專利名稱：：受控的機(jī)架不平衡的制作方法受控的機(jī)架不平衡下文涉及成像系統(tǒng)，并且具體與計(jì)算機(jī)斷層攝影(CT)成像一起應(yīng)用。然而，其還適于其他醫(yī)學(xué)成像應(yīng)用和非醫(yī)學(xué)成像應(yīng)用。計(jì)算機(jī)斷層攝影(CT)掃描器一般包括χ射線管和探測(cè)從χ射線管發(fā)射的輻射的探測(cè)器陣列。X射線管和探測(cè)器陣列固定在檢查區(qū)域的對(duì)側(cè)的轉(zhuǎn)子上。轉(zhuǎn)子由靜止框架可旋轉(zhuǎn)地支撐并關(guān)于縱軸繞檢查區(qū)域旋轉(zhuǎn)，從而使X射線管和探測(cè)器陣列繞檢查區(qū)域旋轉(zhuǎn)。患者支撐物支撐檢查區(qū)域中的對(duì)象或受檢者。在轉(zhuǎn)子上有選擇地放置重物以使轉(zhuǎn)子質(zhì)量平衡。通常，在制造期間將重物靜止固定到轉(zhuǎn)子上。遺憾的是，在質(zhì)量不平衡時(shí)，作用于固定到轉(zhuǎn)子的部件上的徑向力往往令轉(zhuǎn)子在旋轉(zhuǎn)時(shí)出現(xiàn)不希望有的搖擺。搖擺的程度基于各種因素，諸如不平衡的程度、轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)速度、支撐結(jié)構(gòu)的剛度等。在轉(zhuǎn)子以及因此χ射線管繞檢查區(qū)域旋轉(zhuǎn)時(shí)，X射線管從焦斑發(fā)射輻射，輻射貫穿檢查區(qū)域和置于其中的對(duì)象或受檢者并照射探測(cè)器陣列。源準(zhǔn)直器用于準(zhǔn)直輻射，使得大致為錐形、扇形或楔形的輻射束貫穿檢查區(qū)域。對(duì)于錐形射束計(jì)算機(jī)斷層攝影而言，需要對(duì)感興趣體積(VOI)進(jìn)行完全采樣以重建VOI并且無錐形射束偽影。然而，采用繞檢查區(qū)域的圓形輻射源軌線的常規(guī)錐形射束CT掃描技術(shù)不能提供完全采樣。事實(shí)上，所得的數(shù)據(jù)集是不完全的，因?yàn)閷?duì)VOI的一些部分的采樣是不完全的。當(dāng)使用圓形軌線與錐形射束CT獲得完全采樣的一種方法是執(zhí)行圓和線掃描，然后將掃描組合在一起。然而，這需要多次掃描，其可能增加掃描時(shí)間、運(yùn)動(dòng)偽影和患者劑量。在備選方法中，輻射源遵循鞍形軌線以實(shí)現(xiàn)對(duì)VOI的完全采樣。I^ack等人在Wiys.Med.Biol.，vol.49，No.11U004)，第2317-2336頁(yè)的文獻(xiàn)“InvestigationofasaddletrajectoryforcardiacCTimagingincone-beamgeometry，，中描述了這樣的軌線。遺憾的是，為了實(shí)現(xiàn)這樣的軌線，必須在掃描流程期間沿著ζ軸來回移動(dòng)Χ射線管、焦斑和/或患者。本文的各方面解決了上述問題和/或其他問題。根據(jù)一個(gè)方面，一種成像系統(tǒng)，包括靜止框架和可繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)(pivotable)框架，所述可繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架可繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)地附接到靜止框架并被配置成關(guān)于橫軸繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。旋轉(zhuǎn)框架由可繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)部分可旋轉(zhuǎn)地支撐并被配置成關(guān)于縱軸繞檢查區(qū)域旋轉(zhuǎn)，并且旋轉(zhuǎn)框架平衡器有選擇地引入旋轉(zhuǎn)框架質(zhì)量不平衡。輻射源固定到旋轉(zhuǎn)框架并從焦斑發(fā)射輻射，其中，所述輻射貫穿檢查區(qū)域。探測(cè)器陣列探測(cè)貫穿檢查區(qū)域的輻射并生成指示所述輻射的信號(hào)。根據(jù)另一方面，一種方法，包括有選擇地創(chuàng)建旋轉(zhuǎn)框架質(zhì)量不平衡，其中，旋轉(zhuǎn)框架是成像系統(tǒng)的一部分并支撐成像系統(tǒng)的輻射源。