電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)的制作方法
電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明的電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)在收容第一～第三旋轉(zhuǎn)路徑(L1～L3)的第一～第三屏蔽室(R1～R3)中，具有向容器照射電子射線的外表面、內(nèi)表面殺菌區(qū)域(Z2、Z3)。連接于內(nèi)表面殺菌區(qū)域(Z3)的出口俘獲區(qū)域(Z4)具有收容第四～第六旋轉(zhuǎn)路徑(L4～L6)的第四～第六屏蔽室(R4～R6)。沿第一～第三旋轉(zhuǎn)路徑(L1～L3)內(nèi)周部設(shè)置第一～第三內(nèi)周屏蔽體(S1～S3)。沿第四～第五旋轉(zhuǎn)路徑(L4～L5)內(nèi)周部設(shè)置第四、第五內(nèi)周屏蔽體(S4、S5)。至少滿足條件(I)和(II)中的至少一方：(I)內(nèi)周屏蔽體(S5)的外徑(D5)大于內(nèi)周屏蔽體(S4)的外徑(D4)，(II)連接于外表面殺菌區(qū)域(Z2)的入口俘獲區(qū)域(Z1)的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(LT2)的內(nèi)周屏蔽體(ST2)的外徑(DT2)，大于外表面殺菌區(qū)域(Z2)的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(L1)的內(nèi)周屏蔽體(S1)的外徑(D1)。
【專利說明】電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及對(duì)食品和藥液等的容器和用具照射電子射線進(jìn)行殺菌的電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]如果用于殺滅細(xì)胞型微生物而照射的電子射線(陰極射線)與作為屏蔽體配置的金屬制屏蔽體(鉛等)碰撞，則在衰減的同時(shí)作為X射線在寬廣范圍擴(kuò)散的狀態(tài)下被反射、衍射。雖然也取決于電子射線的強(qiáng)度，但例如碰撞屏蔽體3~4次左右，則能夠使X射線的強(qiáng)度衰減到不會(huì)影響人體的程度。
[0003]例如將電子射線照射噴嘴插入容器的口部以對(duì)容器的內(nèi)表面進(jìn)行殺菌時(shí)，從電子射線照射噴嘴橫跨全周方向照射電子射線。并且由于對(duì)容器高速連續(xù)殺菌，所以在使用了收容于遮蔽室中的回轉(zhuǎn)式的旋轉(zhuǎn)輸送裝置時(shí)，將與容器一起旋轉(zhuǎn)移動(dòng)的電子射線照射噴嘴插入口部進(jìn)行殺菌。在此，由于電子射線產(chǎn)生裝置的供給電壓為高壓，因而電子射線的照射不能通斷，而成為連續(xù)性照射。因此，對(duì)形成于屏蔽室的容器入口和容器出口泄漏的電子射線(X射線)進(jìn)行屏蔽和衰減成為大問題。
[0004]作為向容器的口部插入電子射線照射噴嘴對(duì)容器的內(nèi)表面進(jìn)行殺菌的技術(shù)，例如公開有專利文獻(xiàn)I。此外，專利文獻(xiàn)2公開的裝置配置有內(nèi)表面殺菌用的電子射線照射噴嘴和外表面殺菌用的電子射線照射器。
[0005]專利文獻(xiàn)1:日本專利公表公報(bào)特表2009-526971
[0006]專利文獻(xiàn)2:日本專利公開公報(bào)特開2009-35330 (圖9、10、13、15、16)
[0007]然而，專利文獻(xiàn)I雖然公開了電子射線照射噴嘴的結(jié)構(gòu)，但是未提及屏蔽體。
[0008]此外，專利文獻(xiàn)2中盡管與電子射線照射噴嘴一同配置了電子射線照射器，但是未具體說明屏蔽體。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0009]為了解決上述問題，本發(fā)明的目的是提供一種能夠可靠地將X射線的泄漏衰減到不對(duì)人體造成惡劣影響程度的電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)。
[0010]第一方式的發(fā)明中，電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)具備分別收容串聯(lián)的多條旋轉(zhuǎn)路徑(LI~L3)的屏蔽室(Rl~R3)，并具備殺菌區(qū)域(Z2、Z3)，所述殺菌區(qū)域(Z2、Z3)由外表面殺菌區(qū)域(Z2)和內(nèi)表面殺菌區(qū)域(Z3)構(gòu)成，所述外表面殺菌區(qū)域(Z2)在容器輸送方向上游側(cè)從分別配置于兩條旋轉(zhuǎn)路徑(L1、L2)外側(cè)的電子射線照射器(El、E2)向容器(B)照射電子射線，對(duì)容器外表面進(jìn)行殺菌，所述內(nèi)表面殺菌區(qū)域(Z3)在容器輸送方向下游側(cè)向沿一條旋轉(zhuǎn)路徑(L3)輸送的容器(B)內(nèi)插入電子射線照射噴嘴(En)以照射電子射線，對(duì)容器(B)內(nèi)表面進(jìn)行殺菌，其中，在所述殺菌區(qū)域(Z2、Z3)的容器入口(P0-1)和容器出口(P3-4)，分別設(shè)置有使電子射線衰減的入口俘獲(trap)區(qū)域(Zl)和出口俘獲區(qū)域(Z4)，在所述入口俘獲區(qū)域(Zl)和所述出口俘獲區(qū)域(Z4)的至少一方，設(shè)置有串聯(lián)的多條旋轉(zhuǎn)路徑，并且設(shè)置有分別收容所述多條旋轉(zhuǎn)路徑的屏蔽室，沿所述殺菌區(qū)域(Z2、Z3)的各旋轉(zhuǎn)路徑(LI~L3)的內(nèi)周部，設(shè)置有由金屬制屏蔽體構(gòu)成的殺菌區(qū)域內(nèi)周屏蔽體(S1、S2、S3)，沿連接于入口俘獲區(qū)域(Zl)和/或出口俘獲區(qū)域(Z4)的旋轉(zhuǎn)路徑(L4)以及連接于該旋轉(zhuǎn)路徑(L4)的旋轉(zhuǎn)路徑(L5)的內(nèi)周部，分別設(shè)置有由金屬制屏蔽體構(gòu)成的俘獲區(qū)域內(nèi)周屏蔽體(S4、S5)，并滿足下述條件(I)和(II)中的至少一方:(I)連接于內(nèi)表面殺菌區(qū)域(Z3)的出口俘獲區(qū)域(Z4)的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(L4)的內(nèi)周屏蔽體(S4)的外徑(D4)，小于連接于該旋轉(zhuǎn)路徑(L4)的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(L5)的內(nèi)周屏蔽體(S5)的外徑(D5); (II)連接于外表面殺菌區(qū)域(Z2)的入口俘獲區(qū)域(Zl)的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(LT2)的內(nèi)周屏蔽體(ST2)的外徑(DT2)，大于所述外表面殺菌區(qū)域(Z2)的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(LI)的內(nèi)周屏蔽體(SI)的外徑(Dl)。
