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傷口護(hù)理系統(tǒng)的制作方法

文檔序號(hào):906346閱讀:174來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:傷口護(hù)理系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及傷口護(hù)理系統(tǒng)的領(lǐng)域。更具體地,本發(fā)明涉及基于局部一氧化氮施用的傷口護(hù)理系統(tǒng)的領(lǐng)域。
背景技術(shù)
在多種應(yīng)用中使用一氧化氮(NO)是廣泛公知的。例如在奧斯特瓦爾德法中作為中間物用于通過(guò)氨來(lái)合成硝酸,特別地使用一氧化氮的多種治療應(yīng)用是公知的。一氧化氮最著名的一種治療應(yīng)用是施用于具有新生兒持續(xù)性肺動(dòng)脈高壓(PPHN)的病人。然而,許多類似的或者其它治療性應(yīng)用是公知的并且針對(duì)一氧化氮的使用而進(jìn)行了討論。例如,一氧化氮被血管內(nèi)皮組織利用,發(fā)出信號(hào)使周圍的平滑肌放松,由此導(dǎo)致血管擴(kuò)大以及由此增加血流量。這使得一氧化氮特別適用于血壓降低。一氧化氮的另一個(gè)示 例性應(yīng)用是直接提高肺部功能以及治療或者防止支氣管狹窄、可逆肺血管收縮,或者用于治療或防止由于哺乳動(dòng)物的過(guò)度內(nèi)膜增生而導(dǎo)致的動(dòng)脈再狹窄。除去這些,一氧化氮的施用特別有助于感染組織的治療,例如殺死病菌。這種應(yīng)用大多包括將包含氣體的一氧化氮?dú)怏w源局部輸送到包含感染組織的皮膚表面。這種作用以及血管舒張作用在傷口治療系統(tǒng)或者傷口護(hù)理系統(tǒng)中是特別有用的。然而,一氧化氮在傷口護(hù)理系統(tǒng)中的施用引起了多個(gè)必須被解決的問(wèn)題。首先,盡管一氧化氮的施用非常有用,但是高濃度是有害的以及由此必須被避免。因此,一氧化氮的濃度必須被保持在限定數(shù)值以下。此外,一氧化氮在存在氧氣時(shí)易于氧化成更高氧化狀態(tài)(NOx)下的氮氧化物。例如,會(huì)形成二氧化氮(no2)。由于更高氧化狀態(tài)下的這些氮氧化物的高毒性,特別是二氧化氮,因此必須避免這些化合物的形成。除了這些,如果一氧化氮氧化,那么有用的一氧化氮的濃度會(huì)降低,導(dǎo)致了傷口治療過(guò)程的效率及有用性變差。此外,對(duì)于無(wú)法通過(guò)一氧化氮療法所解決的傷口治療過(guò)程,存在著還的要求。通過(guò)US 2002/0156416A1所知的是一種裝置和方法,用于通過(guò)一氧化氮來(lái)處理表面感染。該裝置包括一氧化氮?dú)怏w源(例如氣體罐或者壁掛供應(yīng)的供給線路)、沖洗(bathing)單元、流量控制閥、以及真空單元。沖洗單元與一氧化氮?dú)怏w源流體相通以及適用于圍繞著感染皮膚的區(qū)域。然而,上面討論的問(wèn)題沒有完全解決。例如,沒有完全避免一氧化氮的氧化。特別地,所使用的管件經(jīng)常允許氧氣的入流,由此導(dǎo)致一氧化氮發(fā)生氧化。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目標(biāo)是提供一種傷口護(hù)理系統(tǒng),該系統(tǒng)能夠克服上面提出的至少一種局限。本發(fā)明的另一個(gè)目標(biāo)是提供一種傷口護(hù)理系統(tǒng),該系統(tǒng)具有改進(jìn)的效果。本發(fā)明的另一個(gè)目標(biāo)是提供一種傷口護(hù)理系統(tǒng),該系統(tǒng)限制了一氧化氮的氧化。這些目標(biāo)是通過(guò)一種用于處理病人傷口的傷口護(hù)理系統(tǒng)而實(shí)現(xiàn)的,該系統(tǒng)包括沖洗單元,所述沖洗單元被設(shè)計(jì)成限定了環(huán)繞所述傷口的空間、并且將所述空間密封成與外部大氣隔離,所述沖洗單元至少包括與所述空間流體相通的一個(gè)氣體進(jìn)口和一個(gè)氣體出口 ;可被連接到所述氣體進(jìn)口的一氧化氮源;可被連接到所述氣體出口以便在所述空間內(nèi)形成負(fù)壓的真空單元;以及可被放置在所述空間內(nèi)的海綿件。根據(jù)本發(fā)明,能夠組合兩種方法,每種方法對(duì)于傷口治療都具有有益效果。詳細(xì)地,根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)使一氧化氮施用與真空治療相結(jié)合。真空治療(也被稱為真空輔助封閉、真空密封或者局部負(fù)壓治療)是一種非常有利的方法,用于改進(jìn)傷口治療。