專利名稱：帶電粒子劑量仿真裝置與方法帶電粒子束照射裝置與方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種仿真將質(zhì)子束等帶電粒子束照射在被照射體時(shí)的被照射體內(nèi)的帶電粒子束的劑量分布的帶電粒子劑量仿真裝置、帶電粒子束照射裝置、帶電粒子劑量的仿真方法及帶電粒子束照射方法。
背景技術(shù)：
已知有照射質(zhì)子束等帶電粒子束來治療腫瘤的質(zhì)子束治療裝置。在這種腫瘤的治療中，需要根據(jù)腫瘤的形狀或位置制定絕對(duì)劑量、劑量分布、照射位置等照射計(jì)劃，并按照該照射計(jì)劃高精確度地進(jìn)行帶電粒子束的照射。在制定照射計(jì)劃時(shí)，將質(zhì)子束的照射條件等輸入到搭載于質(zhì)子束治療裝置等上的仿真裝置來提前算出劑量分布，并根據(jù)該劑量分布進(jìn)行質(zhì)子束是否準(zhǔn)確地照射到腫瘤上的仿真。作為算出劑量分布的方法，例如已知有稱為 Monte Carlo Simulation 或 Pencil Beam Algorithm(PBA)的方法(參照非專利文獻(xiàn) I 4)。
非專利文獻(xiàn)1:Harald Paganetti,Hongyu Jiang,Katia Parodi, Roelf Slopsema and Martijn Engelsman 著，IOP Publishing, Physics in Medicine and Biology, 53(2008)4825-4853.
非專利文獻(xiàn) 2 !Department of Radiation Oncology, Massachusetts General Hospital&Harvard Medical School, Boston, MA 02114, USA, IOPPublishing, Physics inMedicine and Biology,54 (2009)4399-4421.
非專利文獻(xiàn)3 Nobuyuki Kanematsu, Masataka Komori, Shunsuke Yonail and AzusaIshizaki 著，IOP Publishing, Physics in Medicine and Biology, 54(2009)2015-2027.
非專利文獻(xiàn)4 :Linda Hongyz, Michael Goiteiny, Marta Bucciolinix, Robert Comiskeyy,Bernard Gottschalkk,Skip Rosenthaly,Chris Seragoy and Marcia Urie著， Phys. Med. Biol. 41 (1996) 1305-1330.
但是,在上述Monte Carlo Simulation中，由于通過統(tǒng)計(jì)性處理算出劑量分布，因此精確度變高，但運(yùn)算處理的負(fù)擔(dān)大，有時(shí)還需要數(shù)日期間，存在缺乏實(shí)用性之類的課題。 另一方面，PBA中存在精確度始終比Monte Carlo Simulation變得容易下降,難以確保所期望的精確度之類的課題。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明以解決以上課題為目的 ，其目的在于提供一種能夠抑制精確度下降的同時(shí)，減輕運(yùn)算處理的負(fù)擔(dān)來提前算出帶電粒子束的劑量分布的帶電粒子劑量仿真裝置、帶電粒子束照射裝置、帶電粒子劑量的仿真方法及帶電粒子束照射方法。
