專利名稱：放射線成像設(shè)備及用于該設(shè)備的處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種放射線成像設(shè)備及用于該設(shè)備的處理方法。
背景技術(shù)：
已知一種放射線成像設(shè)備，其基于對透過被攝體的放射線(例如，X-射線)的檢測 獲得放射線圖像。例如，放射線成像設(shè)備利用放射線對如消化道的成像部位進(jìn)行成像。放 射線成像設(shè)備廣泛用于常規(guī)健康檢查等以及治療時的檢查。放射線成像設(shè)備具有多種形態(tài)。例如，如日本特開2005-27806號公報所公開的那 樣，提供了可用于對被攝體進(jìn)行透視(fluoroscopy)和成像的設(shè)備，被攝體被放置于布置 在χ-射線發(fā)生器和χ-射線檢測器之間的床臺的頂板上，而χ-射線發(fā)生器和χ-射線檢測 器被安裝于稱為C-臂的支撐構(gòu)件的兩端。從X-射線發(fā)生器發(fā)出的X-射線透過被攝體并 沖擊X-射線檢測器。χ-射線檢測器將透過該被攝體的χ-射線轉(zhuǎn)換為光信號。在預(yù)定的 X-射線照射條件下進(jìn)行該操作能夠允許被攝體的透視圖像實時地顯示在監(jiān)視器上。在上述X-射線成像設(shè)備中，與由操作人員進(jìn)行的透視和成像相關(guān)的操作步驟被 粗略地分為如下幾步1)在進(jìn)行透視的同時進(jìn)行定位；2)在透視狀態(tài)下進(jìn)行診斷(檢查成 像部位)；及3)對已定位的部位進(jìn)行成像。在“1)在進(jìn)行透視的同時進(jìn)行定位”中，進(jìn)行定位以在監(jiān)視器的適當(dāng)位置(例如， 中央位置)處以所希望的大小顯示成像部位。在定位時，操作人員移動X-射線發(fā)生器、X-射 線檢測器以及頂板。也就是說，由于操作人員在定位期間移動X-射線發(fā)生器、X-射線檢測 器以及頂板，使得顯示在監(jiān)視器上的透視圖像(被觀察圖像)移動。與步驟1相反，在“2)在透視狀態(tài)下進(jìn)行診斷(檢查成像部位)，”中，操作人員不 進(jìn)行定位操作，因此，顯示在監(jiān)視器上的觀察圖像被固定。此后，當(dāng)操作人員目視檢查成像 部位時，設(shè)備在預(yù)定X-射線照射條件下執(zhí)行“3)對已定位部位進(jìn)行成像”。如上所述，當(dāng)進(jìn) 行X-射線成像時，重復(fù)操作步驟1)至步驟3)。通常，在使用X-射線的醫(yī)用情況中，重要的管理項目和研究項目包括如何縮短 透視和成像所需的時間及如何減少對被攝體的X-射線照射量。例如，在“在進(jìn)行透視的同時進(jìn)行定位”中，如果顯示在監(jiān)視器上的圖像區(qū)域適于 定位操作，操作人員易于發(fā)現(xiàn)成像部位，則能夠縮短定位所需的時間。另外，如果設(shè)備被 配置成對無助于成像部位的定位操作的不必要區(qū)域不進(jìn)行成像，則能夠減少對被攝體的 X-射線照射量。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種通過改進(jìn)定位操作時的操作性來縮短定位操作所需時間的技術(shù)。根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供一種放射線成像設(shè)備，其包括放射線發(fā)生器，其被 配置成向被攝體照射放射線；放射線檢測器，其被配置成檢測透過所述被攝體的放射線； 檢測器，其被配置成檢測所述放射線發(fā)生器和所述放射線檢測器相對于所述被攝體的移動和轉(zhuǎn)動中的至少一方；以及控制器，其被配置成基于所述檢測器的輸出來改變由所述放射線發(fā)生器施加到被攝體的放射線的照射區(qū)域的大小(size)。根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供一種放射線成像設(shè)備獲得放射線圖像的處理方法， 該方法包括使放射線發(fā)生器向被攝體照射放射線；使放射線檢測器檢測透過所述被攝體 的放射線；檢測所述放射線發(fā)生器和所述放射線檢測器相對于所述被攝體的移動和轉(zhuǎn)動中 的至少一方；基于檢測結(jié)果來改變由所述放射線發(fā)生器施加到所述被攝體的放射線的照射 區(qū)域的大小。根據(jù)以下參照附圖對典型實施方式的說明，本發(fā)明的其它特征將變得清楚。


圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的X-射線成像設(shè)備20的配置的示例的 圖。圖2是示出C-臂23與期望的成像部位31之間的位置關(guān)系的示例以及監(jiān)視器的 顯示形式的示例的圖。圖3是示出C-臂23和期望的成像部位31之間的位置關(guān)系的示例以及監(jiān)視器的 顯示形式的示例的圖。圖4是示出C-臂23和期望的成像部位31之間的位置關(guān)系的示例以及監(jiān)視器的 顯示形式的示例的圖。圖5是示出圖1所示的X-射線檢測器10的內(nèi)部的截面配置的示例的圖。圖6是示出圖1所示的X-射線成像設(shè)備20的成像操作的示例的流程圖。圖7是示出C-臂23和期望的成像部位31之間的位置關(guān)系的示例以及監(jiān)視器的 顯示形式的示例的圖。圖8是示出C-臂23和期望的成像部位31之間的位置關(guān)系的示例以及監(jiān)視器的 顯示形式的示例的圖。圖9是示出C-臂23和期望的成像部位31之間的位置關(guān)系的示例以及監(jiān)視器的 顯示形式的示例的圖。
具體實施例方式現(xiàn)在將參照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的典型實施方式。應(yīng)當(dāng)注意，除非另外具體說明， 在這些實施方式中所提及的部件的相對配置、數(shù)值表達(dá)式以及數(shù)值并不限制本發(fā)明的范圍。應(yīng)當(dāng)注意，下面的實施方式將舉例說明X-射線被用作放射線的情況。然而，所使 用的放射線不限于X-射線，而是可以使用電磁波、α-射線、β-射線、Y-射線等等。另外，將通過以配置有C-臂的X-射線成像設(shè)備作為放射線成像設(shè)備的示例來說 明下面的實施方式。在移動或者旋轉(zhuǎn)通過將X-射線發(fā)生器聯(lián)接到X-射線檢測器而形成的 成像系統(tǒng)的同時，該X-射線設(shè)備進(jìn)行成像。應(yīng)當(dāng)注意，本發(fā)明不限于該種類型的X-射線成 像設(shè)備，本發(fā)明也能夠應(yīng)用于例如被稱為RF成像設(shè)備的臺式X-射線成像設(shè)備。圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的X-射線成像設(shè)備20的配置的示例的 圖。
X-射線成像設(shè)備20包括一臺或者多臺計算機(jī)。計算機(jī)例如包括主控制器，比如CPU ；和存儲單元，比如ROM (只讀存儲器)和RAM (隨機(jī)存儲器)。計算機(jī)能包括通信單元， 比如網(wǎng)卡；和輸入/輸出單元，比如鍵盤、鼠標(biāo)、顯示器以及觸摸面板等。應(yīng)當(dāng)注意，這些組 成部件經(jīng)由總線彼此連接，并且通過使主控制器執(zhí)行存儲在存儲單元中的程序來控制這些 組成部件。在這種情況下，X-射線成像設(shè)備20包括主體單元21、水平軸22及C-臂23。水 平軸22由主體單元21支撐并且上下移動。C-臂23被設(shè)置于水平軸22的末端，并且由C 型的臂構(gòu)件形成。水平軸22和C-臂23在圖1中的箭頭Rc、Rh和Rv所示的方向上轉(zhuǎn)動并 且在圖1中的箭頭Mh和Mv所示的方向上移動。X-射線發(fā)生器24和X-射線檢測器10以彼此面對的方式被設(shè)置于C-臂23的兩 端。C-臂23支撐X-射線發(fā)生器24和X-射線檢測器10以使X-射線發(fā)生器24和X-射線 檢測器10之間的距離保持恒定。可動機(jī)構(gòu)(未示出)將X-射線發(fā)生器24和X-射線檢測 器10定位在相對于被攝體25的任意位置和角度處。