根據(jù)另一方面，一種創(chuàng)建旋轉(zhuǎn)框架質(zhì)量不平衡的設(shè)備，其包括配置成固定到旋轉(zhuǎn)框架的軸承；配置成固定到軸承的可移動(dòng)的質(zhì)量塊(mass)；使軸承致動(dòng)的電動(dòng)機(jī)；以及使電動(dòng)機(jī)致動(dòng)以移動(dòng)軸承的控制器，所述軸承在至少第一位置和第二位置之間移動(dòng)可移動(dòng)的質(zhì)量塊，其中，第一位置對(duì)應(yīng)于第一質(zhì)量不平衡。本發(fā)明可以具體化為不同的部件或部件布置，以及具體化為不同的步驟和步驟安排。附圖僅用于圖示說明優(yōu)選實(shí)施例，而不應(yīng)解釋為是對(duì)本發(fā)明的限制。圖1圖示了一種成像系統(tǒng)。圖2圖示了范例旋轉(zhuǎn)框架平衡器。圖3-6圖示了在其中引入了不平衡的范例。圖7圖示了旋轉(zhuǎn)框架平衡器和輻射源的相對(duì)位置。圖8圖示了其中旋轉(zhuǎn)框架得到平衡的范例。圖9-11圖示了范例方法。圖1圖示了掃描器或成像系統(tǒng)100，其包括靜止框架104和可繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)或繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架106，框架106可繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)地固定到靜止框架104，并被配置成關(guān)于橫向或χ軸108繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。所述成像系統(tǒng)還包括旋轉(zhuǎn)框架110，其由繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架106經(jīng)由軸承等可旋轉(zhuǎn)地支撐。旋轉(zhuǎn)框架110關(guān)于縱向或Z軸114繞檢查區(qū)域112旋轉(zhuǎn)并與繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架106一起關(guān)于樞軸108轉(zhuǎn)動(dòng)。諸如χ射線管的輻射源116耦合到旋轉(zhuǎn)框架110并與旋轉(zhuǎn)框架一起旋轉(zhuǎn)和繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。在旋轉(zhuǎn)框架110旋轉(zhuǎn)時(shí)，輻射源116能夠從焦斑發(fā)射輻射，所述輻射遵循掃描軌線。合適的掃描軌線包括，但不限于鞍形、圓形和橢圓形掃描軌線。源準(zhǔn)直器用于準(zhǔn)直輻射，使得大致為錐形、扇形、楔形或其他形狀的輻射束貫穿檢查區(qū)域112。旋轉(zhuǎn)框架平衡器118關(guān)于ζ軸114可控地使旋轉(zhuǎn)框架110以及因此輻射源116繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。在一種情況下，旋轉(zhuǎn)框架平衡器118在掃描期間可控地使旋轉(zhuǎn)框架110繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)以移動(dòng)焦斑通過預(yù)定的軌線，所述軌線包括上述軌線中的一條，諸如鞍形軌線。這樣一來，當(dāng)系統(tǒng)100被配置成用于進(jìn)行錐形射束掃描時(shí)，能夠獲得用于重建的完整數(shù)據(jù)集。旋轉(zhuǎn)框架平衡器118通過引入受控的旋轉(zhuǎn)框架質(zhì)量不平衡可控地使旋轉(zhuǎn)框架110繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。如下文更為詳細(xì)的描述，可以通過沿ζ軸114有選擇地定位固定到旋轉(zhuǎn)框架110的可移動(dòng)的質(zhì)量塊來實(shí)現(xiàn)這一目的。在一種情況下，這利用了旋轉(zhuǎn)框架110的動(dòng)態(tài)不平衡，從而通過使用特定放置的質(zhì)量塊或針對(duì)繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架106的質(zhì)量屬性和基部104的剛度調(diào)諧的不平衡激勵(lì)這種固有運(yùn)動(dòng)來提供固有的鞍形軌線?？刂破骰蚩刂撇考?22控制旋轉(zhuǎn)框架平衡器118。