本發(fā)明的仿真裝置，設(shè)想帶電粒子束照射到被照射體的情況，將帶電粒子束假設(shè)為具有錐形擴(kuò)展的虛擬形狀，并且利用算出被照射體內(nèi)的帶電粒子束的擴(kuò)展的劑量分布核，仿真被照射體內(nèi)的帶電粒子束的劑量分布，其特征在于，具備輸入機(jī)構(gòu)，接收包含被照 射體的物質(zhì)信息及帶電粒子束的照射信息的仿真數(shù)據(jù)的輸入；及運(yùn)算機(jī)構(gòu)，根據(jù)由輸入機(jī) 構(gòu)接收的仿真數(shù)據(jù)及劑量分布核，算出被照射體內(nèi)的帶電粒子束的劑量分布，其中，運(yùn)算機(jī) 構(gòu)如下操作在帶電粒子束的前進(jìn)方向的中途細(xì)化擴(kuò)展至規(guī)定范圍的帶電粒子束，且假設(shè) 以細(xì)化的位置為出發(fā)點(diǎn)具有錐形擴(kuò)展的多個(gè)虛擬形狀，并且根據(jù)由輸入機(jī)構(gòu)接收的仿真數(shù) 據(jù)和帶電粒子束的多個(gè)虛擬形狀，算出被照射體內(nèi)的帶電粒子束的劑量分布。
當(dāng)被照射體僅由一定的物質(zhì)構(gòu)成時(shí)，用以往PBA也能期待較高的精確度，但是實(shí) 際被照射體由各種各樣的物質(zhì)錯(cuò)綜復(fù)雜地構(gòu)成，因此很難用以往PBA高精確度地算出帶電 粒子束的劑量分布。但是，根據(jù)本發(fā)明，適當(dāng)?shù)丶?xì)化假設(shè)為帶電粒子束的錐形虛擬形狀來假 設(shè)為多個(gè)虛擬形狀，因此能夠使被細(xì)化的各個(gè)虛擬形狀與錯(cuò)綜復(fù)雜的結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)的同時(shí)，算 出帶電粒子束的劑量分布，對(duì)提高劑量分布的精確度方面很有效。另外，本發(fā)明中，在將帶 電粒子束假設(shè)為錐形虛擬形狀的基礎(chǔ)上，求出帶電粒子束的劑量分布，因此與通過統(tǒng)計(jì)性 運(yùn)算處理導(dǎo)出劑量分布的Monte Carlo Simulation相比,更能減輕運(yùn)算處理的負(fù)擔(dān)。其 結(jié)果，能夠抑制精確度下降的同時(shí)，減輕運(yùn)算處理的負(fù)擔(dān)來提前算出劑量分布。
另外，細(xì)化帶電粒子束的位置為帶電粒子束即將進(jìn)入被照射體之前的位置為較 佳。由于能夠在即將進(jìn)入被照射體的內(nèi)部之前對(duì)應(yīng)內(nèi)部的結(jié)構(gòu)來使帶電粒子束細(xì)化為多個(gè) 虛擬形狀，因此算出帶電粒子束的劑量分布方面進(jìn)一步容易提高精確度。
另外，進(jìn)一步具備通知由運(yùn)算機(jī)構(gòu)算出的劑量分布的輸出機(jī)構(gòu)為較佳。通過從輸 出機(jī)構(gòu)通知操作人員可識(shí)別的文字信息、圖像信息或音頻信息等，操作人員能夠容易地掌 握作為仿真結(jié)果的帶電粒子劑量的劑量分布。
另外，輸出機(jī)構(gòu)對(duì)劑量分布進(jìn)行等劑量線化或等劑量面化來進(jìn)行通知為較佳。通 過進(jìn)行等劑量線化或等劑量面化來進(jìn)行通知，能夠容易地掌握劑量的大小。
并且，本發(fā)明所涉及的帶電粒子束照射裝置的特征在于，具備上述仿真裝置。根據(jù) 本發(fā)明，可根據(jù)由上述仿真裝置提前算出的帶電粒子束的劑量分布照射帶電粒子束。
并且，本發(fā)明的仿真方法，設(shè)想帶電粒子束照射到被照射體的情況，將帶電粒子束 假設(shè)為具有錐形擴(kuò)展的虛擬形狀，并且利用導(dǎo)出被照射體內(nèi)的帶電粒子束的擴(kuò)展的劑量分 布核，仿真被照射體內(nèi)的帶電粒子束的劑量分布，其特征在于，包括被照射體信息獲取工 序，獲取被照射體的物質(zhì)信息；照射信息設(shè)定工序，決定帶電粒子束的照射信息；及仿真工 序，根據(jù)在照射信息設(shè)定工序中決定的照射信息和劑量分布核，在帶電粒子束的前進(jìn)方向 的中途細(xì)化擴(kuò)展至規(guī)定范圍的帶電粒子束，且假設(shè)以細(xì)化的位置為出發(fā)點(diǎn)具有錐形擴(kuò)展的 多個(gè)虛擬形狀，并且根據(jù)在被照射體信息獲取工序中獲取的物質(zhì)信息和帶電粒子束的多個(gè) 虛擬形狀，算出被照射體內(nèi)的帶電粒子束的劑量分布。根據(jù)本發(fā)明，能夠抑制精確度下降的 同時(shí)，減輕運(yùn)算處理的負(fù)擔(dān)來提前算出帶電粒子束的劑量分布。
