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雙磁塊腭擴(kuò)展矯治器的制作方法

文檔序號(hào):885760閱讀:220來源:國知局
專利名稱:雙磁塊腭擴(kuò)展矯治器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種口腔矯治器,是用于治療上頌橫向發(fā)育不足或牙弓狹窄患者的雙磁塊腭擴(kuò)展矯治器。
背景技術(shù)
對(duì)于上頌橫向發(fā)育不足或牙弓狹窄的患者,正畸治療最常用的方法為上頌腭擴(kuò)展,通過上頌牙的負(fù)載,將矯形力傳遞至頌面部的各個(gè)骨結(jié)構(gòu),促進(jìn)上頌骨的橫向發(fā)育,擴(kuò)大上頌骨和牙弓寬度?,F(xiàn)有的正畸腭擴(kuò)展多見于快速腭擴(kuò)展和慢速腭擴(kuò)展兩種。快速腭擴(kuò)展雖然能有效的擴(kuò)開骨縫,產(chǎn)生更多的骨骼變化,但其作用方式屬于立即爆炸式,常引起支抗磨牙伸長、 頰側(cè)傾斜及支抗牙牙根吸收等。慢速腭擴(kuò)展常采用弓絲進(jìn)行擴(kuò)弓,力量輕微,作用緩慢,產(chǎn)生的牙效應(yīng)明顯大于骨效應(yīng),因此也較易復(fù)發(fā)。現(xiàn)有的快、慢速擴(kuò)弓裝置都沒有考慮到組織的個(gè)體性差異,也不能對(duì)上頌的不同部位分段擴(kuò)弓,不能實(shí)現(xiàn)不同的臨床要求。目前正畸臨床中腭擴(kuò)展矯治器多為螺旋開打簧式的快速或慢速擴(kuò)弓矯治器,雖然可以達(dá)到增加上頌寬度的目的,但存在上述擴(kuò)弓的缺陷。因此在正畸臨床中需要一種結(jié)構(gòu)簡單而實(shí)用、固位好,并能有效擴(kuò)大腭中縫的腭擴(kuò)展矯治器。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于針對(duì)上述不足之處提供一種雙磁塊腭擴(kuò)展矯治器,具有分段擴(kuò)弓功能,結(jié)構(gòu)簡單、實(shí)用有效。雙磁塊腭擴(kuò)展矯治器是采取以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的雙磁塊腭擴(kuò)展矯治器包括基托、磁塊安裝座、固位帶環(huán)和滑動(dòng)引導(dǎo)裝置,所述基托左右對(duì)稱,設(shè)置有左基托和右基托,在左、右基托的前后對(duì)稱位置分別與前固位帶環(huán)和后固位帶環(huán)相連接,左、右基托中部對(duì)稱設(shè)有前后兩組磁塊安裝座,每組磁塊安裝座是一對(duì)對(duì)稱的中空立方體,在磁塊安裝座內(nèi)裝有磁塊,左、右基托前后相同位置上的磁塊正對(duì)的面磁極相同,同側(cè)基托上的前后兩磁塊之間由連接桿連接;在左、右基托上前后兩組磁塊安裝座之間設(shè)有一組滑動(dòng)引導(dǎo)裝置,所述的滑動(dòng)引導(dǎo)裝置由滑動(dòng)引導(dǎo)桿和鎖扣環(huán)組成,鎖扣環(huán)與連接桿相連接,滑動(dòng)引導(dǎo)桿一端與基托相連接,另一端穿套在對(duì)側(cè)連接桿上的鎖扣環(huán)上,滑動(dòng)引導(dǎo)桿可以沿著鎖扣環(huán)滑動(dòng)。所述的磁塊安裝座、滑動(dòng)引導(dǎo)裝置和左、右基托為整體鑄造制成。所述的磁塊安裝座的形狀與磁塊的大小一致,磁塊材料為釹鐵硼磁塊。 所述的磁塊通過自凝塑膠包埋固定在磁塊安裝座上。所述的前后相同位置上的磁塊之間的間距為l_2mm。