專利名稱：一種可降解鎂合金介入支架的制備方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種血管、膽管等人體器官介入治療用介入支架的制備方法，尤其是涉及一種可降解鎂合金介入支架的制備方法。
背景技術：
血管介入支架最初應用于經(jīng)皮血管成形術效果不理想或受損血管的治療，以及修復旁路搭橋造成的復合型損傷。與單純的PTCA相比，血管支架植入人體后造成的急性閉塞 和再狹窄的發(fā)生率明顯降低。由于支架長期與血液接觸，材料的血液相容性和生物力學性能的優(yōu)劣，將直接影響臨床應用效果。目前，已經(jīng)應用于臨床的支架絕大部分是由金屬制成的，包括316L不銹鋼、鈦合金、鈷基合金、鉭基合金、鎂合金等。金屬支架材料大多力學性能較好，但是隨著時間的推移，金屬材料逐漸老化、腐蝕，在體液中釋放出金屬離子，對機體可能產(chǎn)生不良影響。另外，支架在體內長期受到體內應力的作用，在較長時間使用后，可能會發(fā)生疲勞斷裂。因而，當前研究和發(fā)展趨勢是研究可降解的介入支架。鎂合金的密度低且比強度、比剛度高，特別是具有生物相容性好、彈性模量低、在體內可以逐步降解并被人體有效吸收等特點，近年來，越來越多的鎂合金材料被用于外科植入器械(如接骨板、接骨螺釘?shù)?和內科介入器械(如血管內支架等產(chǎn)品)的開發(fā)與應用。用作血管支架的鎂合金一般含90%以上的鎂，力學性能與316L不銹鋼相當，是唯一的一種可作生物降解吸收金屬支架材料，其植入人體后大約兩個月左右可被吸收，釋放出的Mg離子對人體無毒副作用。由于可被血液溶解吸收，鎂合金支架可以在同一血管病變部位進行多次介入治療，而不會有支架重疊帶來的問題，這對改善病變血管順應性有積極意義，更重要的是支架植入術后可以采用無創(chuàng)檢查隨訪。2004年，鎂合金冠脈支架首次用于人體臨床實驗并取得了成功。最近，又有一種新的鎂合金可降解支架被開發(fā)出來，它的成分是Mg-3Al-lRe，研究表明是安全有效的。作為一種可吸收金屬支架，鎂合金支架具有作為新型支架的潛力，而且降解產(chǎn)物無毒，是金屬支架發(fā)展的一個重要方向。但鎂合金在室溫下的塑性很差，在加工制備過程中極易發(fā)生氧化，所以鎂合金的高端產(chǎn)品的深、精加工，已成為制約鎂合金在生物醫(yī)學工程等高科技領域應用與發(fā)展的瓶頸。早期的血管支架部分是用合金絲編織而成的，特別是TiNi合金絲制作的支架多半都是編織成的。后來，臨床發(fā)現(xiàn)編織的支架精密度和力學性能較差，加工成品率低，于是發(fā)展出了管材的激光雕刻技術，采用細徑薄壁鎂合金管材激光雕刻支架的結構更穩(wěn)定，不易變形，徑向支撐力更強，加工效率更高，且加工過程中可以用氣體進行保護可有效控制工件表面的氧化，加工的圖形容易變更，進而可以降低支架的制作成本。鎂合金非?；顫?，表面易大氣氧化，和水等多數(shù)極性溶劑易發(fā)生腐蝕溶解，為鎂合金支架的后處理帶來了很大的困難。因此，有必要開發(fā)生物可降解鎂合金血管內支架的加工及后處理技術。

發(fā)明內容
本發(fā)明所要解決的技術問題在于針對上述現(xiàn)有技術中的不足，提供一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其方法步驟簡單、設計合理、實現(xiàn)方便且使用效果好，能夠有效避免支架在加工過程中發(fā)生氧化，并且所制備介入支架的尺寸精度高、表面光潔度高且力學性能優(yōu)良。為解決上述技術問題，本發(fā)明采用的技術方案是一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征在于該方法包括以下步驟步驟一、鎂合金毛細管選擇所選擇的鎂合金毛細管為外徑Ol. 5mm O 19mm，壁厚0. 2mm Imm,長度20mm IOOmm且直線度< lmm/m的鎂合金無縫管；所述鎂合金無縫管的材質為能夠生物降解的醫(yī)用鎂合金材料；步驟二、激光雕刻成型先將預先設計并繪制好的所需雕刻成型的介入支架圖案導入激光雕刻機；之后，在惰性氣體保護下，采用所述激光雕刻機對步驟一中所選擇的所述 鎂合金毛細管進行精密雕刻，并制得經(jīng)精密雕刻成型的介入支架；所述激光雕刻機的激光輸出功率為20W 50W，激光輸出頻率為1500Hz 9000Hz，所輸出激光的脈寬為0. Ims 0. 