它主要包括真空輔助引流的使用,將血液或者漿液流體從傷口或手術(shù)部位除去。多種不同類型傷口的清創(chuàng)術(shù)和傷口治療可以通過(guò)采用受控的負(fù)壓水平而加速??梢韵嘈?,負(fù)壓有助于組織液的去除、減小局部水腫以及增加血液流動(dòng),繼而降低組織的細(xì)菌水平。由此,可以避免感染。此外,低壓激發(fā)了細(xì)胞生長(zhǎng)以及由此對(duì)傷口治療方法 具有有益的影響。除了這些,空間中負(fù)壓的產(chǎn)生連同海綿件能夠確保整個(gè)傷口表面區(qū)域均勻地暴露于這種負(fù)壓作用,通過(guò)與傷口基部或者邊緣接觸從而防止引流中堵塞穿孔,以及消除了局部高壓區(qū)域及所引起組織壞死的理論可能性。實(shí)際中,真空治療可以縮短傷口治療周期乃至能夠治愈那些對(duì)于不使用真空治療的傷口治療而言其改進(jìn)的治療方法并非公知的傷口類型。然而,這些只是真空治療的示例性優(yōu)點(diǎn)。還可以達(dá)到更有益的效果。對(duì)于傷口治療的所述有益效果,真空的設(shè)置導(dǎo)致以下優(yōu)點(diǎn)一氧化氮氧化的傾向在降低壓力的氛圍中被強(qiáng)烈地降低。由此,有效的一氧化氮既不會(huì)流失,也沒有在傷口附近形成有害的氮氧化物。提供一氧化氮治療以及真空治療的機(jī)會(huì)使得在一個(gè)單一系統(tǒng)中結(jié)合了兩種治療的有益效果。該系統(tǒng)由此更有效,它可以在真空療法或者一氧化氮施用或者兩者組合之間選擇。由此能夠受益于一氧化氮施用以及真空治療的優(yōu)點(diǎn),導(dǎo)致更大范圍的傷口治療改進(jìn)。在本發(fā)明的第二方面,提供了一種用于處理病人的傷口的傷口護(hù)理系統(tǒng),包括沖洗單元,所述沖洗單元被設(shè)計(jì)成限定了環(huán)繞所述傷口的空間、并且將所述空間密封成與外部大氣隔離,所述沖洗單元至少包括與所述空間流體相通的一個(gè)氣體進(jìn)口和一個(gè)氣體出口 ;用于包括氮?dú)獾臍怏w源、以及用于包括氧氣的氣體源、或者用于包括氮?dú)夂脱鯕獾幕旌衔锏臍怏w源,用于在所述空間內(nèi)形成氮?dú)夂脱鯕獾幕旌衔?;以及可被放置在所述空間內(nèi)的加熱元件。對(duì)于這個(gè)實(shí)施例,能夠在將被處理的傷口直接附近產(chǎn)生一氧化氮。由于在空間內(nèi)提供包括氮?dú)夂脱鯕獾臍怏w混合物,因此形成了非常適用于產(chǎn)生一氧化氮的氣體。加熱元件由此將空間內(nèi)的氣體混合物加熱,使得氮?dú)馀c氧氣反應(yīng)從而形成一氧化氮。這使得所產(chǎn)生的一氧化氮能夠以有用的方式直接地影響治療過(guò)程。一氧化氮在被運(yùn)送到傷口之前發(fā)生氧化的風(fēng)險(xiǎn)由此被降低最低或者完全得以避免。此外,一氧化氮的濃度可以通過(guò)空間中存在的氮?dú)夂脱鯕獾谋嚷识徽{(diào)節(jié)。對(duì)于這一點(diǎn),調(diào)節(jié)所需氣體比率的一種可能方式是通過(guò)提供一種單一氣體源,該氣體源以期望的量分配包括氧氣和氮?dú)獾臍怏w混合物。在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中,沖洗單元被形成為柔性箔。當(dāng)將柔性箔固定在病人傷口周圍時(shí)以及在移除箔時(shí),能夠非??焖俸腿菀椎夭倏貨_洗單元。沖洗單元由此可被操控,而不管傷口的尺寸以及出現(xiàn)傷口的位置。此外,由于良好的操控性,沖洗單元可被沒有在醫(yī)療部門學(xué)習(xí)過(guò)的人員使用以及由此非常良好地適用于家庭護(hù)理應(yīng)用。如果箔由有機(jī)聚合物形成,那么這些優(yōu)點(diǎn)可以特別地實(shí)現(xiàn)。這些箔此外容易以節(jié)省成本的方式形成以及足夠穩(wěn)定以用于期望的應(yīng)用。沖洗單元的破裂或者其它損壞由此能夠得以避免。在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中,沖洗單元被抗菌涂層覆蓋。這避免了細(xì)菌積累、特別是在沖洗單元內(nèi)側(cè)的積累以及由此避免阻礙治療過(guò)程。在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中,沖洗單元被非粘性材料覆蓋。這防止沖洗單元粘貼到海綿件或者粘貼到病人皮膚。沖洗單元由此在治療步驟之后容易被去除。由于粘結(jié)性沖洗單元的傷害由此可以避免。在另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中,設(shè)置有薄膜,該薄膜被設(shè)計(jì)成降低空間內(nèi)存在的氧氣量。治療性有用一氧化氮氧化為更高氧化狀態(tài)下的氮氧化物由此可以降低或者完全地避免,至少在被處理的傷口附近。