專利名稱:磁共振成像裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明的實施方式涉及磁共振成像裝置。
背景技術(shù):
以往,作為與磁共振成像裝置有關(guān)的技術(shù),有如下方法邊使放置有被檢體的頂板移動,邊選擇激勵與頂板的移動方向垂直的截面,來反復(fù)收集磁共振信號,由此在被檢體的體軸方向生成大范圍的圖像。另外,在使用具有多個線圈元件的陣列線圈)作為接收磁共振信號的接收線圈的情況下,存在使用該陣列線圈來收集磁共振信號,并根據(jù)收集到的磁共振信號來測量接收線圈的位置的方法。現(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻1JP特開平10-179551號公報專利文獻2美國專利第6794872號說明書
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的技術(shù)問題但是,現(xiàn)有技術(shù)中,在進行被檢體的廣域拍攝和接收線圈的位置測量的情況下,需要對其單獨執(zhí)行,檢查時間變長。用于解決技術(shù)問題的手段實施方式的磁共振成像裝置包括陣列線圈、收集控制部、廣域圖像生成部和位置測量部。陣列線圈是排列分別接收從被檢體產(chǎn)生的磁共振信號的多個線圈元件而形成的。 收集控制部邊改變裝載有所述陣列線圈的所述被檢體的選擇激勵位置,邊收集磁共振信號。廣域圖像生成部基于由所述收集控制部收集到的磁共振信號,來生成所述被檢體的廣域圖像。位置測量部基于所述廣域圖像的生成中使用的磁共振信號的強度和收集該磁共振信號時的所述頂板的位置,來測量所述線圈元件的位置。
圖1是表示第一實施方式的MRI裝置的整體結(jié)構(gòu)的圖;圖2是表示第一實施方式的陣列線圈的一例的圖;圖3是表示第一實施方式的計算機系統(tǒng)的詳細結(jié)構(gòu)的功能框圖;圖4是表示由第一實施方式的線圈位置信息存儲部存儲的線圈位置信息的一例的圖;圖5是用于說明由第一實施方式的數(shù)據(jù)收集控制部加以執(zhí)行的數(shù)據(jù)收集的圖;圖6是表示由第一實施方式的廣域圖像生成部生成的廣域圖像的一例的圖;圖7是表示由第一實施方式的分布數(shù)據(jù)(profile data)生成部生成的線圈元件的分布數(shù)據(jù)的一例的圖8是表示由第一實施方式的分布數(shù)據(jù)生成部生成的WB線圈的分布數(shù)據(jù)的一例的圖;圖9是用于說明第一實施方式的線圈位置測量部進行的陣列線圈的位置測量的圖;圖10是表示第一實施方式的MRI裝置進行的處理的流程的流程圖;圖11是表示第二實施方式的計算機系統(tǒng)的詳細結(jié)構(gòu)的功能框圖;圖12是表示由第二實施方式的圖像數(shù)據(jù)生成部生成的線圈元件80的陣列線圈圖像的一例的圖;圖13是表示由第二實施方式的圖像數(shù)據(jù)生成部生成的WB線圈圖像的一例的圖;圖14是表示第二實施方式的MRI裝置進行的處理的流程的流程圖;圖15是用于說明由第三實施方式的數(shù)據(jù)收集控制部執(zhí)行的數(shù)據(jù)收集的圖。
具體實施例方式下面,參考附圖,來詳細說明磁共振成像裝置的實施方式。下面所示的實施方式中,將磁共振成像裝置稱作MRI (Magnetic Resonance Imaging)裝置。將磁共振信號稱作 MR信號。(第一實施方式)首先,說明第一實施方式。圖1是表示第一實施方式的MRI裝置的整體結(jié)構(gòu)的圖。 如圖1所示,第一實施方式的MRI裝置100包括靜磁場磁體1、梯度磁場線圈2、梯度磁場電源3、診視床4、診視床控制部5、全身用(Whole Body :WB)線圈6、發(fā)送部7、陣列線圈8a Se、接收部9和計算機系統(tǒng)10。靜磁場磁體1形成為中空的圓筒形狀,且在內(nèi)部空間產(chǎn)生均勻的靜磁場。作為該靜磁場磁體1,例如使用永久磁體、超傳導(dǎo)磁體等。梯度磁場線圈2形成為中空的圓筒形狀,且被配置在靜磁場磁體1的內(nèi)側(cè)。該梯度磁場線圈2是通過組合與彼此正交的X,Y,Z各軸對應(yīng)的3個線圈而形成的。這3個線圈從后述的梯度磁場電源3單獨地接受電流供給,并沿X,Y,Z各軸產(chǎn)生磁場強度變化的梯度磁場。這里,Z軸方向與靜磁場為同方向。X軸方向為與Z軸方向垂直且水平的方向。Y軸方向是與Z軸方向垂直的上下方向。這里,由梯度磁場線圈2產(chǎn)生的X,Y,Z各軸的梯度磁場例如分別對應(yīng)于讀取用梯度磁場Gr、相位編碼用梯度磁場Ge和片(slice)選擇用梯度磁場(is。讀取用梯度磁場Gr 用于根據(jù)空間位置使MR信號的頻率變化。相位編碼用梯度磁場Ge用于根據(jù)空間位置,使 MR信號的相位變化。片選擇用梯度磁場用于任意決定攝像截面。梯度磁場電源3在計算機系統(tǒng)10進行的控制下,按照根據(jù)攝像部位及攝像目的而設(shè)定的脈沖序列,向梯度磁場線圈2供給電流。診視床4具有放置被檢體P的頂板如,在后述的診視床控制部5進行的控制下,在載置有被檢體P的狀態(tài)下,將頂板如插入到梯度磁場線圈2的空腔(攝像口)內(nèi)。通常, 將該診視床4設(shè)置為頂板如的長度方向與靜磁場磁體1的中心軸平行。診視床控制部5在計算機系統(tǒng)10進行的控制下,驅(qū)動診視床4使頂板如向長度方向和上下方向移動。
WB線圈6被配置在被檢體P的周圍,接收從被檢體P產(chǎn)生的MR信號。例如,WB線圈6配置在梯度磁場線圈2的內(nèi)側(cè),通過從發(fā)送部7接受高頻脈沖的供給而向被檢體P施加高頻磁場,從而選擇激勵被檢體P的任意截面。WB線圈6接收在高頻磁場的影響下從被檢體P產(chǎn)生的MR信號。發(fā)送部7在計算機系統(tǒng)10進行的控制下,按照根據(jù)攝像部位及攝像目的而設(shè)定的脈沖序列,向WB線圈6發(fā)送與拉莫爾進動(Larmor)頻率對應(yīng)的高頻脈沖。陣列線圈8a Se被裝載在被檢體上,接收從被檢體P產(chǎn)生的MR信號。各陣列線圈是排列分別接收從被檢體P產(chǎn)生的MR信號的多個線圈元件而形成的。并且,各線圈元件在接收MR信號時,將接收到的MR信號向接收部9輸出。對攝像對象的每個部位準備陣列線圈8a Se,并分別配置在攝像對象的部位上。 例如陣列線圈8a用于頭部攝像,被配置在被檢體P的頭部。陣列線圈8b和8c用于脊椎攝像,被配置在被檢體P的背部和頂板如之間。陣列線圈8d和Se用于腹部攝像,被配置在被檢體的腹側(cè)。這里,說明陣列線圈8a Se的一例。圖2是表示第一實施方式的陣列線圈8b的一例的圖。這里,以作為脊椎用線圈的陣列線圈8b為例來加以說明。如圖2所示,例如陣列線圈8b具有排列成3列X4行的12個線圈元件80。陣列線圈中含有的線圈元件的數(shù)目并不限于12個,可根據(jù)攝像對象的部位的大小或形狀,對每個陣列線圈排列適當數(shù)目的線圈元件。本實施方式中,對于各陣列線圈,在陣列線圈的任意位置上定義代表位置。該代表位置用于將陣列線圈具有的各線圈元件的位置作為相對位置加以設(shè)置。例如,圖2所示的陣列線圈8b中,在陣列線圈的中心位置上定義了代表位置81。 接收部9在計算機系統(tǒng)10進行的控制下,根據(jù)由操作者基于攝像部位及攝像目的而設(shè)定的脈沖序列,檢測從WB線圈6和陣列線圈8a Se輸出的MR信號。接收部9將檢測出的MR信號數(shù)字化,來生成原始數(shù)據(jù),并將所生成的原始數(shù)據(jù)發(fā)送到計算機系統(tǒng)10。接收部9具有用于接收從WB線圈6和陣列線圈8a Se具有的各線圈元件輸出的MR信號的多個接收信道。并且,接收部9在由計算機系統(tǒng)10通知了用于攝像的線圈元件的情況下,對所通知的線圈元件分配接收信道,使得從所通知的線圈元件輸出的MR信號被接收。由此,例如,接收部9可以切換WB線圈6和陣列線圈8a Se來接收MR信號。接收部9還具有合成由1個陣列線圈具有的多個線圈元件中的、操作者選出的2 個以上的線圈元件接收到的MR信號的功能。