5ms ;且進行激光雕刻時，所述激光雕刻機的激光發(fā)射口與所述鎂合金毛細管的被刻蝕表面間的距離為2mm 3mm,切割速度為70mm/min 150mm/min;步驟三、去渣處理將步驟二中所述經(jīng)精密雕刻成型的介入支架，放入呈弱酸性的清洗劑中超聲清洗3min IOmin后真空干燥；步驟四、一次噴砂處理，其處理過程如下步驟401、噴砂處理采用噴砂機對步驟三中去渣處理后的介入支架進行噴砂處理，噴砂處理時所采用的砂粒由玻璃珠和白色剛玉珠混合形成，且所述砂粒中玻璃珠的體積百分數(shù)為10% 30% ;所述玻璃珠和白色剛玉珠的粒度均為-180目；步驟402、超聲清洗將步驟401中噴砂處理后的介入支架，放入呈弱酸性的清洗劑中超聲清洗3min IOmin后真空干燥；步驟五、熱處理采用真空爐或在氬氣保護下采用熱處理爐，對步驟402中真空干燥后的介入支架進行熱處理，熱處理時間為5min 20min,熱處理溫度為200°C 400°C ；步驟六、二次噴砂處理，其處理過程如下步驟601、噴砂處理采用噴砂機對步驟五中熱處理后的介入支架進行噴砂處理，噴砂處理時所采用的砂粒由玻璃珠和白色剛玉珠混合形成，且所述砂粒中玻璃珠的體積百分數(shù)為10% 30% ;所述玻璃珠和白色剛玉珠的粒度均為-180目；步驟602、超聲清洗將步驟601中噴砂處理后的介入支架，放入呈弱酸性的清洗劑中超聲清洗3min IOmin后真空干燥；步驟七、電解拋光處理，其處理過程如下步驟701、電解拋光處理以步驟602中真空干燥后的介入支架作為陽極，以鋁棒為陰極進行電解拋光處理；且進行電解拋光處理時，電解溫度為_25°C 20°C，電解電壓為電壓為8V 15V直流電壓，電解時間為30s 2min ;所采用的電解液由磷酸和有機溶劑均勻混合形成，且所述電解液中磷酸的體積比為10% 20% ；
步驟702、超聲清洗將步驟701中電解拋光處理后的介入支架，放入無水乙醇中超聲清洗3min IOmin后真空干燥。上述一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征是步驟一中所述醫(yī)用鎂合金材料為AZ31鎂合金或WE43鎂合金。上述一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征是步驟二中所述的惰性氣體為氬氣或氮氣。上述一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征是步驟三、步驟402和步驟602中所述呈弱酸性的清洗劑，均由硝酸、無水乙醇和水按照體積比為(20 10) (70 75) (10 20)的比例均勻混合而成。上述一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征是步驟401和步驟601中所 述玻璃珠和白色剛玉珠的粒度均為-180目 +250目。上述一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征是步驟701中所述有機溶劑為甲醇和/或乙醇。上述一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征是步驟701中所述有機溶劑優(yōu)選為由甲醇和乙醇均勻混合而成的混合溶劑，且所述電解液中甲醇的體積百分比為50% 80%。上述一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征是步驟401中進行噴砂處理時，噴砂距離為25cm 30cm,噴砂角度為30° 45° ,噴砂壓力為0. 4MPa±0. 02Mpa,且噴砂時間為40s 55s ;步驟601中進行噴砂處理時，噴砂距離為35cm 40cm，噴砂角度為30° 45。，噴砂壓力為0. 4MPa±0. 02Mpa，且噴砂時間為20s 35s。上述一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征是步驟401中進行噴砂處理時，噴砂壓力優(yōu)選為0. 4MPa，且噴砂時間優(yōu)選為50s ;步驟601中進行噴砂處理時，噴砂壓力優(yōu)選為0. 4MPa，且噴砂時間優(yōu)選為30s。本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比具有以下優(yōu)點I、制備方法步驟簡單、實現(xiàn)方便且加工精度高，可得到尺寸精度高的鎂合金介入支架。2、所需加工制備血管內支架的圖案便于整體設計，所設計的圖案容易變更且制備工藝中控制精確、精度高，所選用的原料為生物相容性好的且可生物降解的細徑薄壁鎂合金無縫金屬管材。3、制備方法設計合理，其制備過程主要包括以下步驟一、鎂合金毛細管材選擇；
