專利名稱：電磁輻射傳輸設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及 一 種用于組織處理的電磁輻射傳輸設(shè)備，該設(shè)備包
括電磁輻射源；發(fā)射窗口，該發(fā)射窗口光學(xué)地連接到電磁輻射源并 且能夠發(fā)射電磁輻射；至少一個(gè)設(shè)置在皮膚接觸區(qū)域中的凹口；以 及壓力計(jì)，用于測量凹口內(nèi)部的壓力或者與其相關(guān)的壓力。
背景技術(shù)：
一種上面提及的類型的設(shè)備從WO 2005/009266 Al中已知。該 文件中公開的器件包括用于在凹口中產(chǎn)生負(fù)壓的真空裝置。如果設(shè) 備的輻射傳輸頭部適當(dāng)?shù)嘏c待處理的皮膚相接觸，則負(fù)壓僅可以被 建立或者維持。如果輻射傳輸頭部不適當(dāng)?shù)嘏c待處理的皮膚相接觸， 則凹口中的負(fù)壓不能被建立或者凹口中的負(fù)壓喪失。這是通過壓力 計(jì)檢測的，以便確保沒有發(fā)射電磁輻射，由于輻射傳輸頭部與待處 理的皮膚不適當(dāng)?shù)慕佑|，電磁輻射可能到達(dá)不應(yīng)被處理的身體部位， 諸如人類或者動(dòng)物的眼睛或者附近的皮膚部位乃至易受電磁輻射損 害的其他對(duì)象。
從WO 2005/009266 Al中已知的設(shè)備的缺點(diǎn)在于由于導(dǎo)致皮膚 被吸入凹口的負(fù)壓，可能妨礙設(shè)備在皮膚上的移動(dòng)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是進(jìn)一步發(fā)展開始提及的種類的設(shè)備，使得設(shè)備 在皮膚上的移動(dòng)更容易。
該目的通過獨(dú)立權(quán)利要求的特征來解決。本發(fā)明的進(jìn)一步發(fā)展 以及優(yōu)選的實(shí)施方式在從屬權(quán)利要求書中進(jìn)行;f既述。
根據(jù)本發(fā)明，提供 一 種開始提及的類型的用于皮膚處理的電磁輻射傳輸設(shè)備，該設(shè)備包括用于在凹口內(nèi)部產(chǎn)生過壓的裝置。優(yōu)選 地，用于產(chǎn)生過壓的裝置通過電動(dòng)空氣泵形成，該電動(dòng)空氣泵將壓 縮空氣饋送進(jìn)凹口。然而，如果認(rèn)為使用空氣以外的其他氣體對(duì)于 某些種類的皮膚處理是有益的，還可以使用空氣以外的其他氣體。 凹口中的過壓導(dǎo)致4交少的泄漏，即壓縮空氣的一部分一皮壓出凹口 。 因此，產(chǎn)生空氣塾(或者其他氣體墊)，皮膚接觸區(qū)域置于其上。 這確保了設(shè)備可以容易地在待處理的皮膚上移動(dòng)。壓力計(jì)可以是與 顯示器、開關(guān)或者其他控制裝置組合的壓力表。
根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn) 一 步的特征在于控制裝 置，其連接到壓力計(jì)并且連接到電磁輻射源，其中當(dāng)由壓力計(jì)測量 的壓力低于預(yù)定的閾值時(shí)，控制裝置能夠防止電磁輻射源和/或發(fā)射 窗口發(fā)射電磁輻射。因此，不正確使用的風(fēng)險(xiǎn)進(jìn)一步降低?？刂蒲b置可以設(shè)置作為例如電子開關(guān)或者擋板(shutter)。如果設(shè)置了合適 的閾值，則當(dāng)壓力低于預(yù)定的值時(shí)不可能操作該設(shè)備，因?yàn)槠つw接 觸區(qū)域和待處理的皮膚之間不存在適當(dāng)?shù)慕佑|。因此，即使在由不 適宜的人，例如兒童操作的情況下，也減小了引起損害或者危險(xiǎn)的 風(fēng)險(xiǎn)。注意到在本申請(qǐng)的上下文中，"測量"壓力意味著確定絕對(duì) 值、或者確定例如相對(duì)于預(yù)定的閾值的相對(duì)值。在這種情況下不必 確定真實(shí)的壓力值，而是僅確定壓力是高于還是低于閾值。閾值， 即低于其則將關(guān)掉設(shè)備或者由控制裝置自動(dòng)關(guān)掉設(shè)備的壓力值，可 以根據(jù)待處理的身體部位或者表面的性質(zhì)而適當(dāng)?shù)剡x擇。
有利地，閾值高于周圍壓力1 mbar到500 mbar。如果待處理的 身體部位或者表面是光滑、柔韌并且可壓緊的，則可以選擇低壓差， 例如高于周圍壓力10mbar或者20mbar。如果待處理的表面是粗糙 并且不可壓緊的，則閾值應(yīng)該遠(yuǎn)高于周圍壓力，例如200 mbar,以 便確保對(duì)皮膚接觸區(qū)域的位置的正確檢查。如上文所述，即使當(dāng)傳 輸頭部位于正確位置時(shí)，部分壓縮空氣泄露出凹口也是有益的。因 此過壓裝置的功率應(yīng)該足夠高，以便盡管空氣泄漏仍維持足夠的壓 力差。當(dāng)然閾值可以依賴于周圍壓力，其意味著例如在低壓區(qū)域中
