專利名稱：X射線計(jì)算斷層攝影裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對X射線計(jì)算斷層攝影裝置(計(jì)算機(jī)斷層攝影(CT)) 中具有X射線管和X射線探測器的支架內(nèi)部的冷卻。
背景技術(shù)：
JP-A 2003-144425提出一種方法，其中通過壁來分隔轉(zhuǎn)子中的元件以 單獨(dú)控制各個(gè)元件的空氣溫度。然而，支架殼實(shí)質(zhì)上并沒有相對于外界密 封，并且其結(jié)構(gòu)并不能夠阻止噪音或排出熱量到檢查室中。該文檔在圖4 中描述了在支架殼中配置熱交換器，但是并沒有描述獲得有效冷卻功能的 任何結(jié)構(gòu)。
JP-A 10-234721提出一種支架殼的結(jié)構(gòu)，其被i殳計(jì)為防止可導(dǎo)致性能 降低或故障的灰塵累積在支架中。這個(gè)結(jié)構(gòu)具有雙層蓋，但是并沒有被設(shè) 計(jì)為將支架中的空氣引導(dǎo)至另一位置，從而支架殼實(shí)質(zhì)上并沒有相對于外 界密封。
X射線計(jì)算斷層攝影裝置能夠基本實(shí)時(shí)地顯示對于肉眼不可見的患者 器官的斷層照片或三維圖像。目前，在需要快速和適當(dāng)?shù)尼t(yī)療實(shí)踐的尖端 醫(yī)療領(lǐng)域中，這種X射線計(jì)算斷層攝影裝置是重要的醫(yī)療器械。為了滿足 較高臨床需求，做出了進(jìn)一步的技術(shù)改善，但是另一方面，出現(xiàn)了這樣的 問題，例如，由來自風(fēng)扇的廢氣而生成噪音或熱量釋放到檢查室中。即， 如果噪音隨著來自排風(fēng)扇的空氣量增加而增加，而放出在支架中生成的許 多熱量，則不僅可妨礙在患者和醫(yī)生之間的談話，而且患者可感到不舒服。 此外，X射線管排放的熱量的量已經(jīng)很大，所以對于檢查室中的空調(diào)設(shè)備 增加了很高的負(fù)載。更多的排放熱量限制了該裝置可安裝的位置。
4然而，在x射線計(jì)算斷層攝影裝置使用根據(jù)在多個(gè)角度獲得的x射線 探測器信號形成圖形的技術(shù)時(shí)，生成許多熱量的x射線管必須安裝在轉(zhuǎn)子 中。因此，難以對x射線管直接單獨(dú)冷卻。因此，根據(jù)通常使用的方法，
一旦來自安裝在轉(zhuǎn)子中的X射線管冷卻器的排放熱量釋放到轉(zhuǎn)子和支架殼
之間的空間中，那么隨后將通過連接至支架殼的排風(fēng)扇排放到檢查室。然 而，只要保持這種同樣的結(jié)構(gòu)，那么難以阻止噪音或熱量釋放到檢查室中。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種X射線計(jì)算斷層攝影裝置，包括轉(zhuǎn) 子，可旋轉(zhuǎn)地支持在支架殼中，所述支架殼具有基本密封的結(jié)構(gòu)；X射線 管，配置在所述轉(zhuǎn)子中；冷卻器，其配置在轉(zhuǎn)子中并對所述X射線管中的 冷卻劑進(jìn)行冷卻；X射線探測器，其配置在所述轉(zhuǎn)子中并探測透過主體的 X射線；重建單元，其基于所述X射線探測器的輸出重建圖像；以及散熱 器，當(dāng)所述轉(zhuǎn)子靜止時(shí)，所述散熱器固定在所述支架殼中與所述冷卻器的 排氣開口相對的位置。


圖l是示出根據(jù)實(shí)施例的支架內(nèi)部結(jié)構(gòu)的示圖2是示出傳統(tǒng)支架內(nèi)部的氣流的示圖3是示出本發(fā)明實(shí)施例的支架內(nèi)部的氣流的示圖4是示出根據(jù)所述實(shí)施例的變型的多個(gè)散熱器配置的示圖5是所述實(shí)施例的另一變型的示意圖6是所述實(shí)施例的另一變型的示意圖7是所述實(shí)施例的另一變型的示意圖8是所述實(shí)施例的另一變型的示意圖9是示出表示所述實(shí)施例的另一變型的效果的數(shù)字分析結(jié)果的示