并且，本發(fā)明所涉及的帶電粒子束照射方法的特征在于，根據(jù)由上述仿真方法算 出的帶電粒子束的劑量分布照射帶電粒子束。根據(jù)本發(fā)明，可根據(jù)由上述仿真方法提前算 出的帶電粒子束的劑量分布照射帶電粒子束。
發(fā)明效果
根據(jù)本發(fā)明，能夠抑制精確度下降的同時(shí)，減輕運(yùn)算處理的負(fù)擔(dān)來提前算出劑量 分布。


圖1是搭載本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的仿真裝置的質(zhì)子束治療裝置的說明圖。
圖2是通過圖表表不質(zhì)子束治療效果的說明圖。
圖3是對(duì)劑量分布計(jì)算算法進(jìn)行示意化來表示的說明圖。
圖4是對(duì)DMS-PBA法的概念進(jìn)行示意化來表示的說明圖。
圖5是對(duì)DMS-PBA法中的小射束的細(xì)化的說明圖。
圖6是對(duì)DMS-PBA法示意地表示與以往PBA法的不同之處，(a)是示意地表示PBA 的說明圖，(b)是示意地表示DMS-PBA的說明圖。
圖7是表示DMS-PBA法與以往PBA法的劑量分布差異的圖，(a)是對(duì)兩者的差異 進(jìn)行等劑量線化來表示的圖，(b)是表示深度Omm處的兩者的劑量分布的圖表，(c)是表示 深度115mm處的劑量分布的圖表。
圖8是利用臨床圖像(矢狀截面)對(duì)劑量分布進(jìn)行比較而表示的圖，(a)是對(duì)由 PBA法求出的劑量分布進(jìn)行等劑量線化來表示的圖像的一例，(b)是對(duì)由DMS-PBA法求出的 劑量分布進(jìn)行等劑量線化來表示的圖像的一例。
圖9是表示利用臨床圖像(軸狀截面)對(duì)劑量分布進(jìn)行比較而表示的圖，(a)是 對(duì)由PBA法求出的劑量分布進(jìn)行等劑量線化來表示的圖像的一例，(b)是對(duì)由DMS-PBA法 求出的劑量分布進(jìn)行等劑量線化來表示的圖像的一例。
圖10是表示質(zhì)子束治療的簡(jiǎn)要順序的流程圖。
圖11是表示劑量分布仿真的動(dòng)作順序的流程圖。
圖12是表示實(shí)驗(yàn)例I的仿真結(jié)果的圖表。
圖13是表示實(shí)驗(yàn)例2的仿真結(jié)果的圖表。
圖14是表示實(shí)驗(yàn)例3的仿真結(jié)果的圖表。
圖中3_仿真裝置，31-輸入部(輸入機(jī)構(gòu))，33-運(yùn)算部(運(yùn)算機(jī)構(gòu))，35-輸出部 (輸出機(jī)構(gòu))，B-質(zhì)子束、射束(帶電粒子束)，X-被照射體。
具體實(shí)施方式
以下參照附圖對(duì)本發(fā)明的較佳實(shí)施方式進(jìn)行說明。
在照射質(zhì)子束(帶電粒子束)來治療腫瘤(癌癥病灶)時(shí)，根據(jù)腫瘤的形狀或位 置制定絕對(duì)劑量、劑量分布及照射位置等照射計(jì)劃，并按照該照射計(jì)劃進(jìn)行質(zhì)子束的照射。 如圖1所示，質(zhì)子束治療裝置(帶電粒子束照射裝置)I具備有仿真裝置(帶電粒子劑量 仿真裝置)3，其用于制定照射計(jì)劃；及照射裝置5，按照仿真結(jié)果向患者等被照射體X照射 質(zhì)子束B。
照射裝置5具備有朝向被照射體X照射質(zhì)子束B的照射部51 ;調(diào)整質(zhì)子束B 的照射范圍的準(zhǔn)直器52 ;及配合癌癥病灶的形狀來調(diào)整質(zhì)子束B的到達(dá)距離的填充物 (bolus) 53等。填充物53的材質(zhì)為聚乙烯等。基于照射裝置5的實(shí)際照射由操作人員向照 射裝置5的輸入操作來進(jìn)行。
