磁化，并在與疊合在對置軛上的陶瓷塊面相對置的陶瓷塊面上安裝一塊鐵板。
人體躺在磁極單元260a和260b之間的空間94內(nèi)。按照該實施例，因為座體141與C形磁體145的外形一致，所以空間94的大部分是敞開的。因此，如圖1中所示的磁體系統(tǒng)140稱為開口式磁體系統(tǒng)。
由于形成磁極單元260a和260b的磁化陶瓷塊而在空間94內(nèi)感應(yīng)一個靜磁場。相應(yīng)的磁極單元260a和260b的互相面對的面上的鐵板重新形成和均化一個感應(yīng)磁場。
沿圖1中箭頭Z的方向感應(yīng)出一個靜磁場。該Z方向與物體的主體軸方向正交。因此，沿Z方向的磁場稱為垂直磁場。
由磁極單元260a和260b感應(yīng)的靜磁場被軛250限制和強(qiáng)化。
支腳150支承磁體系統(tǒng)140。按照該實施例，支腳150的數(shù)目為四個。但是，只要這些支腳能可靠地支承磁體系統(tǒng)140，支腳150的數(shù)目也可以少于或多于四個。
按照該實施例，四個支腳150配置成兩個在形成空間94的磁體系統(tǒng)140的前側(cè)上，兩個在磁體系統(tǒng)140的后側(cè)上，相鄰的支腳互相隔開一個預(yù)定的距離。
支腳150固定在包括于磁體145中的下軛250b的下表面上。
后面將詳細(xì)描述支腳150的結(jié)構(gòu)和性能。
除了磁性145，磁體系統(tǒng)140還包括梯度線圈單元261a和261b與射頻(RF)線圈單元263a和263b。
例如在圖2中示出的梯度線圈單元261a和261b這樣安裝在相應(yīng)的磁極單元260a和260b的互相面對的表面上，使得它們互相對置。RF線圈263a和263b安裝在相應(yīng)的梯度線圈單元261a和261b互相面對的表面上。
人體99躺在托板243上送入空間94。人體99例如這樣躺著，使得其軀體軸線將符合圖1和圖2中箭頭Y的方向。為了產(chǎn)生質(zhì)量好的磁共振圖象，人體99的受檢查的部位與空間94中感應(yīng)出最均勻的靜磁場的位置對準(zhǔn)。
每個RF線圈單元263a和263b包括一個將射頻波發(fā)射到人體99的受檢查部位的發(fā)射RF線圈和一個接收沿該射頻波的發(fā)射方向從該受檢查部位輻射的射頻信號的接收RF線圈。
例如，發(fā)射RF線圈和接收RF線圈分別采用專用的線圈。但是，取決于受檢查部位或線圈形狀，發(fā)射RF線圈和接收RF線圈也可使用同一線圈。
一個連接在RF線圈單元263a和263b上的RF線圈驅(qū)動單元271分別向包括在RF線圈單元263a和263b中的發(fā)射RF線圈外加一個RF波激發(fā)信號。因而，發(fā)射RF線圈發(fā)射一個RF波，其頻率對應(yīng)于激發(fā)受檢查部位中自旋的共振頻率，從而激發(fā)受檢查部位中的自旋。
當(dāng)從發(fā)射RF線圈發(fā)射RF波停止時，由于受檢查部位中自旋的激發(fā)，從該受檢查部位中重新輻射其頻率對應(yīng)于共振頻率的RF信號。接收RF線圈接收從受檢查部位來的RF信號。該由接收RF線圈接收的RF線圈稱為磁共振信號。
數(shù)據(jù)獲得單元273連接在包括于相應(yīng)的RF線圈單元263a和263b中的接收RF線圈上。數(shù)據(jù)獲得單元273取出一個由接收RF線圈接收的RF信號，從而獲得用于產(chǎn)生一個磁共振圖象的數(shù)據(jù)。
每個梯度線圈單元261a和261b包括三個梯度線圈，它們用于提供一個被接收RF線圈接收的具有三維位置信息的磁共振信號。連接在梯度線圈單元上的梯度線圈驅(qū)動單元272對三個梯度線圈發(fā)射一個磁場梯度激發(fā)信號。已經(jīng)接收了磁場梯度激發(fā)信號的梯度線圈感應(yīng)出一個磁場梯度，該磁場梯度對由磁體145感應(yīng)的靜磁場的強(qiáng)度給出梯度。