由此,有用的一氧化氮沒有流失,而有害氮氧化物的形成得以避免或者至少有害氮氧化物的濃度被保持在有害水平以下。此外,薄膜是有用的,原因是空氣可被用作包括氮?dú)夂脱鯕獾臍怏w混合物。在這種情況下,薄膜可以將氧氣含量降低到氮?dú)夂?氧氣會(huì)發(fā)生適當(dāng)反應(yīng)的量。在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中,薄膜被位于沖洗單元的氣體進(jìn)口。關(guān)于這一點(diǎn),薄膜被直接地定位在空間的上游,導(dǎo)致在氣體進(jìn)入到所述空間之前氧氣被直接地降低。由此可靠地避免氧氣進(jìn)入到空間內(nèi),即便用管件將一氧化氮?dú)怏w源與空間相連接。此外,氧氣的量可被降低到氮?dú)夂脱鯕獾姆磻?yīng)可以良好應(yīng)用的量以及濃度被保持在恒定范圍。此外特別地,如果薄膜被設(shè)計(jì)作為氣體進(jìn)口中的堵頭,那么由于它的尺寸可以被限定為足以實(shí)現(xiàn)期望效果但是沒有大于所需的程度,因此沖洗單元可以非常節(jié)約成本的方式形成。在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中,薄膜44形成了沖洗單元16的一部分。這是一種非常節(jié)省成本的方式來(lái)形成根據(jù)本發(fā)明的裝備有薄膜的系統(tǒng),原因是這種配置使得薄膜44能夠形成氣體進(jìn)口。由此,不需提供額外的氣體進(jìn)口。在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中,薄膜對(duì)于氧氣具有吸附力。這可靠地允許將氧氣從氣體中去除以及由此使得空間中的氣體具有降低的氧氣含量。如果薄膜被定位在空間內(nèi)部的話,那么這種配置特別有用。在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中,在氣體出口的下游設(shè)置處置單元。這種配置允許消除一氧化氮?dú)怏w。關(guān)于這一點(diǎn),防止了在沖洗單元外部氧化成更高氧化狀態(tài)下的有害氮氧化物,使其更容易控制。


參考隨后描述的實(shí)施例,本發(fā)明的這些及其它方面將會(huì)明顯以及得以闡明。圖I顯示了根據(jù)本發(fā)明第一方面的系統(tǒng)的示意圖。圖2顯示了根據(jù)本發(fā)明第二方面的系統(tǒng)的示意圖。圖3顯示了根據(jù)本發(fā)明第二方面的系統(tǒng)的另一個(gè)實(shí)施例的示意圖。圖4顯示了根據(jù)本發(fā)明第一和第二方面組合的系統(tǒng)的示意圖。
具體實(shí)施例方式根據(jù)本發(fā)明第一方面的傷口護(hù)理系統(tǒng)10在圖I中顯示。根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)10特別地適用于一氧化氮的施用連同真空治療,用于傷口治療處理。在圖I中,病人皮膚的一部分12被不意性地顯不出。在該部分12,病人具有傷口14,該傷口可以是應(yīng)當(dāng)被處理以便改進(jìn)傷口治療處理的各種傷口 14。特別地,傷口 14可以是開放性傷口或者具有受感染組織的皮膚。為了改進(jìn)傷口治療處理,一氧化氮施用到傷口14是有利的。作為示例,無(wú)菌和化膿傷口的恢復(fù)時(shí)間由于一氧化氮的施用可以縮短。這種效果可解釋為下述原因傷口治療處理自身公知的是涉及傷口組織中一氧化氮生成量的突然增加,這是由于基本異構(gòu)型NO合成酶的啟動(dòng)以及顯著增加的誘導(dǎo)型NOS (iNOS)合成體所導(dǎo)致的。為了施用一氧化氮,提供了沖洗單元16。沖洗單元16限定了空間18,空間18直接鄰近傷口 14并且圍繞著傷口。在空間18內(nèi),一氧化氮可被施用到傷口,從而獲得期望的改進(jìn)治療效果。由此,沖洗單元16以氣密方式密封空間18,而與外部空氣隔離。這樣避免了位于空間18內(nèi)的氣體與空間18外的大氣之間的空氣交換。
沖洗單元16可由任意適當(dāng)材料形成。由此能夠使用具有限定形狀的剛性沖洗單元16。然而,最優(yōu)選的是,沖洗單元16被形成為柔性箔。這樣能夠非常容易地操控,即在治療步驟之前將沖洗單元16施加到病人以及治療步驟之后將沖洗單元移除。沖洗單元16僅僅需要在病人皮膚周圍包裹,也就是圍繞著傷口 14??紤]到這點(diǎn),特別有利的是沖洗單元16由有機(jī)聚合物形成,其可以導(dǎo)致極有柔性的箔。形成箔的示例性聚合物是聚氨酯??紤]到這點(diǎn),不需要特別的密封,當(dāng)柔性箔牢固地緊固到傷口邊緣周圍的健康皮膚時(shí)柔性箔能夠使空氣與病人皮膚氣密密封。然而,通過(guò)使用粘性管件或者粘性箔,附加的密封可以是合適的。沖洗單元16至少在它的內(nèi)側(cè)可以另外地設(shè)置有抗菌的和/或非粘結(jié)涂層。