[0011]第二方式的發(fā)明在第一方式記載的結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，與連接于所述內(nèi)表面殺菌區(qū)域(Z3)的出口俘獲區(qū)域(Z4)的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(L4)的內(nèi)周屏蔽體(S4)的外徑(D4)相比，連接于該旋轉(zhuǎn)路徑(L4)的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(L5)的內(nèi)周屏蔽體(S5)的外徑(D5)設(shè)為
1.3~2.5倍的范圍。
[0012]第三方式的發(fā)明在第一方式記載的結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，連接于所述外表面殺菌區(qū)域(Z2)的入口俘獲區(qū)域(Zl)的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(LT2)的內(nèi)周屏蔽體(ST2)的外徑(DT2)，在所述外表面殺菌區(qū)域(Z2)的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(LI)的內(nèi)周屏蔽體(SI)的外徑(Dl)的
1.3~2.5倍的范圍。
[0013]第四方式的發(fā)明在第一方式記載的結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，在出口俘獲區(qū)域(Z4)形成有與內(nèi)表面殺菌區(qū)域(Z3)的容器出口(P3-4)相對(duì)并開口的衰減室(R4b)，在收容上游端的旋轉(zhuǎn)路徑(L4)的屏蔽室(R4)中由俘獲壁(T4)進(jìn)行分隔而形成所述衰減室(R4b)，且所述俘獲壁(T4)從與所述容器出口(P3-4)相對(duì)的屏蔽壁向所述容器出口(P3-4)側(cè)突出。
[0014]第五方式的發(fā)明在第一方式記載的結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上,在外表面殺菌區(qū)域(Z2)形成有與內(nèi)表面殺菌區(qū)域(Z3)的容器入口(P2-3)相對(duì)并開口的衰減室(R2b)，在收容下游端的旋轉(zhuǎn)路徑(L2)的屏蔽室(R2)中由俘獲壁(T2)進(jìn)行分隔而形成所述衰減室(R2b)，且所述俘獲壁(T2 )從與所述容器入口( P2-3 )相對(duì)的屏蔽壁向所述容器入口( P2-3 )側(cè)突出。
[0015]另外，(附圖標(biāo)記)表不了與實(shí)施例對(duì)應(yīng)的附圖標(biāo)記。
[0016]按照第一方式的發(fā)明，通過沿殺菌區(qū)域的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周部設(shè)置內(nèi)周屏蔽體，能夠在殺菌區(qū)域的屏蔽室與內(nèi)周屏蔽體之間增加電子射線的反射次數(shù)，使其有效衰減。此外，從殺菌區(qū)域的屏蔽室的容器入口和容器出口泄漏的電子射線(X射線)可以被俘獲區(qū)域配置的內(nèi)周屏蔽體有效屏蔽，能夠有效地使朝向上游側(cè)和下游側(cè)泄漏的電子射線(X射線)衰減。
[0017]關(guān)于條件(I)，盡管由于在內(nèi)表面殺菌區(qū)域中為了進(jìn)行電子射線照射噴嘴的插入和電子射線照射，需要充足的輸送距離和時(shí)間，所以需要將旋轉(zhuǎn)路徑加長(zhǎng)而將直徑加大，但是配置于容器出口的俘獲區(qū)域的旋轉(zhuǎn)路徑的直徑較大時(shí)，會(huì)限制內(nèi)表面殺菌區(qū)域的旋轉(zhuǎn)路徑的直徑，所以不能加大俘獲區(qū)域的旋轉(zhuǎn)路徑的直徑。因此，從內(nèi)表面殺菌區(qū)域的容器出口向俘獲區(qū)域的上游側(cè)的屏蔽室泄漏的電子射線(X射線)的射線量必然有增多的傾向。作為對(duì)策，通過使下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑大于容器出口側(cè)的內(nèi)周屏蔽體的外徑，能夠有效屏蔽并減少?gòu)纳嫌蝹?cè)的屏蔽室向下游側(cè)泄漏的射線量。
[0018]關(guān)于條件(II )，通過使外表面殺菌區(qū)域的容器入口上連接的入口俘獲區(qū)域的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑，大于外表面殺菌區(qū)域的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑，能夠有效屏蔽并減少?gòu)膬?nèi)表面殺菌區(qū)域和外表面殺菌區(qū)域經(jīng)由容器入口泄漏的電子射線(X射線)的射線量。
[0019]按照第二方式的發(fā)明，通過將下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑設(shè)為容器出口側(cè)的內(nèi)周屏蔽體的外徑的1.3~2.5倍，使設(shè)備不會(huì)過度大型化，并且屏蔽并減少?gòu)纳嫌蝹?cè)的屏蔽室向下游側(cè)泄漏的射線量的上述效果顯著。
[0020]按照第三方式的發(fā)明，通過將外表面殺菌區(qū)域的容器入口上連接的入口俘獲區(qū)域的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑，在外表面殺菌區(qū)域的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑的1.3~2.5倍的范圍內(nèi)加大，使設(shè)備不會(huì)過度大型化，并且屏蔽并減少?gòu)膬?nèi)表面殺菌區(qū)域和外表面殺菌區(qū)域經(jīng)由容器入口泄漏的電子射線(X射線)的射線量的效果顯著。
[0021]按照第四方式的發(fā)明，由于在出口俘獲區(qū)域的上游側(cè)的屏蔽室中設(shè)置俘獲壁而形成衰減室，所以能利用俘獲壁將從內(nèi)表面殺菌區(qū)域的容器出口泄漏的電子射線(X射線)導(dǎo)入衰減室，并能夠在衰減室中使電子射線(X射線)有效反射并衰減。
