專利名稱：足底按摩裝置的制作方法
技術(shù)領域：
本實用新型涉及醫(yī)療保健領域，尤其涉及一種足底按摩裝置。
背景技術(shù)：
眾所周知，足底集中了人體大量的穴位，依據(jù)中醫(yī)理論，按摩足底相關的穴位或反射區(qū)可以起到保健甚至治療疾病的功效。因此，市場上出現(xiàn)了眾多的足底按摩器。這些足底按摩器基本可以分為自動式和電動式兩大類。自動式，即依靠人給予的動カ通過足底按摩器的反作用カ對足底進行按摩，這類裝置大多結(jié)構(gòu)簡單，按摩方式単一，對足底的穴位或反射區(qū)的刺激較小，按摩的效果有限。而電動式，即為依靠電カ驅(qū)動對足底進行按摩，這種裝置的按摩方式多祥化，對足底的穴位或反射區(qū)的刺激也較大，按摩效果較好，但是由于其依靠電カ驅(qū)動，因此對使用的環(huán)境也提出了要求，増加了電路的結(jié)構(gòu)，也使得足底按摩器整 體體積較大，使用不夠簡便。

實用新型內(nèi)容本實用新型的主要目的是提供ー種結(jié)構(gòu)簡單、使用方便且足底的穴位或反射區(qū)的刺激較大的足底按摩裝置。本實用新型提供一種足底按摩裝置，包括固定座、轉(zhuǎn)動件和設置在轉(zhuǎn)動件上的足底按摩件，其中，所述足底按摩件包括支撐柱和按摩頭，所述按摩頭呈一端封閉的管狀設置，所述支撐柱收容在所述按摩頭內(nèi)，所述支撐柱的側(cè)壁表面設有螺旋狀凹槽，所述按摩頭的內(nèi)表面設置有與所述螺旋狀凹槽適配的螺紋凸起，所述按摩件還包括纏繞所述支撐柱、其一端與所述按摩頭底部相抵的復位彈簧；所述固定座呈底部封閉的管狀設置，所述轉(zhuǎn)動件收容在所述固定座內(nèi)，繞所述固定座的內(nèi)壁表面一周設置有波浪狀凹槽，所述轉(zhuǎn)動件的外表面設置有至少I個與所述波浪狀凹槽適配的限位凸起，所述固定座內(nèi)部設置有與轉(zhuǎn)動件一起轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動盤，所述足底按摩件固定在轉(zhuǎn)動盤上。優(yōu)選地，所述按摩頭外表面呈球面設置。優(yōu)選地，所述按摩頭外表面設置有若干凸起和/或凹陷。優(yōu)選地，所述波浪狀凹槽呈規(guī)則的周期排布，且一波峰與其前ー個波谷之間部分的坡度大于該波峰與其后ー個波谷之間部分的坡度。優(yōu)選地，所述限位凸起的下表面呈斜面設置。本實用新型采用螺旋狀凹槽與螺紋凸起配合，波浪狀凹槽與限位凸起配合，使得按摩頭不但可以上下運動而且可以旋轉(zhuǎn)，增強了對足底穴位或反射區(qū)的刺激；同時還可以隨轉(zhuǎn)動件的轉(zhuǎn)動而轉(zhuǎn)動，避免了按摩頭持續(xù)按摩ー個位置后足底產(chǎn)生的疼痛感，而且還可以模仿推拿按摩手法，使按摩方式更多樣化。

[0011]圖I為本實用新型足底按摩裝置一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實用新型足底按摩裝置一實施例的俯視圖；圖3為本實用新型足底按摩裝置一實施例中足底按摩件的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本實用新型 足底按摩裝置一實施例中支撐柱的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本實用新型足底按摩裝置一實施例中固定件的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；圖6為本實用新型足底按摩裝置一實施例中固定件的波浪狀凹槽的結(jié)構(gòu)示意圖；圖7為本實用新型足底按摩裝置一實施例中轉(zhuǎn)動件的限位凸起的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。本實用新型目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結(jié)合實施例，參照附圖做進ー步說明。