計算機系統(tǒng)10進行MRI裝置100的整體控制和數(shù)據(jù)收集、圖像重構(gòu)等。該計算機系統(tǒng)10具有接口部11、數(shù)據(jù)收集部12、數(shù)據(jù)處理部13、存儲部14、顯示部15、輸入部16和控制部17。接口部11與梯度磁場電源3、診視床控制部5、發(fā)送部7和接收部9相連,控制在這些連接的各部件與計算機系統(tǒng)10之間交換的信號的輸入輸出。數(shù)據(jù)收集部12經(jīng)接口部11收集從接收部9發(fā)送的原始數(shù)據(jù)。并且,數(shù)據(jù)收集部 12將所收集到的原始數(shù)據(jù)存儲到存儲部14中。數(shù)據(jù)處理部13通過對存儲部14中存儲的原始數(shù)據(jù)實施后處理即傅立葉變換等重構(gòu)處理,來生成被檢體P內(nèi)的所希望的核自旋的頻譜數(shù)據(jù)或圖像數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)處理部13將所生成的各種數(shù)據(jù)貯存到存儲部14中。后面詳細說明該數(shù)據(jù)處理部13。存儲部14按照每個被檢體P存儲由數(shù)據(jù)收集部12收集到的原始數(shù)據(jù)及由數(shù)據(jù)處理部13生成的數(shù)據(jù)等。后面詳細說明該存儲部14。顯示部15顯示由數(shù)據(jù)處理部13生成的頻譜數(shù)據(jù)或圖像數(shù)據(jù)等各種信息。作為該顯示部15,可使用液晶表示器等顯示設(shè)備。輸入部16從操作者受理各種操作及信息輸入。作為該輸入部16,可適當使用鼠標或跟蹤球等指示設(shè)備、模式切換開關(guān)等選擇設(shè)備、或鍵盤等輸入設(shè)備??刂撇?7具有未圖示的CPU(中央處理單元)及存儲器等,通過控制上述的各功能部來統(tǒng)一控制MRI裝置100。后面詳細說明該控制部17。下面,說明本實施方式的MRI裝置100的整體結(jié)構(gòu)。在這種結(jié)構(gòu)下,本實施方式中, 計算機系統(tǒng)10邊使放置有裝載了陣列線圈8a Se的被檢體P的頂板如連續(xù)移動,邊反復(fù)選擇激勵與頂板如的移動方向垂直的截面而收集MR信號。計算機系統(tǒng)10基于收集到的MR信號,生成被檢體P的廣域圖像,并且基于根據(jù)廣域圖像的生成中所用的MR信號的強度和收集到MR信號時的頂板如的位置來測量線圈元件8a Se的位置。S卩,本實施方式的MRI裝置100使用在1次頂板移動中收集到的同一 MR信號,分別進行被檢體的廣域攝像和接收線圈的位置測量。因此,根據(jù)本實施方式,在分別進行被檢體的廣域攝像和接收線圈的位置測量的情況下,減少了使診視床移動的次數(shù),所以可以縮短檢查時間。下面,以計算機系統(tǒng)10的功能為中心,來說明該MRI裝置100的細節(jié)。本實施方式中,以使用陣列線圈8b來進行廣域攝像和線圈元件的位置測量的情形為例來加以說明, 但是在使用其他陣列線圈的情況下,也可同樣進行廣域攝像和線圈元件的位置測量。圖3是表示第一實施方式的計算機系統(tǒng)10的詳細結(jié)構(gòu)的功能框圖。圖3表示圖 1所示的計算機系統(tǒng)10具有的數(shù)據(jù)處理部13、存儲部14和控制部17的結(jié)構(gòu)。如圖3所示,存儲部14具有原始數(shù)據(jù)存儲部14a、陣列線圈數(shù)據(jù)存儲部14b、WB線圈數(shù)據(jù)存儲部14c、校正數(shù)據(jù)存儲部14d和線圈位置信息存儲部14e。原始數(shù)據(jù)存儲部1 按照每個被檢體P存儲由數(shù)據(jù)收集部12收集到的原始數(shù)據(jù)。陣列線圈數(shù)據(jù)存儲部14b存儲基于由陣列線圈8a Se接收到的MR信號生成的分布數(shù)據(jù)。由后述的分布數(shù)據(jù)生成部1 生成該分布數(shù)據(jù)。WB線圈數(shù)據(jù)存儲部14c存儲基于由WB線圈6接收到的MR信號而生成的分布數(shù)據(jù)。由后述的分布數(shù)據(jù)生成部13b生成該分布數(shù)據(jù)。校正數(shù)據(jù)存儲部14d存儲校正數(shù)據(jù),該校正數(shù)據(jù)是基于由WB線圈6接收到的MR 信號的強度來校正由各線圈元件收集到的MR信號中的被檢體P的部分性狀不同引起的信號強度的變動后得到的數(shù)據(jù)。由后述的數(shù)據(jù)校正部13c生成該校正數(shù)據(jù)。線圈位置信息存儲部He存儲表示以陣列線圈8a Se中分別設(shè)定的代表位置為基準的、各線圈元件的物理位置的線圈位置信息。圖4是表示由第一實施方式的線圈位置信息存儲部14e存儲的線圈位置信息的一例的圖。如圖4所示,例如線圈位置信息存儲部 14e將使“線圈名”、“陣列線圈外尺寸”、“元件序號”、“元件外尺寸”、“相對位置”相對應(yīng)的信息作為線圈位置信息加以存儲。線圈名是用于唯一識別陣列線圈的種類的識別信息。例如在圖4的例子中,“陣列線圈Α”表示用于頭部攝像的陣列線圈8a?!瓣嚵芯€圈B”表示用于脊椎攝像的陣列線圈8b 和Sc?!瓣嚵芯€圈C”表示用于腹部攝像的陣列線圈8d和Se。陣列線圈外尺寸是表示陣列線圈的外尺寸的信息。陣列線圈的外尺寸用x,y,z軸方向各自的長度表示。例如在圖4的例子中,表示陣列線圈B的X軸方向的外尺寸為520mm, y軸方向的外尺寸為50mm,ζ軸方向的外尺寸為420mm。元件序號是用于按照每個陣列線圈唯一識別陣列線圈具有的線圈元件的序號。例如在圖4的例子中,陣列線圈B表示具有“ 1” “ 12”這12個線圈元件。元件外尺寸是表示各陣列線圈具有的各線圈元件的外尺寸的信息。各線圈元件的外尺寸用X,1,Z軸方向各自的長度表示。例如在圖4的例子中,表示陣列線圈B具有的各線圈元件的χ軸方向的外尺寸是110mm,y軸方向的外尺寸是10mm,ζ軸方向的外尺寸是 120mmo相對位置是表示以陣列線圈上設(shè)置的代表位置為基準的、線圈元件的物理位置的信息。例如用以在陣列線圈的任意位置上設(shè)置的代表位置為原點的情況下的x,y,z軸方向的相對坐標(χ,y,ζ)表示相對位置。例如在圖4的例子中,表示陣列線圈B具有的線圈元件序號為“1”的線圈元件的相對位置是(-140,0,195),同一陣列線圈B具有的線圈元件序號為“2”的線圈元件的相對位置是(0,0,195)?;氐綀D3的說明,控制部17具有數(shù)據(jù)收集控制部17a。數(shù)據(jù)收集控制部17a基于由操作者設(shè)定的攝像條件來生成脈沖序列,并根據(jù)所生成的脈沖序列來控制梯度磁場電源3、診視床控制部5、發(fā)送部7、和接收部9,從而從被檢體 P收集MR信號。這里所說的脈沖序列是指梯度磁場電源3向梯度磁場線圈2供給的電源的強度及供給電源的定時、發(fā)送部7向WB線圈6發(fā)送的高頻脈沖的強度及發(fā)送定時、接收部 9檢測MR信號的定時等表示用于執(zhí)行被檢體P的掃描的順序的信息。本實施方式中,數(shù)據(jù)收集控制部17a邊使放置有裝載了陣列線圈8b的被檢體P的頂板如連續(xù)移動,邊反復(fù)選擇激勵與頂板如的移動方向垂直的截面而收集MR信號。圖5是用于說明由第一實施方式的數(shù)據(jù)收集控制部17a執(zhí)行的數(shù)據(jù)收集的圖。如圖5所示,具體來說,數(shù)據(jù)收集控制部17a沿Z軸方向連續(xù)移動放置有裝載了陣列線圈8b 的被檢體P的頂板如。這里,將被檢體P放置在頂板如上,使其體軸沿著Z軸方向。并且, 數(shù)據(jù)收集控制部17a邊使頂板如移動,邊反復(fù)執(zhí)行選擇激勵與頂板如的移動方向垂直的軸向截面AX而收集MR信號的脈沖序列。 本實施方式中,數(shù)據(jù)收集控制部17a收集對應(yīng)于與頂板如的移動方向垂直的一維方向(R0(Read Out)方向)的MR信號。