專利名稱：吸收性物品的制造裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及吸收性物品的制造裝置。
背景技術(shù)：
公知有一種使多個(gè)處理単元相互組合而形成的吸收性物品的制造裝置(參照專利文獻(xiàn)I)。在該制造裝置中，以使處理單元能夠收納到貨物用集裝箱內(nèi)的方式進(jìn)行尺寸設(shè)定，因此能夠使制造裝置容易地移動(dòng)。專利文獻(xiàn)I :日本特開2009-39441號(hào)公報(bào)但是，在如上述制造裝置那樣地對(duì)處理單元進(jìn)行尺寸設(shè)定的情況下，處理單元的 處理空間不一定大。其結(jié)果是，難以確保用于材料、中間產(chǎn)品、完成產(chǎn)品等所謂的產(chǎn)品相關(guān)品和粘結(jié)劑的配管、電カ布線等所謂的制造相關(guān)品的空間。為了解決該問題，考慮到對(duì)處理単元的上方空間進(jìn)行利用。但是，若在該上方空間內(nèi)例如輸送無紡布網(wǎng)片，則存在無紡布網(wǎng)片的輸送距離變長(zhǎng)且無紡布網(wǎng)片會(huì)進(jìn)行蛇行的擔(dān)憂。另外，若例如將粘合劑的配管配置在上方空間內(nèi)，則為了將粘結(jié)劑運(yùn)至上方空間而需要提高粘結(jié)劑的供給壓力，從而存在使粘結(jié)劑適用壓カ脫離恰當(dāng)值的擔(dān)憂。或者，在材料等發(fā)生異常的情況下，操作者需要準(zhǔn)備梯子并爬到梯子上進(jìn)行操作，即存在無法簡(jiǎn)單并快速地進(jìn)行維護(hù)的擔(dān)憂。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明，提供一種使多個(gè)處理単元相互組合而形成的吸收性物品的制造裝置，在至少ー個(gè)處理單元的底部設(shè)置間隔部件，而在該處理單元所設(shè)置的設(shè)置面與該處理単元之間形成有供產(chǎn)品相關(guān)品移動(dòng)或供制造相關(guān)品配置的下方空間。發(fā)明效果能夠確保吸收性物品的良好的制造，并能確保用于產(chǎn)品相關(guān)品或制造相關(guān)品的空間。


圖I是吸收性物品的制造裝置的概略主視圖。圖2是吸收性物品的制造裝置的概略俯視圖。圖3是處理單元的主視圖。圖4是處理單元的側(cè)視圖。圖5是處理單元的俯視圖。圖6是處理單元的仰視圖。圖7是處理單元的局部放大圖。圖8是表不廣品相關(guān)品的流動(dòng)的不意圖。
具體實(shí)施例方式參照?qǐng)DI及圖2可知，吸收性物品的制造裝置I具有多個(gè)處理単元2，這些處理單元相互組合而形成制造裝置I。在此，吸收性物品中包括例如生理用衛(wèi)生巾、衛(wèi)生護(hù)墊、失禁墊、尿布等。在圖I及圖2所示的示例中，制造裝置I具有由至少ー個(gè)處理單元2構(gòu)成的主單元組合體2M，該主單元組合體2M由沿著輸送方向MD排列且設(shè)置在設(shè)置面PI上的例如三個(gè)處理單元2構(gòu)成。分別與主單元組合體2M或者處理單元2的前面2F及后面2B鄰接地，設(shè)置有操作者移動(dòng)空間SWF、SWR。操作者在操作者移動(dòng)空間SWF、SffR內(nèi)移動(dòng)，從前面2F或后面2B來接近處理單元2。制造裝置I進(jìn)ー步具有由至少ー個(gè)處理單元2構(gòu)成的副單元組合體2S，副單元組 合體2S以從主單元組合體2M僅離開操作者移動(dòng)空間SWF、SWR的方式配置。在圖2所示的示例中，副單元組合體2S由ー個(gè)處理單元2構(gòu)成，并在主單元組合體2M的前方，以從主單元組合體2M僅離開操作者移動(dòng)空間SWF的方式配置。在處理單元2中，針對(duì)材料、中間產(chǎn)品、完成產(chǎn)品等所謂的產(chǎn)品相關(guān)品，通過處理器進(jìn)行輸送、回繞或卷繞、接合、密封、臨時(shí)保持、切斷、重疊、壓縮或延伸、彎曲、加熱或冷卻、粘結(jié)劑或粘著劑的適用等處理，由此制造吸收性物品。