專(zhuān)利名稱(chēng)：足部平衡墊片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型關(guān)于一種足部平衡墊片，特別關(guān)于一種放置于鞋內(nèi)特定位置，使人們?cè)诖┬瑫r(shí)減少鞋底干擾的墊片設(shè)計(jì)。
背景技術(shù)：
隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)達(dá)，現(xiàn)代人對(duì)于物質(zhì)生活的要求越來(lái)越高，其中人們對(duì)于穿著鞋子時(shí)的舒適感要求也越來(lái)越高，目前市面上生產(chǎn)銷(xiāo)售的鞋子，主要為軟底的氣墊鞋或符合足部形狀的鞋子，但由于兩下肢長(zhǎng)短有別，柔軟的鞋底往往會(huì)使受力較大的一側(cè)下肢，陷下去較多，而使身體關(guān)節(jié)產(chǎn)生不適當(dāng)?shù)淖兓?，而符合足底形狀的鞋子，又?huì)增加不必要的足底干擾，造成足部變形，且因鞋墊設(shè)計(jì)上平衡不均產(chǎn)生行走時(shí)有前傾重心不穩(wěn)的情形，因此足部醫(yī)師以矯正鞋墊來(lái)改變這些變化，糾正不良步態(tài)以改善身體結(jié)構(gòu)，但不一定得到理想的效果，且價(jià)格昂貴，導(dǎo)致除非具有嚴(yán)重足部變形的人士，否則不會(huì)特別去穿著此種矯正鞋墊。

實(shí)用新型內(nèi)容有鑒于前述目前穿鞋造成的困擾，為減少因穿鞋可能造成的傷害，而提出新的理論和設(shè)計(jì)，通過(guò)簡(jiǎn)單的方式，可改善人們穿鞋的困擾，使人們足部感覺(jué)舒服、不受傷害且價(jià)格便宜。因此，本實(shí)用新型的主要目的是提供一種足部平衡墊片，其符合人體力學(xué)，可改變足底受力的分配，使身體結(jié)構(gòu)能自我調(diào)整，以減少足底與地面的受力面積，進(jìn)而對(duì)足底構(gòu)成穩(wěn)固的三點(diǎn)支撐與近似于杠桿平衡的效果。為達(dá)到上述實(shí)用新型目的，本新型所采用的主要技術(shù)手段是使一足部平衡墊片在同一面上具有至少一第一表面與一第二表面，所述第二表面成水平或是沿第一表面邊緣形成一向外傾斜的角度，其中所述第一表面上具有一支撐部。使用時(shí)，將所述足部平衡墊片放置在鞋內(nèi)對(duì)應(yīng)使用者的腳跟為接觸的第一點(diǎn)或是更進(jìn)一步以另一足部平衡墊片置于鞋內(nèi)對(duì)應(yīng)前腳掌為接觸的第二點(diǎn)及第三點(diǎn)，而使所述第一表面直接抵掣于使用者的足跟下方與其前腳掌下方，且此足部平衡墊片上設(shè)有一凸點(diǎn)， 其有杠桿支點(diǎn)的作用，可平衡腳掌內(nèi)側(cè)與外側(cè)的受力，還可平衡腳跟與腳掌的受力，當(dāng)足部踩踏在所述足部平衡墊片上時(shí)，將受所述足部平衡墊片的支撐部的支撐，而減少與足底接觸，因而能減少足底受力面積，當(dāng)受力面積減少，即對(duì)足底形成三點(diǎn)支撐，再加上因腳底與鞋墊所產(chǎn)生近似于杠桿平衡的原理，致使腳跟和腳掌自然不易內(nèi)翻或外翻，且站立與行走時(shí)能達(dá)到均力平衡的狀態(tài)。以此，將可輔助使用者足部的穩(wěn)定，進(jìn)一步避免使用者的腳跟和腳掌的內(nèi)翻或外翻，更有利于身體站立或行走時(shí)的平衡與重心穩(wěn)固。前述足部平衡墊片的支撐部高于第一表面及第二表面。前述足部平衡墊片的支撐部與第一表面等高，且支撐部的硬度大于第一表面的硬度。前述足部平衡墊片形成一橢圓形。[0010]前述第一表面與第二表面分別形成半橢圓形。前述足部平衡墊片形成近似“人”字型。前述足部平衡墊片在同一面上具有兩第一表面，其中一第一表面位于第二表面上。前述足部平衡墊片，位于第二表面上的第一表面的支撐部為一凸點(diǎn)。前述足部平衡墊片，支撐部高于第一表面及第二表面。前述足部平衡墊片，支撐部埋入于足部平衡墊片內(nèi)而與第一表面等高，且支撐部的硬度大于足部平衡墊片的硬度。前述足部平衡墊片，支撐部自足部平衡墊底面向上隆起。前述足部平衡墊片，支撐部自足部平衡墊頂面向下隆起。