圖IO是所述實(shí)施例的另一變型的示意圖；圖IIA和IIB是所述實(shí)施例的另一變型的示意圖12A和12B是所述實(shí)施例的另一變型的示意圖13A和13B是所述實(shí)施例的另一變型的示意圖14是所述實(shí)施例的另一變型的示意圖15是所述實(shí)施例的另一變型的示意圖16A和16B是所述實(shí)施例的另一變型的示意圖；以及
圖17是所述實(shí)施例的另一變型的示意圖。
務(wù)沐實(shí)施方式
在下文中，將參照附圖描述本發(fā)明的實(shí)施例。首先，說明X射線計(jì)算 斷層攝影裝置的基本配置。
圖1示出了根據(jù)本實(shí)施例的X射線計(jì)算斷層攝影裝置的支架的內(nèi)部結(jié) 構(gòu)，其中去除了支架殼的前蓋。支架100具有用于生成X射線的X射線管 3。經(jīng)由滑動(dòng)環(huán)機(jī)構(gòu)從高電壓發(fā)生器向X射線管3施加管電壓和提供燈絲 電流，使得X射線管3生成X射線。X射線管3與X射線探測器5 —起 安裝在轉(zhuǎn)子2中，圍繞旋轉(zhuǎn)軸RA旋轉(zhuǎn)地支持所述轉(zhuǎn)子2。配置支架旋轉(zhuǎn) 單元以旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)子2。 X射線探測器5跨過旋轉(zhuǎn)軸RA與X射線管3相對。 圍繞旋轉(zhuǎn)軸RA配置圓柱成像區(qū)，并且主體位于成像區(qū)中。X射線探測器 5探測從X射線管3透過主體的X射線。X射線探測器5是多斷層切面類 型或二維陣列類型X射線探測器。即，X射線探測器5具有沿旋轉(zhuǎn)軸RA 的方向配置的多個(gè)X射線探測元件陣列。每個(gè)X射線探測元件陣列具有沿 著垂直于旋轉(zhuǎn)軸RA的方向排列的多個(gè)X射線探測元件。
對于每個(gè)通道，通過數(shù)據(jù)采集電路(DAS)對X射線探測器5的輸出 進(jìn)行放大，將其轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號，并經(jīng)由例如無接觸數(shù)據(jù)傳送單元將其發(fā) 送至預(yù)處理器，在所述無接觸數(shù)據(jù)傳送單元中對數(shù)字信號進(jìn)行校正，例如 靈敏度校正。然后，將校正后的信號存儲在投影數(shù)據(jù)存儲器中作為在重建 開始支前的馬上就要重建的階段出現(xiàn)的所謂投影數(shù)據(jù)。掃描控制器控制支 架旋轉(zhuǎn)單元、高電壓發(fā)生器、數(shù)據(jù)采集電路等，用于數(shù)據(jù)采集(掃描)的目的。重建單元根據(jù)在X射線管3的360度或(180度+扇形角)移動(dòng)期 間獲取的投影數(shù)據(jù)集來重建斷層攝影數(shù)據(jù)。
接下來，說明支架100的結(jié)構(gòu)。支架100具有支架殼1。支架殼l具 有相對于外界密封的結(jié)構(gòu)。支架殼1容納X射線管3、用于對X射線管3 冷卻的冷卻器4、 X射線探測器5等。冷卻器4與X射線管3和X射線探 測器5 —起附著至基本圓柱形的轉(zhuǎn)子2的內(nèi)部。散熱器6固定至支架殼1 的側(cè)蓋101的內(nèi)表面。散熱器6配置有風(fēng)扇7，其用于迫使空氣循環(huán)通過 散熱器6。在散熱器6中冷卻的空氣沿著支架殼1的側(cè)蓋101流動(dòng)，并通 過在基本圓柱形的轉(zhuǎn)子2的外壁上形成的開口 110導(dǎo)入轉(zhuǎn)子2，然后從X 射線探測器5的后表面冷卻X射線探測器5。