這樣的控制可以基于所選擇的掃描規(guī)程和/或其他。控制部件122可以是旋轉(zhuǎn)框架平衡器118的一部分或如圖所示的分立部件。可以采用一個(gè)或多個(gè)傳感器來感測(cè)可移動(dòng)的質(zhì)量塊、旋轉(zhuǎn)框架114、靜止框架104和/或系統(tǒng)的其他部件的位置。這種感測(cè)的信息可以反饋環(huán)路中使用和/或以其他方式使用，和/或用于方便控制可移動(dòng)的質(zhì)量塊。圖示的實(shí)施例還包括對(duì)抗(counter)質(zhì)量塊124，例如，當(dāng)可移動(dòng)的質(zhì)量塊位于特定位置時(shí)，對(duì)抗質(zhì)量塊能夠用于對(duì)抗可移動(dòng)的質(zhì)量塊，以使旋轉(zhuǎn)框架110得到質(zhì)量平衡。圖示的實(shí)施例還包括阻尼器126，其便于旋轉(zhuǎn)框架110繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。探測(cè)器陣列128固定到旋轉(zhuǎn)框架110并在輻射源116的對(duì)面、即檢查區(qū)域112的對(duì)側(cè)成一定角度的弧。探測(cè)器陣列1包括沿著橫向延伸的一行或多行輻射敏感的像素。輻射敏感的像素探測(cè)貫穿檢查區(qū)域112的輻射并分別生成指示所述輻射的信號(hào)。重建器130重建由探測(cè)器陣列1生成的信號(hào)并生成指示檢查區(qū)域112的體積圖像數(shù)據(jù)。諸如床的患者支撐物(未示出)在檢查區(qū)域112中支撐患者。患者支撐物可以沿x、y和/或ζ軸移動(dòng)。通用計(jì)算機(jī)系統(tǒng)充當(dāng)操作員控制臺(tái)132，其包括諸如鍵盤和/或鼠標(biāo)的輸入裝置和諸如顯示器和/或打印機(jī)的人可讀輸出裝置。駐留在計(jì)算系統(tǒng)上的軟件例如通過經(jīng)用戶選擇的掃描規(guī)程和/或以其他方式提供旋轉(zhuǎn)框架不平衡指令來控制系統(tǒng)100的操作。圖2圖示了旋轉(zhuǎn)框架平衡器118的非限制性范例。在本范例中，旋轉(zhuǎn)框架平衡器118包括固定到旋轉(zhuǎn)框架110并沿ζ軸114從其延伸的軸承202、驅(qū)動(dòng)軸承202的電動(dòng)機(jī)204等，以及固定到軸承202并沿ζ軸114平移的可移動(dòng)的質(zhì)量塊206。軸承202可以是任何類型的軸承，包括，但不限于滑動(dòng)軸承、絲桿、球軸承等?？刂撇考?22向電動(dòng)機(jī)204發(fā)送指示可移動(dòng)的質(zhì)量塊206沿ζ軸114的位置的控制信號(hào)。作為響應(yīng)，電動(dòng)機(jī)204驅(qū)動(dòng)軸承202，軸承202將可移動(dòng)的質(zhì)量塊206平移到所述位置。適當(dāng)?shù)奈恢冒ǜ咏D(zhuǎn)框架110的第一位置208、距離旋轉(zhuǎn)框架110相對(duì)較遠(yuǎn)的第二位置209和/或其間的一個(gè)或多個(gè)位置。至少一個(gè)位置使質(zhì)量平衡，并且至少另一位置引入受控的質(zhì)量不平衡。在圖示的實(shí)施例中，對(duì)抗質(zhì)量塊1位于旋轉(zhuǎn)框架平衡器118的對(duì)面、即檢查區(qū)域112對(duì)側(cè)的旋轉(zhuǎn)框架110上。在圖示的范例中，當(dāng)可移動(dòng)的質(zhì)量塊206位于第一位置時(shí)旋轉(zhuǎn)框架110基本平衡，而當(dāng)可移動(dòng)的質(zhì)量塊位于另一位置時(shí)，旋轉(zhuǎn)框架110不平衡。通過沿ζ軸114有選擇地平移可移動(dòng)的質(zhì)量塊206可以調(diào)節(jié)不平衡的程度。阻尼器1包括彈簧機(jī)構(gòu)210，彈簧機(jī)構(gòu)210具有固定到基部104的第一端部212以及固定到繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架106的第二端部214。圖示的實(shí)施例包括兩個(gè)阻尼器126。然而，應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到，其他實(shí)施例可以包括單個(gè)或多于兩個(gè)阻尼器126。此外，可以附加或備選地使用其他阻尼器，諸如沖擊(shock)、活塞等。