X-射線發(fā)生器24起到放射線發(fā)生器的作用并且用放射線(X-射線)照射(曝光) 被攝體(例如，人體)。X-射線檢測器10起到放射線檢測器的作用，并且檢測透過被攝體 的X-射線。被攝體25被支撐在用作被攝體支撐單元的頂板(top panel)26上。頂板26 被設(shè)置在X-射線發(fā)生器24和X-射線檢測器10之間。X-射線檢測器10的有效成像區(qū)域是與圓形不同的矩形。因此，有必要根據(jù)待成像 部位來調(diào)整被攝體和X-射線檢測器10之間的位置關(guān)系。χ-射線成像設(shè)備20的可動機(jī)構(gòu) 通常進(jìn)行這樣的位置關(guān)系調(diào)整(定位)。然而，為了提高操作性，優(yōu)選地允許χ-射線檢測器 10在X-射線照射面內(nèi)繞樞軸旋轉(zhuǎn)。由于這個原因，本實施方式提供了一種具有使X-射線 檢測器10繞作為轉(zhuǎn)動中心的軸線27 (即X-射線照射軸)沿箭頭Rx所示的方向轉(zhuǎn)動的機(jī) 構(gòu)的X-射線成像設(shè)備20，軸線27連接有效成像區(qū)域的中央和X-射線發(fā)生器24。X-射線發(fā)生器24包括光圈單元28。光圈單元28作為光圈機(jī)構(gòu)起到調(diào)整X-射線 的量(放射線量)的作用。該機(jī)構(gòu)改變χ-射線照射區(qū)域(特別地，照射區(qū)域的大小)。光 圈單元28包括屏蔽件(例如，由具有高的X-射線屏蔽率的比如鉛等重金屬形成)以調(diào)整 X-射線的量(放射線量)。這允許X-射線發(fā)生器24根據(jù)成像部位以最適當(dāng)?shù)男螤钣肵-射 線照射被攝體25。光圈單元28可以具有如下配置通過使用兩個屏蔽件來改變開口寬度 的兩個屏蔽機(jī)構(gòu)被正交地配置(矩形配置)?？蛇x地，光圈單元28能夠具有圓形配置、多邊 形配置等等。另外，主體單元21包括作為功能性配置的例如檢測器29和光圈控制器30。檢測 器29檢測與水平軸22的轉(zhuǎn)動和移動相關(guān)的信息(例如，移動方向、移動量及移動速度)。 也就是說，檢測器29檢測水平軸22沿Mh方向和Mv方向的移動以及水平軸22在Rv方向 上的轉(zhuǎn)動。對于檢測器29，例如，可以使用線性編碼器。光圈控制器30控制光圈單元28的 操作(縮小光圈)。在具有該配置的X-射線成像設(shè)備20中，操作人員在觀察顯示在監(jiān)視器(未示出) 上的所獲得圖像的同時進(jìn)行定位操作以對被攝體25的期望的成像部位31進(jìn)行成像。下面將說明在根據(jù)本實施方式的定位操作時的成像控制處理。假設(shè)在被攝體25 的期望成像部位31和X-射線成像設(shè)備20具有如圖2所示的位置關(guān)系的狀態(tài)下進(jìn)行成像。在這種情況下，由于期望的成像部位31的僅右側(cè)部分被X-射線照射，因此，監(jiān)視器僅顯示期望的成像部位31的右側(cè)部分的圖像，如圖2所示。當(dāng)對期望的成像部位31的左側(cè)部分 進(jìn)行成像時，操作人員沿Mh方向(更具體地，遠(yuǎn)離被攝體25地移動的方向)移動C-臂23。 利用該操作，X-射線發(fā)生器24和X-射線檢測器10相對于被攝體移動。如圖3所示，在 C-臂23的移動過程中，左端的照射區(qū)域沿向左方向擴(kuò)大，并且監(jiān)視器顯示在更寬的范圍被 成像的期望的成像部位31的圖像。也就是說，本實施方式沿與C-臂23的移動方向?qū)?yīng)地 移動的照射區(qū)域的移動方向擴(kuò)大移動方向側(cè)的照射區(qū)域。此后，操作人員移動C-臂23直到期望的成像部位31被定位在監(jiān)視器的中央部， 也就是說，被定位于X-射線照射軸27。當(dāng)完成定位操作并且C-臂23停止時，照射區(qū)域恢 復(fù)到如圖4所示的初始狀態(tài)，S卩，照射區(qū)域具有與圖2所示大小相同的大小。因而，期望的 成像部位31被顯示在監(jiān)視器的中央。下面將參照圖5說明如圖1所示的X-射線檢測器10的內(nèi)部的截面配置的例子。檢測面板1是檢測透過被攝體的X-射線的面板(panel)。