[0022]按照第五方式的發(fā)明，在外表面殺菌區(qū)域中，由于在面向容器入口的屏蔽室內(nèi)形成有俘獲壁而形成衰減室，所以能利用俘獲壁將從內(nèi)表面殺菌區(qū)域的容器入口泄漏的電子射線(X射線)導(dǎo)入衰減室，并能夠在衰減室中使電子射線(X射線)有效反射并衰減。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0023]圖1是表示本發(fā)明的電子射線殺菌設(shè)備的實(shí)施例1的簡(jiǎn)要俯視圖。
[0024]圖2是表不內(nèi)表面、外表面殺菌區(qū)域和出口俘獲區(qū)域的俯視斷面圖。
[0025]圖3是表示以內(nèi)表面殺菌區(qū)域?yàn)橹行牡碾娮由渚€殺菌設(shè)備的縱斷面圖。
[0026]圖4 (a)、(b)表示容器升降保持裝置，Ca)為縱斷面圖，(b)為(a)所示的A-A箭頭視圖。
[0027]圖5是表示第一~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置、廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的俯視圖。
[0028]圖6是表示第一、第二旋轉(zhuǎn)輸送裝置的縱斷面圖。
[0029]圖7是圖6所示的B-B斷面圖。
[0030]圖8是表示第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置的縱斷面圖。
[0031]圖9是表示第五旋轉(zhuǎn)輸送裝置、廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置的縱斷面圖。
[0032]圖10 (a)、(b)是第4-5連接開口部的說明圖，(a)為俯視斷面圖，(b)為主視圖。
[0033]圖11 (a)、(b)是表示電子射線(X射線)的泄漏狀態(tài)的俯視圖，(a)表示照射區(qū)域和泄漏區(qū)域，(b)表示電子射線(X射線)的反射泄漏區(qū)域。
[0034]圖12 (a)、(b)是入口俘獲區(qū)域的俯視斷面圖，(a)表示第一實(shí)施例，(b)表示第
二實(shí)施例。
[0035]圖13 Ca)~(C)是表示廢品區(qū)域的容器排出滑槽的實(shí)施例的縱斷面圖，(a)表示第一實(shí)施例，(b)表不第二實(shí)施例，(C)表不比較例。 [0036]圖14是表示在第二屏蔽室設(shè)置了電子射線偏轉(zhuǎn)裝置的電子射線照射裝置的變形例的俯視圖。
[0037]圖15表示本發(fā)明的電子射線殺菌裝置的第二實(shí)施例，是俯視斷面圖。[0038]圖16 (a)、(b)是表示入口俘獲區(qū)域中的電子射線的泄漏狀態(tài)的俯視圖，(a)表示照射區(qū)域、泄漏區(qū)域，(b)表示反射的X射線泄漏區(qū)域。
[0039]圖17 (a)~(C)是表示內(nèi)周屏蔽體的其他實(shí)施例的俯視斷面圖。
【具體實(shí)施方式】
[0040](第一實(shí)施例)
[0041]以下，基于【專利附圖】
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【附圖說明】本發(fā)明的具備屏蔽結(jié)構(gòu)的容器殺菌設(shè)備的第一實(shí)施例。
[0042](電子射線殺菌設(shè)備的概要)
[0043]如圖1~圖3所示，所述電子射線殺菌設(shè)備具備入口俘獲區(qū)域Z1、外表面殺菌區(qū)域Z2、內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z3和出口俘獲區(qū)域Z4，由U形輸送路徑LU構(gòu)成入口俘獲區(qū)域Z1，并且通過將第一~第六旋轉(zhuǎn)路徑LI~L6串聯(lián)而構(gòu)成外表面殺菌區(qū)域Z2、內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z3和出口俘獲區(qū)域Z4,在所述第一~第六旋轉(zhuǎn)路徑LI~L6中由第一~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置Ml~M6輸送容器B。此外，在出口俘獲區(qū)域TA的背面?zhèn)仍O(shè)有廢品區(qū)域ZR，在所述廢品區(qū)域ZR中沿由廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置MR形成的廢品旋轉(zhuǎn)路徑LR輸送殺菌不良的容器B，并從廢品排出口 PR將其排出。 [0044]在外表面殺菌區(qū)域Z2中，形成第一、第二旋轉(zhuǎn)路徑L1、L2的第一、第二旋轉(zhuǎn)輸送裝置Ml、M2串聯(lián)，所述第一、第二旋轉(zhuǎn)輸送裝置Ml、M2各自收容在分別由金屬制的屏蔽體構(gòu)成的第一、第二屏蔽室Rl、R2中。在第一屏蔽室Rl中設(shè)置有第一電子射線照射裝置E1，在由第一旋轉(zhuǎn)輸送裝置Ml借助頸部η保持容器B并沿第一旋轉(zhuǎn)路徑LI輸送容器B的過程中，所述第一電子射線照射裝置El向容器B的一方的外表面照射電子射線進(jìn)行殺菌。此外，在第二屏蔽室R2中設(shè)置有第二電子射線照射裝置Ε2，在由第二旋轉(zhuǎn)輸送裝置M2借助頸部η保持容器B并沿第二旋轉(zhuǎn)路徑L2輸送容器B的過程中，所述第二電子射線照射裝置Ε2向容器B的另一方的外表面照射電子射線進(jìn)行殺菌。
[0045]在內(nèi)表面殺菌區(qū)域Ζ3中，在由屏蔽體構(gòu)成的第三屏蔽室R3內(nèi)，設(shè)置有形成第三旋轉(zhuǎn)路徑L3的第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3。所述第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3以一定間距設(shè)置有多個(gè)容器升降保持裝置26，所述容器升降保持裝置26借助頸部η保持容器B，并且在沿第三旋轉(zhuǎn)路徑L3輸送容器B的過程中使容器B依次上升從而使電子射線照射噴嘴En插入容器B的口部。此外，在容器升降保持裝置26的上部配置有第三電子射線照射裝置Ε3，所述第三電子射線照射裝置Ε3從向每個(gè)容器升降保持裝置26垂下的電子射線照射噴嘴En照射電子射線。