與傳統(tǒng)擴(kuò)弓裝置相比,雙磁塊腭擴(kuò)展矯治器結(jié)合了快速腭擴(kuò)展和慢速腭擴(kuò)展的優(yōu)點(diǎn),具體為采用快速腭擴(kuò)展的力值,但又結(jié)合慢速腭擴(kuò)展的作用方式,通過磁塊所產(chǎn)生的矯形力作用于腭中縫和上頌牙槽骨,更具有生理效應(yīng),復(fù)發(fā)少,對(duì)組織的創(chuàng)傷小,能有效實(shí)現(xiàn)個(gè)體化的腭擴(kuò)展;釹鐵硼的獨(dú)特磁場效應(yīng)能促進(jìn)組織的改建,最大限度刺激骨效應(yīng)。此外, 該矯治器采用整體鑄造式,舒適感好,固位可靠,作用力持續(xù),治療效果明顯,使本實(shí)用新型具有較好的臨床應(yīng)用前景。

以下將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明圖1是本實(shí)用新型雙磁塊腭擴(kuò)展矯治器的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實(shí)用新型雙磁塊腭擴(kuò)展矯治器的使用狀態(tài)示意圖。
具體實(shí)施方式
參照附圖1 2,本實(shí)用新型雙磁塊腭擴(kuò)展矯治器包括基托、磁塊安裝座5、固位帶環(huán)和滑動(dòng)引導(dǎo)裝置,所述基托左右對(duì)稱,設(shè)置有左基托1和右基托2,在左、右基托的前后對(duì)稱位置分別與前固位帶環(huán)3和后固位帶環(huán)4相連接,左、右基托中部對(duì)稱設(shè)有前后兩組磁塊安裝座5,每組磁塊安裝座5由一對(duì)對(duì)稱的中空立方體組成,在磁塊安裝座內(nèi)裝有磁塊6, 左、右基托前后相同位置上的磁塊6正對(duì)的面磁極相同,同側(cè)基托上的前后兩磁塊6之間由連接桿7連接;在左、右基托上前后兩組磁塊安裝座5之間設(shè)有一組滑動(dòng)引導(dǎo)裝置,所述的滑動(dòng)引導(dǎo)裝置由一滑動(dòng)引導(dǎo)桿8和一鎖扣環(huán)9組成,鎖扣環(huán)9與連接桿7相連接,滑動(dòng)引導(dǎo)桿8 —端與基托相連接,另一端穿套在對(duì)側(cè)連接桿7上的鎖扣環(huán)9上,滑動(dòng)引導(dǎo)桿8可以沿著鎖扣環(huán)9滑動(dòng)。所述的磁塊安裝座5、滑動(dòng)引導(dǎo)裝置和左、右基托為整體鑄造制成。所述的磁塊安裝座5的形狀與磁塊的大小一致,磁塊材料為釹鐵硼磁塊。所述的磁塊通過自凝塑膠包埋固定在磁塊安裝座上。所述的基托前后相同位置上的磁塊6之間的間距為l_2mm。本實(shí)用新型使用時(shí),將前固位帶環(huán)3粘結(jié)于第一前磨牙10上,將后固位帶環(huán)4粘結(jié)于第一磨牙11上,兩組磁塊安裝座5分別位于前段牙弓12和后段牙弓13,充分利用磁塊間的斥力作用進(jìn)行前、后段牙弓同時(shí)腭擴(kuò)展,以磁塊間距的增加作為牙弓擴(kuò)大的標(biāo)準(zhǔn),既提高了腭擴(kuò)展的效果,又能有效的實(shí)現(xiàn)上頌牙弓前部和后部的分段擴(kuò)弓。通過控制磁塊的距離來控制腭擴(kuò)展的效果,解決了現(xiàn)有臨床常用擴(kuò)弓裝置不能分段擴(kuò)弓的局限。在腭擴(kuò)展過程中,滑動(dòng)引導(dǎo)桿8和一鎖扣環(huán)9可以引導(dǎo)磁塊間的斥力向兩側(cè)與腭中縫垂直方向傳遞,有效地增加了擴(kuò)大腭中縫的水平分力。釹鐵硼的獨(dú)特磁場效應(yīng)能促進(jìn)組織的改建,可以改善血液循環(huán),抑制腫脹、滲出,加快組織的修復(fù)并能最大限度刺激骨效應(yīng)。
