專利名稱：X射線數(shù)字成像裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬于醫(yī)療電子設(shè)備，特別涉及到一種用于醫(yī)療診斷與檢測的X射線數(shù)字成像裝置。
背景技術(shù)：
用于醫(yī)療診斷與病理檢查手段的X射線成像檢測設(shè)備，已作為一項成熟的技術(shù)廣泛被應(yīng)用于國內(nèi)外，早在97年在專利公報上公開了一種“便攜式脈沖數(shù)字化X射線成像裝置(專利申請?zhí)?7242603.0)”，在該專利公開的結(jié)構(gòu)中由于只使用了一個面陣CCD電荷藕合器件實現(xiàn)光電轉(zhuǎn)換，故拍攝的圖像不清晰，要想拍出清晰圖像，需要多個CCD的組合，這將使設(shè)備變得復(fù)雜而且昂貴。在現(xiàn)有技術(shù)中，還有許多采用圖像板技術(shù)，如多晶硒，多晶硅等也都能用于各種不同的X射線，但也都存在著不足之處，或是價格太高，或是圖像不夠清晰，都沒有達到實現(xiàn)地步。后來的授權(quán)專利03275618.3《一種X射線數(shù)字成像乳腺掃描裝置》記載了采用CMOS線陣掃描成像裝置，雖具有高分辨率，快成像速度，低污染等因素，但由于使用直線陣列傳感器，要花去較多時間對圖像進行掃描，且不能連續(xù)成像，X射線利用效率低，工作時器件本身受到X射線輻射影響，損傷了器件工作質(zhì)量，隨著面陣光電轉(zhuǎn)換器件技術(shù)的迅速發(fā)展，采用面陣成像代替線陣掃描成像，成為發(fā)展趨向，至此，具有較好改進的2005年11月2日授權(quán)的專利200420096161.7“一種X射線成像通用數(shù)字化成像裝置”，裝置中采用反射鏡改變了光路的方向，該裝置不僅成像清晰，檢測精度高，而且具有耗電量小，成本低等明顯的優(yōu)點，但在使用中仍存在有不理想之處，由于入射光路與反射光路位于不同的正交方向，故該設(shè)備的體積還比較龐大，同時因光線成像器件(CCD或CMOS器件)處于非保護區(qū)，使這些器件不可避免受到X射線輻照損傷，導(dǎo)致性能變質(zhì)，為此，本設(shè)計人提出一種改進方案，克服了上述的不足。

發(fā)明內(nèi)容
本實用新型需要解決的技術(shù)問題是針對最接近的已技術(shù)中存在的體積偏大，安裝調(diào)試不夠方便，器件自身部分受不到屏蔽保護而引起的局部損傷等諸多不足之處，為了克服這些不足，就需要重新改進其產(chǎn)品結(jié)構(gòu)，按照使用實情設(shè)計出滿足需要的產(chǎn)品，本實用新型的目的在于提供一種X射線數(shù)字成像裝置，通過在結(jié)構(gòu)上的改進，使產(chǎn)品的性能參數(shù)更加完善。
該目的是采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的，一種X射線數(shù)字成像裝置，包括有一塊具有將X光轉(zhuǎn)換為可見光的熒光轉(zhuǎn)換屏，與該屏面成45°角的位置處設(shè)有可見光反射鏡，在反射鏡正交方向，與原反射光路夾角45°處設(shè)有另一塊反射鏡，在該反射鏡前的光學(xué)透鏡組與光電成像器件置于外圍的鉛防護屏之中。該鉛防護屏保護著CCD或CMOS傳感器不受X光輻射波的照射，使這些光電器件性能及參數(shù)保持一定精度及準確性。該裝置內(nèi)部的兩面可見光反射鏡及外側(cè)的熒光轉(zhuǎn)換屏、鉛防護屏裝設(shè)在同一機殼內(nèi)，構(gòu)成一個體積緊湊的完整裝置，裝置的引出饋線接至計算機進行圖像處理和圖像顯示。
本實用新型的有效益效果是，該裝置整體結(jié)構(gòu)緊湊，調(diào)試方便，光電成像器件置于防護屏中減少輻射損傷，使用壽命延長。


圖1為裝置總體外貌示意圖；圖1為裝置內(nèi)各部件位置關(guān)系示意圖。
具體實施方式
參照圖1、圖2，表示該裝置總體外貌示意圖，和裝置內(nèi)各部件位置關(guān)系；圖中1為裝置機殼，機殼內(nèi)，安裝有一塊將X光轉(zhuǎn)換為可見光的滎光轉(zhuǎn)換屏2，與該屏成45°角夾角處設(shè)置一塊可見光反射鏡3，L1代表入射光，L2為該鏡的反射光，該反射光L2作為另一面正交位置處所設(shè)反射鏡4的入射光，該鏡的反射光L3通過光學(xué)鏡頭組5進入光電成像器件組6，該光電成像器件可以是由電荷藕合器件CCD，也稱為光電成像器件或者是CMOS傳感器件，它們外側(cè)設(shè)有鉛防護屏7，它保護著上述光電成像器件不受X光輻射的損傷。裝置機殼底部設(shè)有饋線引出口8，由該口連接到計算機進行圖像處理和顯示。
權(quán)利要求1.一種X射線數(shù)字成像裝置，其特征在于包括有一塊具有將X光轉(zhuǎn)換為可見光的熒光轉(zhuǎn)換屏，與該屏面成45°角的位置處設(shè)有可見光反射鏡，在反射鏡正交方向，與原反射光路夾角45°處設(shè)有另一塊反射鏡，在該反射鏡前的光學(xué)透鏡組與光電成像器件置于外圍的鉛防護屏之中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線數(shù)字成像裝置，其特征在于所述裝置內(nèi)部的兩面可見光反射鏡及外側(cè)的熒光轉(zhuǎn)換屏、鉛防護屏裝設(shè)在同一機殼內(nèi)。
專利摘要X射線數(shù)字成像裝置，屬于醫(yī)療電子設(shè)備，包括有一塊具有將X光轉(zhuǎn)換為可見光的熒光轉(zhuǎn)換屏，與該屏面成45°角的位置處設(shè)有可見光反射鏡，在反射鏡正交方向，與原反射光路夾角45°處設(shè)有另一塊反射鏡，在該反射鏡前的光學(xué)透鏡組與光電成像器件置于外圍的鉛防護屏之中。該裝置整體結(jié)構(gòu)緊湊，調(diào)試方便，光電成像器件置于防護屏中減少輻射損傷，使用壽命延長。
文檔編號A61B6/00GK2885125SQ20062000830
公開日2007年4月4日 申請日期2006年3月17日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月17日
發(fā)明者劉軍, 劉建國, 喻亞春, 董吉鵬 申請人:劉軍