這避免了空氣中潛在存在的細(xì)菌進(jìn)入到空間18中污染沖洗單元16以及由此妨礙治療過(guò)程。此夕卜,非粘結(jié)涂層防止沖洗單元16或者箔分別粘貼到皮膚或者粘貼到海綿件。箔的移除由此可被改進(jìn),以及由于粘性沖洗單元16的傷害可以得到避免。為了將一氧化氮運(yùn)送到空間18內(nèi),該空間18與一氧化氮?dú)怏w源20流體相通。一氧化氮?dú)怏w源20可以是適當(dāng)?shù)娜我夥N類氣體源。作為示例,可以使用包含NO氣體的加壓氣體罐。所述系統(tǒng)隨后可被用于家庭護(hù)理應(yīng)用。然而,同樣可以使用連接到壁掛供應(yīng)裝置的供給管路。這種配置特別適用于醫(yī)院中的應(yīng)用。一氧化氮?dú)怏w源20可連接到泵或者壓縮機(jī)單元,所述泵或者壓縮機(jī)單元可將一氧化氮?dú)怏w從氣源運(yùn)送到空間18。然而,如果加壓氣體罐被用作一氧化氮?dú)怏w源20的話,這個(gè)壓縮機(jī)單元可被省略。此外,空氣等離子NO發(fā)生器可以是適合的。優(yōu)選地,設(shè)置壓力調(diào)節(jié)計(jì)來(lái)將壓力調(diào)節(jié)到恒定流量。壓力調(diào)節(jié)計(jì)可確保具有確定的氣體壓力而不會(huì)波動(dòng),這在醫(yī)療應(yīng)用中是特別期望的??蛇x地,流量控制閥(類似于質(zhì)量流量控制器)被設(shè)置用于精確地調(diào)節(jié)流到病人傷口 14的一氧化氮的量。流量控制閥被定位在沖洗單元16的上游但是在一氧化氮?dú)怏w源20的下游。由于一氧化氮在低濃度時(shí)是特別有利的,因此最優(yōu)選地使得氣體源20包括的一氧化氮濃度為> 50ppm且< 1200ppm,其中特別有利的是一氧化氮?dú)怏w源20中存在的一氧化氮濃度是彡IOOppm且彡800ppm,尤其是彡150ppm且彡500ppm,并且具有惰性氣體。
然而,還能夠使用氣體源20輸送純一氧化氮。在這種情況下,在將一氧化氮輸送到空間18之前,可以用惰性氣體(例如氮?dú)?來(lái)稀釋一氧化氮。由此,需要額外的惰性氣體源22,該惰性氣體源與沖洗單元16上游的純一氧化氮?dú)怏w的氣流流體相通。由此,一氧化氮可在施用到病人皮膚之前被稀釋。考慮到這一點(diǎn),優(yōu)選地提供氣體混合器24,用于在沖洗單元16的上游形成一氧化氮?dú)怏w連同稀釋氣體的混合物。為了在空間18與一氧化氮?dú)怏w源20之間形成流體相通,設(shè)置管件26,該管件的一側(cè)連接到氣體源或者混合器24,而該管件還連接到?jīng)_洗單元16的氣體進(jìn)口 28?;旧希瑲怏w進(jìn)口 28是氣體可以滲透的孔隙,由此允許將氣體輸送到空間18內(nèi)。氣體進(jìn)口 28可包括單向閥,防止氣體回流到管件26中。除了氣體進(jìn)口 28之外,沖洗單元16還包括氣體出口 30,一氧化氮?dú)怏w通過(guò)該氣體出口被導(dǎo)引到空間18外部。氣體進(jìn)口以及氣體出口 30優(yōu)選地被定位使得流經(jīng)空間18的一氧化氮具有長(zhǎng)的滯留時(shí)間。這提高了一氧化氮施用的效率。 氣體出口 30連接到柔性管件32,該柔性管件32與真空單元34流體相連。真空單元34被設(shè)計(jì)成在空間18內(nèi)部形成負(fù)壓。另一方面,負(fù)壓還降低了被氧化成更高氧化狀態(tài)下的氮氧化物的一氧化氮的量。此外,真空可被用于在空間18內(nèi)部產(chǎn)生低壓,導(dǎo)致一氧化氮?dú)怏w被抽吸到空間18內(nèi)。根據(jù)本發(fā)明,在空間18內(nèi)部還設(shè)置海綿件36。如在此使用,術(shù)語(yǔ)“海綿件”指的是具有多孔結(jié)構(gòu)或者開放蜂窩結(jié)構(gòu)的泡沫狀材料部件。海綿件36被設(shè)計(jì)成覆蓋整個(gè)傷口。由于它的多孔性,海綿件36會(huì)從傷口 14接收血液或者漿液狀流體。示例性地,海綿件36可根據(jù)要處理的傷口而由聚氨酯或者聚乙烯醇形成。在使用聚氨酯海綿件的情況下,海綿件是疏水的并且可具有較大開孔。在使用聚乙烯醇海綿件的情況下,海綿件是親水的并且可具有小的氣孔。當(dāng)暴露于真空時(shí),流體從傷口 14通過(guò)海綿件而被吸引到可選容器中,用于隨后的處置。然而,所述容器并非嚴(yán)格必要的,大部分流體可被存儲(chǔ)在海綿件36的開放蜂窩結(jié)構(gòu)中。由此,是否需要容器依賴于傷口治療的狀態(tài)以及由此依賴于傷口中形成流體的量。因此,在傷口治療的晚期狀態(tài),容器可被省略。連同真空單元34,海綿件36允許通過(guò)使用根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)來(lái)應(yīng)用真空治療。