[0046]在出口俘獲區(qū)域Ζ4中，分別形成第四~第六旋轉(zhuǎn)路徑L4~L6的第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置Μ4~Μ6串聯(lián)配置，所述第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置Μ4~Μ6各自收容在分別由屏蔽體構(gòu)成的第四~第六屏蔽室R4~R6中。所述第四~第六屏蔽室R4~R6用于使從第三屏蔽室R3的第3-4連接開口部(容器出口)Ρ3-4泄漏的電子射線和因電子射線朝向金屬制屏蔽體反射(衍射等)而產(chǎn)生的X射線(以下統(tǒng)稱為電子射線(X射線))衰減。在所述第四~第六屏蔽室R4~R6中，利用第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置Μ4~Μ6借助頸部η保持容器B并沿第四~第六旋轉(zhuǎn)路徑L4~L6輸送容器B。
[0047]由中間旋轉(zhuǎn)輸送裝置Μ8形成的中間旋轉(zhuǎn)路徑L8與第六旋轉(zhuǎn)路徑L6連接，并且所述中間旋轉(zhuǎn)路徑L8連接于填充裝置(未圖示)，從而向殺菌后的容器B填充液體。[0048]在廢品區(qū)域ZR中配置有廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置MR，所述廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置MR形成與第五旋轉(zhuǎn)路徑L5連接的廢品旋轉(zhuǎn)路徑LR，所述廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置MR收容在被屏蔽體包圍的廢品屏蔽室RR中。
[0049](容器殺菌設(shè)備的具體說明)
[0050]所述容器殺菌設(shè)備設(shè)置在潔凈室22內(nèi)，所述潔凈室22借助框架設(shè)置在臺(tái)架21上，內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z3的第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3成為中心，且外表面殺菌區(qū)域Z2的第一、第二旋轉(zhuǎn)輸送裝置M1、M2、出口俘獲區(qū)域TA的第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置M4~M6和廢品區(qū)域ZR的廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置MR成為聯(lián)動(dòng)結(jié)構(gòu)。
[0051](內(nèi)表面殺菌區(qū)域)
[0052]第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3的主軸23b貫穿臺(tái)架頂板2IU而豎直設(shè)置，且所述主軸23b豎直設(shè)置在臺(tái)架21的底部框架2ID上。外筒軸23a旋轉(zhuǎn)自如地支承于所述主軸23b，支撐臺(tái)24被支承在所述外筒軸23a的上部，旋轉(zhuǎn)臺(tái)25被支承在外筒軸23a的下部。并且第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3被圖5所示的旋轉(zhuǎn)輸送用驅(qū)動(dòng)裝置49驅(qū)動(dòng)成沿輸送方向以規(guī)定速度旋轉(zhuǎn)。在支撐臺(tái)24的周向以一定間距配置有多個(gè)第三電子射線產(chǎn)生裝置E3以及垂下姿勢(shì)的電子射線照射噴嘴En，所述電子射線照射噴嘴En與所述第三電子射線產(chǎn)生裝置E3連接。第三外殼屏蔽體SM3在支撐臺(tái)24的外周部和頂部屏蔽多個(gè)第三電子射線產(chǎn)生裝置E3。
[0053]在旋轉(zhuǎn)臺(tái)25的外周部沿周向以同一間距配置有與電子射線照射噴嘴En相對(duì)的容器升降保持裝置26。所述容器升降保持裝置26通過把持容器B的頸部η使容器B升降，如圖4所示，由雙層筒構(gòu)成的動(dòng)作軸28貫穿設(shè)置于旋轉(zhuǎn)臺(tái)25。所述動(dòng)作軸28包括:升降用的外軸28a，借助滑動(dòng)軸承27升降自如地配置于旋轉(zhuǎn)臺(tái)25 ;以及開閉用的內(nèi)軸28b，圍繞軸心旋轉(zhuǎn)自如地嵌合于所述外軸28a內(nèi)。
[0054]在外軸28a的上端部設(shè)有能借助頸部η保持容器B的夾具31，在下端部設(shè)有驅(qū)動(dòng)夾具31升降的升降用凸輪機(jī)構(gòu)37。
[0055]設(shè)置在外軸28a的上端部的夾具31如圖4 (b)所示，以一對(duì)夾臂35a、35b借助一對(duì)支承銷33能開閉的方式，支承在固定于外軸28a的底板32上。在所述夾臂35a、35b中，另一個(gè)夾臂35b借助由板構(gòu)件固定的聯(lián)動(dòng)銷34與一個(gè)夾臂35a聯(lián)動(dòng)，并且夾臂35a、35b由閉合加力用螺旋彈簧30向把持方向施加作用力。并且，在所述夾臂35a、35b的基端部之間設(shè)有開閉輸出凸輪36，所述開閉輸出凸輪36利用內(nèi)軸28b而轉(zhuǎn)動(dòng)并使一個(gè)夾臂35a開閉。
[0056]設(shè)置在外軸28a的下端部的升降用凸輪機(jī)構(gòu)37中，升降用凸輪從動(dòng)件38被升降臂支承，所述升降用凸輪從動(dòng)件38通過在臺(tái)架21上設(shè)置的升降用凸輪40的凸輪面上滾動(dòng)從而使夾具31升降。升降用約束彈簧41對(duì)升降用凸輪從動(dòng)件38朝向升降用凸輪40的凸輪面施加作用力。
[0057]在內(nèi)軸28b的上端部安裝有開閉輸出凸輪36，在下端部設(shè)有開閉驅(qū)動(dòng)夾具31的開閉輸入凸輪機(jī)構(gòu)42。在所述開閉輸入凸輪機(jī)構(gòu)42中，開閉輸入凸輪從動(dòng)件44借助開閉輸入臂45安裝在內(nèi)軸28b上，且所述開閉輸入凸輪從動(dòng)件44在開閉輸入凸輪43的凸輪面上滾動(dòng)。開閉輸入用約束彈簧46對(duì)開閉輸入凸輪從動(dòng)件44向開閉輸入凸輪43的凸輪面施加作用力。
[0058]升降用凸輪40從第三旋轉(zhuǎn)路徑L3的第2-3連接部J2_3至第3_4連接部J3_4之間進(jìn)行配置。此外，所述開閉輸入凸輪43從第3-4連接部J3-4的上游側(cè)至第2-3連接部J2-3的下游側(cè)進(jìn)行配置。
[0059]上述結(jié)構(gòu)下，在旋轉(zhuǎn)臺(tái)25旋轉(zhuǎn)過程中，在第2-3連接部J2_3處，容器B的頸部η被轉(zhuǎn)交給在開閉輸入凸輪43的作用下開放的夾臂35a、35b，且由關(guān)閉后的夾臂35a、35b把持頸部η并輸送容器B。而后，容器B在升降用凸輪40的作用下借助夾具31上升，電子射線照射噴嘴En嵌入容器B的口部。并且，由電子射線照射噴嘴En照射的電子射線對(duì)容器B的內(nèi)表面進(jìn)行殺菌。接著，容器B在升降用凸輪40的作用下借助夾臂35a、35b下降，電子射線照射噴嘴En從口部脫離。進(jìn)而容器B接近第3-4連接部J3-4時(shí)，夾臂35a、35b在開閉輸入凸輪43的作用下開放，頸部η被轉(zhuǎn)交給第四旋轉(zhuǎn)輸送裝置Μ4并將容器B移送至第四旋轉(zhuǎn)路徑L4。