配置冷卻器4,以便其中空氣循環(huán)的方向可以與轉(zhuǎn)子2的徑向一致。 還配置散熱器6，以便其中空氣循環(huán)的方向可以與轉(zhuǎn)子2的徑向一致。這 里，對轉(zhuǎn)子2的旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)進(jìn)行控制，以便轉(zhuǎn)子始終在固定位置(典型地在 X射線管3位于頂部的位置)停止移動(dòng)(終止)。配置散熱器6，以<更散 熱器通過在轉(zhuǎn)子2的外表面上形成的開口 102與冷卻器4處于最近位置， 并且可以在轉(zhuǎn)子2靜止時(shí)在空氣循環(huán)的方向上面向冷卻器4。因此，將來 自冷卻器4的排放氣直接吸入散熱器6。
這里，在圖2中示出了傳統(tǒng)支架內(nèi)部結(jié)構(gòu)用于比較。由于X射線管3 安裝在轉(zhuǎn)子2內(nèi)部，所以一旦通過同樣安裝在轉(zhuǎn)子中的冷卻器4對X射線 管3冷卻，隨后從冷卻器4向轉(zhuǎn)子2的外部(向支架殼l的內(nèi)部)排出空 氣。隨后，通過在支架殼1中設(shè)置的排風(fēng)扇13排出熱量。在支架內(nèi)部的氣 流如下首先，從配置在支架殼1的下部的入口 14處進(jìn)行吸入16。然后， 存在通過轉(zhuǎn)子2圍繞X射線探測器5的循環(huán)ll(部分氣流流經(jīng)轉(zhuǎn)子2和蓋 之間的旁路形成循環(huán)12)。隨后，在從冷卻器4排放到轉(zhuǎn)子2和支架殼1 之間的空隙之后，存在通過排風(fēng)扇13的排氣17。這種排氣17攜帶了大量 的排放熱量和風(fēng)扇噪聲。
相反，在本實(shí)施例中，當(dāng)轉(zhuǎn)子靜止時(shí)，如傳統(tǒng)類型那樣從冷卻器4排 放的排放熱量通過位于冷卻器4附近并與其面對面的散熱器6進(jìn)行熱交換，
7并且如此生成的冷空氣通過支架殼1和轉(zhuǎn)子2之間的空隙循環(huán)，如圖3所 示(見標(biāo)記12)。用于使制冷劑循環(huán)的管道8、外部溫度控制器9和泵10 連接至散熱器6，以便在X射線管3中的熱量排放出外部溫度控制器9。 在本實(shí)施例中，對于支架殼1不再需要入口和出口，并且可阻止內(nèi)部風(fēng)扇 7的部分噪音。如果將外部溫度控制器9從檢查室搬出，則可降低it^到 檢查室的排放熱量。此外，由于支架被完全密封，所以在檢查室中的灰塵 難以進(jìn)入支架，這樣有利地帶來器械可靠性方面的預(yù)期改進(jìn)。
在圖3中所示的實(shí)例中存在2個(gè)散熱器6。根據(jù)所需的冷卻性能，散 熱器6的數(shù)目可以是1個(gè)，或可以是3個(gè)或更多。然而，在油冷卻器4停 止移動(dòng)的位置的前方配置至少一個(gè)散熱器6，以便可以將來自冷卻器4的 高溫下的排放氣有效發(fā)送至散熱器6，并且可提高冷卻性能。如圖4所示， 可以在X射線探測器5附近的支架殼1的側(cè)蓋IOI的內(nèi)表面上設(shè)置小散熱 器6b。此外，可將設(shè)置在小空間中的例如鼓風(fēng)機(jī)用作風(fēng)扇7。
圖5示出本實(shí)施例的變型。經(jīng)由排氣管18將散熱器6中的熱交換之后 的冷空氣從基本在X射線探測器5的中心附近的轉(zhuǎn)子2的外圍上形成的開 口 103引導(dǎo)至X射線探測器5。于是，冷空氣對X射線探測器5冷卻。在 這種情況下，排氣管18優(yōu)選地沿著支架殼1的側(cè)蓋101的內(nèi)壁延伸，以便 不會妨礙轉(zhuǎn)子2的旋轉(zhuǎn)。排氣管18典型地由管道形成。側(cè)蓋101的內(nèi)壁可 用作排氣管18的一部分。