由此,能夠?qū)崿F(xiàn)基于一氧化氮施用的治療以及基于真空的治療的組合。為了允許多種可能的治療方法,可在一氧化氮?dú)怏w源20或者混合器24與氣體進(jìn)口 28之間設(shè)置閥,即所謂的進(jìn)口閥38,以及在氣體出口 30與真空單元34之間設(shè)置閥,即所謂的出口閥40。由此,閥38、40可被分別地定位在管件26中以及管件32中。根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)由此允許在不同治療模式下操作。首先,可以僅僅使用一氧化氮治療。在這個(gè)情況下,進(jìn)口閥38相對(duì)于一氧化氮?dú)怏w源20或者相對(duì)于混合器24處于打開位置。進(jìn)口閥38的這個(gè)位置允許一氧化氮?dú)怏w進(jìn)入到空間18中。一氧化氮?dú)怏w的流動(dòng)隨后作為示例地可被加壓氣體罐或者被壓縮機(jī)單元34所影響。出口閥40在這個(gè)情況下相對(duì)于真空單元34處于關(guān)閉位置。這允許離開沖洗單元16的氣體流被運(yùn)送到處置單元42中。處置單元42是消除一氧化氮的裝置。詳細(xì)地,一氧化氮可被水解為硝酸或者可被吸附劑吸附。然而,有利的是沒有一氧化氮離開所述系統(tǒng),原因是大氣中存在的氧氣將會(huì)使一氧化氮氧化,從而形成更高氧化狀態(tài)的有害氮氧化物。一氧化氮治療由此可還通過(guò)使進(jìn)口閥38相對(duì)于一氧化氮?dú)怏w源20或者混合器24處于打開位置以及出口閥40相對(duì)于真空單元34處于打開位置而被應(yīng)用。在這方面,真空單元34可被調(diào)節(jié),從而使得回收包含一氧化氮的氣體的速度與該氣體被輸送到?jīng)_洗單元16的速度基本上相等。除了這樣應(yīng)用一氧化氮治療之外,根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)還能夠?qū)?14施加真空治療。由此,進(jìn)口閥38相對(duì)于一氧化氮?dú)怏w源20或者混合器24關(guān)閉,然而出口閥40相對(duì)于真空單元34打開。這允許降低空間18內(nèi)的壓力以及在空間18內(nèi)形成低壓。適當(dāng)?shù)?,根?jù)被治療傷口 14的類型,真空范圍在75-400mmHg,特別地在75-150mmHg。在這方面,沖洗單元16被充氣,使得海綿件36被壓靠著傷口。由此,真空單元34連同海綿件36允許應(yīng)用傷口治療。在這點(diǎn)上,處置單元42可被設(shè)置在真空單元34的下游,從而去除一氧化氮?dú)怏w。根據(jù)治療模式,可以選擇處置單元42的位置。然而,如果設(shè)置處置單元42,那么它必須定位在氣體出口 30的下游。
真空治療可以連續(xù)方式或者以間歇方式應(yīng)用。在連續(xù)方式下,真空可如上所述形成。然而,在間歇方式下,如上所述真空治療的周期可與大氣壓力的周期相交替。由此,可以設(shè)置另一個(gè)氣體進(jìn)口,空氣可以通過(guò)該進(jìn)口流到空間18中。該氣體進(jìn)口可被直接地定位在沖洗單元16或者定位在管件26。然而,特別是當(dāng)以間歇方式應(yīng)用真空治療時(shí),根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)能夠應(yīng)用交替的真空治療以及一氧化氮施用。這可以通過(guò)在真空治療周期之后,用一氧化氮?dú)怏w使空間18通氣來(lái)實(shí)現(xiàn)。閥38、40必須以對(duì)應(yīng)的方式調(diào)節(jié)。這樣允許結(jié)合了一氧化氮施用優(yōu)點(diǎn)以及真空治療好處的治療起作用。有利地,可設(shè)置控制單元,從而在限定的時(shí)間范圍內(nèi)控制一氧化氮的施用以及真空的形成。這樣能夠在例如整晚使單一治療或者組合治療起作用。此外,控制單元可由醫(yī)護(hù)人員(如護(hù)士或醫(yī)生)來(lái)進(jìn)行調(diào)節(jié)。這確保了在充足時(shí)間內(nèi)進(jìn)行充足治療的處理,即便是該系統(tǒng)被用于沒有醫(yī)護(hù)人員的家庭護(hù)理應(yīng)用時(shí)。圖2中顯示了根據(jù)本發(fā)明第二方面的有關(guān)傷口護(hù)理系統(tǒng)的實(shí)施例。與圖I相類似,病人皮膚的一部分12被示意性地顯示,該部分12包括傷口 14。為了改進(jìn)傷口治療過(guò)程,應(yīng)用一氧化氮到傷口 14的施用。為了施用一氧化氮,設(shè)置沖洗單元16。沖洗單元16限定了空間18,空間18直接鄰近傷口 14并且圍繞著傷口。在空間18內(nèi),一氧化氮可被施用到傷口 14從而獲得期望的改進(jìn)治療效果。