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一種醫(yī)用輻照裝置的制作方法

文檔序號:910988閱讀:137來源:國知局
專利名稱:一種醫(yī)用輻照裝置的制作方法
技術領域
本發(fā)明涉及醫(yī)用輻照裝置。
現(xiàn)有技術現(xiàn)有的類似技術是自屏蔽血液輻照裝置,包括放射源、屏蔽體、放置盛放待照物的托盤和待照物的進出口,待照物的進出口處設置有屏蔽門。由于這種裝置只有一個托盤,輻照物體的容量較小,放射源的使用效率也很小。如要擴大輻照物的容量,則輻照區(qū)域的均勻性難以保證,同時使裝置的體積變大,同時,由于放射源不間斷的發(fā)出放射線,打開屏蔽門時在裝置旁邊的 操作人員常會受到輻射傷害,為此,有的醫(yī)用輻照裝置采用了非常復雜的結構,在待照物完成輻照后,將放射源先屏蔽住,然后才容許待照物進出輻照裝置。

發(fā)明內容
本發(fā)明提供一種醫(yī)用輻照裝置,在不增加放射源使用量的情況下,解決現(xiàn)有醫(yī)用輻照裝置在輻照容量,以及輻照物進出裝置時使用人員在輻射安全方面的問題。為了解決以上技術問題,本發(fā)明采取的技術方案是:一種醫(yī)用輻照裝置,包括放射源、屏蔽結構、放置待照物的托盤和待照物的進出口,其特征是,所述的屏蔽結構包括內部帶空心管的外屏蔽框,位于外屏蔽框中心管內的屏蔽柱,位于外屏蔽框底部的屏蔽蓋,位于外屏蔽框上部的屏蔽塞子等幾部分。屏蔽柱在屏蔽柱驅動機構的作用下可繞自己的中心軸轉動,所述放射源設置于外屏蔽框空心管中部,所述屏蔽柱上與放射源位置相對的位置處設置有一個輻照空間,所述放置待照物的托盤位于輻照空間內以使托盤轉到與放射源相對的位置時能正面接受放射源的輻照,所述待照物的進出口設置在外屏蔽框上與托盤的高度相匹配的位置處,使屏蔽體柱上的托盤轉到待照物的進出口時能方便待照物的進出。所述托盤有多個,均勻分布在一個圓周上。每個托盤下均連接有托盤驅動機構,托盤在托盤驅動機構的作用下能繞自身中心軸轉動,以保證放置在其上面的待照物能均勻接受輻照。所述放射源有多個,有利于輻照區(qū)域的照射劑量均勻。放射源位于托盤所處圓周的圓心位置處,以保證每個托盤所受的輻照情況都是一致的。在采用了上述技術方案后,屏蔽框內的屏蔽柱在屏蔽柱驅動機構的作用下可繞自己的中心軸轉動,放射源設置于屏蔽框空心管中部,屏蔽柱上與放射源位置相對的位置處設有一個輻照空間,待照物的進出口設置在屏蔽框上與托盤的高度相匹配的位置處,通過屏蔽柱的旋轉以使托盤轉到與放射源相對位置時能正面接受放射源的輻照,同時通過屏蔽柱的旋轉使托盤轉到待照物的進出口時能方便待照物的進出,而使無論在待照物的進出瞬間、待照物的接受輻照期間和待照物的輻照裝置不工作期間的屏蔽效果完全一樣,不會因為待照物的進出而導致輻射泄漏,解決了現(xiàn)有醫(yī)用輻照儀打開屏蔽門時在裝置旁邊的操作人員在輻射安全方面的問題。
在采用了上述方案后,由于裝置中有多個托盤,均勻分布在一個圓周上。每個托盤下還連接有托盤驅動機構,托盤在托盤驅動機構的作用下繞自身中心軸轉動,以保證放置在其上面的待照物能均勻接受輻照。這就解決了在同樣的放射源使用量下,增加輔照物容量的問題同時每個托盤上的輻照場均勻性也沒有受到影響。


圖1是本發(fā)明的橫向剖面結構示意圖。圖2是本發(fā)明的縱向剖面結構示意圖。
圖中各編號說明如下:
1.外屏蔽框2.屏蔽柱3.放射源4.輻照容器5.屏蔽塞子
6.托盤及驅動機構7.屏蔽蓋8.屏蔽柱驅動機構
9.待照物進出口
具體實施例方式如圖所示,一種醫(yī)用輻照裝備,包括放射源3、屏蔽結構、放置待照物的托盤6和待照物的進出口 9。屏蔽結構包括外屏蔽框I和位于外屏蔽框I內的屏蔽柱2,屏蔽柱2在屏蔽柱驅動機構8的作用下可繞自身中心軸轉動,放射源3設置于外屏蔽框I 一側的內壁處,屏蔽柱2上與放射源3位置相對處開有一個輻照空腔,待照物放于輻照容器4中,并置于托盤7上。輻照容器4與托盤6放于屏蔽柱2的輻照空腔內,當屏蔽柱2轉到與放射源3相對位置時,輻照容器4能正面接受放射源3的輻照。待照物的進出口 9位于外屏蔽框2上與托盤7的高度相匹配處,以使屏蔽柱2轉動到非工作位置時(屏蔽柱2的輻照空腔朝向進出口位置),托盤6上的輻照容器4能方便的從進出口進出。托盤6內裝有驅動機構,使得輻照容器4托盤驅動機構的作用下能繞自身軸心轉動,以保證放置在其上面的待照物能均勻接受輻照。放射源·3有兩個,以使位于輻照空間內的帶照物能得到均勻的輻照。當然也可以有I個或多個。
權利要求
1.一種醫(yī)用輻照裝置,包括放射源、屏蔽結構、放置待照物的托盤和待照物的進出口,其特征是,所述的屏蔽結構包括內部帶空心管的外屏蔽框,位于外屏蔽框中心管內的屏蔽柱,位于外屏蔽框底部的屏蔽蓋,位于外屏蔽框上部的屏蔽塞子等幾部分。屏蔽柱在屏蔽柱驅動機構下可繞自己的中心軸轉動,所述放射源放置于屏蔽框內部的空腔中,所述屏蔽柱上與放射源位置相對的位置處設置有一個輻照空間,所述盛放待照物的托盤位于輻照空間內,所述待照物的進出口設置在外屏蔽框上與托盤的高度相匹配的位置處。本裝置通過屏蔽柱的旋轉可使托盤轉到與放射源相對應的位置,從而使待照物能正面接受放射源的照射和使待照物從進出口進出。本裝置在待照物進出的狀態(tài)或待照物被輻照的狀態(tài),其屏蔽效果是完全一致的。
2.如權利要求1所述的醫(yī)用輻照裝置,其特征是,所述托盤有多個,均勻分布在一個圓周上。每個托盤下還連接有驅動機構,使每個托盤都能繞自身軸線轉動。
3.如權利要 求1所述的醫(yī)用輻照裝置,其特征是,所述放射源有多個。
全文摘要
一種醫(yī)用輻照裝置,包括放射源、屏蔽結構、放置待照物的托盤和待照物的進出口,通過特定的機構設計,使得放置在一定容量的容器中的待照物均勻的受到放射源的照射。并且,該機構能保證操作人員在操作過程中受到的輻射劑量是在安全的范圍內。
文檔編號A61M1/36GK103239764SQ20121002877
公開日2013年8月14日 申請日期2012年2月9日 優(yōu)先權日2012年2月9日
發(fā)明者溫晶舟, 劉新龍, 田偉, 許玉欽, 曾憲峰 申請人:深圳市華科核醫(yī)療技術有限公司
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