在這種情況下，產(chǎn)品相關(guān)品IPR分別在處理單元2彼此之間以及主單元組合體2M與副單元組合體2S之間移動(dòng)。此外，材料中包括無紡布、塑料薄膜、紙漿、線狀或片狀的弾性體等。另外，用于粘結(jié)劑、工作油、空氣等所謂的流體的配管、電線及信號(hào)那樣的電カ布線等所謂的制造相關(guān)品頂F被配置為，在處理單元彼此之間、主單元組合體2M與副單元組合體2S之間、或者處理單元2與外部之間延伸。各處理單元2以能夠收納在日本エ業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(JIS)或國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化機(jī)構(gòu)(ISO)的標(biāo)準(zhǔn)的貨物用集裝箱內(nèi)的方式進(jìn)行尺寸設(shè)定。這樣，無需分解處理單元2，就能收納進(jìn)貨物用集裝箱內(nèi)而移動(dòng)。因此，能夠容易地移設(shè)制造裝置I。作為收納處理單元2的集裝箱，能夠使用例如20ft干式集裝箱或40ft高容積集裝箱。20ft干式集裝箱的外徑尺寸為長(zhǎng)20’ (6096mm) X寬8’ (2438mm) X高8’6”(2591mm)，40ft高容積集裝箱的外徑尺寸為長(zhǎng)40，(12192mm) X寬8，(2438mm) X高9，6” (2895mm)。若考慮到將處理単元2包裝并收納進(jìn)集裝箱內(nèi)的情況，則使用20ft干式集裝箱的情況下的處理單元2的最大可能尺寸如下。長(zhǎng)(mm) X 寬(mm) X 高(mm)總重量3 噸以內(nèi)5680X2070X1850總重量3 噸至 6 噸5600X2030X1750總重量6 噸以上5540X2010X1600同樣地，使用40ft高容積集裝箱的情況下的處理單元2的最大可能尺寸如下。長(zhǎng)(mm) X 寬(mm) X 高(mm)總重量3 噸以內(nèi)11810X2070X2190總重量3 噸至 6 噸11730X2030X2120總重量6 噸以上11670X2010X1970
參照?qǐng)D3至圖6可知，處理單元2具有框架3。框架3包括在處理單元2的底部位于水平面內(nèi)的基礎(chǔ)框架3B ;和從基礎(chǔ)框架3B垂直向上延伸的垂直框架3V。此外，圖中，3VR表示加強(qiáng)垂直框架3V的加強(qiáng)部件。尤其如圖5所示，基礎(chǔ)框架3B包括H字形部分，該H字形部分具有與輸送方向MD正交的、向前后方向延伸的ー對(duì)縱部分3BL ;和與輸送方向MD平行的、向左右方向延伸且將縱部分3BL相互連結(jié)的橫部分3BT，進(jìn)ー步地，基礎(chǔ)框架3B還包括從橫部分3BT朝向后側(cè)的追加的縱部分3BLA ;和與橫部分3BT相比在后側(cè)將ー對(duì)縱部分3BL相互連結(jié)的追加的橫部分3BTA。在劃定于基礎(chǔ)框架3的上方的處理空間SP 內(nèi)，設(shè)置有在垂直方向上擴(kuò)開的鑲板4，鑲板4被處理單元2的垂直框架3V以及基礎(chǔ)框架3的橫部分3BT支承。如圖4所示，在鑲板4的前面懸臂支承有處理器P。在這種情況下，操作者能夠從操作者移動(dòng)空間SWF內(nèi)接近處理器P，例如進(jìn)行維護(hù)。此外，圖3、5、6中省略了處理器P的圖示。另ー方面，在處理單元2的后側(cè)，在垂直框架3V上支承有用于對(duì)制造裝置I進(jìn)行電控制的電控制盤5。操作者能夠從操作者移動(dòng)空間SWR內(nèi)接近該電控制盤5，并操作電控制盤5。在這種情況下，由圖4及圖5可知，電控制盤5以遠(yuǎn)離鑲板4的方式設(shè)置。另外，電控制盤5并不是在處理單元2的全寬范圍內(nèi)擴(kuò)開，而是局部擴(kuò)開。其結(jié)果是，操作者能夠容易地接近鑲板4的背面。在鑲板4的背面設(shè)置有例如用于驅(qū)動(dòng)滾筒的帶輪和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)帶輪的馬達(dá)等。因此，能夠很容易地進(jìn)行帶輪和馬達(dá)等的維護(hù)。