或者在高海拔處，閾值相應(yīng)地低于在高壓區(qū)域中或者在海平面處的 閾值。優(yōu)選地，閾值依賴于周圍壓力并且其可以表示為與周圍壓力
的壓力差。在本優(yōu)選實(shí)施方式中，可能將閾值定義為在1 mbar和500 mbar之間的與周圍壓力的壓力差。
優(yōu)選地，在測量的凹口內(nèi)部的壓力低于閾值的時(shí)間4史期間，控 制裝置能夠防止電磁輻射源發(fā)射高于預(yù)定最大能量的電磁輻射。通 過在一段時(shí)間期間僅允許發(fā)射確定最大能量，可以避免對(duì)皮膚的過 度輻照，過度輻照伴有可能的(增加的)不舒適或者傷害。而且， 關(guān)于皮膚的某個(gè)部位是否接收了輻射這一點(diǎn)，也不再是不確定的。 因?yàn)閭鬏數(shù)酱幚淼纳眢w部位或者表面的電磁輻射會(huì)影響所述身體 部位或者表面，限制供給的輻射的總量可能是重要的。在優(yōu)選實(shí)施 方式中，控制裝置能夠防止設(shè)備的重操作，由此無需抬起傳輸頭部 并因此破壞過壓，就能確保不可能供給多于預(yù)定最大能量的輻射能 量。
至少對(duì)于某些應(yīng)用區(qū)域而言，控制裝置控制能夠防止電磁輻射 的發(fā)射的擋板是有益的。這種擋板可以采用任何期望的形式，例如 電光擋板、機(jī)械擋板、可換向鏡等。這種擋板的存在優(yōu)勢在于當(dāng)設(shè) 備不發(fā)射輻射時(shí)，電磁輻射源不需要被切斷。對(duì)于許多電磁輻射源 而言，這樣做對(duì)源的壽命有益。然而，如果頻繁接通和切斷電磁輻 射源基本上不縮短源的壽命，則控制裝置也可以簡單地接通和切斷 電磁輻射源的電源，例如在LED和激光器的情況下。
在一個(gè)實(shí)施方式中，發(fā)射窗口存在于凹口中。術(shù)語"發(fā)射窗口" 涉及例如輻射傳輸頭部中的 一 個(gè)區(qū)域，電磁輻射通過該區(qū)域發(fā)射。 該窗口可以用例如對(duì)于待發(fā)射的電磁輻射透明的材料片來形成，例 如在可見光的情況下采用玻璃。然而，這還可以意味著不被任何材 料所覆蓋的空腔的開口側(cè)，例如管的出口端。發(fā)射窗口存在于凹口 中的優(yōu)勢在于當(dāng)認(rèn)為凹口被正確定位時(shí)，發(fā)射窗口也被自動(dòng)地正確 定位。在大多情況下，存在一個(gè)發(fā)射窗口。然而，注意到存在多個(gè) 發(fā)射窗口也是可能的。
在另一實(shí)施方式中，凹口圍繞著發(fā)射窗口。這是發(fā)射窗口存在 于凹口中的情況的略微更普遍的實(shí)例。如果凹口圍繞著發(fā)射窗口， 則凹口中的合適的過壓確保發(fā)射窗口的正確定位。在這種情況下， 凹口可以形成為環(huán)繞發(fā)射窗口的凹槽。在這種方式中，凹口和發(fā)射
窗口可以具有不同的形狀。其提供了以下優(yōu)勢如果例如出于均勻 性原因，輻射優(yōu)選地以環(huán)形模式提供，而圍繞著被處理的部位的表 面的不同部位將不會(huì)接收輻射。該部位當(dāng)然可以具有不同形狀。而 且，還可以提供多個(gè)凹口?？梢钥紤]多個(gè)小凹口以環(huán)繞發(fā)射窗口的 多個(gè)孔的形式存在。如果所有孔正確定位，則其還是表明傳輸裝置 正確定位的安全指示。
對(duì)于所有實(shí)施方式而言，凹口包括周圍邊緣可能是有益的。在 這種方式中通過檢查周圍邊緣而從視覺上檢查正確定位是相對(duì)簡單 的。
有利地，周圍邊緣是柔性可變形的。該實(shí)施方式允許調(diào)整未與
發(fā)射窗口或者凹口的平面精確匹配的身體部位或者表面。盡管可以
分別使用不可變形皮膚接觸區(qū)域和傳輸頭部，以及使用待處理的身
體部位或者表面的可變形性，柔性可變形周圍邊緣提供以下優(yōu)勢 施加在身體部位或者表面的壓力的差別較小。如果發(fā)射窗口用透明
材料片形成，則該材料片可以用于在待處理的身體部位或者表面上 施加壓力。在這種情況下，尤其是在皮膚的情況下，經(jīng)過所述身體 部位的血流可能受到影響。例如在光子脫毛的情況下，如果在正在 處理的組織中血液循環(huán)變慢，則是有利的，因?yàn)椴煌陬A(yù)期部位(發(fā) 色團(tuán)、毛嚢)的組織部位所吸收的輻射較少。除此之外，減小了可 能的處理副作用的風(fēng)險(xiǎn)。柔性可變形周圍邊緣可以設(shè)計(jì)為諸如橡膠 的彈力材料的邊沿(rim)。還可以是任何其他柔性可變形材料或者 結(jié)構(gòu)。