另外，如圖2所示，在光子束的情況下，在剛?cè)肷涞交颊咂つw(體表面Xa)后(到達(dá) 癌癥病灶前)迎來對(duì)細(xì)胞的損傷最大(治療效果最大的)的峰值，并逐漸下降。另一方面，在質(zhì)子束等重帶電粒子的情況下，稱為布拉格峰(Bragg Peak)的極大部分在規(guī)定深度處出現(xiàn)。因此，適當(dāng)?shù)卣{(diào)整質(zhì)子束B所通過的填充物53的形狀等來調(diào)整布拉格峰(Bragg Peak) 出現(xiàn)的深度，由此能夠抑制對(duì)正常組織的損傷并加大對(duì)腫瘤組織(癌癥病灶)的損傷。
仿真裝置3 (參照?qǐng)D1)具備中央處理裝置，中央處理裝置具有CPU、RAM、ROM等作為硬件構(gòu)成，并具有輸入部(輸入機(jī)構(gòu))31、運(yùn)算部(運(yùn)算機(jī)構(gòu))33及輸出部(輸出機(jī)構(gòu))35 作為功能性構(gòu)成。
輸入部31為接觸式面板、鍵盤或鼠標(biāo)等操作設(shè)備，接收根據(jù)操作人員操作的數(shù)據(jù)的輸入。并且，輸入部31例如接收由治療用CT (Computed Tomography)拍攝的包含癌癥病灶的圖像數(shù)據(jù)、照射區(qū)域所涉及的數(shù)據(jù)及照射參數(shù)數(shù)據(jù)。照射參數(shù)數(shù)據(jù)例如為照射方向、患者床鋪的角度等數(shù)據(jù)。本實(shí)施方式中，由治療用CT獲取的圖像數(shù)據(jù)(治療用CT圖像數(shù)據(jù)) 相當(dāng)于被照射體X的物質(zhì)信息，照射區(qū)域所涉及的數(shù)據(jù)及照射參數(shù)數(shù)據(jù)相當(dāng)于帶電粒子束的照射信息。以下，將這些統(tǒng)稱為仿真數(shù)據(jù)。
運(yùn)算部33具有如下功能設(shè)想質(zhì)子束B照射到被照射體X的情況，將質(zhì)子束B假設(shè)為具有錐形(銳方向性射束形狀)擴(kuò)展的虛擬形狀，并且利用導(dǎo)出被照射體X內(nèi)部中的質(zhì)子束B的擴(kuò)展的劑量分布核，仿真被照射體X內(nèi)部中的質(zhì)子束B的劑量分布。在此，算出劑量分布的以往方法例如為Pencil-beam法(PBA法)，但在本實(shí)施方式中，由進(jìn)一步進(jìn)化 PBA 法的 Delta-function Multi Segmented PBA 法(DMS-PBA 法)進(jìn)行劑量分布計(jì)算。以下，對(duì)PBA法進(jìn)行簡(jiǎn)要說明后，對(duì)DMS-PBA法進(jìn)行詳細(xì)說明。
PBA法是將質(zhì)子束B看作銳方向性射束形狀，利用考慮了物質(zhì)中的質(zhì)子束B基于多重庫侖散射的擴(kuò)展的劑量分布核而實(shí)施計(jì)算的方法。具體而言，如圖3所示，由實(shí)際測(cè)量獲取從照射點(diǎn)的深部方向的劑量分布，并且考慮由規(guī)定的計(jì)算(基于Gaussian的近似) 得到的射束的擴(kuò)展來導(dǎo)出質(zhì)子束B的前進(jìn)方向的規(guī)定地點(diǎn)中的劑量分布。例如，通過基于 Gaussian的近似求出地點(diǎn)Z1處的擴(kuò)展作為擴(kuò)展σ工，并通過基于Gaussian的近似求出地點(diǎn) Z2處的擴(kuò)展作為擴(kuò)展σ2。
若根據(jù)以往PBA法，能夠在幾分鐘左右的計(jì)算時(shí)間內(nèi)導(dǎo)出質(zhì)子束B的劑量分布這一點(diǎn)上有利，但是還設(shè)想到因照射范圍內(nèi)的非均質(zhì)物質(zhì)(例如，患者的骨骼等)的有無而導(dǎo)致計(jì)算精確度下降，故而有改進(jìn)的余地。