控制單元274根據(jù)在操作系統(tǒng)280處進(jìn)入的指令而控制RF驅(qū)動單元271、梯度線圈驅(qū)動單元272和數(shù)據(jù)獲得單元273，以便能夠獲得所要的磁共振信號。
操作系統(tǒng)280遠(yuǎn)離MRI系統(tǒng)主體110而安裝。MRI系統(tǒng)100是利用操作系統(tǒng)280來操作的。操作系統(tǒng)280包括一個操作單元、一個數(shù)據(jù)處理單元和一個顯示單元，但這些單元沒有示出。該操作單元用于向數(shù)據(jù)處理單元和控制單元274發(fā)送一個進(jìn)入操作器的操作指令。該數(shù)據(jù)處理單元根據(jù)該進(jìn)入操作器的指令來處理從數(shù)據(jù)獲得單元273收到的數(shù)據(jù)，從而產(chǎn)生一個磁共振圖象。該產(chǎn)生的磁共振圖象和一個幫助操作者操作MRI系統(tǒng)100的操作屏圖象在顯示單元上顯示。
下面參照圖3和圖4描述一個在該實施例中使用的支腳150的結(jié)構(gòu)的例子。
圖3和圖4是表示一個支腳150的截面圖和分解透視圖。
作為例子示于圖3和圖4中的支腳150包括一個姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200和一個衰減墊60。
姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200是本發(fā)明中包括的姿態(tài)調(diào)整裝置的一個例子，而衰減墊60是其中包括的衰減裝置的一個例子。
此外，支腳150包括一個內(nèi)螺紋基座10、一個鎖緊螺母20、一個螺栓件30、一個支承基座40和頭罩50。
內(nèi)螺紋基座10、鎖緊螺母20、螺栓件30、支承基座40和頭罩50是本發(fā)明中包括的內(nèi)螺紋螺栓、鎖緊件、外螺紋螺栓、支承件和壓緊件的例子。
例如，該內(nèi)螺紋基座是一個平行四邊形部件。內(nèi)螺紋刻在內(nèi)螺紋基座10的孔10M的內(nèi)壁上。
內(nèi)螺紋基座10有固定該基座10用的螺栓孔10h，其鉆孔方向與孔10M相同。
內(nèi)螺紋基座10固定在磁體145的附接面上。按照該實施例，磁體145的下軛250b的下表面用作附接面。通過將螺栓70a插入螺栓孔10h而將內(nèi)螺紋基座10擰到附接面250上。
螺栓件30包括連續(xù)形成的桿30a和頭30b。
桿30a的周邊上刻有外螺紋。頭30b的形狀例如是平行六邊形，因此螺栓件30能夠用一個扳手或任何其它工具容易地擰緊。
螺栓件30通過鎖緊螺母20而與內(nèi)螺紋基座10嚙合。
鎖緊螺母20有一螺孔20M，該孔的內(nèi)壁上刻有內(nèi)螺紋。螺栓件30的桿30a與螺孔20M嚙合。穿過螺孔20M的桿30a與內(nèi)螺紋基座10的孔10M嚙合。
與內(nèi)螺紋基座10和鎖緊螺母20嚙合的螺栓件30能夠圍繞沿桿30a的縱向延伸的桿30a的轉(zhuǎn)動中心軸而轉(zhuǎn)動。
鎖緊螺母20沿預(yù)定方向轉(zhuǎn)動并擰緊，由此限制了螺栓件30的轉(zhuǎn)動。當(dāng)鎖緊螺母20沿相反方向轉(zhuǎn)動并因此擰松時，螺栓件30開始可以自由轉(zhuǎn)動。
此外，當(dāng)擰緊時，鎖緊螺母20起作用而提高姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200的剛性。
當(dāng)鎖緊螺母20擰松時，螺桿件30沿一預(yù)定方向轉(zhuǎn)動。這使內(nèi)螺紋基座10和頭30b之間的距離縮短。因此，在內(nèi)螺紋基座10和鎖緊螺母20之外暴露的部分變得更短。當(dāng)螺栓件30沿相反方向轉(zhuǎn)動時，內(nèi)螺紋基座10和頭30b之間的距離增大。因此，在內(nèi)螺紋基座10和鎖緊螺母20之外暴露的部分變得更長。