檢測面板1包括熒光 屏la、光電轉(zhuǎn)換元件Ib及基板lc。對于基板lc，例如，可以使用玻璃板。光電轉(zhuǎn)換元件Ib 二維(或者一維)地排列于該玻璃板。用以讀出光電轉(zhuǎn)換出的電信號的讀出電路(read circuit)和用于選擇待讀取元件的驅(qū)動電路等被連接到檢測面板1的端部。檢測面板1具 有矩形形狀，讀出電路和驅(qū)動電路分別布置于檢測面板1的正交側(cè)。對于熒光屏la，例如，使用由金屬化合物制成的熒光體涂覆的樹脂板。熒光屏Ia 與基板Ic形成為一體，并且作為檢測面板被固定于由金屬制成的基座2。電氣基板3被配 置于基座2的背側(cè)。電氣基板3基于從檢測面板1獲得的電信號產(chǎn)生X-射線圖像(放射 線圖像)。注意，電氣基板3經(jīng)由柔性電路板4被連接到檢測面板1。基座2被固定于殼體5a。X_射線檢測器10由殼體5a和具有高X-射線透過率的 材料制成的殼體蓋5b密封。X-射線檢測器10經(jīng)由電纜6和中繼電路單元7連接到外部控 制器(未示出)。利用該配置，χ-射線檢測器10例如供電并傳送信號。如上所述，X-射線檢測器10基于透過被攝體的X-射線獲得X-射線圖像。當(dāng)透 過被攝體的X-射線沖擊(Strike) X-射線檢測器10時，熒光體發(fā)光，并且二維地排列的光 電轉(zhuǎn)換元件Ib將光轉(zhuǎn)換成電信號。接著，該電信號作為電圖像信息經(jīng)由電纜6被傳輸。禾IJ 用該操作，操作人員能夠?qū)崟r地在監(jiān)視器上觀察到所獲得的圖像。接著將參照圖6說明圖1所示的X-射線成像設(shè)備20的成像操作的例子。當(dāng)開始成像處理時，X-射線成像設(shè)備20使光圈控制器30將光圈單元28的光圈 設(shè)定在初始狀態(tài)(初始形狀)(SlOl)。光圈的初始形狀依據(jù)期望的成像部位31的大小等預(yù) 先被確定。接著，X-射線成像設(shè)備20開始對被攝體25進(jìn)行成像(S102)。更具體地，X-射線 發(fā)生器24用X-射線照射X-射線被攝體(例如，人體)。X-射線檢測器10基于透過被攝 體的X-射線獲得X-射線圖像。利用該操作，如圖2所示，在光圈單元28的光圈處于初始 形狀的狀態(tài)下，監(jiān)視器顯示所獲得的圖像。如果操作人員發(fā)出一個指令(或者自動發(fā)出一個指令)以結(jié)束成像(步驟103中 的“是”)，則該成像處理結(jié)束。如果沒有發(fā)出結(jié)束成像的指令(步驟103中的“否”)，X-射 線成像設(shè)備20使檢測器29檢測與水平軸22的轉(zhuǎn)動或者移動相關(guān)的信息，由此，在該成像操作期間間歇地監(jiān)視C-臂的移動。結(jié)果，如果檢測結(jié)果沒有變化(步驟104中的“否”)，X-射線成像設(shè)備20維持當(dāng)前的成像狀態(tài)。另一方面，如果檢測到C-臂23移動(步驟104中的“是”)，X-射線成像設(shè) 備20判斷C-臂23的停止。X-射線成像設(shè)備20基于檢測器29所獲得的檢測結(jié)果進(jìn)行該 判斷。如果C-臂23未停止，也就是說，正在移動(在步驟105中的“否”)，則X-射線成 像設(shè)備20使光圈控制器30根據(jù)C-臂23的移動(即，檢測器29獲得的檢測結(jié)果)來改變 光圈單元28的形狀(S106)。S卩，光圈控制器30根據(jù)C-臂23的移動控制光圈單元28的屏 蔽件的移動，以將光圈的形狀切換成初始形狀之外的形狀。例如，如果C-臂23正在Mh方 向上沿遠(yuǎn)離被攝體的方向(即，向左側(cè))移動，則光圈控制器30將左端的照射區(qū)域沿向左 方向擴(kuò)大了寬度W1，如圖3所示。利用該操作，期望的成像部位31的未被成像的左側(cè)在更 寬的范圍被成像。接著，監(jiān)視器將所獲得的圖像顯示為圖像區(qū)域33。在步驟S105中，每次 C-臂23移動，光圈控制器30切換光圈單元28的形狀。例如，如果C-臂23的移動方向改 變到相反方向，則光圈控制器30將已經(jīng)在向左方向上被擴(kuò)大寬度Wl的X-射線照射區(qū)域的 形狀恢復(fù)到初始形狀，并將右端的照射區(qū)域在向右方向上擴(kuò)大W1。