在有利的實(shí)施方式中，周圍邊緣位于平面表面上、凹面表面上 或者凸面表面上。通過這些簡單的幾何形狀，待處理的大多數(shù)身體 部位或者其他表面可以有效地被處理。平面表面可以用于處理例如
區(qū)域。周圍邊緣的凹面表面可以用于處理凸面身體部位的情況，例 如相對(duì)較小的身體部位諸如手指或者其他部位、彎曲程度很大的身 體部位諸如鼻子。周圍邊緣的凸面表面有益于處理多少有些凹陷的 表面，諸如用于對(duì)腋窩進(jìn)行脫毛。在特殊情況下，周圍邊緣的其他 表面可以有更多的益處。
在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的優(yōu)選實(shí)施方式中，電磁輻射包括紅外輻 射、可見光輻射或者紫外輻射。為了本申請(qǐng)的目的，將紅外輻射、 可見光輻射以及紫外輻射稱作"光輻射，，。光輻射是電磁光譜的一 部分，其經(jīng)常用于身體部位的處理，特別是由非技術(shù)人員或者其他 個(gè)人使用。然而，原則上可以使用其他類型的電磁輻射，例如微波輻射或者X射線。根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選電磁輻射(光輻射)適用于
針對(duì)肌肉疼痛處理、脫毛、膽紅素血處理等而通過加熱(紅外輻射) 的處理，通過可見光輻射的處理，以及人工曬黑和針對(duì)諸如白癜風(fēng) 和牛皮癬的各種皮膚病癥的處理。盡管一些處理，諸如曬黑和脫毛， 可以由非技術(shù)人員或者非專業(yè)人員執(zhí)行，但在很多情況下，可能優(yōu) 選為由專業(yè)技術(shù)人員執(zhí)行該處理。然而，在專業(yè)人員執(zhí)行的情況下，根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的改進(jìn)的安全性和其他有益特征也是有效的。貫 穿本申請(qǐng)，詞語"身體部位，，和"待處理的表面"涉及對(duì)通過電不茲輻射的處理敏感的任何人體組織。尤其涉及皮膚(人體皮膚)。然而通常地，可以考慮任何其他可處理表面，例如在材料研究的領(lǐng)域中，材料的固化。然而，當(dāng)涉及人體或者動(dòng)物的處理而使用時(shí)，本發(fā)明具有特別的優(yōu)勢，因?yàn)橐馔馐鹿实戎械囊馔鈧Φ娘L(fēng)險(xiǎn)大大減小了。
在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備中，電磁輻射源可以布置在輻射傳輸頭部。
這意味著，例如，諸如LED或者高壓氣體放電燈之類的光源設(shè)置在 輻射傳輸頭部中。然而，在有利的實(shí)施方式中，電磁輻射源包括電 磁輻射生成裝置和與其光學(xué)地相連接的電磁輻射傳導(dǎo)裝置。電磁輻 射生成裝置和電磁輻射傳導(dǎo)裝置的存在賦予了分離這兩種功能的可
能性。這意味著復(fù)雜、大型并且重型的電磁輻射生成裝置，諸如高 功率激光器，可以出現(xiàn)在與傳輸頭部有一段距離處。最終發(fā)射由電 磁輻射生成裝置所生成的輻射的傳輸頭部與電磁輻射傳導(dǎo)裝置光學(xué) 地相連接，使得電磁輻射傳導(dǎo)裝置能夠?qū)㈦姶泡椛鋫鲗?dǎo)到輻射傳輸 頭部，并且最終傳導(dǎo)到發(fā)射窗口。這允許相對(duì)小型和輕型的傳輸頭 部，其大大改進(jìn)了使用設(shè)備的舒適度。
在有利的實(shí)施方式中，電磁輻射傳導(dǎo)裝置包括鏡、中空電磁輻 射傳導(dǎo)器或者光纖。本領(lǐng)域的技術(shù)人員將知道如何選擇適合的傳導(dǎo) 裝置。例如，在激光的情況下，光纖可以作為傳導(dǎo)裝置的選擇。在 激光器是電磁輻射生成裝置并且激光束用于掃描待處理的確定區(qū)域 的情況下可以使用鏡。這允許所述區(qū)域被激光束均勻照射而操作者 不必移動(dòng)輻射傳輸頭部。這大大提高了處理的效率和均勻性。
有利地，電磁輻射源包括激光器、閃光燈、LED、氣體放電燈或
者白熾燈。已經(jīng)證實(shí)這些電磁輻射源在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的多種可 能的使用中有效且有用。它們具有各種波長、功率等。然而，在指 定情況中，還可以使用其他源，諸如x射線源。
有利地，至少一個(gè)凹口由深度比寬度大的凹槽形成。凹槽的截 面，即寬度和深度之間的關(guān)系，是非常重要的。如果凹槽的寬度例