[0060]此外，在第三旋轉(zhuǎn)路徑L3的內(nèi)周部且旋轉(zhuǎn)臺(tái)25與支撐臺(tái)24之間設(shè)有第三內(nèi)周屏蔽體S3。
[0061]此外，如圖3、圖4所示，旋轉(zhuǎn)臺(tái)25從外周部向下方垂下設(shè)置有外周壁47，所述外周壁47借助環(huán)狀軸承旋轉(zhuǎn)移動(dòng)自如地支承于臺(tái)架頂板21U，并且在所述外周壁47上安裝有聯(lián)動(dòng)用第三齒圈48。并且，如圖5所示，由旋轉(zhuǎn)輸送用驅(qū)動(dòng)裝置49借助減速器旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的輸送驅(qū)動(dòng)齒輪50與聯(lián)動(dòng)用第三齒圈48嚙合。
[0062](外表面殺菌區(qū)域)
[0063]如圖3所示，在臺(tái)架頂板21U上的第一、第二屏蔽室R1、R2中，分別設(shè)置有第一、第二旋轉(zhuǎn)輸送裝置Ml、M2。在所述第一旋轉(zhuǎn)輸送裝置Ml和第二旋轉(zhuǎn)輸送裝置M2中，在借助軸承旋轉(zhuǎn)自如地貫穿設(shè)置于臺(tái)架頂板2IU的第一旋轉(zhuǎn)軸51、第二旋轉(zhuǎn)軸71的上端部，分別固定有第一旋轉(zhuǎn)臺(tái)52、第二旋轉(zhuǎn)臺(tái)72。并且，在第二旋轉(zhuǎn)軸71的下端部安裝有與第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3的聯(lián)動(dòng)用第三齒圈48嚙合的第二聯(lián)動(dòng)齒輪73，此外，在第一旋轉(zhuǎn)軸51的下端部安裝有與第二聯(lián)動(dòng)齒輪73嚙合的第一聯(lián)動(dòng)齒輪53，從而第一聯(lián)動(dòng)齒輪53與第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3的外筒軸23a聯(lián)動(dòng)連接并被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。
[0064]在第一旋轉(zhuǎn)臺(tái)52和第二旋轉(zhuǎn)臺(tái)72的外周部，以一定間距配置有第一、第二容器保持裝置54、74。此處，第一、第二容器保持裝置54、74除了把持頸部η的位置不同以外，結(jié)構(gòu)大體相同，故僅說明第一容器保持裝置54，對(duì)第二容器保持裝置74標(biāo)注相同附圖標(biāo)記并省略說明。此外，如后所述，出口俘獲區(qū)域Ζ4的第四~第六容器保持裝置84、94和廢品區(qū)域ZR的廢品容器保持裝置114也是除了把持頸部η的位置不同以外，結(jié)構(gòu)大體相同，所以省略具體的說明。
[0065]如圖6、圖7所示，第一容器保持裝置54在第一旋轉(zhuǎn)臺(tái)52的外周部貫穿設(shè)置有上下方向的支承筒55，所述支承筒55的上端部安裝有支承板56。并且，左右一對(duì)夾臂57a、57b分別借助一對(duì)支承銷58開閉自如地支承在所述支承板56上。并且在兩夾臂57a、57b中，借助板構(gòu)件安裝于一個(gè)夾臂57a的聯(lián)動(dòng)銷60嵌合到另一個(gè)夾臂57b的從動(dòng)槽中，另一個(gè)夾臂57b借助聯(lián)動(dòng)銷60與一個(gè)夾臂57a的開閉聯(lián)動(dòng)，能夠以支承銷58為中心開閉。此外，利用連接在夾臂57a、57b的前端側(cè)之間的關(guān)閉加力彈簧59向關(guān)閉方向施加作用力。
[0066]開閉軸61旋轉(zhuǎn)自如地支承在支承筒55內(nèi)，在開閉軸61的下端部借助凸輪桿安裝有開閉輸入凸輪從動(dòng)件62，并利用與所 述凸輪桿連接的開閉約束彈簧63，使開閉輸入凸輪從動(dòng)件62對(duì)應(yīng)于交接容器B的第0-1連接部JO-1和第1-2連接部J1-2，抵接于安裝在第一旋轉(zhuǎn)軸51的外筒部上的開閉輸入凸輪65。[0067]在開閉軸61的上端部安裝有開閉輸出凸輪64，所述開閉輸出凸輪64配置在夾臂57a、57b的基端部之間，可以利用開閉軸61的旋轉(zhuǎn)并借助開閉輸出凸輪64而開閉驅(qū)動(dòng)一個(gè)夾臂57a。
[0068]在第一容器保持裝置54和第二容器保持裝置74的第一、第二旋轉(zhuǎn)臺(tái)52、72上且在第一、第二旋轉(zhuǎn)路徑L1、L2的外周部，分別設(shè)置有第一、第二內(nèi)周屏蔽體S1、S2。
[0069]此處說明配置于第一屏蔽室Rl的第一電子射線照射裝置El和配置于第二屏蔽室R2的第二電子射線照射裝置E2。
[0070]照射電子射線對(duì)容器B的外表面進(jìn)行殺菌時(shí)，由于第一、二旋轉(zhuǎn)路徑L1、L2的內(nèi)周側(cè)分別設(shè)有第一、二旋轉(zhuǎn)輸送裝置Ml、M2，所以不能設(shè)置電子射線照射裝置。因此，通過在鄰接的兩條旋轉(zhuǎn)路徑的外周部分別配置電子射線照射裝置，向外半面分別照射電子射線。
[0071]此處重要的課題是:A)應(yīng)盡可能不使送入第一屏蔽室Rl的容器B上附著的污染物被帶入外表面殺菌區(qū)域Z2 ;B)在容器B的一方的外半面被殺菌后至另一方的外半面被殺菌為止的期間，應(yīng)將另一方的外半面上附著的污染物的擴(kuò)散以及該污染部對(duì)殺菌后的一方的外半面的污染控制在最小限度；C)在另一方的外半面進(jìn)行殺菌后至內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z3為止的期間，應(yīng)將容器B的再次污染控制在最小限度。
[0072]因此，在第一實(shí)施例中，為了解決A)，在第一旋轉(zhuǎn)路徑LI的入口附近配置向容器B照射電子射線的第一電子射線照射裝置E1，以最短輸送距離和短時(shí)間開始容器B的外表面殺菌，防止附著于容器B的污染物侵入。
[0073]為了解決B)，通過在第一旋轉(zhuǎn)路徑LI和第二旋轉(zhuǎn)路徑L2的第1_2連接部Jl_2的上游側(cè)附近的第一旋轉(zhuǎn)路徑LI上設(shè)置第一電子射線照射裝置El，并且在第二旋轉(zhuǎn)路徑L2的第1-2連接部J1-2的下游側(cè)附近設(shè)置第二電子射線照射裝置E2，將對(duì)一方的外半面進(jìn)行殺菌到對(duì)另一方的外半面進(jìn)行殺菌的輸送距離和時(shí)間設(shè)為最小。