DMS-PBA法是有效地利用PBA法的優(yōu)點(diǎn)即縮短計(jì)算時(shí)間這樣的優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)能夠謀求提高精確度的手法。DMS-PBA法的特征性項(xiàng)目至少有2個(gè)，第I是基于被照射體(患者等)Χ的體表面Xa中的Surface Map分析的、考慮來自填充物53的散射的劑量分布計(jì)算， 第2是基于以體表面Xa為出發(fā)點(diǎn)發(fā)射的小射束Ba的高分辨率的劑量分布計(jì)算。
參照?qǐng)D4及圖5對(duì)DMS-PBA法的這些特征進(jìn)行概括說明。圖4是對(duì)DMS-PBA法的概念進(jìn)行示意化來表示的說明圖，圖5是對(duì)DMS-PBA法中的射束的細(xì)化的說明圖。如圖4 所示，輸入到填充物53等的質(zhì)子束(射束)B產(chǎn)生由側(cè)方多重庫侖散射引起的擴(kuò)展的同時(shí)前進(jìn)而到達(dá)至體表面Xa。在此，計(jì)算到體表面Xa為止的射束B的側(cè)方發(fā)射度。該計(jì)算與以往PBA相同。
其次,制作體表面Xa中的Surface Map。Surface Map是指在體表面Xa中的各計(jì)算網(wǎng)格中測(cè)繪合算出來的射束B的強(qiáng)度(分量)、剩余徑跡、不同剩余徑跡的射束B的數(shù)量的圖譜。例如，將填充物53假設(shè)為截面L字形的塊體時(shí)，與通過較薄部分的射束B在體表面Xa中的剩余徑跡相比，通過較厚部分的射束B在體表面Xa中的剩余徑跡變小。并且，在 通過較厚部分的射束B和通過較薄部分的射束B在體表面Xa中相互重疊的區(qū)域中，與未重 疊的區(qū)域相比劑量(強(qiáng)度)變大?？紤]這些要件制作體表面Xa中的Surface Map。以上是 基于被照射體X的體表面Xa中的Surface Map分析的、考慮來自填充物53的散射的劑量 分布計(jì)算，這是DMS-PBA法的第I特征。另外。剩余徑跡是指相當(dāng)于質(zhì)子束的運(yùn)動(dòng)能量的 射程。其次，細(xì)化Surface Map，以細(xì)化的各要件(以下，稱為“體素”)為出發(fā)點(diǎn)算出虛 擬地照射的多個(gè)質(zhì)子束(以下，稱為“小射束”)Ba的初始條件。例如，小射束Ba的劑量通 過將設(shè)想向體表面Xa的入射的劑量分布分割為δ函數(shù)形狀來求出(參照?qǐng)D5(a))。并且， 體素中的小射束Ba的尺寸假設(shè)為極小的尺寸。其次，進(jìn)行基于從體表面Xa照射到體內(nèi)的小射束Ba的劑量分布計(jì)算。參照?qǐng)D5 對(duì)基于小射束Ba的劑量分布計(jì)算進(jìn)行概括說明。圖5(a)表示體表面Xa中的劑量的側(cè)方 廓線。如圖5(a)所示，小射束Ba的劑量根據(jù)上述劑量分布的分割來求出。若假設(shè)小射束 (段)Ba照射到體內(nèi)，則各段隨著深入前進(jìn)而擴(kuò)展(參照?qǐng)D5(b))。而且，體內(nèi)的任意深度 的劑量分布根據(jù)各段的相互重疊來導(dǎo)出(參照?qǐng)D5(c))。圖5(c)表示體內(nèi)的劑量的側(cè)方廓 線。通過積算所有小射束Ba，能夠算出體內(nèi)的劑量分布。以上是基于以體表面Xa為出 發(fā)點(diǎn)發(fā)射的小射束Ba的高分辨率的劑量分布計(jì)算，這是DMS-PBA法的第2特征。另外，根 據(jù)以下公式(I)并基于DMS-PBA法具體計(jì)算射束尺寸。[數(shù)I](公式I)
權(quán)利要求
1.一種仿真裝置，設(shè)想帶電粒子束照射到被照射體的情況，將所述帶電粒子束假設(shè)為具有錐形擴(kuò)展的虛擬形狀，并且利用將所述被照射體內(nèi)的所述帶電粒子束的擴(kuò)展導(dǎo)出的劑量分布核，仿真所述被照射體內(nèi)的帶電粒子束的劑量分布，其特征在于，具備 輸入機(jī)構(gòu)，接收包含所述被照射體的物質(zhì)信息及所述帶電粒子束的照射信息的仿真數(shù)據(jù)的輸入 '及 運(yùn)算機(jī)構(gòu)，根據(jù)由所述輸入機(jī)構(gòu)接收的所述仿真數(shù)據(jù)及所述劑量分布核，算出所述被照射體內(nèi)的帶電粒子束的劑量分布， 其中，所述運(yùn)算機(jī)構(gòu)如下操作在所述帶電粒子束的前進(jìn)方向的中途細(xì)化擴(kuò)展至規(guī)定范圍的所述帶電粒子束，且假設(shè)以細(xì)化的位置為出發(fā)點(diǎn)具有錐形擴(kuò)展的多個(gè)虛擬形狀，并且根據(jù)由所述輸入機(jī)構(gòu)接收的所述仿真數(shù)據(jù)和所述帶電粒子束的多個(gè)虛擬形狀，算出所述被照射體內(nèi)的所述帶電粒子束的劑量分布。