一旦在步驟S105中檢測到C-臂23停止，X-射線成像設(shè)備20使光驅(qū)控制器30 將光圈單元28的光圈設(shè)定(恢復(fù))到初始狀態(tài)(初始形狀)(S107)。此后，X-射線成像設(shè) 備20返回到步驟S103的處理并且重復(fù)上述處理直到完成成像操作。例如，當(dāng)期望的成像 部位31被定位在監(jiān)視器的中央部時，操作人員停止C-臂23的移動。利用該操作，已經(jīng)被 擴(kuò)大的照射區(qū)域返回到初始狀態(tài)。此時，如圖4所示，期望的成像部位31被顯示在初始圖 像區(qū)域32的中央附近。如上所述，根據(jù)本實施方式，照射區(qū)域依照操作人員的定位操作而被擴(kuò)大。這提高 了定位操作時的操作性并且使得易于找到期望的成像部位，由此縮短了定位操作所需的時 間。上面已經(jīng)說明了本發(fā)明的優(yōu)選實施方式。然而，顯然地，本發(fā)明不限于本實施方 式，可以在本發(fā)明的精神和范圍之內(nèi)進(jìn)行各種修改和變型。例如，上述實施方式已舉例說明了如下情況在定位操作時，移動方向側(cè)的照射區(qū) 域在照射區(qū)域的移動方向上被擴(kuò)大。然而，在定位操作時改變照射區(qū)域的方式不限于此。例 如，在C-臂23移動期間，能夠減小與移動方向相反的方向側(cè)的照射區(qū)域。更具體地，如圖 7所示，與正常操作相比，與C-臂23的移動方向相反的方向側(cè)對應(yīng)的右側(cè)的照射區(qū)域在向 左方向上被減少寬度W2。該操作的目的是通過將與期望的成像部位31離開的區(qū)域作為不 必要的區(qū)域而阻止對該區(qū)域的成像。利用該配置，能夠在對期望的成像部位的定位操作時 減小對不必要的區(qū)域的X-射線照射。另外，上述實施方式已舉例說明了照射區(qū)域依照C-臂23的移動而被改變的情況。 然而，能夠在上述之外的定位操作時改變上述照射區(qū)域。例如，依照C-臂23的轉(zhuǎn)動改變照 射區(qū)域。更具體地，如圖8所示，當(dāng)從上繪圖面觀察時，C-臂23沿Rc方向順時針轉(zhuǎn)動，照 射區(qū)域依照該轉(zhuǎn)動而改變。在這種情況下，在C-臂23的轉(zhuǎn)動期間，與正常操作中的情況相 比，左端的照射區(qū)域根據(jù)照射區(qū)域的伴隨該轉(zhuǎn)動的移動沿向左方向被擴(kuò)大寬度W3。在該配 置中，能夠不僅基于X-射線照射軸27相對于被攝體的位置而且基于X-射線照射軸27相對于被攝體的角度來改變照射區(qū)域。雖然上述實施方式未提及C-臂23同時在多個方向上移動或者轉(zhuǎn)動的情況，但是， 即使當(dāng)C-臂23同時在多個方向上移動或者轉(zhuǎn)動時，也能夠以上述方式改變照射方向。例 如，可以依照C-臂23的移動或者轉(zhuǎn)動改變照射區(qū)域。更具體地，如圖9所示，當(dāng)C-臂23 沿Mh方向以遠(yuǎn)離被攝體的方向移動并且當(dāng)C-臂23沿Rv方向從下繪圖面?zhèn)认蛏侠L圖面?zhèn)?轉(zhuǎn)動時，進(jìn)行上述照射區(qū)域的改變操作。在這種情況下，在C-臂23的移動和轉(zhuǎn)動期間，依 照照射區(qū)域的伴隨C-臂23的移動而進(jìn)行的移動，與正常操作相比，左端的照射區(qū)域在向左 方向上被擴(kuò)大寬度W4，并且依照照射區(qū)域的伴隨C-臂23的轉(zhuǎn)動而進(jìn)行的移動，與正常操作 相比，下端的照射區(qū)域沿向下方向被擴(kuò)大寬度W5。此外，在這種情況下，與移動方向和轉(zhuǎn)動 方向相反的方向側(cè)的照射區(qū)域被減小。更具體地，與正常操作相比，與C-臂23的移動方向 相反的方向側(cè)對應(yīng)的右端的照射區(qū)域沿向左方向被減小寬度W4;與正常操作相比，與C-臂 23的轉(zhuǎn)動方向相反的方向側(cè)對應(yīng)的上端的照射區(qū)域沿向下方向被減小寬度W5。利用該配 置，能夠基于X-射線照射軸27相對于被攝體的位置和角度改變照射區(qū)域。