此外，可改變排氣管18的末端的形狀以提高X射線探測器的冷卻效 果。例如，如圖17所示，可以將排氣管18b的末端朝向轉(zhuǎn)子2彎曲，以有 效地向轉(zhuǎn)子2中發(fā)送空氣。可選地，排氣管18c的末端朝向轉(zhuǎn)子2彎曲， 并且其管嘴可形成錐形以提高冷空氣的擴(kuò)散器效果(擴(kuò)散效果)。可選地， 可以將排氣管18d的末端朝向轉(zhuǎn)子2彎曲，并且其管嘴可形成尖銳的形狀 以加速冷空氣，從而提高向轉(zhuǎn)子2中發(fā)送空氣的精確性。
由于排氣管18的結(jié)構(gòu)，不存在根據(jù)轉(zhuǎn)子2是否旋轉(zhuǎn)而引起氣流改變的 效果。這簡化了冷卻設(shè)計(jì)，并且使得能夠抑制由于旋轉(zhuǎn)的氣流和風(fēng)扇7的 氣流之間的干擾造成噪聲增加。圖6示出另一變型。配置有多個(gè)散熱器6。例如，當(dāng)通過第一散熱器冷卻的空氣要通過第二散熱器106來冷卻時(shí)，散 熱器6、 106可通過排氣管18彼此連接。盡管在圖5和6的圖示中排氣管 18位于轉(zhuǎn)子的側(cè)表面上，但是排氣管18還可以具有附著于轉(zhuǎn)子2的后側(cè) 或前蓋的方式。
圖7示出另一變型。當(dāng)支架殼l和轉(zhuǎn)子2之間的間隙^f艮窄時(shí)，或當(dāng)排 氣管難以放置時(shí)，使用輔助風(fēng)扇20來迫使冷空氣在支架殼1中循環(huán)，從而 在散熱器6中的熱交換之后的冷空氣可發(fā)送至例如X射線探測器5。圖8 示出另一變型。將隔板21與輔助風(fēng)扇20—起配置在排氣管18中。因此， 來自散熱器6的冷空氣可有效地被帶到任意位置。圖9示出了通過多個(gè)分 析發(fā)現(xiàn)的輔助風(fēng)扇20和隔板21的效果。此外，輔助風(fēng)扇20可停止，或可 配置可移動(dòng)部分以移動(dòng)輔助風(fēng)扇20和隔板21，以便輔助風(fēng)扇20和隔板21 不妨礙轉(zhuǎn)子2的旋轉(zhuǎn)。
圖10示出另一變型。當(dāng)由于設(shè)計(jì)的器械布局的原因，使得散熱器6 不能夠直接設(shè)置在冷卻器4的對面時(shí)，散熱器6可以設(shè)置為經(jīng)由排氣管22 與冷卻器4相對，從而來自冷卻器4的高溫空氣可發(fā)送至位于任意位置的 散熱器6，從而容易保證冷卻性能。
圖11A和11B以及圖12A和12B示出另一變型。散熱器6可設(shè)置在 殼1中的在轉(zhuǎn)子2和殼1的后蓋107 (或前蓋108)之間的空間中。在圖 12中，在轉(zhuǎn)子2和殼1的后蓋108之間的空間中，當(dāng)轉(zhuǎn)子2靜止時(shí)，散熱 器6安裝在X射線探測器5的前方的位置處以及X射線管3的前方的位置 處。連接X射線探測器5和散熱器6的排氣管22b使得排放氣有效地傳遞 至散熱器6。在這種情況下，將散熱器6放置為使得在其中的氣流的流動(dòng) 方向基本平行于轉(zhuǎn)子2的旋轉(zhuǎn)軸RA。
圖13A和13B示出了另一變型。風(fēng)扇7與圖12中的散熱器組合。相 比之下，在圖13A和13B所示的實(shí)例中，通過從初始設(shè)置在轉(zhuǎn)子2中的風(fēng) 扇直接吸入排放氣體來將空氣發(fā)送至散熱器6。不言而喻，可設(shè)置X射線 探測器排氣管22b。
如圖14所示，在所設(shè)置的多個(gè)散熱器6中的氣流方向不平行于轉(zhuǎn)子2