由此,沖洗單元16以氣密方式密封空間18而與外部大氣隔離。這避免了位于空間18內(nèi)的氣體與空間18外部大氣之間的交換。此外,最優(yōu)選的是沖洗單元16被形成為柔性箔,特別是由有機(jī)聚合物(類似聚氨酯)形成,獲得了針對(duì)圖I所說(shuō)明的優(yōu)點(diǎn)。由此,有利的是在箔的至少內(nèi)側(cè)上設(shè)置抗菌和/或非粘性涂層。根據(jù)本發(fā)明的第二方面,本系統(tǒng)被設(shè)計(jì)成直接鄰近傷口 14以及由此在空間18內(nèi)部形成一氧化氮。由此,空間18內(nèi)部具有包括氮?dú)夂脱鯕獾臍怏w混合物。為了在空間18內(nèi)部提供所述氣體混合物,空間18要與包括氮?dú)獾臍怏w源46以及包括氧氣的氣體源48流體相通。這些氣體源46、48可以是加壓氣體罐或者壁掛供應(yīng)裝置。為了產(chǎn)生氮?dú)夂脱鯕獾幕旌衔?,氣體源46、48要與氣體混合器24流體相通。在氣體混合器24的下游,氣體混合物通過(guò)管件26而被運(yùn)送到氣體進(jìn)口 28,從而進(jìn)入到空間18中,例如通過(guò)壓縮機(jī)或者通過(guò)加壓氣體罐。替換性地,可以設(shè)置一個(gè)單一氣體源用于分配氮?dú)夂脱鯕獾幕旌衔铩W鳛槭纠?,這可以是包括所述氣體混合物的加壓氣體罐。在這種情況下,氣體罐經(jīng)由管件26而與氣體進(jìn)口 28流體相通。此外,氣體可以經(jīng)由加壓氣體罐或者通過(guò)壓縮器單元而被輸送。此外,還可以使用氮?dú)夂涂諝獾幕旌衔?。從這一點(diǎn)看,加壓氮?dú)鈿怏w罐可被用于通過(guò)管件而與氣體進(jìn)口 28流體相通。此外,可以設(shè)置附加的氣體進(jìn)口,該附加的氣體進(jìn)口與空間18流體相通或者與使氮?dú)鈿怏w罐與氣體進(jìn)口 28相連接的管件流體相通。在這種情況下,氣體混合物可被設(shè)置具有降低的氧氣濃度,這提供了用于形成一氧化氮的改進(jìn)環(huán)境。然而特別有利地,氮?dú)夂脱鯕獾幕旌衔锇?lt; 5%的氧氣。從這一點(diǎn)看,大部分氧氣或者全部氧氣被用于氮?dú)獾难趸?。由此,基本上沒有留下氧氣來(lái)對(duì)一氧化氮進(jìn)行氧化。從這一點(diǎn)看,可以避免產(chǎn)生更高氧化狀態(tài)下的有害氮氧化物。此外,壓力調(diào)節(jié)器和/或流量控制閥可以有利地來(lái)確保適當(dāng)?shù)臍怏w流量被運(yùn)送到空間18,以及單向閥可防止空間18內(nèi)的氣體回流到所述空間18的外部。 此外,根據(jù)本發(fā)明的第二方面,在空間18的內(nèi)部設(shè)置加熱元件50。加熱元件50可被設(shè)計(jì)為平坦金屬片或銷。它可以被電流加熱。在這種情況下,設(shè)置電連接件來(lái)使加熱元件50與電流源(例如電池)相連接。加熱元件50被設(shè)計(jì)成加熱位于空間18內(nèi)部的氣體。這能夠?qū)怏w的溫度升高到氮?dú)饪膳c氧氣反應(yīng)來(lái)形成一氧化氮的值。由于設(shè)置了加熱元件50,由此能夠在直接鄰近傷口 14處形成期望的一氧化氮。結(jié)果是傷口 14處一氧化氮濃度增大,導(dǎo)致所提供的一氧化氮?dú)怏w的有效利用。關(guān)于一氧化氮治療,一氧化氮?dú)怏w傾向于氧化到更高氧化狀態(tài)的氮氧化物。為了降低或者避免這種氧化,在本發(fā)明的特別優(yōu)選實(shí)施例中,根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)包括薄膜44。薄膜44被設(shè)計(jì)成降低空間18內(nèi)部的氧氣含量。薄膜44可由聚合物纖維形成。然而,在本領(lǐng)域公知的有多種可能來(lái)形成這種薄膜44。氧氣含量的降低減小了一氧化氮被氧化的風(fēng)險(xiǎn)。這樣的優(yōu)點(diǎn)在于沒有一氧化氮流失以及由此空間18內(nèi)部存在的所有一氧化氮都可被用于改進(jìn)治療過(guò)程。由于設(shè)置薄膜44,治療過(guò)程的改進(jìn)由此可以更加有效。此外,有毒氣體如二氧化氮將不會(huì)存在或者至少它們不會(huì)保持在有害水平之下。降低氧氣含量的效果可以通過(guò)薄膜44將氧氣從通過(guò)氣體進(jìn)口 28而流入到空間18內(nèi)的氣體中去除而得以實(shí)現(xiàn)。形成這種薄膜44的簡(jiǎn)單方式是使用對(duì)于氧氣具有降低的滲透特性但是對(duì)于其它氣體特別是氮?dú)舛哂辛己脻B透的薄膜44??紤]這一點(diǎn),薄膜44可被設(shè)計(jì)成氣體進(jìn)口 28或者管件26中的堵頭。此外,薄膜44可設(shè)計(jì)為扁平片或者作為沖洗單元16的位于氣體進(jìn)口 28的一部分,如參考圖3所述。