[0074]為了解決C)，在第二旋轉(zhuǎn)路徑L2中，從對(duì)另一方的外半面進(jìn)行殺菌的位置到第
2-3連接部J2-3為止的送入路徑部L2c中，使第二電子射線照射裝置E2照射的電子射線以及外表面殺菌區(qū)域Z2的從電子射線照射噴嘴En照射的電子射線中、通過第2-3連接開口部(容器入口)P2-3泄漏的電子射線(X射線)，盡可能向容器B照射。這是通過使第二電子射線照射裝置E2的電子射線的照射方向設(shè)置為朝向位于送入路徑部L2c的容器B來實(shí)現(xiàn)的。
[0075]即，第一電子射線照射裝置El設(shè)置在第一屏蔽室Rl內(nèi)，并且位于入口俘獲區(qū)域Zl的U形輸送路徑LU與第一旋轉(zhuǎn)路徑LI的第0-1連接部JO-1附近、且第1-2連接部J1-2的上游側(cè)附近的第一旋轉(zhuǎn)路徑LI的外周側(cè)，向容器B照射電子射線。此外，第二電子射線照射裝置E2設(shè)置在第二屏蔽室R2內(nèi)，且位于第1-2連接部J1-2的下游側(cè)附近的第二旋轉(zhuǎn)路徑L2的外周側(cè)，將電子射線的照射方向設(shè)定為，使來自第二電子射線照射裝置E2的電子射線，朝向與第二電子射線照射裝置E2相對(duì)的第二旋轉(zhuǎn)路徑L2上的容器B及其下游側(cè)的送入路徑部L2c的容器B照射。此外，由于送入路徑部L2c面向第三屏蔽室R3的第2_3連接開口部P2-3配置，所以從第三屏蔽室R3泄漏的電子射線(X射線)也向容器B照射。
[0076]另外，此處如圖14所示，可以構(gòu)成為將第二電子射線照射裝置E2照射的電子射線的一部分借助一個(gè)或多個(gè)電子射線偏轉(zhuǎn)裝置EA，向殺菌后的送入路徑部L2c上的容器B照射。[0077]此外，在第二屏蔽室R2中，從與第三屏蔽室R3的第2-3連接開口部P2_3相對(duì)的屏蔽壁R2a朝向第二旋轉(zhuǎn)輸送裝置M2突出設(shè)有第二室俘獲壁T2，所述第二室俘獲壁T2由向第二電子射線照射裝置E2的下游側(cè)突出的金屬制屏蔽體構(gòu)成，由第二室俘獲壁T2形成第二室衰減室R2b。由此，能夠使從第2-3連接開口部P2-3和第二電子射線照射裝置E2放出的電子射線(X射線)，被第二室俘獲壁T2屏蔽并導(dǎo)向第二室衰減室R2b，進(jìn)行反射而衰減。
[0078]如圖6、7所示，在第1-2連接部J1-2處，頸部η從第一容器保持裝置54的夾臂57b被轉(zhuǎn)交給第二容器保持裝置74的夾臂57a。第一容器保持裝置54的夾臂57b與第二容器保持裝置74的夾臂57a夾持頸部η的位置不同。此外，由第一電子射線照射裝置El對(duì)頸部η中的未被夾臂57b夾持側(cè)的一方的外半面照射電子射線后，由第二電子射線照射裝置E2對(duì)頸部η中的未被夾臂57a夾持側(cè)的另一方的外半面照射電子射線。因此，可以在外表面殺菌區(qū)域Z2中對(duì)頸部η的整個(gè)外表面進(jìn)行殺菌。
[0079](入口俘獲區(qū)域)
[0080]如圖12 (a)所示，入口俘獲區(qū)域Zl具備多個(gè)傳送帶式輸送裝置11以及包圍U形輸送路徑LU的俯視U形的入口俘獲屏蔽室12，所述多個(gè)傳送帶式輸送裝置11在俯視下形成連接兩個(gè)1/4圓弧部LU1、LUo的U形輸送路徑LU。
[0081]入口俘獲屏蔽室12具備多個(gè)第一、第二入口俘獲壁TOa、TOb和入口衰減室ROa，所述第一、第二入口俘獲壁TOa、TOb由金屬制屏蔽體構(gòu)成,用于屏蔽從外表面和內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z2、Z3由入口俘獲屏蔽室12泄漏的電子射線(X射線)。
[0082]第一入口俘獲壁TOa在入口俘獲屏蔽室12與第一屏蔽室Rl的連接部處，在以U形輸送路徑LU為中心與第一旋轉(zhuǎn)路徑LI相反側(cè)，從入口俘獲屏蔽室12的屏蔽側(cè)壁垂直地(向橫斷方向)突出設(shè)置。利用所述第一入口俘獲壁TOa，可以減少?gòu)牡谝浑娮由渚€照射裝置El、第二電子射線照射裝置E2和第三屏蔽室R3的電子射線照射噴嘴En照射的電子射線(X射線)從第0-1連接開口部(容器入口)PO-1侵入到入口俘獲屏蔽室12。
[0083]此外，下游側(cè)的第一入口衰減室ROa在下游側(cè)的1/4圓弧部LUo的外周側(cè)與第一屏蔽室Rl相對(duì)配置，由從入口俘獲屏蔽室12以俯視呈矩形突出的包圍屏蔽壁12a形成。無屏蔽的傳送帶護(hù)壁Ila設(shè)置于第一入口衰減室ROa的開口部并包圍傳送帶式輸送裝置11。利用所述第一入口衰減室ROa，減少了從第一屏蔽室Rl借助第0-1連接開口部P0-1侵入的電子射線(X射線)被反射后向入口俘獲屏蔽室12的入口側(cè)放出的射線量。
[0084]而且，上游側(cè)的第二入口俘獲壁TOb從第一入口衰減室ROa的上游端在橫斷U形輸送路徑LU的方向上突出，侵入第一入口衰減室ROa內(nèi)的電子射線(X射線)被第二入口俘獲壁TOb屏蔽，減少了從入口俘獲屏蔽室12向入口側(cè)放出的射線量。
[0085]進(jìn)而，如圖12 (b)所示，也可以設(shè)置與入口側(cè)的1/4圓弧部LUi對(duì)應(yīng)的第二入口衰減室ROb和第三入口俘獲壁TOc。此處，第二入口衰減室ROb和第三入口俘獲壁TOc以將第一入口衰減室ROa和第二入口俘獲壁TOb在俯視下向順時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)90°的形態(tài)，由俯視矩形的包圍屏蔽壁12b形成，并配置在1/4圓弧部LUi的外周側(cè)。由此，可以進(jìn)一步大幅減少向入口俘獲屏蔽室12的入口側(cè)放出的射線量。
[0086](出口俘獲區(qū)域)
[0087]在出口俘獲區(qū)域Z4中， 由第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置M4~M6形成的三個(gè)第四~第六旋轉(zhuǎn)路徑L4~L6串聯(lián)于作為第三旋轉(zhuǎn)路徑L3的出口側(cè)的第3-4連接部J3-4，并與作為容器排出部的第6-8連接部J6-8連接，各第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置M4~M6分別收容在由金屬制屏蔽體構(gòu)成的第四~第六屏蔽室R4~R6中。