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖及具體實施例就本實用新型的技術(shù)方案做進ー步的說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。參照圖I和圖2，圖I為本實用新型足底按摩裝置一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實用新型足底按摩裝置一實施例的俯視圖。在本實施例中，足底按摩裝置20包括固定座21、轉(zhuǎn)動件22和設置在轉(zhuǎn)動件22上的足底按摩件10，固定座21呈底部封閉的管狀設置，轉(zhuǎn)動件22收容在固定座21內(nèi)，繞所述固定座21的內(nèi)壁表面一周設置有波浪狀凹槽211，轉(zhuǎn)動件22的外表面設置有至少I個與波浪狀凹槽211適配的限位凸起221，固定座21內(nèi)部設置有與轉(zhuǎn)動件21 —起轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動盤，轉(zhuǎn)動件21可相對于轉(zhuǎn)動盤上下移動，足底按摩件10固定在轉(zhuǎn)動盤上。參照圖3和圖4，圖2為本實用新型足底按摩裝置一實施例中足底按摩件的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實用新型足底按摩裝置一實施例中支撐柱的結(jié)構(gòu)示意圖。上述足底按摩件10包括支撐柱11和按摩頭12，按摩頭12呈一端封閉的管狀設置，支撐柱11收容在按摩頭12的空腔內(nèi)。支撐柱11設置在ー個直徑大于支撐柱11的支撐座上，支撐柱11的側(cè)壁表面設有螺旋狀凹槽111，按摩頭12的內(nèi)表面設置有與螺旋狀凹槽111適配的螺紋凸起121，螺紋凸起121與螺旋狀凹槽111配合可使按摩頭12沿軸向轉(zhuǎn)動，并且還在其軸向方向上發(fā)生位移。按摩件10還包括纏繞在支撐柱11上的復位彈簧13，復位彈簧13的一端與按摩頭12底部相抵，另一端與撐柱11的支撐座相抵。當腳踩在足底按摩件10上并向下用カ時，在螺旋狀凹槽111與螺紋凸起121的配合下，按摩頭12將沿軸向轉(zhuǎn)動，并且向下運動，此時復位彈簧13被壓縮。當腳對足底按摩件10的力撤去時，復位彈簧13弾性恢復，在復位彈簧13的作用下，按摩頭12將沿軸向轉(zhuǎn)動，此次轉(zhuǎn)動方向與前一次轉(zhuǎn)動方向相反，并且向上運動。如此反復的踩踏足底按摩件10就可對足底進行按摩，而且可以轉(zhuǎn)動的按摩頭12對足底的穴位或反射區(qū)的刺激較大，按摩的效果比較明顯，同時按摩的力度還可通過對足底按摩件10踩踏的力度進行調(diào)整。上述按摩頭12的頂部外表面呈球面設置，可以增強按摩時的舒適感。上述按摩頭12的外表面設置有若干顆粒狀的凸起和/或凹陷，可以增加按摩頭12的外表面的粗糙程度，增強按摩頭12對足底的穴位或反射區(qū)的刺激程度。參照圖5和圖6，圖5為本實用新型足底按摩裝置一實施例中固定件的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；圖6為本實用新型足底按摩裝置一實施例中固定件的波浪狀凹槽的結(jié)構(gòu)示意圖.[0028]在本實施例中，波浪狀凹槽211呈規(guī)則的周期排布，并且波浪狀凹槽211的一波峰與該波峰前一個波谷之間部分的坡度大于該波峰與該波峰后一個波谷之間部分的坡度。波峰兩側(cè)坡度的不同，可以使限位凸起221運動到波峰時，更容易向坡度較小的方向運動，如此可以使轉(zhuǎn)動件22做圓周自轉(zhuǎn)運動。參照圖7，圖7為本實用新型足底按摩裝置一實施例中轉(zhuǎn)動件的限位凸起的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。