因此,薄膜具有與氣體進(jìn)口 28的尺寸對(duì)應(yīng)的尺寸。代替使用薄膜44的滲透特性降低空間18中氧氣含量,薄膜44也可以被設(shè)計(jì)成通過(guò)氧氣的吸收來(lái)降低氧氣含量。這使得空間18中存在的氧氣被薄膜44吸收以及由此防止一氧化氮?dú)怏w的氧化。這確保了氣體在進(jìn)入到空間18之前流經(jīng)薄膜44以及允許將氣體混合物中的氧氣含量降低到氮?dú)夂脱鯕鈺?huì)發(fā)生適當(dāng)反應(yīng)的量。還優(yōu)選地吸收氧氣,由此降低氧氣的含量。此外,為了避免一氧化氮的氧化,如果薄膜44被設(shè)計(jì)成將氧氣量降低到< 5%的話,那么特別是有利的。
在空間18的下游,設(shè)置氣體出口 30,用于氣體混合物和/或產(chǎn)生的一氧化氮的流出。氣體出口 30與真空單元34和/或處置單元42流體相通。這允許消除了所形成的一氧化氮?dú)怏w以及還使氣體離開空間18。與本發(fā)明的第一方面相比,可設(shè)置進(jìn)口閥38以及出口閥40以允許多種可能的治療方法。作為示例,進(jìn)口閥38可以相對(duì)于各個(gè)氣體源打開,而出口閥40可相對(duì)于真空單元34封閉而相對(duì)于處置單元42打開。在這種情況下,氣體混合物可通過(guò)壓縮機(jī)單元或者通過(guò)加壓氣體罐而被運(yùn)送,以及可流入到?jīng)_洗單元16中。由于加熱元件50加熱空間18內(nèi)部的氣體,氮?dú)鈱?huì)被氧化從而形成一氧化氮,由此提高了治療效果。在空間18的下游,氣體將會(huì)通過(guò)氣體出口 30離開沖洗單元16以及將會(huì)通過(guò)處置單元42而被運(yùn)送到外部大氣。在另一種操作模式下,進(jìn)口閥38處于如上面所述的位置,但是出口閥40相對(duì)于真空單元34處于打開位置。在這種情況下,氣體可通過(guò)真空單元34而被運(yùn)送。為了去除一氧化氮?dú)怏w,有利地是在真空單元34下游提供處置單元。
然而特別地針對(duì)家庭護(hù)理應(yīng)用,假如氣體混合物的單一氣體源是圍繞著沖洗單元16的大氣(即空氣),那么真空單元34的使用是特別優(yōu)選的。在這個(gè)情況下,借助了空氣自身主要包括氮?dú)夂脱鯕獾膬?yōu)點(diǎn),其中主要部分是氮?dú)???紤]這一點(diǎn),真空單元34可將空氣通過(guò)氣體進(jìn)口 28而抽吸到空間18中。這個(gè)實(shí)施例在圖3中顯示出來(lái)。根據(jù)圖3,薄膜44被設(shè)計(jì)成扁平片,或者作為沖洗單元16的一部分,或者箔。氣體進(jìn)口 28可由此被設(shè)計(jì)成薄膜44所在的區(qū)域。換句話說(shuō),薄膜44可形成氣體進(jìn)口 28。由此,通過(guò)在空間18內(nèi)部形成負(fù)壓,空氣被吸入到所述空間18中,由此在空間18內(nèi)部形成氮?dú)夂脱鯕獾幕旌衔铩S捎谠O(shè)置了薄膜44,空氣18內(nèi)部的氣體主要包括氮?dú)?。氧氣同樣存在,但是量較少。假如加熱元件50加熱空間18內(nèi)傷口 14附近的大氣,那么氮?dú)獗谎趸纬梢谎趸?。由于氣體混合物中氧氣的低濃度,因此形成一氧化氮而其自身不會(huì)氧化。更高氧化狀態(tài)下的有害氮氧化物由此得以避免。在空間18的下游,氣體混合物會(huì)通過(guò)氣體出口 30、管件32以及通過(guò)真空單元34和處置單元42而離開空間18。這個(gè)實(shí)施例對(duì)于家庭護(hù)理應(yīng)用是尤其有利的。不需要?dú)怏w罐、壁掛供應(yīng)裝置或者類似裝置。該系統(tǒng)是可便攜的以及提供良好的操控能力。明顯的是,根據(jù)本發(fā)明第二方面的系統(tǒng)再次允許了多種方式的治療方法。在本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例中,提供了本發(fā)明第一和第二方面的組合。關(guān)于這一點(diǎn),圖4中顯示了優(yōu)選實(shí)施例。根據(jù)圖4,根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)10包括一氧化氮?dú)怏w源20以及氮?dú)鈿怏w源46和氧氣氣體源48、或者氮?dú)饧把鯕獾臍怏w源(例如空氣),以及如圖3中所述的薄膜44。附加地,設(shè)置了海綿件36和加熱元件50。由于可以另外地存在的參考圖1、2和3所述的附件或者特征,所述系統(tǒng)可以在更廣大范圍治療方法中使用。由此能夠使用本發(fā)明第一方面連同本發(fā)明第二方面的優(yōu)點(diǎn)。