支承基座40支承螺栓件30的頭30b。
支承件40例如是一個具有圓形凹部40c的平行四邊形的部件，圓形凹部40c中可以裝入頭30b。凹部40c的底部是支承基座40支承頭30b的支承表面。
支承基座40具有孔40h，每個孔40h有一段在其中鉆孔的內(nèi)壁上刻出的內(nèi)螺紋。
凹部40c具有使頭30b的一部分暴露在凹部30c之外的深度。
此外，最好是，支承基座40的支承面是一個滑動面，使得易于將具有頭30b的螺栓件30帶入與該支承面的接觸。
按照該實施例，多個滾子這樣安裝在凹部40c的底部上，使得滾子能夠自由滾動。例如，將柱形滾子80配置成從螺栓件30的轉(zhuǎn)動中心軸沿徑向延伸。由于這種構(gòu)造，頭30b和支承基座40之間產(chǎn)生的摩擦力消失了。即使當(dāng)頭30b壓緊在支承基座40上時，也能夠用小于不包括滾子80時所需要的力來轉(zhuǎn)動螺栓件30。
當(dāng)安裝滾子80時，滾子80的與頭30b接觸的接觸面用作支承基座40的支承螺栓件30的支承面。
最好是，頭罩50附接在支承基座40上。
頭罩50是其形狀能罩住支承在支承基座40上的螺栓件30的頭30b的部件。例如，圖3和圖4表示一對用罩區(qū)段50p罩住頭30b的頭罩50。罩區(qū)段50p夾住螺栓件30的桿30a，使桿30a配合在相應(yīng)的罩區(qū)段50p的孔50a中。
此外，最好是，頭罩50的形狀使其當(dāng)安裝在支承基座40上時能壓緊頭30b。
頭罩50有例如與支承基座40中鉆出的螺孔40h連通的螺孔50h，以便將頭罩可靠地安裝在支承基座40上。螺栓70b通過螺孔50h插入螺孔40h，由此將頭罩50擰緊在支承基座40上。
如圖3中所示，當(dāng)頭罩50安裝在支承基座40上時，頭罩50的罩區(qū)段50p罩住螺栓件30的頭30b并將其壓緊。頭30b的靠近桿30a的面用作被罩區(qū)段50p壓緊的壓緊面30S。
罩區(qū)段50p對著支承基座40的支承面壓緊頭30b，由此提高了姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200的剛性。
由于以上結(jié)構(gòu)，姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200固定在磁體145的軛250上。
衰減墊60夾在其上安置磁體145的地板90的安置面90S和支承基座40之間。
衰減墊60衰減通過安置面90S而施加的振動，并從而防止振動傳遞給姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200。
衰減墊60例如是一個用橡膠材料制成的具有預(yù)定厚度的板件。
衰減墊60例如用膠粘劑粘合在支承基座40的與形成支承面的表面對置的表面上?；蛘呤?，可以利用其上外加磁體145的載荷的壓力調(diào)整區(qū)段200而將衰減墊60推在安置面90S上。
該橡膠材料能夠制造成保持預(yù)定的彈性。因此，用該橡膠材料制成的衰減墊60能夠抑制可以通過地板90的安置面90S而傳播到姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200上的振動。
如上所述，磁體145利用具有姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200和衰減墊60的支腳150支承在安置面90S上。
按照該實施例，支腳150用非磁性材料制成，以免可能對磁共振圖象產(chǎn)生壞影響。
特別是，例如，姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200的部件也即內(nèi)螺紋基座10、鎖緊螺母20、螺栓件30、支承基座40、滾子80、頭罩50和螺栓70a、70b用難以磁化的金屬如不銹鋼或鋁制成。