例如數(shù)據(jù)收集控制部17a通過重復(fù)執(zhí)行一維的行掃描(line scan)的脈沖序列,來收集與X軸方向?qū)?yīng)的MR信號。數(shù)據(jù)收集控制部17a每次收集MR信號時,控制接收部9,邊交替切換陣列線圈8b和WB線圈6,邊反復(fù)進行數(shù)據(jù)收集?;氐綀D3的說明,數(shù)據(jù)處理部13具有廣域圖像生成部13a、分布數(shù)據(jù)生成部13b、 數(shù)據(jù)校正部13c和線圈位置測量部13d。廣域圖像生成部13a基于由數(shù)據(jù)收集控制部17a收集到的MR信號,來生成被檢體 P的廣域圖像。具體來說,廣域圖像生成部13a從原始數(shù)據(jù)存儲部1 中讀取基于由陣列線圈8b具有的各線圈元件接收到的MR信號的原始數(shù)據(jù),并根據(jù)所讀取的原始數(shù)據(jù)生成Z軸方向上大范圍的被檢體P的圖像。更具體的,廣域圖像生成部13a按時間序列依次讀取基于由數(shù)據(jù)收集控制部17a 按時間序列收集到的MR信號的各個原始數(shù)據(jù),并對所讀取的各個原始數(shù)據(jù)實施一維傅立葉變換處理,從而生成表示一維方向的實空間的多個數(shù)據(jù)。并且,廣域圖像生成部13a通過在實空間上按時間序列的順序配置由一維傅立葉變換處理生成的數(shù)據(jù),來生成被檢體P的廣域圖像。此時,廣域圖像生成部13a與在收集到MR信號的時間間隔期間移動頂板如的量相匹配,來決定實空間上的數(shù)據(jù)的配置間隔。這樣,通過與頂板如的移動量相配合來配置實空間的數(shù)據(jù),可生成正確表示出被檢體的形狀的廣域圖像。圖6是表示由第一實施方式的廣域圖像生成部13a生成的廣域圖像的一例的圖。 如圖6所示,例如數(shù)據(jù)收集控制部17a沿被檢體P的體軸方向生成大范圍的圖像來作為廣域圖像60?;氐綀D3的說明,分布數(shù)據(jù)生成部13b基于由陣列線圈8a Se具有的多個線圈元件80各自接收到的MR信號,按照每個線圈元件80,生成表示與頂板如的移動方向相垂直的一維方向上的MR信號的強度分布的分布數(shù)據(jù)。具體來說,分布數(shù)據(jù)生成部1 從原始數(shù)據(jù)存儲部14a中讀取基于由陣列線圈8b 具有的各線圈元件收集到的MR信號的原始數(shù)據(jù)。此時,分布數(shù)據(jù)生成部1 讀取廣域圖像生成部13a在廣域圖像的生成中使用的原始數(shù)據(jù)。這里,分布數(shù)據(jù)生成部1 通過使用與廣域圖像的生成相同的原始數(shù)據(jù),基于在1次的頂板移動中收集到的MR信號,來進行廣域攝像和線圈元件的位置測量兩者。并且,分布數(shù)據(jù)生成部1 從所讀取的原始數(shù)據(jù)中,按每個線圈元件,來生成表示 X軸方向上的MR信號的強度分布的分布數(shù)據(jù)。例如分布數(shù)據(jù)生成部1 通過對原始數(shù)據(jù)實施一維傅立葉變換處理,而生成線圈元件的分布數(shù)據(jù)。并且,分布數(shù)據(jù)生成部1 將所生成的各線圈元件的分布數(shù)據(jù)分別存儲到陣列線圈數(shù)據(jù)存儲部14b中。圖7是表示由第一實施方式的分布數(shù)據(jù)生成部1 生成的線圈元件80的分布數(shù)據(jù)的一例的圖。圖7中,S軸表示MR信號的強度。X軸表示X軸方向的空間位置。Z軸表示Z軸方向的空間位置。用以頂板如上的預(yù)定位置為原點的診視床坐標系來表示這里所稱的X軸方向和Z軸方向的空間位置。例如,診視床坐標系的原點設(shè)置在頂板如的中央。 該診視床坐標系與頂板如的移動同時地使坐標系全體向Z軸方向移動。如圖7所示,分布數(shù)據(jù)生成部1 按照每個收集到MR信號時的Z軸方向上頂板如的位置,生成線圈元件的分布數(shù)據(jù),其中該MR信號為分布數(shù)據(jù)的基礎(chǔ)。例如分布數(shù)據(jù)生成部1 每次生成分布數(shù)據(jù)時,從控制部17取得收集到作為該分布數(shù)據(jù)的基礎(chǔ)的MR信號時的頂板如的移動量,根據(jù)所取得的移動量算出頂板如的位置,并與分布數(shù)據(jù)相關(guān)聯(lián)。進一步,分布數(shù)據(jù)生成部1 從原始數(shù)據(jù)存儲部1 中讀取基于由WB線圈6收集到的MR信號的原始數(shù)據(jù),并根據(jù)所讀取的原始數(shù)據(jù)生成表示X軸方向上MR信號的強度分布的分布數(shù)據(jù)。例如分布數(shù)據(jù)生成部1 與有關(guān)線圈元件的分布數(shù)據(jù)同樣地對原始數(shù)據(jù)實施一維傅立葉變換處理,因此生成WB線圈的分布數(shù)據(jù)。并且,分布數(shù)據(jù)生成部1 將所生成的WB線圈6的分布數(shù)據(jù)存儲到WB線圈數(shù)據(jù)存儲部14c中。圖8是表示由第一實施方式的分布數(shù)據(jù)生成部1 生成的WB線圈6的分布數(shù)據(jù)的一例的圖。圖8中,S軸表示MR信號的強度。X軸表示X軸方向的空間位置。Z軸表示Z軸方向的空間位置。與元件線圈的分布數(shù)據(jù)同樣地用前述的診視床坐標系來表示這里所說的X軸方向和Z軸方向的空間位置。如圖8所示,分布數(shù)據(jù)生成部1 按照每個收集到MR信號時的Z軸方向上頂板如的位置,來生成WB線圈的分布數(shù)據(jù),其中該MR信號為分布數(shù)據(jù)的基礎(chǔ)。例如分布數(shù)據(jù)生成部1 在每次生成分布數(shù)據(jù)時,從控制部17取得收集到作為該分布數(shù)據(jù)的基礎(chǔ)的MR信號時的頂板如的移動量,根據(jù)所取得的移動量算出頂板如的位置并與分布數(shù)據(jù)相關(guān)聯(lián)?;氐綀D3的說明,數(shù)據(jù)校正部13c根據(jù)由WB線圈6接收到的MR信號的強度,來校正由各線圈元件收集到的MR信號中的被檢體P的部分性狀不同引起的信號強度的變動。具體來說,數(shù)據(jù)校正部13c從陣列線圈數(shù)據(jù)存儲部14b中讀取陣列線圈8b具有的各線圈元件的分布數(shù)據(jù),并從WB線圈數(shù)據(jù)存儲部14c中讀取WB線圈6的分布數(shù)據(jù)。并且, 數(shù)據(jù)校正部13c通過用WB線圈6的分布數(shù)據(jù)中的MR信號的強度除各線圈元件的分布數(shù)據(jù)中的MR信號的強度,從而生成對各線圈元件的分布數(shù)據(jù)校正后的校正數(shù)據(jù)。并且,數(shù)據(jù)校正部13c將所生成的校正數(shù)據(jù)存儲到校正數(shù)據(jù)存儲部14d中。線圈元件接收從被檢體的一部分產(chǎn)生的MR信號。因此,由各線圈元件接收到的MR 信號的強度即使在同一靈敏度的線圈元件中,也會根據(jù)分別放置的部位上的被檢體的性狀而信號強度不同。與此相對,WB線圈接收從被檢體整體產(chǎn)生的MR信號。因此,由WB線圈接收的MR信號表示從被檢體P整體產(chǎn)生的MR信號的空間分布。因此,通過根據(jù)WB線圈6 的分布數(shù)據(jù)來校正各線圈元件的分布數(shù)據(jù),從而可校正因被檢體的部分性狀不同造成的MR 信號的強度的差異。線圈位置測量部13d基于廣域圖像的生成中所用的MR信號的強度和收集到MR信號時的頂板如的位置,來測量線圈元件的位置。具體來說,線圈位置測量部13d從校正數(shù)據(jù)存儲部14d中讀取陣列線圈8b具有的各線圈元件的校正數(shù)據(jù),僅提取所讀取的校正數(shù)據(jù)中含有的信號中信號值超過預(yù)定的閾值的信號。這里,線圈位置測量部13d通過僅使用信號值即信號強度超過預(yù)定的閾值的信號, 而從由各線圈元件接收到的MR信號中去除被看作噪聲的信號。由此,由于僅使用可靠性高的信號來算出接收線圈的代表位置的位置,所以可以更高精度地測量線圈元件的位置。并且,例如線圈位置測量部13d通過求出所提取的信號中的信號值的重心位置, 而算出線圈元件的位置。這里,若設(shè)例如X軸方向的空間位置為Xi、收集到MR信號時的Z 軸方向上頂板如的位置為Zj、點(Xi,Zj)的信號值為Sij,則可通過下面的式⑴來求出 Z軸方向的重心位置Wz。Wz = Σ (SijXZi)/ Σ Sij ... (1)另外,X軸方向的重心位置Wx可由以下的式O)求出。Wx = Σ (SijXXi)/ Σ Sij — (2)線圈位置測量部13d使用上述式(1)和O),對陣列線圈8b具有的所有線圈元件, 算出Z軸方向的位置Wz和X軸方向的位置Wx。這里,如前所述,由于在線圈元件和WB線圈的分布數(shù)據(jù)中空間的位置用診視床坐標系表示,所以各線圈元件的位置也用診視床坐標系表不。并且,在測量出各線圈元件的位置后,線圈位置測量部13d使用測量出的各線圈元件的位置和線圈位置測量部13d中存儲的線圈位置信息,來測量陣列線圈8b的位置。