盡管本發(fā)明已經(jīng)在附圖及前述說(shuō)明中進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明和描述,但是這種說(shuō)明和描述被認(rèn)識(shí)說(shuō)明性的或者示例性的以及并非限制性的;本發(fā)明沒有局限于所公開的實(shí)施例。在完成所要求保護(hù)的發(fā)明中,通過(guò)研究附圖、公開內(nèi)容以及附加的權(quán)利要求,所公開實(shí)施例的其它變形能夠被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解和實(shí)施。在權(quán)利要求中,術(shù)語(yǔ)“包括”沒有排除其它元件或步驟,以及單數(shù)不定冠詞沒有排除多個(gè)。相互不同從屬權(quán)利要求中應(yīng)用的某些措施并沒有表示這些措施的組合不能獲利。權(quán)利要求中的任意附圖標(biāo)記不應(yīng)當(dāng)被認(rèn)為是限制了 范圍。
權(quán)利要求
1.ー種用于處理病人的傷ロ(14)的傷ロ護(hù)理系統(tǒng),包括 沖洗單元(16),所述沖洗単元被設(shè)計(jì)成限定了環(huán)繞所述傷ロ(14)的空間(18)、并且將所述空間(18)密封成與外部大氣隔離,所述沖洗単元(16)至少包括與所述空間(18)流體相通的ー個(gè)氣體進(jìn)ロ(28)和一個(gè)氣體出ロ(30); 可被連接到所述氣體進(jìn)ロ(28)的一氧化氮源(20); 可被連接到所述氣體出口(30)以便在所述空間(18)內(nèi)形成負(fù)壓的真空単元(34);以及 可被放置在所述空間(18)內(nèi)的海綿件(36)。
2.ー種用于處理病人的傷ロ(14)的傷ロ護(hù)理系統(tǒng),包括 沖洗單元(16),所述沖洗単元被設(shè)計(jì)成限定了環(huán)繞所述傷ロ( 14)的空間(18)、并且將所述空間(18)密封成與外部大氣隔離,所述沖洗単元(16)至少包括與所述空間(18)流體相通的ー個(gè)氣體進(jìn)ロ(28)和一個(gè)氣體出ロ(30); 用于包括氮?dú)獾臍怏w源、以及用于包括氧氣的氣體源、或者用于包括氮?dú)夂脱鯕獾幕旌衔锏臍怏w源,用于在所述空間(18)內(nèi)形成氮?dú)夂脱鯕獾幕旌衔?;以及可被放置在所述空間(18)內(nèi)的加熱元件。
3.如權(quán)利要求I或2所述的系統(tǒng),其特征在于,所述沖洗単元(16)被形成為柔性箔。
4.如權(quán)利要求1-3任一所述的系統(tǒng),其特征在于,所述沖洗単元(16)覆蓋有抗菌涂層。
5.如權(quán)利要求1-4任一所述的系統(tǒng),其特征在于,所述沖洗単元(16)覆蓋有非粘性涂層。
6.如權(quán)利要求2-5任一所述的系統(tǒng),其特征在于,設(shè)置至少ー個(gè)薄膜,所述薄膜被設(shè)計(jì)成降低所述空間(18)內(nèi)存在的氧氣的量。
7.如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng),其特征在于,所述薄膜位于所述沖洗單元(16)的氣體進(jìn)ロ(28)。
8.如權(quán)利要求6或7所述的系統(tǒng),其特征在于,所述薄膜(44)形成所述沖洗単元(16)的一部分。
9.如權(quán)利要求6-8任一所述的系統(tǒng),其特征在于,所述薄膜對(duì)于氧氣具有吸附力。
10.如權(quán)利要求1-9任一所述的系統(tǒng),其特征在干,處置單元(42)被設(shè)置在所述氣體出ロ(30)的下游。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于處理病人的傷口(14)的傷口護(hù)理系統(tǒng),包括沖洗單元(16),所述沖洗單元被設(shè)計(jì)成限定了環(huán)繞所述傷口(14)的空間(18)、并且將所述空間(18)密封成與外部大氣隔離,所述沖洗單元(16)至少包括與所述空間(18)流體相通的一個(gè)氣體進(jìn)口(28)和一個(gè)氣體出口(30);可被連接到所述氣體進(jìn)口(28)的一氧化氮源(20);可被連接到所述氣體出口(30)以便在所述空間(18)內(nèi)形成負(fù)壓的真空單元(34);以及可被放置在所述空間(18)內(nèi)的海綿件(36)。
文檔編號(hào)A61M35/00GK102834125SQ201180016785
公開日2012年12月19日 申請(qǐng)日期2011年3月22日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月31日
發(fā)明者C·H·伊格尼, R·希爾比希, R·平特 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司
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