此外，制成衰減墊60的橡膠材料不是磁性材料如橡膠磁體，而是一種本性不能磁化的橡膠材料。
因為支腳150用非磁性材料制成，所以防止了由磁體145感應(yīng)到支腳150中的靜磁場的泄漏。靜磁場的尺寸和均勻性能能夠被保持。因為靜磁場的尺寸和均勻性能夠被保持，所以能夠防止磁共振圖象品質(zhì)的變壞。
順便說，姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200的結(jié)構(gòu)的剛性足以支承磁體145。
當(dāng)姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200具有足夠的剛性并牢固地固定在磁體145上時，磁體145和姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200可以看作一個剛性體。在這種情況下，振動通過安置面90S到磁體145的傳播取決于衰減墊60的共振頻率與該剛體的共振頻率的差異。
按照該實施例，衰減墊60的共振頻率是這樣確定的，使得能夠避免通過安置面90S而到磁體145的振動的傳播所衍生的磁體145的振動。
下面詳細(xì)說明怎樣確定衰減墊60的共振頻率。
圖5是分別指示衰減墊60和磁體145的頻率特性的圖線。參照圖5的圖線，橫軸指示被加在衰減墊60和磁體145上的振動的頻率Hz，而縱軸分別指示衰減墊60和磁體145的位移。
圖5的圖線指示由于對衰減墊60和磁體145施加一個彼此獨立的振動而使衰減墊60和磁體145從其參考姿態(tài)移動的位移程度。
圖5中的曲線PL1指示衰減墊60的頻率特性，曲線PL2指示磁體145的頻率特性。
如圖5中所示，按照該實施例，衰減墊60和磁體145的共振頻率是在該處位移最大的頻率，這兩個共振頻率彼此不同。
例如，假定磁體145的共振頻率FB約50Hz，衰減墊60的共振頻率FA為約25Hz～約30Hz。
當(dāng)衰減墊60的形狀像一塊使用橡膠材料的板時，可以通過改變橡膠的種類或板的厚度來調(diào)整衰減墊60的共振頻率FA。
衰減墊60的共振頻率FA與磁體145的共振頻率FB是不同的，由此避免了衰減墊60和磁體145之間的共振。此外，可能不利地影響圖象品質(zhì)的頻率不會被放大和傳播到磁體145。因此，能夠抑制磁體145的振動，而且能夠抑制磁共振圖象的品質(zhì)由于振動而產(chǎn)生的變壞。
下面描述該實施例中包括的支腳150的操作。
例如，在磁體系統(tǒng)140安置在安裝地點的地板90上的時候，當(dāng)衰減墊60必須用一塊新的墊替換時或當(dāng)?shù)匕?0變形時，可以調(diào)整涉及的支腳150的長度。
首先，下面描述磁體140在地板90上的安置。
假定像該實施例中包括的支腳150那樣的其長度要調(diào)整的支腳用于調(diào)整磁體145的姿態(tài)，使得磁體145將面對任何方向，那么必須將至少三個支腳150配置成三角形。此外，三個支腳150中的至少兩個必須具有姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200。
通過調(diào)整三角形配置而將磁體145支承在三角形頂點的位置處的支腳150中的兩個支腳的長度，可以調(diào)整磁體145的傾斜度，使得該磁體將面對任何方向。通過這樣調(diào)整磁體145的傾斜度，可以將磁體145的姿態(tài)調(diào)整到使磁體面對任何方向。
按照該實施例，感應(yīng)出一個垂直的磁場。在這種情況下，調(diào)整磁體145的姿態(tài)，使得空間94中感應(yīng)的靜磁場將正交于人體99的軀體軸線。