在本實施例中，限位凸起221的下表面呈斜面設置，配合上述實施例中的波浪狀凹槽211，使得轉(zhuǎn)動件22更容易做圓周自轉(zhuǎn)運動。當腳踩在足底按摩裝置20上并向下用カ時，在波浪狀凹槽211與限位凸起221的配合下，轉(zhuǎn)動件22可以相對于固定座21轉(zhuǎn)動并且在軸向方向發(fā)生位移，此時復位彈簧13被壓縮。當撤去腳對足底按摩件20向的カ時，復位彈簧13弾性恢復，轉(zhuǎn)動件22又將相對于固定座21轉(zhuǎn)動并且在軸向方向發(fā)生位移。如此反復，使得轉(zhuǎn)動件22上設置的足底按摩 件10不但可以自轉(zhuǎn)，而且還可以隨轉(zhuǎn)動件22的轉(zhuǎn)動而轉(zhuǎn)動，避免了足底按摩件10持續(xù)按摩ー個位置后，足底產(chǎn)生的疼痛感，而且還可以模仿推拿按摩手法，使足底按摩件20的按摩方式更多樣化。本實用新型采用螺旋狀凹槽111與螺紋凸起121配合，波浪狀凹槽211與限位凸起221配合，使得按摩頭12不但可以上下運動而且可以旋轉(zhuǎn)，增強了對足底穴位或反射區(qū)的刺激；同時還可以隨轉(zhuǎn)動件22的轉(zhuǎn)動而轉(zhuǎn)動，避免了按摩頭12持續(xù)按摩ー個位置后足底產(chǎn)生的疼痛感，而且還可以模仿推拿按摩手法，使按摩方式更多樣化。以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，或直接或間接運用在其他相關的技術(shù)領域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種足底按摩裝置，其特征在于，包括固定座、轉(zhuǎn)動件和設置在轉(zhuǎn)動件上的足底按摩件，其中，所述足底按摩件包括支撐柱和按摩頭，所述按摩頭呈一端封閉的管狀設置，所述支撐柱收容在所述按摩頭內(nèi)，所述支撐柱的側(cè)壁表面設有螺旋狀凹槽，所述按摩頭的內(nèi)表面設置有與所述螺旋狀凹槽適配的螺紋凸起，所述按摩件還包括纏繞所述支撐柱、其一端與所述按摩頭底部相抵的復位彈簧； 所述固定座呈底部封閉的管狀設置，所述轉(zhuǎn)動件收容在所述固定座內(nèi)，繞所述固定座的內(nèi)壁表面一周設置有波浪狀凹槽，所述轉(zhuǎn)動件的外表面設置有至少I個與所述波浪狀凹槽適配的限位凸起，所述固定座內(nèi)部設置有與轉(zhuǎn)動件一起轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動盤，所述足底按摩件固定在轉(zhuǎn)動盤上。
2.如權(quán)利要求I所述的足底按摩裝置，其特征在于，所述按摩頭外表面呈球面設置。
3.如權(quán)利要求2所述的足底按摩裝置，其特征在于，所述按摩頭外表面設置有若干凸起和/或凹陷。
4.如權(quán)利要求I所述的足底按摩裝置，其特征在于，所述波浪狀凹槽呈規(guī)則的周期排布，且一波峰與其前ー個波谷之間部分的坡度大于該波峰與其后ー個波谷之間部分的坡度。
5.如權(quán)利要求I所述的足底按摩裝置，其特征在于，所述限位凸起的下表面呈斜面設置。
專利摘要本實用新型足底按摩裝置采用螺旋狀凹槽與螺紋凸起配合，波浪狀凹槽與限位凸起配合，使得按摩頭不但可以上下運動而且可以旋轉(zhuǎn)，增強了對足底穴位或反射區(qū)的刺激；同時還可以隨轉(zhuǎn)動件的轉(zhuǎn)動而轉(zhuǎn)動，避免了按摩頭持續(xù)按摩一個位置后足底產(chǎn)生的疼痛感，而且還可以模仿推拿按摩手法，使按摩方式更多樣化。
文檔編號A61H39/04GK202409460SQ20112053368
公開日2012年9月5日 申請日期2011年12月19日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月19日
發(fā)明者謝光盛 申請人:謝光盛