圖9是用于說明第一實施方式的線圈位置測量部13d進行的陣列線圈的位置測量的圖。例如,對于陣列線圈8b具有的線圈元件中沿Z軸方向排列的4個線圈元件,將所算出的測量位置分別設(shè)為P” P2、P3、P40在線圈位置測量部13d中存儲的線圈位置測量信息中,將這4個線圈元件的相對位置分別設(shè)為I^、I 2、R3、R4。該情況下,例如如圖9所示,線圈位置測量部13d將線圈位置信息中的各線圈元件的相對位置設(shè)作說明變量E、將各線圈元件的測量位置設(shè)作定義為目的變量O的1次函數(shù)E = 0+1,而通過最小二乗法算出截距I的值。這里,線圈位置測量部13d對于沿陣列線圈8b具有的Z軸方向排列的所有線圈元件的組,算出截距I的值。如圖2所示,陣列線圈8b具有3個沿Z軸方向排列的4個線圈元件的組。因此,線圈位置測量部13d對這3個組分別算出截距I的值。并且,例如線圈位置測量部13d算出所算出的3個值的平均值,并將所算出的值作為陣列線圈8b的Z軸方向上的位置。這里,說明根據(jù)沿Z軸方向排列的線圈元件的測量位置求出陣列線圈8b的Z軸方向上的位置的情形。但是,實施方式并不限于此,也可通過同樣的方法,從沿X軸方向排列的線圈元件的測量位置中求出陣列線圈8b的X軸方向上的位置。或者,也可通過求出X軸方向和Z軸方向各自的位置,來測量陣列線圈8b的二維位置。這里,說明了使用最小二乗法來算出陣列線圈8b的位置的情形,但是實施方式并不限于此,也可使用遞歸分析中一般使用的其他統(tǒng)計方法。例如這里,說明了使用1次函數(shù) E = 0+1來進行遞歸分析的情形,但是也可使用2次函數(shù)或指數(shù)函數(shù)等其他函數(shù)來進行遞歸分析。該情況下,例如線圈位置測量部13d將各線圈元件的測量位置和相對位置作為樣本數(shù)據(jù),來估計預(yù)定的函數(shù)中含有的系數(shù)值。由此,可得到表示以陣列線圈的代表位置為基準的各線圈元件的相對位置0與各線圈元件的測量位置間的關(guān)系的近似式E = f (0)。并且, 線圈位置測量部13d通過使用所得到的近似式E = f(0)來求出0 = O的情況下的E,從而可算出陣列線圈8b的Z軸方向的位置。并且,線圈位置測量部13d若通過上述方法算出各線圈元件和陣列線圈的位置, 則將例如表示所算出的位置的信息輸出到顯示部15。例如,線圈位置測量部13d使用于攝像條件的設(shè)定的用戶接口上顯示各線圈元件和陣列線圈的其中之一或兩者的位置。接著,說明第一實施方式的MRI裝置100進行的處理的流程。圖10是表示第一實施方式的MRI裝置100進行的處理流程的流程圖。這里,說明使用陣列線圈8a 8e中的陣列線圈8b的情形。如圖10所示,第一實施方式的MRI裝置100中,首先數(shù)據(jù)收集控制部17a邊移動頂板如,邊交替使用陣列線圈8b和WB線圈6,來反復(fù)收集與一維方向?qū)?yīng)的MR信號(步驟 S101)。接著,廣域圖像生成部13a根據(jù)由陣列線圈8b收集到的MR信號的原始數(shù)據(jù)生成廣域圖像(步驟S102)。分布數(shù)據(jù)生成部1 根據(jù)由陣列線圈8b的各線圈元件收集到的MR信號的原始數(shù)據(jù)生成分布數(shù)據(jù)(步驟S103)。進一步,分布數(shù)據(jù)生成部1 根據(jù)由WB線圈6收集到的MR 信號的原始數(shù)據(jù)生成分布數(shù)據(jù)(步驟S104)。接著,數(shù)據(jù)校正部13c使用WB線圈6的分布數(shù)據(jù)來校正陣列線圈8b的分布數(shù)據(jù)(步驟 S105)。之后,線圈位置測量部13d基于由數(shù)據(jù)校正部13c生成的校正數(shù)據(jù),來測量陣列線圈8b具有的各線圈元件的位置(步驟S106)。進一步,線圈位置測量部13d根據(jù)所測量出的各線圈元件的位置,測量陣列線圈的位置(步驟S107)。之后,數(shù)據(jù)收集控制部17a基于由線圈位置測量部13d測量出的位置,來選擇攝像用的元件線圈(步驟S108)。例如,數(shù)據(jù)收集控制部17a根據(jù)由線圈位置測量部13d測量出的位置,來確定進入到以磁場中心為中心的預(yù)定大小的有效范圍內(nèi)的元件線圈,并將所確定出的元件線圈選作攝像用的元件線圈。接著,數(shù)據(jù)收集控制部17a將由廣域圖像生成部13a生成的廣域圖像設(shè)作定位圖像,從操作者受理攝像條件(步驟S109)。例如數(shù)據(jù)收集控制部17a使顯示部15顯示由廣域圖像生成部13a生成的廣域圖像作為定位圖像,并從操作者受理對該定位圖像設(shè)定關(guān)心區(qū)域(Region Of Interest :R0I)的操作。并且,數(shù)據(jù)收集控制部17a生成用于從由定位圖像上設(shè)置的關(guān)心區(qū)域表示的被檢體的攝像區(qū)域收集MR信號的脈沖序列。并且,計算機系統(tǒng)10基于從操作者受理的攝像條件,來實施正式攝像(步驟 S110)。具體來說,數(shù)據(jù)收集控制部17a根據(jù)所生成的脈沖序列,來控制梯度磁場電源3、診視床控制部5、發(fā)送部7和接收部9,從而從被檢體P收集MR信號。數(shù)據(jù)處理部13從基于由數(shù)據(jù)收集控制部17a收集到的MR信號的原始數(shù)據(jù)重構(gòu)被檢體P的圖像。在上述處理順序中,在通過數(shù)據(jù)校正部13c校正陣列線圈8b的分布數(shù)據(jù)后,數(shù)據(jù)處理部13可以使用校正后的分布數(shù)據(jù),來校正由廣域圖像生成部13a生成的廣域圖像。該情況下,例如數(shù)據(jù)處理部13通過對由廣域圖像生成部13a生成的廣域圖像乘以(WB線圈6 的分布數(shù)據(jù)中的MR信號的強度)/(各線圈元件的分布數(shù)據(jù)中的MR信號的強度),來校正廣域圖像。該校正相當于對廣域圖像乘以作為數(shù)據(jù)校正部13c校正各線圈元件的分布數(shù)據(jù)中的MR信號的強度的結(jié)果而得到的信號值的倒數(shù)。由于通過該校正,可強調(diào)廣域圖像中信號值較小的部位,所以可得到精度更高的廣域圖像。這里,說明了在廣域圖像生成部13a生成廣域圖像后,線圈位置測量部13d測量各線圈元件和陣列線圈的位置的情形,但是MRI裝置100進行的處理的順序并不限于此。例如,也可在線圈位置測量部13d測量出各線圈元件和陣列線圈的位置后,廣域圖像生成部 13a生成廣域圖像。另外,也可例如,廣域圖像生成部13a和線圈位置測量部13d并行進行處理。如上所述,第一實施方式中,數(shù)據(jù)收集控制部17a邊使放置有裝載了陣列線圈8b 的被檢體P的頂板如連續(xù)移動,邊反復(fù)選擇激勵與頂板如的移動方向垂直的截面而收集 MR信號。廣域圖像生成部13a基于由數(shù)據(jù)收集控制部17a收集到的MR信號,來生成被檢體P的廣域圖像。