可以在磁體145上固定四個或更多個支腳150。在這種情況下，配置一個沒有姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200的支腳150和兩個有姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200的支腳150而形成一個三角形。在這種狀態(tài)下，這三個支腳像上述三個支腳150一樣地工作。另一支腳150設(shè)有姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200并安置在任何位置上。
由于該配置，當(dāng)包括四個或更多個支腳150時，可以將磁體145的姿態(tài)調(diào)整到使磁體145將面對任何方向。
最好是，為了簡單地調(diào)整磁體145的姿態(tài)，固定在磁體145上的所有支腳150應(yīng)當(dāng)都有姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200。而且，為了抑制通過地板90的安置面90S而施加的振動，所有支腳150應(yīng)當(dāng)都有衰減墊60。
圖6是磁體145和支腳150的側(cè)視圖，表示其中用一個新的衰減墊替換衰減墊60的情景。
參照圖6和圖7，磁體145應(yīng)當(dāng)有如圖1中所示的正方形地固定于其上的四個支腳150。
圖6中所示的兩個支腳150a和150b每個具有姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200。
例如，當(dāng)?shù)匕?0的振動頻率已經(jīng)變化，當(dāng)衰減墊60的衰減能力和頻率特性已經(jīng)由于衰減墊的品質(zhì)變壞而變化，或當(dāng)衰減墊和地板90的安置面90S之間產(chǎn)生間隙時，衰減墊60用一個新的墊替換。
如果地板90的振動頻率變化，該頻率可能接近已經(jīng)使用的衰減墊60的共振頻率。在這種情況下，地板90的振動被放大而傳播到磁體145。因此，衰減墊60用其共振頻率不同于地板90的共振頻率的新墊替換，以便避免地板90的振動的放大。
如果已經(jīng)使用的衰減墊60的品質(zhì)已變壞，那么衰減墊就不能衰減地板90的振動。因此，磁體145的振動可能被放大。而且，如果衰減墊60的頻率特性由于品質(zhì)變壞而改變，那么衰減墊60的共振頻率接近地板90的振動頻率。因而，地板90的振動可能被放大。因此，衰減墊60必須用新墊替換。
任何衰減墊60和安置表面90S之間的間隙例如是由于衰減墊60的品質(zhì)變壞或地板90的變形而產(chǎn)生的。地板90設(shè)計和建造成能承受磁體145的載重。但是，安置面90S可能由于一個載荷的長期集中而逐漸地變形。例如，如果某個支腳150下面的安置面90S的一部分變形而下沉，在該支腳或任何其它支腳150與安置面90S之間可能產(chǎn)生間隙。如果產(chǎn)生這樣一個間隙而地板90上的載荷分布發(fā)生變化，那么地板90的振動可能被放大。當(dāng)必須填充一個不能通過調(diào)整姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200的長度而消除的間隙時，或者必須使衰減墊60與地板90的安置面90S的變形部分緊密接觸時，就必須用一個其厚度或柔軟性不同于舊衰減墊的新衰減墊60來替換已經(jīng)使用的衰減墊60。
下面參照圖6討論必須用新墊來替換支腳150a用的衰減墊60的情況。
首先，必須在磁體145的下軛250b和地板90之間靠近支腳150a處安置一個間隔塊BL。最好是，間隔塊BL用具有足夠強(qiáng)度的非磁性材料如木頭制成，以便防止間隔塊BL由于磁力而被吸往軛250并簡化工作。
在安置間隔塊BL后，移去螺栓70b以便從支承基座40上拆下頭罩50。這使螺栓件30的頭30b露出。
其后，用一個工具如扳手來旋轉(zhuǎn)和松開鎖緊螺母20。
拆下頭罩50和松開鎖緊螺母20，由此可以旋轉(zhuǎn)螺栓件30。