9的徑向方向，而是傾斜的。傾斜的角度對于每個(gè)散熱器6不同。相對于彼 此調(diào)節(jié)這些傾斜的角度，以便可將來自一個(gè)散熱器6的排放氣體吸入另一 相鄰散熱器6。因此，可以將排放氣體有效發(fā)送至相鄰散熱器6，而不需要 特別使用任何排氣管，并且可提高冷卻性能。
圖15示出另一變型。當(dāng)安裝了多個(gè)散熱器6時(shí)，在與散熱器6的位置 對應(yīng)的轉(zhuǎn)子2的外圍表面上設(shè)置開口 (通風(fēng)孔)23。這對于沒有位于冷卻 器4前方的散熱器6來說更容易執(zhí)行對在轉(zhuǎn)子2中加熱的空氣的熱交換， 從而能夠提高致冷卻性能。
此外，當(dāng)轉(zhuǎn)子2是圓柱(鼓狀)時(shí)，其外圍部分典型地通過肋條(rib) 連接至其內(nèi)表面部分，以增加硬度。如果在肋條的根(接近于深度方向的 中心)形成孔，則可用該孔定位通風(fēng)孔23，而不降低轉(zhuǎn)子2的強(qiáng)度。此夕卜， 即使在轉(zhuǎn)子中安裝了所述裝置之后所述孔也不會輕易閉合，從而可將轉(zhuǎn)子 2中的空氣有效地發(fā)送至轉(zhuǎn)子2的外部。
圖16A和16B示出另一變型。新安裝圓柱形部件，作為從散熱器6向 另一位置發(fā)送冷空氣的排氣管。此外，如圖16A所示，肋條25沿著側(cè)蓋 24的圓周方向附著在側(cè)蓋24上。結(jié)果，形成排氣管結(jié)構(gòu)。可選地，還可 以通過在雙層蓋26、 26b中設(shè)置通風(fēng)管27來形成排氣管結(jié)構(gòu)。
根據(jù)上述實(shí)施例，可大大降低在X射線計(jì)算斷層攝影裝置中排風(fēng)扇的 噪聲，這樣不僅容許在患者和醫(yī)生之間更樹立的交流，而且還消除了由噪 聲觸發(fā)的患者的不適。此外，由于可通過外部溫度控制器將排放熱量排放 出檢查室，所以減少了對于檢查室所需的空調(diào)設(shè)備并且可明顯增加安裝設(shè) 備的位置。此外，由于支架殼具有基本密封的結(jié)構(gòu)，所以可抑制檢查室中 的灰塵進(jìn)入支架，從而可增加裝置的可靠性。
此外，根據(jù)這個(gè)實(shí)施例，可在X射線探測器DAS周圍執(zhí)行高效冷卻， 并且可降低X射線探測器DAS周圍的溫度。這樣能夠在低劑量斷層攝影 的情況下獲得具有更低噪聲的X射線斷層照片。此外，可抑制在X射線探 測器周圍的溫度改變，因此可降低由于溫度改變引起的探測效率的改變。 也就是說，可抑制基于溫度改變而出現(xiàn)異常圖像。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員容易理解其他優(yōu)點(diǎn)和變型。因此，本發(fā)明在其更 廣泛方面不限于這里所示和所述特定細(xì)節(jié)和代表性實(shí)施例。因此，在不脫 離由所附權(quán)利要求限定的一般性發(fā)明概念及其等同描述的精神或范圍的情 況下，可以得到各種變型。
權(quán)利要求
1.一種X射線計(jì)算斷層攝影裝置，其特征在于，包括轉(zhuǎn)子，可旋轉(zhuǎn)地支持在支架殼中，所述支架殼具有基本密封的結(jié)構(gòu)；X射線管，配置在所述轉(zhuǎn)子中；冷卻劑和冷卻器，其配置在轉(zhuǎn)子中并對所述X射線管冷卻；X射線探測器，其配置在所述轉(zhuǎn)子中并探測透過主體的X射線；重建單元，其基于所述X射線探測器的輸出重建圖像；以及散熱器，所述散熱器固定在所述支架殼中，當(dāng)所述轉(zhuǎn)子靜止時(shí)，所述散熱器位于與所述冷卻器的排氣開口相對的位置。
2. 如權(quán)利要求1的裝置，其特征在于，當(dāng)所述轉(zhuǎn)子靜止時(shí)，在所述 支架殼中形成空氣通道，以將由所述散熱器中熱交換所生成的冷空氣帶到 所述X射線探測器的周圍。