圖3、4、5和6圖示了成像系統(tǒng)100的側(cè)視圖。圖3示出了靜止旋轉(zhuǎn)框架110，其中，可移動(dòng)的質(zhì)量塊206大致位于第二位置209。這樣一來，在本范例中，可移動(dòng)的質(zhì)量塊206和質(zhì)量塊IM相對(duì)彼此位于平面之外，則旋轉(zhuǎn)框架110未平衡或不平衡。圖4、5和6針對(duì)三個(gè)不同的角位置示出了當(dāng)可移動(dòng)的質(zhì)量塊206大致在第二位置209(如圖3所示)且旋轉(zhuǎn)框架110正在旋轉(zhuǎn)時(shí)旋轉(zhuǎn)框架110的繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)。圖4圖示了當(dāng)輻射源116位于大致十二點(diǎn)鐘位置或零度時(shí)的旋轉(zhuǎn)框架110。在質(zhì)量塊206和IM相對(duì)彼此位于平面之外的情況下，作用于質(zhì)量塊206和IM上的徑向力302往往會(huì)導(dǎo)致旋轉(zhuǎn)框架110關(guān)于χ軸108在第一方向沿ζ軸114繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。圖5圖示了當(dāng)輻射源116位于大致六點(diǎn)鐘位置或與十二點(diǎn)鐘相對(duì)的180度時(shí)的旋轉(zhuǎn)框架110。同樣地，質(zhì)量塊206和IM相對(duì)彼此位于平面之外，作用于質(zhì)量塊206和IM上的徑向力302往往會(huì)導(dǎo)致旋轉(zhuǎn)框架110關(guān)于χ軸108繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。然而，在六點(diǎn)鐘位置，旋轉(zhuǎn)框架110沿ζ軸114在與第一方向相反的第二方向上繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。圖6圖示了當(dāng)輻射源116位于大致九點(diǎn)鐘位置時(shí)的旋轉(zhuǎn)框架110。如圖所示，當(dāng)輻射源在這一位置時(shí)，旋轉(zhuǎn)框架110不繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。在一種情況下，支撐框架的剛度顯著阻尼或消除了徑向力302。同樣地，當(dāng)輻射源116位于大致三點(diǎn)鐘位置時(shí)，旋轉(zhuǎn)框架110不繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。圖7圖示了在旋轉(zhuǎn)框架110上放置質(zhì)量塊206和124的非限制性范例。對(duì)于圖7，假設(shè)旋轉(zhuǎn)框架110沿逆時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)。如圖所示，質(zhì)量塊206沿旋轉(zhuǎn)方向從輻射源116角偏移角度α702,而質(zhì)量塊IM位于質(zhì)量塊206對(duì)面。在圖3-6的范例中，設(shè)置α702的值，使得當(dāng)輻射源116處在十二點(diǎn)鐘或六點(diǎn)鐘位置(零/360或180度)時(shí)，焦斑沿ζ軸114位移最大，而當(dāng)輻射源116處在三點(diǎn)鐘或九點(diǎn)鐘位置(90或270度)時(shí)，焦斑沿ζ軸114位移最小。在其他實(shí)施例中，對(duì)成像系統(tǒng)進(jìn)行其他配置，使得最大位移發(fā)生在另一角位置。在另一實(shí)施例中，α=90并且沒有阻尼，對(duì)于特定的不平衡，管和探測(cè)器位移最大。影響角度α702的因素包括，但不限于，繞樞軸旋轉(zhuǎn)的框架106的慣性、旋轉(zhuǎn)框架110被配置的旋轉(zhuǎn)速度、旋轉(zhuǎn)框架110的剛度、阻尼器126的阻尼和/或其他因素。還以其他方式設(shè)置角度α702，諸如增大或減小角度，以改變焦斑沿ζ軸114位移最大化和/或最小化位移的角位置。在另一種情況下，可以根據(jù)成像規(guī)程修改角度α702。圖8圖示了當(dāng)可移動(dòng)的質(zhì)量塊206大致處在第一位置208時(shí)旋轉(zhuǎn)框架110的運(yùn)動(dòng)。當(dāng)輻射源116位于這一位置時(shí)，在所有角位置，旋轉(zhuǎn)框架110基本都是平衡的，因?yàn)橘|(zhì)量塊206和IM都以基本相同的規(guī)劃定位，并且徑向力302彼此抵消了。