[0088]在臺(tái)架頂板21U上的第四~第六屏蔽室R4~R6中，分別設(shè)置有第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置M4~M6，在所述第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置M4~M6中，第四~第六旋轉(zhuǎn)軸81、91、101分別借助軸承旋轉(zhuǎn)自如地貫穿設(shè)置于臺(tái)架頂板21U，在所述第四~第六旋轉(zhuǎn)軸81、91、101的上端部分別固定有第四~第六旋轉(zhuǎn)臺(tái)82、92、102。并且如圖5所示，在第四旋轉(zhuǎn)軸81的下端部安裝有與第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3的聯(lián)動(dòng)用第三齒圈48嚙合的第四聯(lián)動(dòng)齒輪83，此外，在第五旋轉(zhuǎn)軸91的下端部安裝有與第四聯(lián)動(dòng)齒輪83嚙合的第五聯(lián)動(dòng)齒輪93。并且在第六旋轉(zhuǎn)軸101的下端部安裝有與第五聯(lián)動(dòng)齒輪93嚙合的第六聯(lián)動(dòng)齒輪103，所述第四~第六旋轉(zhuǎn)臺(tái)82、92、102與第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3的外筒軸23a聯(lián)動(dòng)連接并被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。
[0089]在第四~第六旋轉(zhuǎn)臺(tái)82、92、102的外周部，以一定間距配置有第四~第六容器保持裝置84、94、104。并且在第四~第六旋轉(zhuǎn)臺(tái)82、92、102上且在第四~第六旋轉(zhuǎn)路徑L4~L6的內(nèi)周部，分別設(shè)有上表面封閉的第四~第六內(nèi)周屏蔽體S4~S6。
[0090]此處，因?yàn)榈谒膥第六容器保持裝置84、94、104除了把持頸部η的位置以外，與第一容器保持裝置54的結(jié)構(gòu)大體相同，所以標(biāo)注與第一容器保持裝置54相同的附圖標(biāo)記并省略說明。
[0091]接著說明出口俘獲區(qū)域Ζ4的屏蔽結(jié)構(gòu)。
[0092]首先，由于第一~第六旋轉(zhuǎn)路徑LI~L6中的第1-2~第6_8連接部Jl_2~J6_8的第1-2~第6-8連接開口部P1-2~P6-8以及廢品旋轉(zhuǎn)路徑LR中的廢品連接部J5-R的廢品連接開口部P5-R的結(jié)構(gòu)分別大致相同，所以此處參照?qǐng)D10僅說明形成于第4-5連接部J4-5的第4-5連接開口部P4-5，省略其他的連接開口部的說明。
[0093]第四屏蔽室R4的屏蔽側(cè)壁R4W與第五屏蔽室R5的屏蔽側(cè)壁R5W以分開規(guī)定間隔并彼此重疊的狀態(tài)配置，由這兩枚屏蔽側(cè)壁R4W、R5W上分別形成的異形的第一、第二開口
13、14構(gòu)成第4-5連接開口部P4-5。即，第一開口 13包括:上下寬度大的交接部13a，能使從第四旋轉(zhuǎn)路徑L4借助第4-5連接部J4-5在第五旋轉(zhuǎn)路徑L5上輸送的容器B通過；以及上下寬度小的保持件插通部13b，能使沿第五旋轉(zhuǎn)路徑L5移動(dòng)的夾臂57a、57b (35a、35b)的前端部分通過。此外，第二開口 14也包括:交接部14a，能使從第四旋轉(zhuǎn)路徑L4借助第
4-5連接部J4-5在第五旋轉(zhuǎn)路徑L5上輸送的容器B通過；以及保持件插通部14b，能使沿第四旋轉(zhuǎn)路徑L4移動(dòng)的夾臂57a、57b (35a、35b)的前端部分通過。通過如上所述與屏蔽側(cè)壁R4W、R5W對(duì)應(yīng)地形成異形的第一、第二開口 13、14，可以降低從第4_5連接開口部P4-5泄漏的電子射線(X射線)的射線量。
[0094]此外，關(guān)于所述第四~第六旋轉(zhuǎn)路徑L4~L6的第4_5~第6_8連接部J4_5~J6-8的配置，第4-5連接開口部P4-5相對(duì)于第3-4連接開口部P3-4呈一定的角度α配置，但是第4-5連接開口部Ρ4-5、第5-6連接開口部Ρ5-6、第6_8連接開口部Ρ6-8大體直線狀配置，且第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置Μ4~Μ6大體直線狀配置。此處，如圖11 (a)所示，從第三屏蔽室R3的第3-4連接開口部P3-4直接泄漏的電子射線，在第四屏蔽室R4的大致整個(gè)區(qū)域都能檢測(cè)到，但是電子射線不能到達(dá)被第四旋轉(zhuǎn)輸送裝置M4的第四內(nèi)周屏蔽體S4遮住的背面部分。此外，借助第4-5連接開口部P4-5到達(dá)第五屏蔽室R5的電子射線被第五旋轉(zhuǎn)輸送裝置M5的第五內(nèi)周屏蔽體S5遮蔽，而不能到達(dá)第5-6連接開口部P5-6。如上所述可知，對(duì)于到達(dá)第五屏蔽室R5的電子射線，第五內(nèi)周屏蔽體S5非常有效地發(fā)揮作用。
[0095]此處，通過相比于第四旋轉(zhuǎn)路徑L4的外徑加大設(shè)定第五旋轉(zhuǎn)路徑L5的外徑，使第五旋轉(zhuǎn)輸送裝置M5的第五內(nèi)周屏蔽體S5的外徑D5大于第四內(nèi)周屏蔽體S4的外徑D4。由此，可以有效屏蔽從第3-4連接開口部P3-4和第4-5連接開口部P4-5泄漏的電子射線(X射線)。此外，第五內(nèi)周屏蔽體S5的外徑D5優(yōu)選在第四內(nèi)周屏蔽體S4的外徑D4的1.3倍以上，且優(yōu)選在2.5倍以下。如果在1.3倍以上，則會(huì)得到顯著的屏蔽效果。而如果設(shè)定在
2.5倍以下，則不會(huì)使設(shè)備過度大型化。此外考慮從第3-4連接開口部P3-4泄漏并與金屬制的屏蔽體碰撞的電子射線(X射線)的情況，如圖11 (b)所示，從第3-4連接開口部P3-4與第四內(nèi)周屏蔽體S4碰撞而產(chǎn)生的X射線借助第4-5連接開口部P4-5泄漏到第五屏蔽室R5時(shí)，如果第五內(nèi)周屏蔽體S5的外徑D5比較小，則存在X射線借助第5-6連接開口部P5-6泄漏到第六屏蔽室R6的可能。因此，通過將內(nèi)周屏蔽體S5的外徑D5加大形成，能夠基本消除從第5-6連接開口部P5-6向第六屏蔽室R6泄漏的X射線量。
[0096]并且，在第四屏蔽室R4中突出設(shè)置有由金屬制屏蔽體構(gòu)成的第四室俘獲壁T4，所述第四室俘獲壁T4從與第三屏蔽室R3的第3-4連接開口部P3-4相對(duì)的屏蔽壁R4a朝向第3-4連接開口部P3-4突出，并且由所述第四室俘獲壁T4形成第四室衰減室R4b。因此，能夠?qū)牡谌帘问襌3的電子射線照射噴嘴En借助第3-4連接開口部P3-4泄漏到第四屏蔽室R4的電子射線(X射線)，由第四室俘獲壁T4屏蔽并導(dǎo)向第四室衰減室R4b，使其被反射而衰減。