用一個工具如扳手來保持住從支承基座40暴露的頭30b。沿使內(nèi)螺紋基座10和頭30b之間的距離縮短的方向轉(zhuǎn)動螺栓件30。
當(dāng)螺栓件30轉(zhuǎn)動時，螺栓件30向著內(nèi)螺紋基座10前進(jìn)。桿30a的暴露在內(nèi)螺紋基座10和鎖緊螺母20之外的部分變短。因此，支腳150a施加在安置面90S上的載荷被除去。
當(dāng)支腳150具有圖3和圖5中所示的結(jié)構(gòu)時，如果內(nèi)螺紋基座10和頭30b之間的距離由于轉(zhuǎn)動而縮短，那么頭30b從支承基座40分開，而支承基座40和衰減墊60安置在安置面90S上。
但是，圖6表示一種其中一個包含衰減墊60的支腳150與安置面90S分開的狀態(tài)。這用來在概念上表示，桿30a的暴露在內(nèi)螺紋基座10和鎖緊螺母20之外的部分變短而支腳150a也因而變短。
隨著從支承基座40移去載荷，用一個新墊替換衰減墊60。
在用新墊替換衰減墊60后，通過顛倒上述步驟而使支腳150a與安置面90S接觸。
簡言之，沿使內(nèi)螺紋基座10和頭30b之間的距離增大的方向轉(zhuǎn)動螺栓件30。頭30b被裝填在支承基座40的凹部40c中。伸長螺栓件30，直到將一個合適的載荷加在支承基座40和衰減墊60上，而磁體140將采取一個想要的姿態(tài)。
其后，旋緊鎖緊螺母20，安裝頭罩50，移去間隔塊BL。
圖7是磁體145和支腳150的側(cè)視圖，表示地板90的其上安置磁體系統(tǒng)140的那部分已變形而下沉的情況。
參照圖7，地板90的變形程度和磁體145的傾斜不同于真實情況，但圖示僅用于更好的理解。
圖7(a)表示一種已經(jīng)由于安置表面90S的變形而下沉的支腳150b具有姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200的情況，而翹起的支腳150c包括一個沒有姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200和衰減墊60的支柱70。
如圖7(a)中所示，當(dāng)已經(jīng)下沉的支腳150b設(shè)有姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200時，支腳150b伸展而使支腳150c與地板90接觸。
當(dāng)磁體145傾斜時，間隔塊BL沒有使用，但支腳150b伸展而與安置面90S接觸。
具體地說，首先，從支承基座40拆下頭罩50并松動鎖緊螺母20。
其后，沿使內(nèi)螺紋基座10和頭30b之間的距離增大的方向轉(zhuǎn)動螺栓件30。當(dāng)螺栓件30轉(zhuǎn)動而使頭30b和支承基座40互相接觸時，與頭30接觸的滾子80與頭30b的轉(zhuǎn)動一起轉(zhuǎn)動。
配置成從頭30b的轉(zhuǎn)動中心軸沿徑向伸展的滾子80沿一個其中頭30b與該頭的轉(zhuǎn)動一起而轉(zhuǎn)動向前的方向轉(zhuǎn)動。由于這樣轉(zhuǎn)動的滾子80，產(chǎn)生一個滑動面。支承在該滑動面上的頭30b與滾子80接觸地平穩(wěn)滑動。
在支腳150b伸展到所要程度后，裝上頭罩50并擰緊鎖緊螺母20。姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200提供足夠的剛性。
圖7(b)表示一種已經(jīng)由于安置面90S的變形而下沉的支腳150d包括沒有姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200和衰減墊60的支柱70，而翹起的支腳150a具有姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)。