如不大于3mm,則即使非常用力地對(duì)著器件擠壓皮膚，皮膚也不可 能接觸凹槽的內(nèi)側(cè)，反之亦然。皮膚凸起不能關(guān)閉凹槽的過壓空氣 供給。通常地，凹槽的不同截面是可能的，例如長方形、正方形、 半圓形、三角形或者圓三角形。
附加地或者可選地，凹口可能至少部分地在發(fā)射窗口中形成， 特別是在旨在接觸皮膚的發(fā)射窗口的表面中。例如可以提供凹槽， 其以這種方式(還)放置在出口窗口表面上或者出口窗口表面中， 該方式使得過壓空氣在該表面上流動(dòng)以便冷卻皮膚。表面上凹槽的 形狀例如布置成曲折狀的，或者空氣在平行凹槽中從 一 側(cè)流動(dòng)到另 一側(cè)。如果存在凹進(jìn)窗口 ( recessed window),則空氣例如還從該結(jié) 構(gòu)的一角流動(dòng)到另一角。
根據(jù)本發(fā)明的又一發(fā)展，凹口在設(shè)備的處理頭部中形成，其中 凹口的至少一部分布置為相對(duì)于處理頭部的其他組件可樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。 例如，過壓凹槽系統(tǒng)可以安裝為圍繞發(fā)射窗口可轉(zhuǎn)動(dòng)，發(fā)射窗口可 以是例如象散/柱面透鏡或者凸透鏡。如果其中可以集成光系統(tǒng)和過
壓系統(tǒng)的處理頭部的機(jī)頭(handpiece)在皮膚上樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)，則過壓 系統(tǒng)和透鏡一直與皮膚相接觸。它們位于平面表面中。如果可樞軸 轉(zhuǎn)動(dòng)的過壓系統(tǒng)相對(duì)于機(jī)頭是彈性承載的，則至少在 一 些情況中是 有益的。
對(duì)于根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備，優(yōu)選地提供至少兩個(gè)過壓輸送管，用 于在至少一個(gè)凹口中產(chǎn)生過壓。通常地針對(duì)每個(gè)凹口提供至少兩個(gè) 過壓輸送管將由于阻塞的輸送管而不能建立過壓的風(fēng)險(xiǎn)最小化。


參考下文中所描述和附圖中所示出的實(shí)施方式，本發(fā)明的上述 以及其他優(yōu)勢將變得清楚并得到解釋。
圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第一實(shí)施方式的示意性框圖， 其中該設(shè)備包括主要器件和與其連接的處理頭部；
圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第二實(shí)施方式的示意性框圖， 其中該設(shè)備完全由機(jī)頭形成；
圖3A示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第三實(shí)施方式的處理頭部的 一部分的示意性框圖，其中發(fā)射窗口相對(duì)于周圍的材料凹進(jìn)；
圖3B示出了皮膚處理期間圖3A的處理頭部部分；
圖4A示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第四實(shí)施方式的處理頭部的 底視圖4B示出了圖4A的處理頭部的一部分的截面圖； 圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第五實(shí)施方式的處理頭部的底 視圖6示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第六實(shí)施方式的處理頭部的底 視圖7示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第七實(shí)施方式的處理頭部的截
面圖8A示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第八實(shí)施方式的處理頭部的 底視圖8B示出了圖8A的處理頭部的一部分的截面圖9示意性地示出了將空氣饋送進(jìn)凹口的可能方案；
圖IO示意性地示出了形成凹口或者作為凹口一部分的凹槽的優(yōu) 選幾何形狀；
圖11示出了由不利的凹槽幾何形狀造成的不期望的皮膚凸起效
應(yīng)；
圖12示出了由有利的凹槽幾何形狀所引起的皮膚凸起效應(yīng)的減
圖13示出了用于形成凹口或者作為凹口一部分的凹槽的可能的 截面的例子；
圖14A示出了具有三角形截面的凹槽連同與凹槽相關(guān)聯(lián)的過壓 饋送輸送管；
圖14B、圖14C以及圖14D是對(duì)應(yīng)于圖14A的剖面線A-A、 B-B 以及C-C的截面一見圖15示意性地示出了相鄰凹槽的可能布置；