二、惰性氣體保護下，通過激光雕刻機對鎂合金管材進行精密雕刻；三、在混合溶液中進行超聲清洗，去除殘渣，不僅清洗方便且去渣效果好；四、一次噴砂處理，去除加工毛刺和氧化皮；五、熱處理消除鎂合金材料內部及激光雕刻加工過程產(chǎn)生的應力；六、二次噴砂處理，增加支架的表面強度；七、電解拋光處理，去除氧化層，降低支架表面粗糙度值，提高抗凝血性能，此時便得到可降解介入支架。4、在加工制備的同時，介入支架的基體保證不被氧化，使得介入支架基體的表面
后處理工藝簡單易行。5、根據(jù)所用細徑薄壁鎂合金管材的不同規(guī)格，合理的選擇激光雕刻機的加工參數(shù)，使切割出來的血管內支架表面質量更好，尺寸精度更高，力學性能更優(yōu)良。
6、由于鎂合金非常活潑，其表面易被大氣氧化，因而其和水等多數(shù)極性溶劑易發(fā)生腐蝕溶解，因此采用弱酸的有機溶劑對支架進行表面處理，并根據(jù)激光雕刻成型后支架的不同規(guī)格合理調整溶劑中溶液的比例和處理時間，能夠達到更好的處理效果。7、使用效果好，所制備的介入支架工藝精度高，所需加工的圖案容易變更且控制精確，在加工制備的同時，支架基體也能保證不被氧化。因而，本發(fā)明能夠避免支架在加工過程中發(fā)生氧化，得到尺寸精度高、表面強度高且力學性能好的可降解鎂合金介入支架。8、適用范圍廣泛，其鎂合金毛細管的激光雕刻精密成型以及雕刻成型后介入支架表面的后續(xù)處理工藝，不僅可用于臨床中治療血管狹窄的且能生物降解的鎂合金血管內支架的制備，同樣可用于冠脈、顱內血管等人體各類血管和非血管介入內支架的制備。綜上所述，本發(fā)明方法步驟簡單、設計合理、實現(xiàn)方便且使用效果好，能夠有效避免支架在加工過程中發(fā)生氧化，并且所制備介入支架的尺寸精度高、表面強度高且力學性能優(yōu)良。 下面通過附圖和實施例，對本發(fā)明的技術方案做進一步的詳細描述。


圖I為本發(fā)明制備方法的流程框圖。
具體實施例方式如圖I所示的的一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，包括以下步驟步驟一、鎂合金毛細管選擇所選擇的鎂合金毛細管為外徑O I. 5mm O 19mm、壁厚0. 2mm 1mm、長度20mm IOOmm且直線度< lmm/m的鎂合金無縫管；所述鎂合金無縫管的材質為能夠生物降解的醫(yī)用鎂合金材料。步驟二、激光雕刻成型先將預先設計并繪制好的所需雕刻成型的介入支架圖案導入激光雕刻機；之后，在惰性氣體保護下，采用所述激光雕刻機對步驟一中所選擇的所述鎂合金毛細管進行精密雕刻，并制得經(jīng)精密雕刻成型的介入支架。所述激光雕刻機的激光輸出功率為20W 50W，激光輸出頻率為1500Hz 9000Hz，所輸出激光的脈寬為0. Ims 0. 5ms ;且進行激光雕刻時，所述激光雕刻機的激光發(fā)射口與所述鎂合金毛細管的被刻蝕表面間的距離為2mm 3mm,切割速度為70mm/min 150mm/min。所述經(jīng)精密雕刻成型的介入支架上的圖案為由多個兩兩呈鏡面對稱的圖形組成的管網(wǎng)結構，所述管網(wǎng)結構上的單個網(wǎng)孔為圓形、橢圓形、菱形或燕尾形。步驟三、去渣處理將步驟二中所述經(jīng)精密雕刻成型的介入支架，放入呈弱酸性的清洗劑中超聲清洗3min IOmin后真空干燥。步驟四、一次噴砂處理，其處理過程如下步驟401、噴砂處理采用噴砂機對步驟三中去渣處理后的介入支架進行噴砂處理，噴砂處理時所采用的砂粒由玻璃珠和白色剛玉珠混合形成，且所述砂粒中玻璃珠的體積百分數(shù)為10% 30% ;所述玻璃珠和白色剛玉珠的粒度均為-180目。步驟402、超聲清洗將步驟401中噴砂處理后的介入支架，放入呈弱酸性的清洗劑中超聲清洗3min IOmin后真空干燥。