3. 如權(quán)利要求l的裝置，其特征在于，所述空氣通道是管道。
4. 如權(quán)利要求1的裝置，其特征在于，將所述支架殼的內(nèi)壁用作所 述空氣通道的一部分。
5. 如權(quán)利要求1的裝置，其特征在于，在所述支架殼的內(nèi)部配置輔 助風(fēng)扇，以當(dāng)所述轉(zhuǎn)子靜止時(shí)，將由所述散熱器中通過熱交換所生成的冷 空氣發(fā)送到所述X射線探測器的周圍。
6. 如權(quán)利要求1的裝置，其特征在于，在所述散熱器的附近設(shè)置風(fēng) 扇，以迫使空氣通過所述散熱器循環(huán)。
7. 如權(quán)利要求1的裝置，其特征在于，還包括子散熱器，當(dāng)所述 轉(zhuǎn)子靜止時(shí)，所述子散熱器固定至支架殼內(nèi)部，位于所述X射線探測器附 近。
8. 如權(quán)利要求7的裝置，其特征在于，還包括風(fēng)扇，以強(qiáng)制地將 空氣傳遞至所述子散熱器。
9. 如權(quán)利要求7的裝置，其特征在于，所述子散熱器設(shè)置在所述支 架殼的側(cè)蓋上。
10. 如權(quán)利要求7的裝置，其特征在于，所述子散熱器設(shè)置在所述支 架殼的前蓋上。
11. 如權(quán)利要求l的裝置，其特征在于，設(shè)置多個(gè)散熱器，所述多個(gè) 散熱器被設(shè)置為使得其中氣流的方向彼此不同。
12. 如權(quán)利要求l的裝置，其特征在于，設(shè)置多個(gè)散熱器，所述多個(gè) 散熱器被設(shè)置為使得其中各氣流通道實(shí)質(zhì)上彼此連接。
13. 如權(quán)利要求l的裝置，其特征在于，所述支架殼的側(cè)蓋配置有引 導(dǎo)結(jié)構(gòu)，其引導(dǎo)從所述散熱器排出的冷空氣流。
14. 一種X射線計(jì)算斷層攝影裝置，其特征在于，包括轉(zhuǎn)子，可旋轉(zhuǎn)地支持在支架殼中，所述支架殼具有基本密封的結(jié)構(gòu)； X射線管，配置在所述轉(zhuǎn)子中；冷卻器，其配置在轉(zhuǎn)子中，并對所述X射線管中的冷卻劑進(jìn)行冷卻； X射線探測器，其配置在所述轉(zhuǎn)子中并探測透過主體的X射線； 重建單元，其基于所述X射線探測器的輸出重建圖像；以及 散熱器，所迷散熱器固定在所述支架殼中，當(dāng)所述轉(zhuǎn)子靜止時(shí)，所述 散熱器的位置使得所述散熱器通過管道連接至所述冷卻器的排氣開口。
全文摘要
本發(fā)明涉及X射線計(jì)算斷層攝影裝置。其中，轉(zhuǎn)子(2)可旋轉(zhuǎn)地支持在支架殼(1)中，所述支架殼(1)具有基本密封的結(jié)構(gòu)。X射線管(3)配置在所述轉(zhuǎn)子中。冷卻器(4)配置在轉(zhuǎn)子中并對所述X射線管中的冷卻劑進(jìn)行冷卻。X射線探測器(5)配置在所述轉(zhuǎn)子中。重建單元基于所述X射線探測器的輸出重建圖像。當(dāng)所述轉(zhuǎn)子靜止時(shí)，將散熱器固定在所述支架殼中與所述冷卻器的排氣開口相對的位置。
文檔編號A61B6/03GK101574265SQ20091013778
公開日2009年11月11日 申請日期2009年5月7日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月9日
發(fā)明者中野真, 五反田克己, 佐渡友哲也, 信藤康孝, 原田智和, 太田聰, 巖崎秀夫, 服部仁志, 神保智彥, 福島春信, 穗坂倫佳, 高松伴直 申請人:株式會社東芝;東芝醫(yī)療系統(tǒng)株式會社