圖16示出了凸透鏡形式的發(fā)射窗口 ，其中過壓系統(tǒng)布置為相對(duì) 于發(fā)射窗口和處理頭部的其他組件可樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)；
圖17A示出了象散/柱面透鏡形式的發(fā)射窗口 ，其中過壓系統(tǒng)布 置為相對(duì)于發(fā)射窗口和處理頭部的其他組件可樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)；
圖17B示出了處于傾斜位置的圖17A的布置；
圖18A示出了凹進(jìn)的、凹面的或凸面的發(fā)射窗口的示例，該發(fā) 射窗口被過壓環(huán)形系統(tǒng)圍繞，其中過壓環(huán)形系統(tǒng)相對(duì)于發(fā)射窗口和 處理頭部的其他組件可樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)；以及
圖18B示出了處于傾斜位置的圖18A的布置。
具體實(shí)施例方式
貫穿附圖，相同或者類似的參考標(biāo)號(hào)用于表示相同或者類似的 組件，并且對(duì)這些組件中的至少一些僅解釋一次，以免重復(fù)。
圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備10的第一實(shí)施方式的示意性框
圖，其中該設(shè)備包括主要器件36和與其連接的處理頭部34。主要器 件36包括電磁輻射源14，其包括電磁輻射生成裝置30和電f茲輻射 傳導(dǎo)裝置32。電磁輻射生成裝置30可以包括激光器、閃光燈、LED、 氣體放電燈或者白熾燈。然而，如果電磁輻射生成裝置30位于主要 器件36中，則優(yōu)選地，激光器生成輻射。電磁輻射源14進(jìn)一步包 括輻射傳導(dǎo)裝置32,其在圖1中示出為光纖，但是還可以包括鏡或 者中空電磁輻射導(dǎo)管和/或輻射傳導(dǎo)晶體，尤其是包括全內(nèi)反射的晶 體。光纖32將電磁輻射傳導(dǎo)到位于處理頭部34中的發(fā)射窗口 16。 主要器件36進(jìn)一步包括用于產(chǎn)生過壓的裝置22，其中裝置22可以 例如由合適的泵來形成，如圖所示。泵22通過壓力管線44連接到 設(shè)置在處理頭部34的皮膚接觸區(qū)域中的凹口 18。在處理頭部34中 還i殳置有壓力計(jì)20,用于4僉測凹口 18內(nèi)部的壓力。電^茲輻射源14 以及泵22通過控制裝置24來控制，該控制裝置經(jīng)由電線46接收壓 力計(jì)20的輸出信號(hào)。如圖所示，控制裝置24位于主要器件36內(nèi)， 并且控制裝置24可以例如包括微處理器、存儲(chǔ)器裝置以及本領(lǐng)域技
術(shù)人員所周知的其他電。
設(shè)備10可以例如是脫毛設(shè)備。為了防止由電磁輻射源14生成 的以及由發(fā)射窗口 16發(fā)射的電磁輻射到達(dá)例如使用者的眼睛區(qū)域， 設(shè)備10如下工作。如果處理頭部34與待處理的皮膚適當(dāng)?shù)亟佑|， 則在凹口 18中建立過壓，該凹口由完全圍繞發(fā)射窗口 16的凹槽形 成。該過壓由壓力計(jì)20檢測，該壓力計(jì)將它的輸出信號(hào)饋送到控制 裝置24。如果控制裝置24檢測到過壓足夠高，則假定處理頭部34 與待處理的皮膚適當(dāng)接觸并且控制裝置24指示電磁輻射生成裝置 30生成輻射，該輻射將經(jīng)由光纖32和發(fā)射窗口 16饋送到待處理的 皮膚。如果由于處理頭部34與待處理的皮膚不適當(dāng)?shù)亟佑|，凹口 18
中的過壓降低，則控制裝置24通過壓力計(jì)20的輸出信號(hào)檢測到壓
力的下降。為了避免使用者(或任何其他人)被輻射傷害，控制裝
置24立即指示電磁輻射發(fā)射生成裝置30停止生成輻射。在處理頭 部34與待處理的皮膚適當(dāng)接觸的情況下，產(chǎn)生空氣墊，處理頭部34 的皮膚接觸區(qū)域可以在操作期間在該空氣墊上滑動(dòng)。進(jìn)一步，過壓 具有防止開孔或者多個(gè)開孔阻塞的優(yōu)勢。 一旦存在污垢或者任何種 類的污染物，少量空氣從該開孔流出以助于吹走這些污染物，如來 自組織(表皮)的皮膚鱗片、灰塵或者類似物質(zhì)。
圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備10的第二實(shí)施方式的示意性框 圖。圖2所示的組件基本上對(duì)應(yīng)于參考圖1所討論的組件，以及為 了避免重復(fù)，參考相應(yīng)的描述。然而，對(duì)于圖2中所示的實(shí)施方式， 設(shè)備10完全由機(jī)頭形成，并且因此，所有組件布置在機(jī)頭內(nèi)。除了 參考圖1所討論的組件之外，圖2的實(shí)施方式進(jìn)一步包括擋板26， 其適合用于覆蓋發(fā)射窗口 16使得沒有輻射發(fā)射出，即使由電磁輻射 源14生成輻射也是如此。如果由于皮膚接觸區(qū)域與待處理的皮膚不 適當(dāng)?shù)亟佑|，檢測出圍繞發(fā)射窗口 16的凹口 18中的不足過壓，則 擋板26由控制裝置24啟動(dòng)。
圖3A示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備10的第三實(shí)施方式的處理頭部 34的一部分的示意性框圖，其中發(fā)射窗口 16相對(duì)于圍繞材料48凹 進(jìn)，以及圖3B示出了皮膚42處理期間圖3A的處理頭部34的該部 分。在發(fā)出輻射的透明發(fā)射窗口 16和待處理的皮膚42之間，存在 形成凹口 18的幾毫米的確定距離。圍繞材料48是反射性的或者至 少是不透明的，或者其包括散射光的材料(如皮膚)。目的是不損 失從皮膚反射回到周圍材料48的輻射。如圖3B所示，在處理期間 該結(jié)構(gòu)被按壓到皮膚42上。在發(fā)射窗口 16和皮膚42之間形成凹口 18的空腔。泵22在凹口 18中產(chǎn)生過壓，這與上文針對(duì)凹槽形式的 凹口 18所描述的類似。如果圍繞發(fā)射窗口 16的圍繞材料18的邊緣 按壓得正好適合于皮膚42，則凹口 18中的壓力可以提高到規(guī)定水 平，其必須高于裝置周圍可用的空氣壓力，如上文所述。關(guān)于該結(jié)
構(gòu)的安全功能，參考結(jié)合圖1的相應(yīng)描述。
圖4A示出了#4居本發(fā)明的設(shè)備的第四實(shí)施方式的處理頭部的
底視圖，以及圖4B示出了圖4A的處理頭部的一部分的截面圖。如 圖所示，在這個(gè)實(shí)施方式中，皮膚接觸區(qū)域包括矩形幾何形狀。發(fā) 射窗口 16被凹槽形式的凹口 18所圍繞。凹槽18連4妄到壓力計(jì)20 和泵22，如參考圖1所描述的那樣。如圖4B所示，發(fā)射窗口和圍 繞材料48形成公共皮膚接觸平面。圍繞材料48形成周圍邊緣28, 其可以柔性地形成以便加強(qiáng)封頂(ceiling)功能。
圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第五實(shí)施方式的處理頭部的底 視圖。在這個(gè)實(shí)施方式中，皮膚接觸區(qū)域包括圓形幾何形狀。除此 之外，該配置對(duì)應(yīng)于圖4A和圖4B的實(shí)施方式。
圖6示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第六實(shí)施方式的處理頭部的底 視圖。在此實(shí)施方式中，皮膚接觸區(qū)域包括基本上為矩形的幾何形 狀；然而，拐角和凹槽是圓形的。除此之外，該配置對(duì)應(yīng)于圖4A和 圖4B的實(shí)施方式。
圖7示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第七實(shí)施方式的處理頭部的截 面圖。在此實(shí)施方式中，凹口或者凹槽18并不單獨(dú)地形成，而是部 分地由發(fā)射窗口 16和圍繞材料48的傾斜邊緣而形成。在這種布置 中，有利的是在發(fā)射窗口 16和圍繞材料48之間提供適合的密封50。
圖8A示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的第八實(shí)施方式的處理頭部的 底視圖，以及圖8B示出了圖8A的處理頭部的一部分的截面圖。在 此實(shí)施方式中，凹口 18至少部分地形成在發(fā)射窗口 16的皮膚接觸 區(qū)域中。如圖所示，設(shè)置有曲折狀的凹槽18，其連接到壓力計(jì)20 和泵22。這樣，過壓空氣在表面上流動(dòng)并且冷卻所處理的皮膚。
圖9示意性地示出了將空氣饋送到凹口 18的可能方案。如圖所 示，凹口 18以具有矩形截面的凹槽形式設(shè)置?？梢哉J(rèn)為輸送管52 是過壓生成裝置22的一部分，將輸送管52設(shè)置為將空氣饋送進(jìn)凹 口 18。類似的輸送管可以設(shè)置在凹槽的另一端上，以4更連接凹口 18 和壓力計(jì)。
圖10示意性地示出了形成凹口或者作為凹口 一部分的凹槽的優(yōu) 選幾何形狀。截面，即凹槽的寬度和深度之間的關(guān)系，是非常重要 的。如果在皮膚接觸區(qū)域處凹槽的寬度小于深度，則可以獲得最佳