線圈位置測量部13d基于廣域圖像的生成中使用的MR信號的強度和收集到MR信號時的頂板如的位置,來測量陣列線圈8b具有的各線圈元件的位置。因此,根據(jù)第一實施方式,由于可以通過1次診視床移動來分別進行被檢體的廣域攝像和接收線圈的位置測量,所以可以減少使診視床移動的次數(shù)。由此,在分別進行被檢體的廣域攝像和接收線圈的位置測量的情況下,可以縮短檢查時間。第一實施方式中,數(shù)據(jù)收集控制部17a邊交替切換陣列線圈8b和WB線圈6,邊收集MR信號。并且,數(shù)據(jù)校正部13c基于由WB線圈6接收到的MR信號的強度,來校正由各線圈元件收集到的MR信號中的被檢體P的部分性狀不同引起的強度改變。線圈位置測量部13d使用由數(shù)據(jù)校正部13c生成的校正數(shù)據(jù),來測量各線圈元件的位置。因此,根據(jù)第一實施方式,由于可校正被檢體的部分性狀的不同引起的MR信號的強度差異,所以可以高精度地測量線圈元件的位置。(第二實施方式)接著,說明第二實施方式。第一實施方式中,說明了收集與頂板如的移動方向垂直的一維方向?qū)?yīng)的MR信號,來進行被檢體的廣域攝像和接收線圈的位置測量的情形。下面所示的第二實施方式中,說明通過收集與頂板4a的移動方向垂直的二維方向?qū)?yīng)的MR 信號,來進行被檢體的廣域攝像和接收線圈的位置測量,并且生成表示線圈元件的靈敏度分布的靈敏度映射(map)的情形。第二實施方式的MRI裝置的整體結(jié)構(gòu)與圖1所示的相同,僅計算機系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)不同。因此,本實施方式中,以計算機系統(tǒng)的功能為中心加以說明。本實施方式中,也以使用陣列線圈8b來進行廣域攝像和線圈元件的位置測量的情形為例進行說明,但是在使用其他陣列線圈的情況下,同樣也可進行廣域攝像和線圈元件的位置測量。圖11是表示第二實施方式的計算機系統(tǒng)20的詳細結(jié)構(gòu)的功能框圖。圖11表示本實施方式的計算機系統(tǒng)20具有的數(shù)據(jù)處理部23、存儲部M和控制部27的結(jié)構(gòu)。下面, 對實現(xiàn)與圖3所示的功能部相同作用的功能部,添加同一附圖標記而省略詳細的說明。如圖11所示,存儲部M具有原始數(shù)據(jù)存儲部14a、陣列線圈圖像存儲部Mb、WB線圈圖像存儲部Mc、校正數(shù)據(jù)存儲部24d和線圈位置信息存儲部Me。陣列線圈圖像存儲部24b存儲基于由陣列線圈8a Se接收到的MR信號而生成的截面圖像。下面,將基于由陣列線圈8a Se接收到的MR信號而生成的截面圖像稱作陣列線圈圖像。由后述的圖像數(shù)據(jù)生成部2 生成該陣列線圈圖像。WB線圈圖像存儲部2 存儲基于由WB線圈6接收到的MR信號而生成的截面圖像。下面,將基于由WB線圈6接收到的MR信號而生成的截面圖像稱作WB線圈圖像。由后述的圖像數(shù)據(jù)生成部23b生成該WB線圈圖像。校正數(shù)據(jù)存儲部24d存儲基于由WB線圈6接收到的MR信號的強度來校正由各線圈元件收集到的MR信號中的被檢體P的部分性狀不同造成的信號強度的變動后得到的校正圖像。由后述的數(shù)據(jù)校正部23c生成該校正圖像??刂撇?7具有數(shù)據(jù)收集控制部27a。數(shù)據(jù)收集控制部27a邊使放置有裝載了陣列線圈8b的被檢體P的頂板如連續(xù)移動,邊反復(fù)選擇激勵與頂板如的移動方向垂直的截面而收集MR信號。具體來說,數(shù)據(jù)收集控制部27a與第一實施方式同樣,使放置有裝載了陣列線圈8b的被檢體P的頂板如沿Z 軸方向連續(xù)移動。被檢體P放置在頂板如上,其體軸沿著Z軸方向。并且,數(shù)據(jù)收集控制部27a邊使頂板如移動,邊反復(fù)執(zhí)行選擇激勵與頂板如的移動方向垂直的軸向截面AX來收集MR信號的脈沖序列。并且,本實施方式中,數(shù)據(jù)收集控制部27a收集對應(yīng)于與頂板如的移動方向垂直的二維方向的MR信號。例如數(shù)據(jù)收集控制部27a通過反復(fù)執(zhí)行單次激發(fā)(single shot) FSE (快速自旋回波!^計Spin Echo)的脈沖序列,來收集與X軸方向?qū)?yīng)的MR信號。這里,所謂單次激發(fā)FSE是指,通過在對被檢體施加激勵用的脈沖后反復(fù)施加重調(diào)焦用的脈沖,從而通過1次激勵來收集多個MR信號(回波信號)的攝像法。數(shù)據(jù)收集控制部27a每次收集MR信號時,控制接收部9,邊交替切換陣列線圈8b和WB線圈6邊反復(fù)進行數(shù)據(jù)收集。數(shù)據(jù)收集控制部27a在MR信號的收集中使用的攝像法并不限于通過1次激勵來收集多個MR信號的情形。例如數(shù)據(jù)收集控制部27a也可使用FE系的攝像法來收集MR信號。該情況下,例如數(shù)據(jù)收集控制部27a每TR(Itepetition Time),邊交替切換陣列線圈8b 和WB線圈6,邊反復(fù)進行數(shù)據(jù)收集,所述TR是從開始1個信號取得起到開始下一信號取得為止的時間。數(shù)據(jù)處理部23具有廣域圖像生成部23a、圖像數(shù)據(jù)生成部23b、數(shù)據(jù)校正部23c、線圈位置測量部23d和靈敏度映射生成部23e。廣域圖像生成部23a基于由數(shù)據(jù)收集控制部27a收集到的MR信號來生成被檢體P 的廣域圖像。具體來說,廣域圖像生成部23a從原始數(shù)據(jù)存儲部14a中讀取基于由陣列線圈8b具有的各線圈元件接收到的MR信號的原始數(shù)據(jù),并根據(jù)所讀取的原始數(shù)據(jù)生成Z軸方向上大范圍的被檢體P的圖像。更具體的,廣域圖像生成部23a按時間序列依次讀取基于由數(shù)據(jù)收集控制部27a 收集到的MR信號的原始數(shù)據(jù),并對所讀取的原始數(shù)據(jù)分別實施二維傅立葉變換處理,由此生成表示二維方向的實空間的多個圖像數(shù)據(jù)。并且,廣域圖像生成部23a通過在實空間上按時間序列的順序來配置由二維傅立葉變換處理生成的圖像數(shù)據(jù),來生成被檢體P的三維圖像數(shù)據(jù)。這時,廣域圖像生成部23a與在收集到MR信號的時間間隔期間移動了頂板如的量相匹配,來決定實空間上的圖像數(shù)據(jù)的配置間隔。由此,通過與頂板如的移動量相配合來配置實空間的數(shù)據(jù),從而可生成正確表示了被檢體的形狀的廣域圖像。并且,廣域圖像生成部23a通過對所生成的三維圖像數(shù)據(jù)實施MIP (Maximum Intensity I^rojection最大強度投影)處理和MPR(Multi-Planar Reconstruction多平面重建)處理等二維處理,來生成被檢體P的圖像。圖像數(shù)據(jù)生成部2 基于由陣列線圈8a Se具有的多個線圈元件80分別接收到的MR信號,按照每個線圈元件80生成表示與頂板如的移動方向垂直的二維方向上MR 信號的強度分布的圖像數(shù)據(jù)。具體來說,圖像數(shù)據(jù)生成部2 從原始數(shù)據(jù)存儲部14a中讀取基于由陣列線圈8b 具有的各線圈元件收集到的MR信號的原始數(shù)據(jù)。這時,圖像數(shù)據(jù)生成部2 讀取廣域圖像生成部23a在廣域圖像的生成中使用的原始數(shù)據(jù)。這里,圖像數(shù)據(jù)生成部2 可以通過使用與廣域圖像的生成相同的原始數(shù)據(jù),基于通過由1次頂板移動收集到的MR信號,來進行廣域攝像和線圈元件的位置測量兩者。并且,圖像數(shù)據(jù)生成部2 根據(jù)所讀取的原始數(shù)據(jù)中,按照每個線圈元件80,生成表示X-Y軸方向的MR信號的強度分布的圖像數(shù)據(jù)作為陣列線圈圖像。例如圖像數(shù)據(jù)生成部2 通過對原始數(shù)據(jù)實施二維傅立葉變換處理,來生成陣列線圈圖像。