步驟五、熱處理采用真空爐或在氬氣保護下采用熱處理爐，對步驟402中真空干燥后的介入支架進行熱處理，熱處理時間為5min 20min,熱處理溫度為200°C 400°C。步驟六、二次噴砂處理，其處理過程如下步驟601、噴砂處理采用噴砂機對步驟五中熱處理后的介入支架進行噴砂處理，噴砂處理時所采用的砂粒由玻璃珠和白色剛玉珠混合形成，且所述砂粒中玻璃珠的體積百分數(shù)為10% 30% ;所述玻璃珠和白色剛玉珠的粒度均為-180目。步驟602、超聲清洗將步驟601中噴砂處理后的介入支架，放入呈弱酸性的清洗劑中超聲清洗3min IOmin后真空干燥。步驟七、電解拋光處理，其處理過程如下步驟701、電解拋光處理以步驟602中真空干燥后的介入支架作為陽極，以鋁棒 為陰極進行電解拋光處理；且進行電解拋光處理時，電解溫度為_25°C 20°C，電解電壓為電壓為8V 15V直流電壓，電解時間為30s 2min ;所采用的電解液由磷酸和有機溶劑均勻混合形成，且所述電解液中磷酸的體積比為10% 20%。步驟702、超聲清洗將步驟701中電解拋光處理后的介入支架，放入無水乙醇中超聲清洗3min IOmin后真空干燥。實際制備過程中，步驟三、步驟402和步驟602中所述呈弱酸性的清洗劑，均由硝酸、無水乙醇和水按照體積比為(20 10) (70 75) (10 20)的比例均勻混合而成。具體清洗時，也可以采用其它類型的弱酸性清洗劑。步驟401中進行噴砂處理時，噴砂距離為25cm 30cm，噴砂角度為30。 45。，噴砂壓力為0. 4MPa±0. 02Mpa，且噴砂時間為40s 55s ;步驟601中進行噴砂處理時，噴砂距離為35cm 40cm,噴砂角度為30。 45。，噴砂壓力為0. 4MPa±0. 02Mpa,且噴砂時間為 20s 35s。實際進行電解拋光處理時，步驟701中所述有機溶劑為甲醇和/或乙醇，也可采用其它類型的有機溶劑。實施例I本實施例中，所采用的可降解鎂合金介入支架的制備方法，包括以下步驟步驟一、鎂合金毛細管選擇所選擇的鎂合金毛細管為外徑2mm、壁厚0. 2mm、長度30mm且直線度lmm/m的鎂合金無縫管；所述鎂合金無縫管的材質為AZ31鎂合金材料。步驟二、激光雕刻成型先將預先設計并繪制好的所需雕刻成型的介入支架圖案導入激光雕刻機；之后，在惰性氣體保護下，采用所述激光雕刻機對步驟一中所選擇的所述鎂合金毛細管進行精密雕刻，并制得經(jīng)精密雕刻成型的介入支架。本實施例中，所述惰性氣體為氬氣。所述激光雕刻機的激光輸出功率為25W，激光輸出頻率為1500Hz，所輸出激光的脈寬為0. Ims ;且進行激光雕刻時，所述激光雕刻機的激光發(fā)射口與所述鎂合金毛細管的被刻蝕表面間的距離為2mm,切割速度為70mm/min。步驟三、去渣處理將步驟二中所述經(jīng)精密雕刻成型的介入支架，放入呈弱酸性的清洗劑中超聲清洗3min后真空干燥。步驟四、一次噴砂處理，其處理過程如下步驟401、噴砂處理采用噴砂機對步驟三中去渣處理后的介入支架進行噴砂處理，噴砂處理時所采用的砂粒由玻璃珠和白色剛玉珠混合形成，且所述砂粒中玻璃珠的體積百分數(shù)為10%;所述玻璃珠和白色剛玉珠的粒度均為-180目 +250目。實際進行噴砂處理時，所述玻璃珠和白色剛玉珠的粒度均過180目篩便可。本步驟中，進行噴砂處理時，噴砂距離為25cm，噴砂角度為30°，噴砂壓力為0. 4MPa，且噴砂時間為50s。步驟402、超聲清洗將步驟401中噴砂處理后的介入支架，放入呈弱酸性的清洗劑中超聲清洗3min后真空干燥。步驟五、熱處理采用真空爐對步驟402中真空干燥后的介入支架進行真空熱處理，熱處理時間為20min，熱處理溫度為200°C。步驟六、二次噴砂處理，其處理過程如下·步驟601、噴砂處理采用噴砂機對步驟五中熱處理后的介入支架進行噴砂處理，噴砂處理時所采用的砂粒由玻璃珠和白色剛玉珠混合形成，且所述砂粒中玻璃珠的體積百分數(shù)為10% ;所述玻璃珠和白色剛玉珠的粒度均為-180目 +250目。本步驟中，進行噴砂處理時，噴砂距離為35cm，噴砂角度為30°，噴砂壓力為
0.4MPa，且噴砂時間為30s。步驟602、超聲清洗將步驟601中噴砂處理后的介入支架，放入呈弱酸性的清洗劑中超聲清洗3min后真空干燥。步驟七、電解拋光處理，其處理過程如下步驟701、電解拋光處理以步驟602中真空干燥后的介入支架作為陽極，以鋁棒為陰極進行電解拋光處理；且進行電解拋光處理時，電解溫度為_25°C，電解電壓為電壓為8V直流電壓，電解時間為30s。所采用的電解液由磷酸和有機溶劑均勻混合形成，且所述電解液中磷酸的體積比為10%。所述有機溶劑為由甲醇和乙醇均勻混合而成的混合溶劑，且所述電解液中甲醇的體積百分比為60%。步驟702、超聲清洗將步驟701中電解拋光處理后的介入支架，放入無水乙醇中超聲清洗3min后真空干燥。本實施例中，步驟三、步驟402和步驟602中所采用的呈弱酸性的清洗劑均由硝酸、無水乙醇和水按照體積比為20 70 10的比例均勻混合而成，其中所采用的水為去離子水。