這樣一來，可以通過圓形軌線旋轉(zhuǎn)焦斑。在另一實(shí)施例中，省略對(duì)抗質(zhì)量塊124和阻尼器126中的至少一個(gè)。在另一實(shí)施例中，使用致動(dòng)器臂推拉旋轉(zhuǎn)框架110以使旋轉(zhuǎn)框架110繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。這樣的臂可以包括固定到繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架106的一端以及固定到基部104的另一端。因此，當(dāng)旋轉(zhuǎn)框架110旋轉(zhuǎn)時(shí)，所述臂能夠可控地伸展和收縮，以使繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架106以及因此旋轉(zhuǎn)框架110和焦斑繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。在另一實(shí)施例中，可移動(dòng)的質(zhì)量塊206備選或附加地被配置成沿圓周運(yùn)動(dòng)以便引入不平衡。圖9圖示了第一種方法。應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到，以下動(dòng)作可以按不同的次序發(fā)生，并且在其他實(shí)施例中，可以采用更多、更少和/或不同的動(dòng)作。在902，相對(duì)于旋轉(zhuǎn)框架110沿至少ζ軸114適當(dāng)?shù)囟ㄎ豢梢苿?dòng)的質(zhì)量塊206，從而在旋轉(zhuǎn)框架110上可控地引入質(zhì)量不平衡。在904，根據(jù)所選擇的掃描規(guī)程，將旋轉(zhuǎn)框架110逐漸升高到一旋轉(zhuǎn)速度。在906，不平衡導(dǎo)致旋轉(zhuǎn)框架110在其繞基于ζ軸旋轉(zhuǎn)的同時(shí)關(guān)于χ軸108可控地繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。在908，焦斑遵循著這種運(yùn)動(dòng)生成的軌線。如上所述，所述軌線可以是鞍形或其他軌線。在910，執(zhí)行掃描。圖10圖示了另一種方法。同樣地，應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到，以下動(dòng)作可以按不同的次序發(fā)生，并且在其他實(shí)施例中，可以采用更多、更少和/或不同的動(dòng)作。在1002，相對(duì)于旋轉(zhuǎn)框架110沿至少ζ軸114適當(dāng)定位可移動(dòng)的質(zhì)量塊206，以使旋轉(zhuǎn)框架110平衡。在1004，根據(jù)所選擇的掃描規(guī)程，將旋轉(zhuǎn)框架110逐漸升高到一速度。在1006，在旋轉(zhuǎn)框架110質(zhì)量平衡時(shí)，焦斑遵循圓形軌線。在1008，執(zhí)行掃描。圖11圖示了另一種方法。在1102，根據(jù)所選擇的掃描規(guī)程，將旋轉(zhuǎn)框架110逐漸升高到一速度。在1104，可移動(dòng)的質(zhì)量塊206在掃描期間沿著ζ軸114動(dòng)態(tài)可控地平移到一個(gè)或多個(gè)位置。在1106，焦斑遵循著這種運(yùn)動(dòng)生成的軌線。本文已經(jīng)參考各實(shí)施例描述了本發(fā)明。在閱讀本文的描述后，他人可以想到修改和變型。這意味著，應(yīng)當(dāng)將本發(fā)明解釋為包括所有此類落在權(quán)利要求以及與其等價(jià)的范圍內(nèi)的修改和變型。權(quán)利要求1.一種成像系統(tǒng)，包括靜止框架(104)；能繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架(106)，其能繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)地附接到所述靜止框架(104)并被配置成關(guān)于橫軸(108)繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)；旋轉(zhuǎn)框架(110)，其由所述能繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架(106)旋轉(zhuǎn