2.如權(quán)利要求1所述的仿真裝置，其特征在于， 細(xì)化所述帶電粒子束的位置為所述帶電粒子束即將進(jìn)入所述被照射體之前的位置。
3.如權(quán)利要求1或2所述的仿真裝置，其特征在于， 進(jìn)一步具備輸出機(jī)構(gòu)，所述輸出機(jī)構(gòu)通知由所述運(yùn)算機(jī)構(gòu)算出的所述劑量分布。
4.如權(quán)利要求3所述的仿真裝置，其特征在于， 所述輸出機(jī)構(gòu)對(duì)所述劑量分布進(jìn)行等劑量線化或等劑量面化來進(jìn)行通知。
5.一種帶電粒子束照射裝置，其特征在于， 具備權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的所述仿真裝置。
6.一種仿真方法，設(shè)想帶電粒子束照射到被照射體的情況，將所述帶電粒子束假設(shè)為具有錐形擴(kuò)展的虛擬形狀，并且利用將所述被照射體內(nèi)的所述帶電粒子束的擴(kuò)展導(dǎo)出的劑量分布核，仿真所述被照射體內(nèi)的帶電粒子束的劑量分布，其特征在于，包括 被照射體信息獲取工序，獲取所述被照射體的物質(zhì)信息； 照射信息設(shè)定工序，決定所述帶電粒子束的照射信息 '及 仿真工序，根據(jù)在所述照射信息設(shè)定工序中決定的所述照射信息和所述劑量分布核，在所述帶電粒子束的前進(jìn)方向的中途細(xì)化擴(kuò)展至規(guī)定范圍的所述帶電粒子束，且假設(shè)以細(xì)化的位置為出發(fā)點(diǎn)具有錐形擴(kuò)展的多個(gè)虛擬形狀，并且根據(jù)在所述被照射體信息獲取工序中獲取的所述物質(zhì)信息和所述帶電粒子束的多個(gè)虛擬形狀，算出所述被照射體內(nèi)的帶電粒子束的劑量分布。
7.一種帶電粒子束照射方法，其特征在于， 根據(jù)由權(quán)利要求6所述的仿真方法算出的所述帶電粒子束的劑量分布，照射所述帶電粒子束。
全文摘要
本發(fā)明的目的在于提供一種能夠抑制精確度下降的同時(shí)，減輕運(yùn)算處理的負(fù)擔(dān)來提前算出帶電粒子束的劑量分布的帶電粒子劑量仿真裝置及帶電粒子劑量的仿真方法。所述仿真裝置(3)具備輸入部(31)，接收包含被照射體(X)的物質(zhì)信息及質(zhì)子束(B)的照射信息的仿真數(shù)據(jù)的輸入；及運(yùn)算部(33)，根據(jù)由輸入部(31)接收的仿真數(shù)據(jù)及劑量分布核，算出被照射體(X)內(nèi)的質(zhì)子束(B)的劑量分布，其中，運(yùn)算部(33)如下操作從假設(shè)為到達(dá)體表面的質(zhì)子束(B)制作Surface Map，并且細(xì)化Surface Map來將質(zhì)子束(B)細(xì)化為多個(gè)小射束(Ba)，根據(jù)由輸入部(31)接收的仿真數(shù)據(jù)和多個(gè)小射束(Ba)，算出被照射體(X)內(nèi)的質(zhì)子束(B)的劑量分布。
文檔編號(hào)A61N5/10GK103033841SQ20111029696
公開日2013年4月10日 申請(qǐng)日期2011年9月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月30日
發(fā)明者西尾禎治, 江頭祐亮, 山田學(xué) 申請(qǐng)人:國立癌癥中心, 住友重機(jī)械工業(yè)株式會(huì)社