雖然上述實施方式未具體提及C-臂23的移動速度或者轉(zhuǎn)動速度，但是能夠設(shè)置 速度檢測器以檢測這些速度并且根據(jù)所檢測到的速度改變照射區(qū)域。假設(shè)C-臂23沿Mh方 向以速度V2和Vl移動，并且V2 > Vl。假定在這種情況下，當(dāng)C-臂23以速度Vl移動時， 照射區(qū)域被擴(kuò)大寬度W5，當(dāng)C-臂23以速度V2移動時，照射區(qū)域被擴(kuò)大寬度W6。在這種情 況下，W5和W6具有W6 > W5的關(guān)系。在這種配置下，能夠與C-臂的移動速度或者轉(zhuǎn)動速 度成比例地改變成像范圍的大小變化。這提高了操作性，即使當(dāng)成像系統(tǒng)以高速度相對于 被攝體移動以大大改變被攝體的成像范圍時也不例外。上述實施方式已經(jīng)舉例說明了如下類型X-射線成像設(shè)備20 在該設(shè)備20中，支 撐被攝體的頂板26被固定，并且僅成像系統(tǒng)移動。然而，本發(fā)明所應(yīng)用到的X-射線成像設(shè) 備不限于該種類型的設(shè)備。本發(fā)明能夠應(yīng)用到任何X-射線成像設(shè)備，只要該X-成像設(shè)備 包括用于檢測成像系統(tǒng)和頂板之間的相對位置和角度變化的檢測器。例如，本發(fā)明可以應(yīng) 用到僅頂板移動的這類設(shè)備或者成像系統(tǒng)和頂板兩方均移動的這類設(shè)備。另外，成像系統(tǒng) 或者頂板能夠被手動移動或者電機(jī)驅(qū)動。此外，檢測器29可以基于通過分析多個連續(xù)獲得 的圖像之間的改變而獲得的分析結(jié)果檢測C-臂23的移動或者轉(zhuǎn)動。在這種情況下，通過 由分析獲得的計算信息來檢測成像系統(tǒng)和被攝體之間的相對位置的改變。根據(jù)本發(fā)明，與沒有該配置的情況相比，提高了定位操作時的操作性，由此縮短了 定位操作所需的時間。其他實施方式也可以通過讀出并且執(zhí)行記錄在存儲裝置上的程序以執(zhí)行上述實施方式的功能 的計算機(jī)系統(tǒng)或者設(shè)備(或如CPU或者M(jìn)PU等裝置)以及通過如下方法來實現(xiàn)本發(fā)明的方 面，該方法的步驟是由計算機(jī)系統(tǒng)或者設(shè)備通過例如讀出并且執(zhí)行記錄在存儲裝置上的程 序以執(zhí)行上述實施方式的功能來進(jìn)行的。對于該目的，程序例如經(jīng)由網(wǎng)絡(luò)或者從作為存儲 裝置(例如，計算機(jī)可讀的存儲介質(zhì))的各種類型的記錄介質(zhì)被提供到計算機(jī)。雖然已經(jīng)參照典型實施方式說明了本發(fā)明，應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不限于所公開的典 型實施方式。以下權(quán)利要求的范圍應(yīng)給予最寬的解釋以包含所有變型、等同結(jié)構(gòu)和功能。
權(quán)利要求
一種放射線成像設(shè)備，其包括放射線發(fā)生器，其被配置成向被攝體照射放射線；放射線檢測器，其被配置成檢測透過所述被攝體的放射線；檢測器，其被配置成檢測所述放射線發(fā)生器和所述放射線檢測器相對于所述被攝體的移動和轉(zhuǎn)動中的至少一方；以及控制器，其被配置成基于所述檢測器的輸出來改變由所述放射線發(fā)生器施加到被攝體的放射線的照射區(qū)域的大小。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射線成像設(shè)備，其特征在于，當(dāng)所述檢測器檢測到所述移 動和所述轉(zhuǎn)動中的至少一方時，所述控制器在被施加到所述被攝體的所述照射區(qū)域的與該 照射區(qū)域的移動的方向?qū)?yīng)的一側(cè)擴(kuò)大該照射區(qū)域的大小，所述照射區(qū)域的該移動依據(jù)于 所檢測到的所述移動和所檢測到的所述轉(zhuǎn)動中的至少一方。