結(jié)果。如果凹槽18的寬度是例如不大于3 mm,則即使非常用力地 對(duì)著器件按壓皮膚，皮膚也不能接觸到凹槽18的內(nèi)側(cè)，反之亦然。
圖11示出了由不利的凹槽幾何形狀所導(dǎo)致的不期望的皮膚凸起 效應(yīng)。如圖所示，如果凹槽18不夠深，則皮膚可能接觸到凹槽的內(nèi) 側(cè)，并且在更壞的情況下，皮膚可能使得通向壓力計(jì)的輸送管被密 封，由此安全功能可能失效。
圖12示出了由有利的凹槽幾何形狀所導(dǎo)致的減輕的皮膚凸起效 應(yīng)。如圖所示，皮膚凸起仍然會(huì)發(fā)生，但是皮膚不能接觸到凹槽的 內(nèi)側(cè)，因?yàn)榘疾鄣纳疃却笥谄鋵挾取?br> 圖13示出了形成凹口或者作為凹口一部分的凹槽的可能的截面 的例子。接下來從左至右示出凹槽18的截面矩形、正方形、半圓 形、三角形以及圓三角形。所有這些幾何形狀都可以被使用，然而 仍優(yōu)選凹槽18的寬度小于其深度。
圖14A示出了具有三角形截面的凹槽連同與凹槽18相關(guān)聯(lián)的過 壓饋送輸送管52,以及圖14B至圖14D是對(duì)應(yīng)于圖14A的剖面線 A-A、 B-B和C-C的截面視圖。如圖14A和圖14B所示，優(yōu)選地用 于饋送加壓的空氣的輸送管52位于中央。優(yōu)選地，避免輸送管52 被皮膚凸起所阻塞。
圖15示意性地示出了相鄰凹槽18的可能布置。其示出了三個(gè) 相鄰凹槽18，每個(gè)均具有三角形截面和用于饋送加壓的空氣的中央 輸送管52。凹槽18重疊并且相對(duì)于皮膚42的密封功能由周圍邊緣 28提供。
圖16示出了凸透鏡形式的發(fā)射窗口 16,其中過壓系統(tǒng)38布置 為相對(duì)于發(fā)射窗口 16和處理頭部34的其他組件可樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。如果 其中可以集成光學(xué)系統(tǒng)和/或過壓泵的機(jī)頭或者處理頭部34是相對(duì) 于皮膚42樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的或者處理的，則包括凹槽18和凸透鏡的過壓 系統(tǒng)38 —直與皮膚42相接觸。這在以下情況中是有利的如果過 壓系統(tǒng)38是由彈簧組40所彈性承載的，以便獲得過壓系統(tǒng)38和皮 膚42之間的最佳4妄觸。
圖17示出了象散/柱面透鏡形式的發(fā)射窗口 16,其中過壓系統(tǒng) 38布置為相對(duì)于發(fā)射窗口 16和處理頭部的其#^且件可樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)，以 及圖17B示出了處于傾斜位置的圖17A的布置。除了透鏡配置和沒 有彈簧之外，圖17A和圖17B的實(shí)施方式類似于圖16的實(shí)施方式。
圖18A示出了由過壓環(huán)形系統(tǒng)38所圍繞的凹進(jìn)的、凹面的或者 凸面的發(fā)射窗口 16的例子，其中過壓環(huán)形系統(tǒng)38相對(duì)于發(fā)射窗口 16和處理頭部34的其他組件可樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)，以及圖18B示
出了處于 傾斜位置的圖18A的布置。圖18A和圖18B中所示的實(shí)施方式的配 置非常類似于圖16中所示的配置。然而，根據(jù)圖18A和圖18B的 實(shí)施方式，機(jī)頭包括加散熱器54以便消散由電磁輻射源14所生成 的熱。進(jìn)一步，在所示的實(shí)施方式中，優(yōu)選地在發(fā)射窗口 16的多個(gè) 部分上提供有AR涂層。在這種實(shí)施方式中，輻射通過發(fā)射窗口 16 而沒有損失，其與過壓系統(tǒng)18和發(fā)射窗口 16之間的夾角無關(guān)。光 單元安裝為圍繞發(fā)射窗口 16的中心軸可樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。盡管未示出，過 壓系統(tǒng)可以是彈簧承載的，如結(jié)合圖16所述的。
在不偏離在權(quán)利要求書中所限定的本發(fā)明的范圍的前提下，還 可以采用上文未描述的等效和修改。
權(quán)利要求