如果已經(jīng)下沉的支腳150d沒有姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200，那么如圖7(b)中所示，翹起的支腳150a伸展而與地板90接觸。
支腳150a的伸展和姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200的操作的程序與結(jié)合圖7(a)而描述的情況的程序相同。因此該程序和操作的描述將省略。
支腳150a與地板90接觸，使得支腳150a和支腳150d兩者都能夠支承磁體145。因此，磁體145的姿態(tài)得以穩(wěn)定。
當(dāng)所有固定在磁體145上的支腳150都包括姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200時，結(jié)合圖7(a)和圖7(b)而描述的程序聯(lián)合使用。因此，能夠更加容易地可靠地和高度精確地調(diào)整磁體145的姿態(tài)。
如上所述，按照該實施例，具有衰減墊60和姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200的支腳150用于支承磁體145，并用非磁性材料制成。因此，不會對磁體145所感應(yīng)的靜磁場產(chǎn)生壞的影響。
此外，按照該實施例，衰減墊60與安置面90S接觸。有彈性的衰減墊60由于磁體145的載荷而變形并與安置面90S緊密接觸。其次，衰減墊60的共振頻率不同于磁體145的共振頻率。因而，衰減墊60和磁體145不會由于地板90的振動而共振。
因此，磁體145的振動的放大受到抑制，而對靜磁場的壞影響也受到抑制。
如上所述，因為支腳150不會對靜磁場產(chǎn)生壞影響，所以能夠?qū)Υ殴舱駡D象質(zhì)量的壞影響抑制到最大可能的程度。
此外，按照該實施例，任何支腳150的長度是利用包括螺栓件30的姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)200來調(diào)整的。因為支承磁體145的支腳150的長度是可變的，所以能夠調(diào)整磁體145的姿態(tài)而使其面對任何方向。使用螺栓件30使得不必使用任何專門工具如液壓千斤頂。因此易于進(jìn)行姿態(tài)調(diào)整工作。
其次，按照該實施例，其上支承螺栓件30的支承基座40的支承面是一個滑動面。因而，螺栓件30當(dāng)其安置在支承基座40上時就能容易地轉(zhuǎn)動。因此，即使當(dāng)載荷加在支承基座40上時，螺栓件30也能容易地轉(zhuǎn)動，從而伸展支腳150b。
因為磁體145的姿態(tài)能容易地調(diào)整，所以靜磁場的方向就能容易地、可靠地、精確地調(diào)整。這有助于防止磁共振圖象品質(zhì)的變壞。
應(yīng)當(dāng)注意，本發(fā)明不限于上述實施例。
例如，本發(fā)明能適用于一種圓筒形磁體系統(tǒng)，其中人體進(jìn)入的空間是閉合的，而不是如上述實施例中包括的開口式磁體系統(tǒng)。
衰減墊60例如可以用具有適當(dāng)彈性的樹脂制成。衰減墊60的形狀不限于板狀而可以是塊狀或任何其它形狀。
其次，可以采用一個連桿機(jī)構(gòu)或任何其它機(jī)構(gòu)來作為姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)。
本發(fā)明可以作出許多大不相同的實施例而并不偏離本發(fā)明的精神和范圍。應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不限于本說明書中描述的特定實施例，而由所附的權(quán)利要求書的限定。