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的放射線成像設(shè)備，其特征在于，當(dāng)所述檢測器檢測到所述 移動和所述轉(zhuǎn)動中的至少一方時，所述控制器在被施加到所述被攝體的所述照射區(qū)域的與 該照射區(qū)域的移動的方向相反的一側(cè)減小該照射區(qū)域的大小，所述照射區(qū)域的該移動依據(jù) 于所檢測到的所述移動和所檢測到的所述轉(zhuǎn)動中的至少一方。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射線成像設(shè)備，其特征在于，該放射線成像設(shè)備還包括速 度檢測器，該速度檢測器被配置成檢測所述放射線發(fā)生器和所述放射線檢測器相對于所述 被攝體的移動速度和轉(zhuǎn)動速度中的至少一方，其中，所述控制器被配置成基于由所述速度檢測器檢測到的所述移動速度和所述轉(zhuǎn)動 速度中的至少一方來改變所述照射區(qū)域的大小的變化量。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射線成像設(shè)備，其特征在于，在基于由所述檢測器獲得的 檢測結(jié)果改變了所述照射區(qū)域后，當(dāng)所述檢測器未能檢測到所述移動和所述轉(zhuǎn)動中的至少 一方時，所述控制器將已改變的所述照射區(qū)域恢復(fù)到初始狀態(tài)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射線成像設(shè)備，其特征在于，所述檢測器被配置成基于所 述放射線檢測器的檢測來分析多個連續(xù)獲得的圖像之間的改變，并且基于分析結(jié)果來檢測 所述移動和所述轉(zhuǎn)動中的至少一方。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射線成像設(shè)備，其特征在于，所述放射線發(fā)生器包括被配置成調(diào)整放射線量的光圈機(jī)構(gòu)，并且 所述控制器被配置成通過控制所述光圈機(jī)構(gòu)而改變由所述放射線發(fā)生器施加到所述 被攝體的放射線的照射區(qū)域的大小。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射線成像設(shè)備，其特征在于，所述放射線成像設(shè)備還包括 支撐單元，其被配置成在保持所述放射線發(fā)生器和所述放射線檢測器之間的距離一定的狀態(tài)下支撐所述放射線發(fā)生器和所述放射線檢測器；被攝體支撐單元，其被布置在所述放射線發(fā)生器和所述放射線檢測器之間，并且被配 置成支撐所述被攝體；以及移動單元，其被配置成使所述支撐單元相對于所述被攝體移動。
9.一種放射線成像設(shè)備中的處理方法，該放射線成像設(shè)備獲得放射線圖像，該方法包括使放射線發(fā)生器向被攝體照射放射線；使放射線檢測器檢測透過所述被攝體的放射線；檢測所述放射線發(fā)生器和所述放射線檢測器相對于所述被攝體的移動和轉(zhuǎn)動中的至少一方；基于檢測結(jié)果來改變由所述放射線發(fā)生器施加到所述被攝體的放射線的照射區(qū)域的大小。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種放射線成像設(shè)備及用于該設(shè)備的處理方法，該放射線成像設(shè)備包括放射線發(fā)生器，其被構(gòu)造成利用放射線來照射被攝體；放射線檢測器，其被構(gòu)造成檢測透過被攝體的放射線；檢測器，其被構(gòu)造成檢測放射線發(fā)生器和放射線檢測器相對于被攝體的移動和轉(zhuǎn)動中的至少一方；以及控制器，其被構(gòu)造成基于檢測結(jié)果由放射線發(fā)生器來改變施加到被攝體的放射線的照射區(qū)域的大小。
文檔編號A61B6/00GK101810486SQ201010119629
公開日2010年8月25日 申請日期2010年2月23日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月24日
發(fā)明者松本和弘 申請人:佳能株式會社