權(quán)利要求1.一種雙磁塊腭擴(kuò)展矯治器,其特征在于包括基托、磁塊安裝座、固位帶環(huán)和滑動(dòng)引導(dǎo)裝置,所述基托左右對(duì)稱,設(shè)置有左基托和右基托,在左、右基托的前后對(duì)稱位置分別與前固位帶環(huán)和后固位帶環(huán)相連接,左、右基托中部對(duì)稱設(shè)有前后兩組磁塊安裝座,每組磁塊安裝座由一對(duì)對(duì)稱的中空立方體組成,在磁塊安裝座內(nèi)裝有磁塊,左、右基托前后相同位置上的磁塊正對(duì)的面磁極相同,同側(cè)基托上的前后兩磁塊之間由連接桿連接;在左、右基托上前后兩組磁塊安裝座之間設(shè)有一組滑動(dòng)引導(dǎo)裝置,所述的滑動(dòng)引導(dǎo)裝置由一滑動(dòng)引導(dǎo)桿和一鎖扣環(huán)組成,鎖扣環(huán)與連接桿相連接,滑動(dòng)引導(dǎo)桿一端與基托相連接,另一端穿套在對(duì)側(cè)連接桿上的鎖扣環(huán)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙磁塊腭擴(kuò)展矯治器,其特征在于所述的磁塊安裝座、滑動(dòng)引導(dǎo)裝置和左、右基托為整體鑄造。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙磁塊腭擴(kuò)展矯治器,其特征在于所述的磁塊安裝座的形狀與磁塊的大小一致,磁塊材料為釹鐵硼磁塊。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁力腭擴(kuò)展矯治器,其特征在于所述的磁塊通過自凝塑膠包埋固定在磁塊安裝座上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙磁塊腭擴(kuò)展矯治器,其特征在于安裝在左、右基托前后相同位置上的磁塊之間的間距為l_2mm。
專利摘要本實(shí)用新型雙磁塊腭擴(kuò)展矯治器涉及一種口腔矯治器,特別是應(yīng)用于治療上頜橫向發(fā)育不足或牙弓狹窄的患者。雙磁塊腭擴(kuò)展矯治器包括基托、磁塊安裝座、固位帶環(huán)和滑動(dòng)引導(dǎo)裝置,所述基托左右對(duì)稱,設(shè)置有左基托和右基托,在左、右基托的前后對(duì)稱位置分別與前固位帶環(huán)和后固位帶環(huán)相連接,左、右基托中部對(duì)稱設(shè)有前后兩組磁塊安裝座,每組磁塊安裝座由一對(duì)對(duì)稱的中空立方體組成,在磁塊安裝座內(nèi)裝有磁塊,左、右基托前后相同位置上的磁塊正對(duì)的面磁極相同,同側(cè)基托上的前后兩磁塊之間由連接桿連接;在左、右基托上前后兩磁塊安裝座之間設(shè)有一組滑動(dòng)引導(dǎo)裝置,所述的滑動(dòng)引導(dǎo)裝置由一滑動(dòng)引導(dǎo)桿和一鎖扣環(huán)組成。
文檔編號(hào)A61C7/00GK202136430SQ201120210338
公開日2012年2月8日 申請(qǐng)日期2011年6月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月21日
發(fā)明者吳拓江, 李煌, 馬巧玲 申請(qǐng)人:吳拓江, 李煌, 馬巧玲
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