實施例2本實施例中，與實施例I不同的是步驟一中所選擇的鎂合金毛細管為外徑O 19mm、壁厚1mm、長度IOOmm且直線度為lmm/m的鎂合金無縫管；所述鎂合金無縫管的材質為WE43鎂合金材料；步驟二中進行激光雕刻時，所述激光雕刻機的激光輸出功率為50W，激光輸出頻率為9000Hz，所輸出激光的脈寬為0. 5ms ;且進行激光雕刻時，所述激光雕刻機的激光發(fā)射口與被刻蝕表面間的距離為3mm,切割速度為150mm/min ;步驟401中進行噴砂處理時，噴砂距離為30cm，噴砂角度為45°，噴砂壓力為0. 38MPa，且噴砂時間為55s ;步驟五中進行熱處理時，采用真空爐或在氬氣保護下采用熱處理爐進行熱處理，熱處理時間為20min，熱處理溫度為400°C ;步驟601中進行噴砂處理時，噴砂距離為40cm，噴砂角度為45°，噴砂壓力為0. 38MPa，且噴砂時間為35s ;步驟401和步驟601中噴砂處理時，所采用砂粒中玻璃珠的體積百分數(shù)為30% ;步驟三、步驟402和步驟602中所采用的呈弱酸性的清洗劑由硝酸、無水乙醇和水按照體積比為15 75 10的比例均勻混合而成，其中所采用的水為去離子水，且超聲清洗時間均為IOmin ;步驟701中進行電解拋光處理時，電解溫度為20°C，電解電壓為電壓為15V直流電壓，電解時間為2min。所采用電解液中磷酸的體積比為15%，所述有機溶劑為由甲醇和乙醇均勻混合而成的混合溶劑，且所述電解液中甲醇的體積百分比為50% ;步驟702中，超聲清洗時間為lOmin。本實施例中，其余方法步驟和工藝參數(shù)均與實施例I相同。實施例3本實施例中，與實施例I不同的是步驟一中所選擇的鎂合金毛細管為外徑O 10mm、壁厚0. 5mm、長度50mm且直線度為lmm/m的鎂合金無縫管；所述鎂合金無縫管的材質為AZ 31鎂合金材料；步驟二中進行激光雕刻時，在氮氣保護下進行，且所述激光雕刻機的激光輸出功率為40W，激光輸出頻率為7000Hz，所輸出激光的脈寬為0. 4ms ;且進行激光雕刻時，所述激光雕刻機的激光發(fā)射口與被刻蝕表面間的距離為3mm，切割速度為 100mm/min ;步驟401中進行噴砂處理時，噴砂距離為28cm，噴砂角度為35°，噴砂壓力為
0.42MPa，且噴砂時間為40s ;步驟五中進行熱處理時，采用真空爐或在氬氣保護下采用熱處理爐進行熱處理，熱處理時間為lOmin，熱處理溫度為300°C ;步驟601中進行噴砂處理時，噴砂距離為38cm，噴砂角度為35°，噴砂壓力為0. 42MPa，且噴砂時間為20s ;步驟401中噴砂處理時，所采用砂粒中玻璃珠的體積百分數(shù)為15%;步驟601中噴砂處理時，所采用砂粒中玻璃珠的體積百分數(shù)為20% ;步驟三、步驟402和步驟602中所采用的呈弱酸性的清洗劑由硝酸、無水乙醇和水按照體積比為15 75 10的比例均勻混合而成，步驟三和步驟602中超聲清洗時間均為6min，步驟402中超聲清洗時間為7min ;步驟701中進行電解拋光處理時，電解溫度為0°C，電解電壓為電壓為IOV直流電壓，電解時間為30s ;所采用電解液中磷酸的體積比為15%，所述有機溶劑為由甲醇和乙醇均勻混合而成的混合溶劑，且所述電解液中甲醇的體積百分比為70% ;步驟702中，超聲清洗時間為4min。本實施例中，其余方法步驟和工藝參數(shù)均與實施例I相同。實施例4本實施例中，與實施例I不同的是步驟一中所選擇的鎂合金毛細管為外徑O 10mm、壁厚0. 4mm、長度30mm且直線度為lmm/m的鎂合金無縫管；所述鎂合金無縫管的材質為WE43鎂合金材料；步驟二中進行激光雕刻時，在氬氣保護下進行，且所述激光雕刻機的激光輸出功率為35W，激光輸出頻率為5000Hz，所輸出激光的脈寬為0. 3ms ;且進行激光雕刻時，所述激光雕刻機的激光發(fā)射口與被刻蝕表面間的距離為2mm，切割速度為90mm/min ;步驟401中進行噴砂處理時，噴砂距離為26cm，噴砂角度為38°，噴砂壓力為0. 4MPa，且噴砂時間為45s ;步驟五中進行熱處理時，采用真空爐或在氬氣保護下采用熱處理爐進行熱處理，熱處理時間為20min，熱處理溫度為400°C ;步驟601中進行噴砂處理時，噴砂距離為36cm，噴砂角度為38°，噴砂壓力為0. 