如圖3、4、6所示，在基礎(chǔ)框架3B上即在處理單元2的底部，設(shè)置有例如塊狀的間隔部件6。其結(jié)果是，在處理單元2與設(shè)置面PI之間形成有下方空間SL。這樣，能夠使產(chǎn)品相關(guān)品在下方空間SL內(nèi)移動(dòng)。另外，還能在下方空間SL內(nèi)配置制造相關(guān)品。在這種情況下，由于產(chǎn)品相關(guān)品及制造相關(guān)品的高度位置較低，所以操作者能夠容易地接近產(chǎn)品相關(guān)品及制造相關(guān)品，井能容易地進(jìn)行維護(hù)。也無需提高粘結(jié)劑等的供給壓力。此外，也可以在所有處理單元2上設(shè)置間隔部件6。S卩，可以在至少ー個(gè)處理單元2上設(shè)置間隔部件6。下方空間SL的高度H設(shè)定為例如185mm。此外，若考慮到在下方空間SL內(nèi)移動(dòng)的廣品相關(guān)品的尺寸或配置在下方空間SL內(nèi)的制造相關(guān)品的尺寸，則下方空間SL的聞度H優(yōu)選為50mm以上。這樣，下方空間SL將有別于形成在處理單元2下方的單純的間隙。在基礎(chǔ)框架3B的底面上固定有螺栓7，間隔部件6通過由該螺栓7螺合而安裝在處理單元2上。這樣，能夠調(diào)節(jié)相對(duì)于處理單元2的間隔部件6的位置，由此能夠調(diào)節(jié)下方空間SL的大小。在這種情況下，間隔部件6的調(diào)整量能夠設(shè)為±25mm。下方空間SL的周面包括分別開放的前面開放部分0PF、后面開放部分OPR以及側(cè)面開放部分0PS，經(jīng)由這些前面開放部分0PF、后面開放部分OPR以及側(cè)面開放部分0PS，使下方空間SL內(nèi)與外部空間相互連通。因此，產(chǎn)品相關(guān)品及制造相關(guān)品能夠從前面開放部分0PF、后面開放部分OPR以及側(cè)面開放部分OPS通過，而從外部空間到達(dá)下方空間SL內(nèi)，或者從下方空間SL到達(dá)外部空間。另外，下方空間SL的上面也包括開放的上面開放部分0PU，經(jīng)由該上面開放部分(PU使下方空間SL內(nèi)與處理空間SP相互連通。因此，產(chǎn)品相關(guān)品及制造相關(guān)品能夠從上面開放部分OPU通過，而從處理空間SP到達(dá)下方空間SL內(nèi)，或者從下方空間SL到達(dá)處理空間SP。這一點(diǎn)也可以看作，以形成有上面開放部分OPU的方式構(gòu)成基礎(chǔ)框架3。在圖7及圖8所示的示例中，在鑲板4上以能夠拆卸的方式設(shè)置有導(dǎo)輥8、9。在這種情況下，例如網(wǎng)片形的產(chǎn)品相關(guān)品Iro經(jīng)由前面開放部分OPF到達(dá)下方空間SL內(nèi)，并輸送至下方空間SL內(nèi)。接著，產(chǎn)品相關(guān)品Iro通過導(dǎo)輥8引導(dǎo)而朝上輸送，并經(jīng)由上面開放部分OPU而到達(dá)處理空間SP內(nèi)。同時(shí)，產(chǎn)品相關(guān)品Iro扭轉(zhuǎn)90度，并通過導(dǎo)輥9引導(dǎo)而向水平方向或輸送方向MD輸送。其結(jié)果是，由于能夠使產(chǎn)品相關(guān)品Iro移動(dòng)至處理空間SP內(nèi)的處理器的幾乎正下方，所以能夠縮短產(chǎn)品相關(guān)品IPD的輸送路徑，還能抑制產(chǎn)品相關(guān)品IPD的蛇行。此外,在圖7及圖8所示的示例中，產(chǎn)品相關(guān)品IF1D從操作者移動(dòng)空間SWF內(nèi)橫穿(參照?qǐng)D2)。但是，由于產(chǎn)品相關(guān)品iro的高度位置較低，所以操作者能夠簡(jiǎn)單地跨過產(chǎn)品相關(guān)品IPD。或者，若設(shè)置跨過產(chǎn)品相關(guān)品IPD的梯凳，則操作者的操作將不會(huì)被產(chǎn)品相關(guān)品iro妨礙。 另外，在圖7所示的示例中，在基礎(chǔ)框架3尤其是橫部分3BT上安裝有保持部件10，制造相關(guān)品MF收納在該保持部件10內(nèi)。