)地支撐并被配置成關(guān)于縱軸(114)繞檢查區(qū)域(112)旋轉(zhuǎn)；旋轉(zhuǎn)框架平衡器(118)，其被配置成有選擇地引入旋轉(zhuǎn)框架質(zhì)量不平衡；輻射源(116)，其固定到所述旋轉(zhuǎn)框架(110)并從焦斑發(fā)射輻射，其中，所述輻射貫穿所述檢查區(qū)域(112)；以及探測(cè)器陣列(1)，其探測(cè)貫穿所述檢查區(qū)域(11的輻射并生成指示所述輻射的信號(hào)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述不平衡導(dǎo)致所述能繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架(106)在所述旋轉(zhuǎn)框架(110)繞所述縱軸(114)旋轉(zhuǎn)的同時(shí)關(guān)于所述橫軸(108)來回繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中，繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)框架(110)沿所述縱軸(114)來回平移所述焦斑。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中，繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)框架(110)沿預(yù)期的掃描軌線移動(dòng)所述焦斑。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其中，所述掃描軌線為鞍形軌線。6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，其中，所述旋轉(zhuǎn)框架平衡器(118)包括被配置成沿所述縱軸(114)平移的能移動(dòng)的質(zhì)量塊006)。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其中，所述旋轉(zhuǎn)框架平衡器(118)還包括軸承002)，其固定到所述旋轉(zhuǎn)框架(110)；電動(dòng)機(jī)004)，其使所述軸承(20致動(dòng)；以及控制器(122)，其控制所述電動(dòng)機(jī)004)，其中，所述能移動(dòng)的質(zhì)量塊(206)固定到所述軸承002)，并且所述控制器(12提供使所述電動(dòng)機(jī)(204)致動(dòng)以移動(dòng)所述軸承(202)的控制信號(hào)，從而移動(dòng)所述能移動(dòng)的質(zhì)量塊006)。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，還包括對(duì)抗質(zhì)量塊(IM)，其位于所述旋轉(zhuǎn)框架(110)上，在所述旋轉(zhuǎn)框架平衡器(118)對(duì)面，所述檢查區(qū)域(112)的對(duì)側(cè)。9.根據(jù)權(quán)利要求1-8中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，其中，所述旋轉(zhuǎn)框架平衡器(118)從所述輻射源(116)角偏移角度α(702)。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中，所述角度α(702)至少確定所述焦斑沿ζ軸(114)的最大位移。11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中，所述角度α(702)是成像規(guī)程的函數(shù)。12.根據(jù)權(quán)利要求1-10中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，還包括阻尼器(1)，其對(duì)所述能繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架(106)的繞樞軸的轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)行阻尼。13.根據(jù)權(quán)利要求1-12中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，其中，所述旋轉(zhuǎn)框架平衡器(118)在所述旋轉(zhuǎn)框架(110)旋轉(zhuǎn)的同時(shí)改變所述質(zhì)量不平衡。