4MPa，且噴砂時間為25s ;步驟401中噴砂處理時，所采用砂粒中玻璃珠的體積百分數(shù)為30% ;步驟601中噴砂處理時，所采用砂粒中玻璃珠的體積百分數(shù)為25% ;步驟三、步驟402和步驟602中所采用的呈弱酸性的清洗劑由硝酸、無水乙醇和水按照體積比為15 75 10的比例均勻混合而成，步驟三和步驟402中超聲清洗時間均為5min，步驟602中超聲清洗時間為4min ;步驟701中進行電解拋光處理時，電解溫度為_20°C，電解電壓為電壓為IOV直流電壓，電解時間為30s ;所采用電解液中磷酸的體積比為15%，所述有機溶劑為由甲醇和乙醇均勻混合而成的混合溶劑，且所述電解液中甲醇的體積百分比為80% ;步驟702中，超聲清洗時間為3min，且也可以采用其它與鎂不發(fā)生反應的清洗劑進行超聲清洗。本實施例中，其余方法步驟和工藝參數(shù)均與實施例I相同。實施例5本實施例中，與實施例I不同的是步驟一中所選擇的鎂合金毛細管為外徑O 10mm、壁厚0. 4mm、長度40mm且直線度為lmm/m的鎂合金無縫管；所述鎂合金無縫管的材質為AZ 31鎂合金材料；步驟二中進行激光雕刻時，在氮氣保護下進行，且所述激光雕刻機的激光輸出功率為35W，激光輸出頻率為6000Hz，所輸出激光的脈寬為0. 2ms ;且進行激光雕刻時，所述激光雕刻機的激光發(fā)射口與被刻蝕表面間的距離為2mm，切割速度為IOOmm/min ;步驟五中進行熱處理時，采用真空爐或在氬氣保護下采用熱處理爐進行熱處理，熱處理時間為lOmin，熱處理溫度為300°C ;步驟401中噴砂處理時，所采用砂粒中玻璃珠的體 積百分數(shù)為20% ;步驟601中噴砂處理時，所采用砂粒中玻璃珠的體積百分數(shù)為10% ;步驟
三、步驟402和步驟602中所采用的呈弱酸性的清洗劑由硝酸、無水乙醇和水按照體積比為10 : 70 : 20的比例均勻混合而成，步驟三和步驟602中超聲清洗時間均為5min，步驟402中超聲清洗時間為4min ;步驟701中進行電解拋光處理時，電解溫度為_10°C，電解電壓為電壓為IOV直流電壓，電解時間為50s ;所采用電解液中磷酸的體積比為13%，所述有機溶劑為由甲醇和乙醇均勻混合而成的混合溶劑，且所述電解液中甲醇的體積百分比為80% ；步驟702中，超聲清洗時間為4min，且也可以采用其它與鎂不發(fā)生反應的清洗劑進行超聲清洗。本實施例中，其余方法步驟和工藝參數(shù)均與實施例I相同。實施例6本實施例中，與實施例I不同的是步驟一中所選擇的鎂合金毛細管為外徑O 12mm、壁厚0. 6mm、長度60mm且直線度為lmm/m的鎂合金無縫管；所述鎂合金無縫管的材質為AZ31鎂合金材料；步驟二中進行激光雕刻時，在氮氣保護下進行，且所述激光雕刻機的激光輸出功率為20W，激光輸出頻率為1700Hz，所輸出激光的脈寬為0. 2ms ;且進行激光雕刻時，所述激光雕刻機的激光發(fā)射口與被刻蝕表面間的距離為2. 5mm,切割速度為120mm/min;步驟五中進行熱處理時，采用真空爐或在氬氣保護下采用熱處理爐進行熱處理，熱處理時間為5min，熱處理溫度為300°C;步驟401中噴砂處理時，所采用砂粒中玻璃珠的體積百分數(shù)為25% ;步驟601中噴砂處理時，所采用砂粒中玻璃珠的體積百分數(shù)為15% ；步驟三、步驟402和步驟602中所采用的呈弱酸性的清洗劑由硝酸、無水乙醇和水按照體積比為12 72 16的比例均勻混合而成；步驟701中進行電解拋光處理時，電解溫度為10°C,電解電壓為電壓為12V直流電壓，電解時間為90s ;所采用電解液中磷酸的體積比為18%，所述有機溶劑為由甲醇和乙醇均勻混合而成的混合溶劑，且所述電解液中甲醇的體積百分比為62%。本實施例中，其余方法步驟和工藝參數(shù)均與實施例I相同。實施例I本實施例中，與實施例I不同的是步驟一中所選擇的鎂合金毛細管為外徑O I. 5mm、壁厚0. 3mm、長度20mm且直線度為lmm/m的鎂合金無縫管；所述鎂合金無縫管的材質為AZ31鎂合金材料；步驟二中進行激光雕刻時，在氮氣保護下進行，且所述激光雕刻機的激光輸出功率為22W，激光輸出頻率為2000Hz，所輸出激光的脈寬為0. 2ms ；且進行激光雕刻時，所述激光雕刻機的激光發(fā)射口與被刻蝕表面間的距離為2. 5mm,切割速度為85mm/min ;步驟五中進行熱處理時，采用真空爐或在氬氣保護下采用熱處理爐進行熱處理，熱處理時間為15min，熱處理溫度為350°C;步驟三、步驟402和步驟602中所采用的呈弱酸性的清洗劑由硝酸、無水乙醇和水按照體積比為18 75 7的比例均勻混合而成；步驟701中進行電解拋光處理時，電解溫度為15°C，電解電壓為電壓為IOV直流電壓，電解時間為70s ;所采用電解液中磷酸的體積比為20%，所述有機溶劑為由甲醇和乙醇均勻混合而成的混合溶劑，且所述電解液中甲醇的體積百分比為75%。