其結(jié)果是，能夠?qū)⒅圃煜嚓P(guān)品MF以遠(yuǎn)離設(shè)置面PI的方式保持在下方空間SL內(nèi)。其結(jié)果是，在設(shè)置面PI上存在灰塵或溢出有液體的情況下，能夠避開這些灰塵及液體而保護(hù)制造相關(guān)品IMF，另外，還能簡(jiǎn)單地進(jìn)行下方空間SL的清掃。在這種情況下，制造相關(guān)品MF中的電カ布線也可以經(jīng)由上面開放部分OPU而向上方延伸，而到達(dá)電控制盤5。也可以將導(dǎo)輥8、9安裝在基礎(chǔ)框架3或間隔部件6上。另外，也可以將保持部件10安裝在鑲板4或間隔部件6上。此外，在圖7及圖8中，為了清楚而省略了間隔部件6的圖示。附圖標(biāo)記說明I制造裝置2處理單元6間隔部件SL下方空間
權(quán)利要求
1.一種吸收性物品的制造裝置，使多個(gè)處理単元相互組合而形成，其特征在干， 在至少ー個(gè)處理單元的底部設(shè)置有間隔部件而在該處理單元所設(shè)置的設(shè)置面與該處理單元之間，形成供產(chǎn)品相關(guān)品移動(dòng)或供制造相關(guān)品配置的下方空間。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的制造裝置，其特征在于，所述處理單元連同間隔部件，以能夠收納在日本エ業(yè)標(biāo)準(zhǔn)或國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化機(jī)構(gòu)的標(biāo)準(zhǔn)的貨物用集裝箱內(nèi)的方式進(jìn)行尺寸設(shè)定。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的制造裝置，其特征在于，所述下方空間的周面包括周面開放部分，經(jīng)由該周面開放部分而使下方空間與外部空間相互連通。
4.根據(jù)權(quán)利要求I 3中任一項(xiàng)所述的制造裝置，其特征在于，所述下方空間的上面包括上面開放部分，經(jīng)由該上面開放部分而使下方空間與處理單元的處理空間相互連通。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制造裝置，其特征在于，還具有對(duì)在所述下方空間與所述處理單元的處理空間之間移動(dòng)的產(chǎn)品相關(guān)品進(jìn)行引導(dǎo)的導(dǎo)輥。
6.根據(jù)權(quán)利要求I 5中任一項(xiàng)所述的制造裝置，其特征在于，還具有在所述下方空間內(nèi)將制造相關(guān)品以遠(yuǎn)離所述設(shè)置面的方式保持的保持部件。
7.根據(jù)權(quán)利要求I 6中任一項(xiàng)所述的制造裝置，其特征在于，所述處理単元的基礎(chǔ)框架包括H字形部分，該H字形部分包含ー對(duì)縱部分和將這些縱部分相互連結(jié)的橫部分，在垂直方向上擴(kuò)展的鑲板被該橫部分支承。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制造裝置，其特征在于，在所述鑲板的背面?zhèn)纫赃h(yuǎn)離該鑲板的方式設(shè)置有電控制盤。
全文摘要
本發(fā)明提供一種吸收性物品的制造裝置。本發(fā)明的吸收性物品的制造裝置通過使多個(gè)處理單元(2)相互組合而形成。在處理單元(2)的底部設(shè)置間隔部件(6)而在處理單元(2)所設(shè)置的設(shè)置面(PI)與處理單元(2)之間形成下方空間(SL)。使如材料那樣的產(chǎn)品相關(guān)品在下方空間(SL)內(nèi)移動(dòng)。或者，在下方空間(SL)內(nèi)，配置如電力布線那樣的制造相關(guān)品。
文檔編號(hào)A61F13/49GK102770097SQ20118000897
公開日2012年11月7日 申請(qǐng)日期2011年2月7日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月19日
發(fā)明者大場(chǎng)建次 申請(qǐng)人:尤妮佳股份有限公司