14.一種方法，包括有選擇地生成旋轉(zhuǎn)框架(110)質(zhì)量不平衡，其中，所述旋轉(zhuǎn)框架(110)是成像系統(tǒng)(100)的一部分并且支撐所述成像系統(tǒng)(100)的輻射源(116)。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述質(zhì)量不平衡限定所述輻射源(116)的焦斑的焦斑軌線。16.根據(jù)權(quán)利要求14到15中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，生成所述旋轉(zhuǎn)框架(110)質(zhì)量不平衡包括沿縱軸(114)有選擇地移動(dòng)能移動(dòng)地固定到所述旋轉(zhuǎn)框架(110)的質(zhì)量塊(206)。17.根據(jù)權(quán)利要求14到16中的任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述不平衡導(dǎo)致所述旋轉(zhuǎn)框架(110)關(guān)于樞軸(108)轉(zhuǎn)動(dòng)。18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中，繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的所述旋轉(zhuǎn)框架(110)周期性地來回平移所述焦斑。19.一種能控制地為掃描器(100)的旋轉(zhuǎn)框架(110)生成質(zhì)量不平衡的設(shè)備，所述系統(tǒng)包括被配置成固定到所述旋轉(zhuǎn)框架(110)的軸承；被配置成固定到所述軸承(202)的能移動(dòng)的質(zhì)量塊(206)；以及使所述軸承(20致動(dòng)的電動(dòng)機(jī)(204)；以及控制器(122)，其使所述電動(dòng)機(jī)(204)致動(dòng)以移動(dòng)所述軸承002)，由此至少在第一位置(208)和第二位置(209)之間移動(dòng)所述能移動(dòng)的質(zhì)量塊006)，其中，所述第一位置對(duì)應(yīng)于第一質(zhì)量不平衡。20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的設(shè)備，還包括對(duì)抗質(zhì)量塊(IM)，其位于所述旋轉(zhuǎn)框架(Iio)上，在所述旋轉(zhuǎn)框架平衡器(118)對(duì)面，在檢查區(qū)域(112)的對(duì)側(cè)；以及阻尼器(1)，其對(duì)所述旋轉(zhuǎn)框架(110)的繞樞軸運(yùn)動(dòng)進(jìn)行阻尼。全文摘要一種成像系統(tǒng)，包括靜止框架(104)和可繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架(106)，可繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)的框架可繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)地附接到所述靜止框架(104)并被配置成關(guān)于橫軸(108)繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。旋轉(zhuǎn)框架(110)，所述旋轉(zhuǎn)框架由可繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)部分(106)可旋轉(zhuǎn)地支撐并被配置成關(guān)于縱軸(114)繞檢查區(qū)域(112)旋轉(zhuǎn)，以及旋轉(zhuǎn)框架平衡器(118)有選擇地引入旋轉(zhuǎn)框架質(zhì)量不平衡。輻射源(116)固定到所述旋轉(zhuǎn)框架(110)并從焦斑發(fā)射輻射，其中，所述輻射貫穿所述檢查區(qū)域(112)。探測(cè)器陣列(128)探測(cè)貫穿所述檢查區(qū)域(112)的輻射并生成指示所述輻射的信號(hào)。文檔編號(hào)A61B6/03GK102202577SQ200980143818公開日2011年9月28日申請(qǐng)日期2009年10月29日優(yōu)先權(quán)日2008年11月5日發(fā)明者R·B·夏普萊斯申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司