本實施例中，其余方法步驟和工藝參數(shù)均與實施例I相同。實施例8本實施例中，與實施例I不同的是步驟一中所選擇的鎂合金毛細管為外徑θ 16mm、壁厚0. 8mm、長度85mm且直線度為lmm/m的鎂合金無縫管；所述鎂合金無縫管的材質為AZ31鎂合金材料；步驟二中進行激光雕刻時，在氮氣保護下進行，且所述激光雕刻機的激光輸出功率為45W，激光輸出頻率為8000Hz，所輸出激光的脈寬為0. 2ms ;且進行激光雕刻時，所述激光雕刻機的激光發(fā)射口與被刻蝕表面間的距離為2. 5mm,切割速度為90mm/min ;步驟五中進行熱處理時，采用真空爐或在氬氣保護下采用熱處理爐進行熱處理，熱處理時間為lOmin，熱處理溫度為350°C;步驟三、步驟402和步驟602中所采用的呈弱酸性的清洗劑由硝酸、無水乙醇和水按照體積比為16 72 12的比例均勻混合而成；步驟701中進行電解拋光處理時，電解溫度為10°C，電解電壓為電壓為12V直流電壓，電解時間為90s ；所采用電解液中磷酸的體積比為18%，所述有機溶劑為甲醇。本實施例中，其余方法步驟和工藝參數(shù)均與實施例I相同。實施例9本實施例中，與實施例I不同的是步驟一中所選擇的鎂合金毛細管為外徑θ 18mm、壁厚0. 9mm、長度90mm且直線度為lmm/m的鎂合金無縫管；所述鎂合金無縫管的材質為AZ31鎂合金材料；步驟二中進行激光雕刻時，在氮氣保護下進行，且所述激光雕刻機的激光輸出功率為45W，激光輸出頻率為3000Hz，所輸出激光的脈寬為0. 2ms ;且進行激光雕刻時，所述激光雕刻機的激光發(fā)射口與被刻蝕表面間的距離為2. 5mm,切割速度為80mm/min ;步驟五中進行熱處理時，采用真空爐或在氬氣保護下采用熱處理爐進行熱處理，熱處理時間為15min，熱處理溫度為250°C ;步驟701中進行電解拋光處理時，電解溫度為_5°C，電解電壓為電壓為9V直流電壓，電解時間為40s ;所采用電解液中磷酸的體積比為15%，所述有機溶劑為乙醇。本實施例中，其余方法步驟和工藝參數(shù)均與實施例I相同。以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實施例，并非對本發(fā)明作任何限制，凡是根據(jù)本發(fā)明技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、變更以及等效結構變化，均仍屬于本發(fā)明技術方案的保護范圍內。
權利要求
1.一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征在于該方法包括以下步驟 步驟一、鎂合金毛細管選擇所選擇的鎂合金毛細管為外徑￠1.5111111 ￠19111111,壁厚0.2mm Imm,長度20mm IOOmm且直線度< lmm/m的鎂合金無縫管；所述鎂合金無縫管的材質為能夠生物降解的醫(yī)用鎂合金材料； 步驟二、激光雕刻成型先將預先設計并繪制好的所需雕刻成型的介入支架圖案導入激光雕刻機；之后，在惰性氣體保護下，采用所述激光雕刻機對步驟一中所選擇的所述鎂合金毛細管進行精密雕刻，并制得經(jīng)精密雕刻成型的介入支架； 所述激光雕刻機的激光輸出功率為20W 50W，激光輸出頻率為1500Hz 9000Hz，所輸出激光的脈寬為0. Ims 0. 5ms ;且進行激光雕刻時，所述激光雕刻機的激光發(fā)射口與所述鎂合金毛細管的被刻蝕表面間的距離為2mm 3mm,切割速度為70mm/min 150mm/min; 步驟三、去渣處理將步驟二中所述經(jīng)精密雕刻成型的介入支架，放入呈弱酸性的清洗劑中超聲清洗3min IOmin后真空干燥； 步驟四、一次噴砂處理，其處理過程如下 步驟401、噴砂處理采用噴砂機對步驟三中去渣處理后的介入支架進行噴砂處理，噴砂處理時所采用的砂粒由玻璃珠和白色剛玉珠混合形成，且所述砂粒中玻璃珠的體積百分數(shù)為10% 30% ;所述玻璃珠和白色剛玉珠的粒度均為-180目； 步驟402、超聲清洗將步驟401中噴砂處理后的介入支架，放入呈弱酸性的清洗劑中超聲清洗3min IOmin后真空干燥； 步驟五、熱處理采用真空爐或在氬氣保護下采用熱處理爐，對步驟402中真空干燥后的介入支架進行熱處理，熱處理時間為5min 20min,熱處理溫度為200°C 400°C ；步驟六、二次噴砂處理，其處理過程如下 步驟601、噴砂處理采用噴砂機對步驟五中熱處理后的介入支架進行噴砂處理，噴砂處理時所采用的砂粒由玻璃珠和白色剛玉珠混合形成，且所述砂粒中玻璃珠的體積百分數(shù)為10% 