并且,圖像數(shù)據(jù)生成部2 將所生成的各線圈元件的陣列線圈圖像存儲到陣列線圈圖像存儲部Mb中。圖12是表示由第二實施方式的圖像數(shù)據(jù)生成部2 生成的線圈元件80的陣列線圈圖像的一例的圖。圖12中,X軸表示X軸方向的空間位置。Y軸表示Y軸方向的空間位置。Z軸表示Z軸方向的空間位置。這里所說的X軸方向、Y坐標和Z軸方向的空間位置用以頂板如上的預(yù)定位置為原點的診視床坐標系來表示。例如將診視床坐標系的原點設(shè)置在頂板如的中央。該診視床坐標系成為,在頂板如的移動的同時,坐標系整體向Z軸方向移動。如圖12所示,圖像數(shù)據(jù)生成部2 按照在收集到作為陣列線圈圖像的基礎(chǔ)的MR 信號時的Z軸方向上頂板如的位置,生成線圈元件的陣列線圈圖像。例如圖像數(shù)據(jù)生成部 2 每次生成陣列線圈圖像時,從控制部27取得收集到作為該陣列線圈圖像的基礎(chǔ)的MR信號時的頂板如的移動量,根據(jù)所取得的移動量中算出頂板如的位置并與陣列線圈圖像相關(guān)聯(lián)。進一步,圖像數(shù)據(jù)生成部2 從原始數(shù)據(jù)存儲部1 中讀取基于由WB線圈6收集到的MR信號的原始數(shù)據(jù),并根據(jù)所讀取的原始數(shù)據(jù)生成表示X-Y軸方向上的MR信號的強度分布的圖像數(shù)據(jù)作為WB線圈圖像。例如圖像數(shù)據(jù)生成部2 與涉及線圈元件的陣列線圈圖像同樣地,通過對原始數(shù)據(jù)實施二維傅立葉變換處理來生成WB線圈圖像。并且,圖像數(shù)據(jù)生成部2 將所生成的WB線圈圖像存儲到WB線圈圖像存儲部Mc中。圖13是表示由第二實施方式的圖像數(shù)據(jù)生成部2 生成的WB線圈圖像的一例的圖。圖13中,X軸表示X軸方向的空間位置。Y軸表示Y軸方向的空間位置。Z軸表示Z軸方向的空間位置。這里所稱的X軸方向、Y軸方向和Z軸方向的空間位置與元件線圈的陣列線圈圖像同樣,用前述的診視床坐標系表示。如圖13所示,圖像數(shù)據(jù)生成部2 按照收集到作為WB線圈圖像的基礎(chǔ)的MR信號時的Z軸方向上頂板如的每個位置,生成WB線圈圖像。例如圖像數(shù)據(jù)生成部2 每次生成WB線圈圖像時,從控制部27取得收集到作為該WB線圈圖像的基礎(chǔ)的MR信號時的頂板 4a的移動量,根據(jù)所取得的移動量算出頂板如的位置并與WB線圈圖像相關(guān)聯(lián)。回到圖11的說明,數(shù)據(jù)校正部23c根據(jù)由WB線圈6接收到的MR信號的強度,來校正由各線圈元件收集到的MR信號中的被檢體P的部分性狀不同引起的信號強度的改變。具體來說,數(shù)據(jù)校正部23c從陣列線圈圖像存儲部24b中讀取陣列線圈8b具有的各線圈元件的陣列線圈圖像,并從WB線圈圖像存儲部Mc中讀取WB線圈圖像。并且,數(shù)據(jù)校正部23c通過用WB線圈圖像中的MR信號的強度除各線圈元件的陣列線圈圖像中的MR 信號的強度,從而生成校正了各線圈元件的陣列線圈圖像后的校正圖像。并且,數(shù)據(jù)校正部23c將所生成的校正圖像存儲到校正數(shù)據(jù)存儲部Md中。這里,數(shù)據(jù)校正部23c通過基于WB線圈圖像來校正各線圈元件的陣列線圈圖像,可校正因被檢體的部分性狀不同引起的MR信號的強度差異。線圈位置測量部23d基于廣域圖像的生成中使用的MR信號的強度和收集到MR信號時的頂板如的位置,來測量線圈元件的位置。具體來說,線圈位置測量部23d從校正數(shù)據(jù)存儲部24d中讀取陣列線圈8b具有的各線圈元件的校正圖像,并沿Y軸方向?qū)⑺x取的校正圖像中含有的信號的信號值相加。 之后,線圈位置測量部23d僅提取相加后的信號值超過預(yù)定閾值的信號。這里,線圈位置測量部23d通過僅使用信號值即信號強度超過預(yù)定閾值的信號,從而可從由各線圈元件接收到的MR信號中去除認為是噪聲的信號。由此,由于僅使用可靠性高的信號來算出接收線圈的代表位置的位置,所以可以更高精度地測量線圈元件的位置。并且,例如線圈位置測量部23d通過求出所提取的信號中的信號值的重心位置,來算出線圈元件的位置。例如線圈位置測量部23d與第一實施方式同樣地,使用式(1)和式O),對陣列線圈8b具有的所有線圈元件,算出Z軸方向的位置Wz和X軸方向的位置ffx。 這里,如前所述,由于陣列線圈圖像和WB線圈圖像中用診視床坐標系來表示空間位置,所以各線圈元件的位置也用診視床坐標系表示。并且,在測量出各線圈元件的位置后,線圈位置測量部23d使用測量出的各線圈元件的位置和在線圈位置測量部23d中存儲的線圈位置信息,與第一實施方式同樣地,來測量陣列線圈8b的位置(參考圖9)。并且,線圈位置測量部23d在通過上述的方法算出各線圈元件和陣列線圈的位置后,將例如表示所算出的位置的信息輸出到顯示部15。例如,線圈位置測量部23d使攝像條件的設(shè)定中使用的用戶接口上顯示各線圈元件和陣列線圈的其中之一或兩者的位置。靈敏度映射生成部2 使用陣列線圈圖像和WB線圈圖像,來生成表示線圈元件的靈敏度分布的靈敏度映射。具體來說,靈敏度映射生成部2 若通過圖像數(shù)據(jù)生成部^b 生成陣列線圈圖像,則按照每個線圈元件,從陣列線圈圖像存儲部Mb中讀取所生成的陣列線圈圖像。若通過圖像數(shù)據(jù)生成部2 生成WB線圈圖像,則靈敏度映射生成部2 從WB 線圈圖像存儲部Mc中讀取所生成的WB線圈圖像。并且,靈敏度映射生成部23e比較所讀取的各個陣列線圈圖像和WB線圈圖像,并按照每個線圈元件來生成靈敏度映射。接著,說明第二實施方式的MRI裝置進行的處理的流程。圖14是表示第二實施方式的MRI裝置進行的處理的流程的流程圖。這里,說明使用了陣列線圈8a Se中的陣列線圈8b的情形。如圖14所示,第二實施方式的MRI裝置100中,首先,數(shù)據(jù)收集控制部27a邊使頂板如移動,邊交替使用陣列線圈8b和WB線圈6,來反復(fù)收集與二維方向?qū)?yīng)的MR信號 (步驟 S201)。接著,廣域圖像生成部23a根據(jù)由陣列線圈8b收集到的MR信號的原始數(shù)據(jù)生成廣域圖像(步驟S202)。圖像數(shù)據(jù)生成部2 根據(jù)由陣列線圈8b的各線圈元件收集到的MR信號的原始數(shù)據(jù)生成陣列線圈圖像(步驟S203)。進一步,圖像數(shù)據(jù)生成部2 根據(jù)由WB線圈6收集到的MR信號的原始數(shù)據(jù)生成WB線圈圖像(步驟S204)。接著,數(shù)據(jù)校正部23c使用WB線圈圖像,來校正各線圈元件的陣列線圈圖像(步驟 S205)。之后,線圈位置測量部23d基于由數(shù)據(jù)校正部23c生成的校正圖像,來測量陣列線圈8b具有的各線圈元件的位置(步驟S206)。進一步,線圈位置測量部23d從測量出的各線圈元件的位置中測量陣列線圈的位置(步驟S207)。并且,靈敏度映射生成部2 使用陣列線圈圖像和WB線圈圖像,來生成表示線圈元件的靈敏度分布的靈敏度映射(步驟S208)。之后,數(shù)據(jù)收集控制部27a基于由線圈位置測量部23d測量出的位置,來選擇攝像用的元件線圈(步驟S208)。例如,數(shù)據(jù)收集控制部27a基于由線圈位置測量部23d測量出的位置,來確定進入到以磁場中心為中心的預(yù)定大小的有效范圍內(nèi)的元件線圈,并將所確定出的元件線圈選作攝像用的元件線圈。接著,數(shù)據(jù)收集控制部27a將由廣域圖像生成部23a生成的廣域圖像作為定位圖像,并從操作者受理攝像條件(步驟S209)。例如數(shù)據(jù)收集控制部27a使顯示部15顯示由廣域圖像生成部^Ba生成的廣域圖像來作為定位圖像,并從操作者受理對該定位圖像設(shè)置關(guān)心區(qū)域(Region Of Interest :R0I)的操作。并且,數(shù)據(jù)收集控制部27a生成用于從由定位圖像上設(shè)置的關(guān)心區(qū)域表示的被檢體的攝像區(qū)域中收集MR信號的脈沖序列。并且,計算機系統(tǒng)20根據(jù)從操作者受理的攝像條件,來實施正式攝像(步驟 S210)。