圖1是為本發(fā)明第一優(yōu)選實(shí)施例的平面圖。圖2是為本發(fā)明第一優(yōu)選實(shí)施例的剖面圖。圖3是為本發(fā)明第二優(yōu)選實(shí)施例的剖面圖。圖4是為本發(fā)明第三優(yōu)選實(shí)施例的平面圖。圖5是為本發(fā)明使用在足部的示意圖。圖6是為本發(fā)明使用在足部的側(cè)視圖。圖7是為本發(fā)明實(shí)施在一拖鞋的示意圖。圖8是為本發(fā)明第三優(yōu)選實(shí)施例的剖面圖。
具體實(shí)施方式
以下配合附圖及本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型為達(dá)成預(yù)定實(shí)用新型目的所采取的技術(shù)手段。請(qǐng)參閱圖1所示，是本實(shí)用新型第一優(yōu)選實(shí)施例的平面圖。本實(shí)用新型是使一足部平衡墊片10在同一面上具有至少一第一表面11與一第二表面12，第二表面12是呈水平的(如圖2所示)，其中第一表面11上具有一支撐部110，支撐部110自足部平衡墊底部 10向上隆起，與第一表面11與第二表面12等高而使其為受力點(diǎn)，在本實(shí)施例中，足部平衡墊片10形成一橢圓形，且第一表面11與第二表面12分別形成半橢圓形，且第二表面12是呈水平，此外，支撐部110與第一表面11及第二表面12等高，其為硬質(zhì)材料所構(gòu)成。請(qǐng)?jiān)賲㈤唸D3所示，是本實(shí)用新型第二優(yōu)選實(shí)施例的剖面圖。在本實(shí)施例中，第二表面12沿第一表面11的邊緣向外傾斜一角度，支撐部110自足部平衡墊底部10向上隆起， 且定義是第一表面11的最高點(diǎn)，以對(duì)足底構(gòu)成支撐。請(qǐng)?jiān)賲㈤唸D4所示，是本實(shí)用新型第三優(yōu)選實(shí)施例的平面圖。在本實(shí)施例中，足部平衡墊片IOa是形成近似“人”字型，且第二表面1 的邊緣向外傾斜一角度，足部平衡墊片 IOa具有兩第一表面11a、11b，其中一第一表面lib位于第二表面1 上，且支撐部IlOb自足部平衡墊底部IOa向上隆起，高于第一表面11b，另一支撐部IlOa自足部平衡墊底部IOa 向上隆起，與其上的第一表面Ila等高，且為硬質(zhì)材料組成。請(qǐng)參閱圖5與圖6所示，是本發(fā)明使用在足部的示意圖與側(cè)視圖。當(dāng)使用者的足部踩踏在足部平衡墊片10、10a上，使第一表面11的支撐點(diǎn)110對(duì)應(yīng)于使用者的腳跟中心點(diǎn)往腳指方向與足弓的接近處而為腳跟受力位置，而足部平衡墊片IOa設(shè)置在符合前腳掌受力的位置上，支撐部IlOa相對(duì)于使用者的跖骨頭下方，且另一支撐部IlOb對(duì)應(yīng)至使用者的第一跖骨與第二跖骨接近的足弓處，在本實(shí)施例中，為一凸點(diǎn)，支撐部IlOb具有杠桿支點(diǎn)和按摩涌泉穴的作用。請(qǐng)參照?qǐng)D8，本實(shí)用新型第四優(yōu)選實(shí)施例的足部平衡墊片10c、10d同樣具有第一表面11c、lid、向外傾斜的第二表面12c、12d、支撐部110c、110d，與上述實(shí)施例不同之處在于本案的支撐部110c、IlOd是自足部平衡墊片10c、IOd頂面向下隆起。此外，本實(shí)用新型的使用方法，包括提供至少一足部平衡墊片；將足部平衡墊片放置在鞋內(nèi)，而位于與使用者腳跟及/或是前腳掌相應(yīng)的位置上。使用者欲使用該足部平衡墊片時(shí)，是將該足部平衡墊片放置在鞋內(nèi)，其中鞋子可為各式鞋子，如皮鞋、布鞋或是涼鞋等，或是將該足部平衡墊片設(shè)置或形成在一鞋墊上后，再放入鞋內(nèi)，如圖7所示，是本實(shí)用新型實(shí)施在一拖鞋上的示意圖。