部件清單16NM01223/147922圖1140磁體系統(tǒng)141座體150支腳60衰減墊250a、250b、250c軛145磁體260a、26 0b磁極單元圖2100MRI系統(tǒng)110MRI系統(tǒng)主體260a磁極單元261a梯度線圈單元263aRF線圈單元99人體140磁體系統(tǒng)271RF線圈驅(qū)動單元272梯度線圈驅(qū)動單元273數(shù)據(jù)獲得單元274控制單元280操作系統(tǒng)圖3250b軛250S附接面10內(nèi)螺紋基座50頭罩40支承基座80滾子
200姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)150支腳60衰減墊圖410內(nèi)螺紋基座20鎖緊螺母50頭罩30螺栓件40支承基座80滾子60衰減墊圖5位移頻率圖6145磁體250b軛圖7145磁體94空間
權(quán)利要求
1.一種磁共振圖象系統(tǒng)，包括一個磁體，用于感應(yīng)磁共振成象所需的靜磁場；一個支承裝置，用于支承所述磁體和直立在一個安置面上，其中所述支承裝置包括一個姿態(tài)調(diào)整裝置，用于調(diào)整所述磁體的姿態(tài)；以及一個衰減裝置，用于衰減一種通過所述安置面而加入頻率不同于所述磁體的共振頻率的振動的振動。
2.一種按照權(quán)利要求1所述的磁共振成象系統(tǒng)，其特征在于，所述支承裝置包括為調(diào)整所述磁體的姿態(tài)以使所述磁體面向任何方向所需的一些支承裝置的部件。
3.一種磁共振成象系統(tǒng)，其特征在于，包括一個磁體，用于感應(yīng)為磁共振成象所需的靜磁場；以及三個支承裝置，用于支承所述磁體和直立在一個安置面上，其中所述三個支承裝置每個包括一個衰減裝置，用于衰減一種通過所述安置面加入頻率不同于所述磁體的共振頻率的振動的振動；以及所述三個支承裝置中的至少兩個包括一個用于調(diào)整所述磁體姿態(tài)的姿態(tài)調(diào)整裝置。
4.一種按照權(quán)利要求3所述的磁共振成象系統(tǒng)，其特征在于，所述三個支承裝置配置成三角形。
5.一種按照權(quán)利要求4所述的磁共振成象系統(tǒng)，其特征在于，還包括另一個具有所述姿態(tài)調(diào)整裝置的支承裝置。
6.一種按照權(quán)利要求1所述的磁共振成象系統(tǒng)，其特征在于，所述支承裝置用非磁性材料制成。
7.一種按照權(quán)利要求1所述的磁共振成象系統(tǒng)，其特征在于，所述姿態(tài)調(diào)整裝置包括一個固定在所述磁體的附接面上的內(nèi)螺紋；一個與所述內(nèi)螺紋嚙合而其長度隨轉(zhuǎn)動而變化的外螺紋；一個用于限制所述外螺的轉(zhuǎn)動的鎖緊件；以及一個用于將所述外螺紋支承在一個支承面上的支承件。
8.一種按照權(quán)利要求7所述的磁共振成象系統(tǒng)，其特征在于，所述支承面是一個所述外螺紋件能在其上滑動的滑動面。
9.一種按照權(quán)利要求1所述的磁共振成象系統(tǒng)，其特征在于，所述衰減裝置安置在所述安置面和所述姿態(tài)調(diào)整裝置之間。
10.一種按照權(quán)利要求1所述的磁共振成象系統(tǒng)，其特征在于，所述衰減裝置用橡膠材料制成。
全文摘要
提供一種磁共振成象系統(tǒng)，其中可以容易地調(diào)整磁體的姿態(tài)并可抑制對圖象的壞影響。該磁共振成象系統(tǒng)包括一個感應(yīng)出靜磁場的磁體和將該磁體支承和直立在一安置面上的支腳。該支腳包括一個調(diào)整磁體姿態(tài)的姿態(tài)調(diào)整機(jī)構(gòu)和一個衰減墊，該衰減墊用于衰減一種通過該安置面而加入一其頻率不同于該磁體的共振頻率的振動的振動。
文檔編號A61B5/055GK1526359SQ20041002866
公開日2004年9月8日 申請日期2004年3月8日 優(yōu)先權(quán)日2003年3月7日
發(fā)明者北川誠一, 佐藤隆洋, 洋 申請人:Ge醫(yī)療系統(tǒng)環(huán)球技術(shù)有限公司