具體來說,數(shù)據(jù)收集控制部27a通過按照所生成的脈沖序列控制梯度磁場電源3、診視床控制部5、發(fā)送部7和接收部9,從而從被檢體P收集MR信號。數(shù)據(jù)處理部23從基于由數(shù)據(jù)收集控制部27a收集到的MR信號的原始數(shù)據(jù),重構(gòu)被檢體P的圖像。之后,數(shù)據(jù)處理部23使用由靈敏度映射生成部2 生成的靈敏度映射,來進行通過正式攝像得到的圖像的亮度校正(步驟S222)。在上述處理順序中,在通過靈敏度映射生成部2 生成靈敏度映射后,數(shù)據(jù)處理部13也可以使用所生成的靈敏度映射,來進行由廣域圖像生成部23a生成的廣域圖像的亮度校正。由此,由于可均勻化廣域圖像的信號等級,所以可以減少廣域化圖像上產(chǎn)生的亮度的不均勻。這里,說明了在廣域圖像生成部23a生成廣域圖像后,線圈位置測量部23d測量各線圈元件和陣列線圈的位置的情形,但是由MRI裝置100進行的處理的順序并不限于此。例如也可以是,線圈位置測量部23d測量出各線圈元件和陣列線圈的位置后,廣域圖像生成部23a生成廣域圖像。此外,例如,廣域圖像生成部23a和線圈位置測量部23d也可并行進行處理。此外,若在生成陣列線圈圖像和WB線圈圖像后,則也可以在由線圈位置測量部23d 進行線圈元件的位置測量之前,靈敏度映射生成部2 生成靈敏度映射。如上所述,第二實施方式中,數(shù)據(jù)收集控制部27a邊使放置有裝載了陣列線圈8b 的被檢體P的頂板如連續(xù)移動,邊反復(fù)選擇激勵與頂板如的移動方向垂直的截面而收集 MR信號。廣域圖像生成部23a基于由數(shù)據(jù)收集控制部27a收集到的MR信號來生成被檢體 P的廣域圖像。線圈位置測量部23d基于廣域圖像的生成中使用的MR信號的強度和收集到MR信號時的頂板如的位置,來測量陣列線圈8b具有的各線圈元件的位置。因此,根據(jù)第二實施方式,由于可以通過1次診視床移動來分別進行被檢體的廣域攝像和接收線圈的位置測量,所以可以減少移動診視床的次數(shù)。由此,在分別進行被檢體的廣域攝像和接收線圈的位置測量的情況下,可以縮短檢查時間。第二實施方式中,數(shù)據(jù)收集控制部27a邊交替切換陣列線圈8b和WB線圈6,邊收集MR信號。并且,數(shù)據(jù)校正部23c基于由WB線圈6接收到的MR信號的強度,來校正由各線圈元件收集到的MR信號中的因被檢體P的部分性狀不同引起的強度的改變。線圈位置測量部23d使用由數(shù)據(jù)校正部23c生成的校正數(shù)據(jù),來測量各線圈元件的位置。因此,根據(jù)第二實施方式,由于可以校正由被檢體的部分性狀不同引起的MR信號的強度差異,所以可以高精度測量線圈元件的位置。第二實施方式中,圖像數(shù)據(jù)生成部2 基于由陣列線圈8b收集到的MR信號來生成陣列線圈圖像,并基于由WB線圈收集到的MR信號來生成WB線圈圖像。靈敏度映射生成部2 使用陣列線圈圖像和WB線圈圖像,來生成表示線圈元件的靈敏度分布的靈敏度映射。因此,根據(jù)第二實施方式,可以通過1次診視床移動,來分別進行被檢體的廣域攝像、接收線圈的位置測量和靈敏度映射生成。由此,在分別進行被檢體的廣域攝像、接收線圈的位置測量和靈敏度映射生成的情況下,可以縮短檢查時間。上述第二實施方式中,說明了數(shù)據(jù)收集控制部27a邊使頂板如沿Z軸方向連續(xù)移動,邊收集與X-Y軸方向?qū)?yīng)的MR信號的情形。該情況下,由于在對同一截面收集MR信號期間頂板如也移動,所以在所生成的1個截面的圖像數(shù)據(jù)中,在X軸方向的行間產(chǎn)生了 Z 軸方向的偏差。因此,例如數(shù)據(jù)收集控制部27a也可以在收集重構(gòu)1個截面的圖像所需的多個MR 信號期間,使選擇激勵位置追蹤頂板如的移動而移動。該情況下,作為一例,數(shù)據(jù)收集控制部27a通過控制重新聚焦用的脈沖的載波頻率偏移,來使選擇激勵位置移動。例如數(shù)據(jù)收集控制部27a基于下面所示的式(3),來控制第k次施加的重新聚焦用的脈沖的載波頻率偏移Afk(k ^ 1)。Δ fk = Δ f0+ { y · Gs · V · ETS · (k-1/2)} /2 π [Hz] ...(3)這里,Y是磁旋比、Gs是片方向的梯度磁場脈沖的強度[T/m]、V是頂板如的移動速度[m/s]、Afci是最先施加的激勵用的脈沖的載波頻率偏移、ETS是MR信號(回波信號)的間隔[s]。這樣,在數(shù)據(jù)收集控制部27a收集重構(gòu)1個截面的圖像所需的多個MR信號的期間,使選擇激勵位置追蹤頂板如的移動而移動,從而可以更高精度地測量接收線圈的位置。WB線圈圖像優(yōu)選與成對的陣列線圈圖像相比選擇激勵位置相同。因此,數(shù)據(jù)收集控制部27a在收集與WB線圈圖像有關(guān)的MR信號期間也使選擇激勵位置追蹤頂板如的移動而移動。例如,數(shù)據(jù)收集控制部27a基于下面所示的式G),來控制使用了 WB線圈的收集中第k次施加的重新聚焦用的脈沖的載波頻率偏移Δ fkTO(k ^ 1)。Afkws = Af0PAC+[y · Gs · V · {ETS · (k_l/2) + Δ Τ} ]/2 π [Hz]…G)這里,Afra^是在使用了陣列線圈的收集中最先施加的重新聚焦用的脈沖的載波頻率偏移,ΔΤ是使用了陣列線圈的收集開始時刻和使用了 WB線圈的收集開始時刻之差。這樣,在使用了陣列線圈的收集和使用了 WB線圈的收集中,通過使選擇激勵位置追蹤頂板如的移動而移動,從而可以生成精度更高的靈敏度映射。在上述第一和第二實施方式中,說明了按照陣列線圈8b具有的每個線圈元件來生成分布數(shù)據(jù)或陣列線圈圖像的情形,但是實施方式并不限于此。例如可以合成由2個以上的線圈元件接收到的MR信號,并按照合成后的每個MR信號來生成分布數(shù)據(jù)或陣列線圈圖像。該情況下,例如接收部9合成由多個線圈元件中沿與頂板如的移動方向垂直的方向排列的多個線圈元件接收到的MR信號。并且,線圈位置測量部13d使用由接收部9合成后的MR信號,來測量由沿與頂板如的移動方向垂直的方向排列的多個線圈元件構(gòu)成的線圈元件群的位置。(第三實施方式)上述第一和第二實施方式中,數(shù)據(jù)收集控制部邊改變裝載有陣列線圈的被檢體的選擇激勵位置,邊收集磁共振信號。具體來說,上述第一和第二實施方式中,說明了數(shù)據(jù)收集控制部邊使放置有被檢體的頂板連續(xù)移動邊反復(fù)選擇激勵與頂板的移動方向垂直的截面而收集MR信號的例子。
但是,收集MR信號的方法并不限于第一和第二實施方式中說明的方法。例如數(shù)據(jù)收集控制部也可邊斷續(xù)移動放置有被檢體的頂板,邊反復(fù)選擇激勵與頂板的移動方向垂直的截面而收集MR信號。這種方法也稱作靜態(tài)調(diào)強。因此,下面將使用了靜態(tài)調(diào)強的例子作為第三實施方式加以說明。第三實施方式的數(shù)據(jù)收集控制部交替重復(fù)放置有被檢體的頂板的移動和停止,并在頂板停止的期間,邊使被檢體的選擇激勵位置沿頂板的移動方向變化,邊收集MR信號。圖15是用于說明由第三實施方式的數(shù)據(jù)收集控制部執(zhí)行的數(shù)據(jù)收集的圖。如圖 15的左到右依次所示,第三實施方式的數(shù)據(jù)收集控制部交替重復(fù)例如放置有裝載了陣列線圈8b的被檢體P的頂板如沿Z軸方向的移動和停止。這里,圖15所示的左、中、右的圖分別表示頂板如停止的狀態(tài)。另外,如圖15所示,被檢體P被放置在頂板如上,其體軸沿著 Z軸方向。并且,數(shù)據(jù)收集控制部在頂板如停止的期間,邊沿頂板如的移動方向使被檢體P 的選擇激勵位置改變,邊收集MR信號。例如,數(shù)據(jù)收集控制部在頂板如停止的期間,使選擇激勵的軸向截面AX沿與頂板如的移動方向相反的方向移動與頂板如的移動間隔相同的距離(參考圖15所示的粗實線箭頭)。數(shù)據(jù)收集控制部在使頂板如移動后,使選擇激勵的軸向截面AX的位置沿頂板如的移動方向恢復(fù)與頂板如的移動間隔相同的距離(參考圖15所示的虛線箭頭)。數(shù)據(jù)收集控制部由此重復(fù)進行頂板如的移動和停止,并在頂板如停止期間,邊使選擇激勵的軸向截面AX的位置移動,邊反復(fù)執(zhí)行收集MR信號的脈沖序列。并且,這里省略了說明,但是在第三實施方式中,廣域圖像生成部也基于由數(shù)據(jù)收集控制部收集到的MR信號來生成被檢體的廣域圖像,線圈位置測量部基于廣域圖像的生成中使用的MR信號的強度和收集該MR信號時的頂板的位置來測量線圈元件的位置。因此, 第三實施方式中也可分別進行被檢體的廣域攝像和接收線圈的位置測量,從而可以減少使診視床移動的次數(shù)。上述第三實施方式中,在頂板如停止的狀態(tài)下使被檢體的選擇激勵位置移動。因此,第三實施方式中,優(yōu)選并用用于校正因攝像空間內(nèi)的磁場的不均勻在圖像上產(chǎn)生的失