1.一種用于組織處理的電磁輻射傳輸設(shè)備(10)，包括電磁輻射源(14)，發(fā)射窗口(16)，其光學(xué)地連接到所述電磁輻射源(14)并且能夠發(fā)射電磁輻射，至少一個(gè)凹口(18)，設(shè)置在皮膚接觸區(qū)域中，以及壓力計(jì)(20)，用于測量所述凹口(18)內(nèi)部的壓力或者與其相關(guān)的壓力，所述設(shè)備的特征在于包括用于在所述凹口(18)內(nèi)部產(chǎn)生過壓的裝置(22)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(10),其中控制裝置(24)連 接到所述壓力計(jì)(20)并且連接到所述電磁輻射源(14),以及其 中當(dāng)由所述壓力計(jì)(20)所測量的壓力低于預(yù)定閾值時(shí)，所述控制 裝置(24)能夠防止所述電磁輻射源(14)和/或所述發(fā)射窗口 ( 16) 發(fā)射電磁輻射。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備(10),其中所述閾值高于周圍 壓力1 mbar至500 mbar。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備(10)，其中在所測量的所述凹 口 ( 18)內(nèi)部的壓力低于所述閾值的時(shí)間段期間，所述控制裝置(24) 防止所述電磁輻射源和/或所述發(fā)射窗口 (16)發(fā)射高于預(yù)定最大能 量的電磁輻射。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備(10),其中所述控制裝置(24) 控制擋板(26),其能夠防止所述電磁輻射的發(fā)射。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(10),其中所述發(fā)射窗口 (16) 提供在所述凹口 (18)中。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(10),其中所述凹口 (18)圍 繞所述發(fā)射窗口 ( 16)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(10)，其中所述凹口 (18)包括周圍邊緣(28)。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備(10)，其中所述周圍邊緣(28) 是柔性可變形的。
10. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備(10),其中所述周圍邊緣(28) 位于平面表面上、凹面表面上或者凸面表面上。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(10),其中所述至少一個(gè)凹口 (18)是由凹槽形成的，所述凹槽的深度大于所述凹槽的寬度。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(10),其中所述凹口 (18)至 少部分地在所述發(fā)射窗口 (16)中形成。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(10),其中所述凹口 (18)在 所述設(shè)備(10)的處理頭部(34)中形成，以及其中所述凹口 (18) 的至少一部分布置為相對(duì)于所述處理頭部(34)的其他組件可樞軸 轉(zhuǎn)動(dòng)。
14. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(10)，其中設(shè)置有至少兩個(gè)過 壓輸送管(52),用于在所述至少一個(gè)凹口 (18)中產(chǎn)生過壓。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于組織處理的電磁輻射傳輸設(shè)備(10)，包括電磁輻射源(14)、光學(xué)地連接到電磁輻射源(14)并且能夠發(fā)射電磁輻射的發(fā)射窗口(16)、至少一個(gè)設(shè)置在皮膚接觸區(qū)域中的凹口(18)、以及用于測量凹口(18)內(nèi)部的壓力或者與其相關(guān)的壓力的壓力計(jì)(20)。根據(jù)本發(fā)明，用于組織處理的電磁輻射傳輸設(shè)備(10)包括用于在凹口(18)內(nèi)部產(chǎn)生過壓的裝置(22)。
文檔編號(hào)A61B18/20GK101198289SQ200580050104
公開日2008年6月11日 申請(qǐng)日期2005年11月15日 優(yōu)先權(quán)日2005年6月13日
發(fā)明者H·羅伯特, R·弗特納 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司