在本實(shí)施例中是以拖鞋作為說(shuō)明，但并非用以限制本實(shí)用新型，使用者將足部平衡墊片10、10a分別設(shè)置在拖鞋鞋面上與使用者的足跟與前腳掌的相應(yīng)位置。綜上所述，當(dāng)使用者將足部踩踏在上述的足部平衡墊片上時(shí)，由于該足部平衡墊片的支撐部將會(huì)支撐使用者的足部，因而能減少足底受力面積，避免身體有前傾的狀態(tài)，當(dāng)受力面積減少后，足底形成三點(diǎn)鼎立，加上以鞋墊所形成近似于杠桿平衡的效果，腳跟和腳掌自然不易內(nèi)翻或外翻，且身體不致前傾而能達(dá)到挺立、平衡且站立穩(wěn)固。以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，并非對(duì)本實(shí)用新型做任何形式上的限制，雖然本實(shí)用新型已以?xún)?yōu)選實(shí)施例披露如上，然而并非用以限定本實(shí)用新型，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)，應(yīng)當(dāng)可以利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許改變或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種足部平衡墊片，其特征在于所述足部平衡墊片在同一面上具有至少一第一表面與一第二表面，所述第二表面是成水平或是沿第一表面邊緣形成一向外傾斜角度，所述第一表面上具有一支撐部。
2.如權(quán)利要求1所述的足部平衡墊片，其特征在于所述支撐部高于第一表面及第二表面。
3.如權(quán)利要求1所述的足部平衡墊片，其特征在于所述支撐部與足部平衡墊片的第一表面等高，且支撐部的硬度大于足部平衡墊片的硬度。
4.如權(quán)利要求2或3所述的足部平衡墊片，其特征在于所述足部平衡墊片形成一橢圓形。
5.如權(quán)利要求4所述的足部平衡墊片，其特征在于所述第一表面與第二表面分別形成半橢圓形。
6.如權(quán)利要求1所述的足部平衡墊片，其特征在于所述足部平衡墊片形成近似“人”字型。
7.如權(quán)利要求6所述的足部平衡墊片，其特征在于所述足部平衡墊片在同一面上具有兩第一表面，其中一第一表面位于第二表面上。
8.如權(quán)利要求7所述的足部平衡墊片，其特征在于所述位于第二表面上的第一表面的支撐部是為一凸點(diǎn)。
9.如權(quán)利要求7所述的足部平衡墊片，其特征在于所述支撐部高于第一表面及第二表面。
10.如權(quán)利要求7所述的足部平衡墊片，其特征在于所述支撐部埋入于足部平衡墊片內(nèi)而與第一表面等高，且支撐部的硬度大于足部平衡墊片的硬度。
11.如權(quán)利要求7所述的足部平衡墊片，其特征在于所述支撐部自足部平衡墊底面向上隆起。
12.如權(quán)利要求7所述的足部平衡墊片，其特征在于所述支撐部自足部平衡墊頂面向下隆起。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型關(guān)于一種足部平衡墊片，其一表面上至少定義出一第一表面與一第二表面，所述第二表面是呈水平或是略具有一傾斜角度，其中所述第一表面上具有一支撐部，所述支撐部是高于或等于第一表面與第二表面，當(dāng)所述足部平衡墊片放置于鞋內(nèi)的特定位置，可縮小足底與地面的接觸面積，使足底產(chǎn)生三點(diǎn)鼎立與近于杠桿平衡的效果，改善足部?jī)?nèi)翻或外翻的情形。
文檔編號(hào)A61F5/01GK201939546SQ20102059293
公開(kāi)日2011年8月24日 申請(qǐng)日期2010年11月5日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月5日
發(fā)明者林明德 申請(qǐng)人:林景祥