真的處理。如以上所說明的,根據(jù)第一、第二和第三實施方式,在進行被檢體的廣域攝像和接收線圈的位置測量的情況下,可以縮短檢查時間。說明了本發(fā)明的幾個實施方式,但是這些實施方式僅作為例子來提示,并沒有意圖限定發(fā)明的范圍。這些實施方式可以以其他各種方式來實施,可以在不脫離發(fā)明構(gòu)思的范圍內(nèi)進行各種省略、替換和改變。這些實施方式及其變形包含在發(fā)明的范圍和構(gòu)思中,同時還包含在權(quán)利要求書所記載的發(fā)明及其等價范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種磁共振成像裝置,包括陣列線圈,是排列分別接收從被檢體產(chǎn)生的磁共振信號的多個線圈元件而形成的; 收集控制部,邊使裝載有所述陣列線圈的所述被檢體的選擇激勵位置改變,邊收集磁共振信號;廣域圖像生成部,基于由所述收集控制部收集到的磁共振信號,來生成所述被檢體的廣域圖像;和位置測量部,基于所述廣域圖像的生成中使用的磁共振信號的強度和收集到該磁共振信號時的所述頂板的位置,來測量所述線圈元件的位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁共振成像裝置, 還包括用于放置被檢體的頂板;所述收集控制部邊使放置有所述被檢體的所述頂板連續(xù)移動,邊反復(fù)選擇激勵與該頂板的移動方向垂直的截面來收集磁共振信號。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁共振成像裝置, 還包括用于放置被檢體的頂板;所述收集控制部交替地重復(fù)放置有所述被檢體的所述頂板的移動和停止,在所述頂板停止的期間,邊沿所述頂板的移動方向改變所述被檢體的選擇激勵位置,邊收集磁共振信號。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的磁共振成像裝置,還包括全身用線圈,該全身用線圈配置在所述被檢體的周圍,且接收從所述被檢體產(chǎn)生的磁共振信號;所述收集控制部邊交替切換所述陣列線圈和所述全身用線圈,邊收集所述磁共振信號。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁共振成像裝置,還具有校正部,該校正部基于由所述全身用線圈接收到的磁共振信號的強度,來校正由各線圈元件收集到的磁共振信號中因所述被檢體的部分性狀不同引起的強度的改變; 所述位置測量部使用由所述校正部生成的校正數(shù)據(jù),來測量所述線圈元件的位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的磁共振成像裝置,所述收集控制部收集對應(yīng)于與所述頂板的移動方向垂直的一維方向的磁共振信號。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的磁共振成像裝置,所述廣域圖像生成部對基于由所述收集控制部按時間序列收集到的磁共振信號的原始數(shù)據(jù),分別實施一維傅立葉變換處理,由此生成表示一維方向的實空間的多個數(shù)據(jù),并在實空間上按時間序列的順序配置所生成的數(shù)據(jù),從而生成所述廣域圖像。
8.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的磁共振成像裝置,所述收集控制部收集對應(yīng)于與所述頂板的移動方向垂直的二維方向的磁共振信號。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁共振成像裝置, 還包括圖像數(shù)據(jù)生成部,基于由所述線圈元件收集到的磁共振信號,來生成第一圖像數(shù)據(jù),并基于由所述全身用線圈收集到的磁共振信號,來生成第二圖像數(shù)據(jù);和靈敏度映射生成部,使用所述第一圖像數(shù)據(jù)和所述第二圖像數(shù)據(jù),來生成表示所述線圈元件的靈敏度分布的靈敏度映射。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的磁共振成像裝置,還包括圖像校正部,該圖像校正部使用由所述靈敏度映射生成部生成的所述靈敏度映射,來進行由所述廣域圖像生成部生成的所述廣域圖像的亮度校正。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的磁共振成像裝置,其特征在于,所述收集控制部在收集用于重構(gòu)1個截面的圖像所需的多個磁共振信號期間,使選擇激勵位置追蹤所述頂板的移動而移動。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的磁共振成像裝置,所述廣域圖像生成部對基于由所述收集控制部按時間序列收集到的磁共振信號的原始數(shù)據(jù),分別實施二維傅立葉變換處理,由此生成表示二維方向的實空間的多個圖像數(shù)據(jù), 并在實空間上按時間序列的順序配置所生成的圖像數(shù)據(jù),從而生成所述被檢體的三維圖像數(shù)據(jù),并通過對所生成的三維圖像數(shù)據(jù)實施二維化處理,來生成所述廣域圖像。
13.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的磁共振成像裝置,還包括合成部,該合成部合成由所述多個線圈元件中的、與所述頂板的移動方向垂直的方向上排列的多個線圈元件接收到的磁共振信號;所述位置測量部使用由所述合成部合成后的磁共振信號,來測量由與所述頂板的移動方向垂直的方向上排列的多個線圈元件構(gòu)成的線圈元件群的位置。
14.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁共振成像裝置,還包括校正部,基于由所述全身用線圈接收到的磁共振信號的強度,來校正由各線圈元件收集到的磁共振信號中因所述被檢體的部分性狀不同引起的強度的改變;和圖像校正部,使用由所述校正部生成的校正數(shù)據(jù),來校正由所述廣域圖像生成部生成的所述廣域圖像。
全文摘要
實施方式的磁共振成像裝置(100)中,陣列線圈(8a~8e)是排列分別接收從被檢體產(chǎn)生的磁共振信號的多個線圈元件而形成的。收集控制部(17a,27a)邊使裝載有所述陣列線圈(8a~8e)的所述被檢體的選擇激勵位置改變,邊收集磁共振信號。廣域圖像生成部(13a,23a)基于由所述收集控制部(17a,27a)收集到的磁共振信號,來生成所述被檢體的廣域圖像。位置測量部(13d,23a)基于所述廣域圖像的生成中使用的磁共振信號的強度和收集到該磁共振信號時的所述頂板的位置,來測量所述線圈元件的位置。
文檔編號A61B5/055GK102548472SQ201180001923
公開日2012年7月4日 申請日期2011年8月16日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月16日
發(fā)明者市之瀨伸保, 渡邊良照 申請人:東芝醫(yī)療系統(tǒng)株式會社, 株式會社東芝