30% ;所述玻璃珠和白色剛玉珠的粒度均為-180目； 步驟602、超聲清洗將步驟601中噴砂處理后的介入支架，放入呈弱酸性的清洗劑中超聲清洗3min IOmin后真空干燥； 步驟七、電解拋光處理，其處理過程如下 步驟701、電解拋光處理以步驟602中真空干燥后的介入支架作為陽極，以鋁棒為陰極進行電解拋光處理；且進行電解拋光處理時，電解溫度為_25°C 20°C，電解電壓為電壓為8V 15V直流電壓，電解時間為30s 2min ;所采用的電解液由磷酸和有機溶劑均勻混合形成，且所述電解液中磷酸的體積比為10% 20% ； 步驟702、超聲清洗將步驟701中電解拋光處理后的介入支架，放入無水乙醇中超聲清洗3min IOmin后真空干燥。
2.按照權利要求I所述的一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征在于步驟一中所述醫(yī)用鎂合金材料為AZ31鎂合金或WE43鎂合金。
3.按照權利要求I或2所述的一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征在于步驟二中所述的惰性氣體為氬氣或氮氣。
4.按照權利要求I或2所述的一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征在于步驟三、步驟402和步驟602中所述呈弱酸性的清洗劑，均由硝酸、無水乙醇和水按照體積比為(20 10) (70 75) (10 20)的比例均勻混合而成。
5.按照權利要求I或2所述的一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征在于步驟401和步驟601中所述玻璃珠和白色剛玉珠的粒度均為-180目 +250目。
6.按照權利要求I或2所述的一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征在于步驟701中所述有機溶劑為甲醇和/或乙醇。
7.按照權利要求6所述的一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征在于步驟701中所述有機溶劑優(yōu)選為由甲醇和乙醇均勻混合而成的混合溶劑，且所述電解液中甲醇的體積百分比為50% 80%。
8.按照權利要求I或2所述的一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征在于步驟401中進行噴砂處理時，噴砂距離為25cm 30cm，噴砂角度為30° 45°，噴砂壓力為0. 4MPa±0. 02Mpa,且噴砂時間為40s 55s ;步驟601中進行噴砂處理時，噴砂距離為35cm 40cm,噴砂角度為30。 45。，噴砂壓力為0. 4MPa±0. 02Mpa,且噴砂時間為20s 35s。
9.按照權利要求8所述的一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，其特征在于步驟401中進行噴砂處理時，噴砂壓力優(yōu)選為0. 4MPa，且噴砂時間優(yōu)選為50s ;步驟601中進行噴砂處理時，噴砂壓力優(yōu)選為0. 4MPa，且噴砂時間優(yōu)選為30s。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種可降解鎂合金介入支架的制備方法，該方法包括以下步驟一、鎂合金毛細管選擇；二、激光雕刻成型；三、去渣處理；四、一次噴砂處理，且噴砂處理后放入呈弱酸性的清洗劑中超聲清洗3min～10min后真空干燥；五、熱處理采用真空爐或在氬氣保護下采用熱處理爐進行熱處理，熱處理時間為5min～20min，熱處理溫度為200℃～400℃；六、二次噴砂處理，且噴砂處理后放入呈弱酸性的清洗劑中超聲清洗3min～10min后真空干燥；七、電解拋光處理。本發(fā)明方法步驟簡單、設計合理、實現(xiàn)方便且使用效果好，能有效避免支架在加工過程中發(fā)生氧化，并且所制備介入支架的尺寸精度高、表面光潔度高且力學性能優(yōu)良。
文檔編號A61F2/91GK102973342SQ20121054370
公開日2013年3月20日 申請日期2012年12月8日 優(yōu)先權日2012年12月8日
發(fā)明者劉春潮, 于振濤, 余森, 韓建業(yè), 牛金龍, 袁思波 申請人:西北有色金屬研究院