[0097]此外，在第五屏蔽室R5中設(shè)有從第5-6連接開口部P5_6附近的屏蔽側(cè)壁大體垂直突出的第五室俘獲壁T5。所述第五室俘獲壁T5在第5-6連接開口部P5-6處配置在與廢品室RR相反側(cè)，利用所述第五室俘獲壁T5，從第4-5連接開口部P4-5侵入的電子射線(X射線)被屏蔽壁反射，能夠減少?gòu)牡?-6連接開口部P5-6侵入第六屏蔽室R6的射線量。
[0098](廢品區(qū)域)
[0099]在排出例如因供給電壓低而不能照射規(guī)定的電子射線量的殺菌不良容器B的廢品區(qū)域ZR中，潔凈室22內(nèi)設(shè)有廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置MR并形成有廢品旋轉(zhuǎn)路徑LR。在所述廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置MR中，廢品旋轉(zhuǎn)軸111借助軸承貫穿設(shè)置于臺(tái)架頂板21U，在廢品旋轉(zhuǎn)軸111的上端部安裝有廢品旋轉(zhuǎn)臺(tái)112。并且在廢品旋轉(zhuǎn)臺(tái)112的外周部，以一定間距安裝有與第一容器保持裝置54結(jié)構(gòu)相同的廢品容器保持裝置114。通過使安裝在廢品旋轉(zhuǎn)軸111的下端部的廢品聯(lián)動(dòng)齒輪113與第五聯(lián)動(dòng)齒輪93嚙合，廢品旋轉(zhuǎn)臺(tái)112與第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3的外筒軸23a聯(lián)動(dòng)連接并被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。
[0100]參照?qǐng)D13說明所述廢品區(qū)域ZR中的廢品旋轉(zhuǎn)路徑LR上設(shè)置的排出滑槽121、131。
[0101]圖13 (C)表示了比較例的排出滑槽141，從與廢品排出口 PR對(duì)應(yīng)形成的容器入口 142借助頂部錐形部143傾斜形成滑槽主體144，將容器B向所述滑槽主體144送出，使容器B從容器出口 145落入托盤。在所述排出滑槽141的情況下，到達(dá)廢品排出口 PR的X射線容易以更少的反射次數(shù)或直接從容器出口 145泄漏。
[0102] 圖13 (a)為由金屬制屏蔽壁形成的排出滑槽121的第一實(shí)施例，在廢品排出口 PR的下游側(cè)的廢品屏蔽室RR中，借助臺(tái)階部形成頂部高的衰減室122，并將滑槽主體123的入口頂部123a向衰減室122內(nèi)突出。此外，在滑槽主體123的中間部形成折曲部123b，并將容器出口 123c向下方折曲。在所述排出滑槽121中，X射線被衰減室122的屏蔽壁反射，并被折曲部123b和容器出口 123c的屏蔽壁反射，所以從容器出口 123c泄漏的X射線量大幅減少。
[0103]圖13 (b)為由金屬制屏蔽壁形成的排出滑槽131的第二實(shí)施例，衰減室132、入口部分133a、折曲部133b、容器出口 133c與第一實(shí)施例同樣形成，不同的是衰減室132的頂部沒有臺(tái)階部而形成高的平坦?fàn)睢Ｋ龅诙?shí)施例的排出滑槽131可以發(fā)揮和第一實(shí)施例同樣的作用效果。
[0104](第一實(shí)施例的效果)
[0105]按照上述第一實(shí)施例，由于在配置于外表面殺菌區(qū)域Z2的第一、第二旋轉(zhuǎn)路徑L1、L2的第1-2連接部J1-2的上游側(cè)附近和下游側(cè)附近，分別向容器B的外半面照射電子射線進(jìn)行殺菌的第一、第二電子射線照射裝置El、E2彼此接近配置，所以在對(duì)一方的外半面進(jìn)行殺菌后，可以短時(shí)間內(nèi)對(duì)另一方的外半面進(jìn)行殺菌，從而在對(duì)一方的外半面進(jìn)行殺菌后，另一方的外半面上附著的污染物附著在一方的外半面并再次污染一方的外半面的情況極少，能夠有效進(jìn)行外表面整體的殺菌。
[0106]此外，從第二電子射線照射裝置E2照射的電子射線的一部分向殺菌后的第二旋轉(zhuǎn)路徑L2上的容器B照射，從而可以有效防止全面殺菌后的容器B的外表面被再次污染。
[0107]此外，在外表面、內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z2、Z3中，通過在第一~第三旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置Ml~M3上沿第一~第三旋轉(zhuǎn)路徑LI~L3的內(nèi)周部設(shè)置第一~第三內(nèi)周屏蔽體SI~S3，能夠在外表面、內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z2、Z3的第一~第三屏蔽室Rl~R3與第一~第三內(nèi)周屏蔽體SI~S3之間，增加電子射線的 反射次數(shù)以使其有效衰減。
[0108]此外，在出口俘獲區(qū)域Z4中，通過在第四~第六旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置M4~M6上沿第四~第六旋轉(zhuǎn)路徑L4~L6的內(nèi)周部設(shè)置第四~第六內(nèi)周屏蔽體S4~S6，可以有效屏蔽從內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z3的第三屏蔽室R3借助第3-4連接開口部P3-4泄漏的電子射線(X射線)，能夠使向下游側(cè)泄漏的電子射線(X射線)有效衰減。
[0109]此外，在內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z3中，為了向容器B的口部插入電子射線照射噴嘴En以及進(jìn)行電子射線照射，需要使容器B具有充足的輸送距離和時(shí)間，為了加長(zhǎng)第三旋轉(zhuǎn)路徑L3而需要加大直徑，而當(dāng)?shù)?-4連接開口部P3-4上配置的出口俘獲區(qū)域TA的第四旋轉(zhuǎn)路徑L4的直徑較大時(shí)，第三旋轉(zhuǎn)路徑L3的輸送距離受到限制，在出口俘獲區(qū)域Z4中不能加大第四旋轉(zhuǎn)路徑L4的直徑。因此，從第3-4連接開口部P3-4向出口俘獲區(qū)域Z4的上游側(cè)的第四屏蔽室R4泄漏的電子射線(X射線)的射線量必然有增多的傾向。
[0110]作為對(duì)策，將第五旋轉(zhuǎn)路徑L5的外徑D5設(shè)定為大于第四內(nèi)周屏蔽體S4的外徑D4。優(yōu)選將第五內(nèi)周屏蔽體S5的外徑D5加大到第四內(nèi)周屏蔽體S4的外徑D4的1.3~
2.5倍的范圍。由此，能夠有效減少?gòu)牡谒钠帘问襌4借助第五屏蔽室R5向下游側(cè)泄漏的電子射線(X射線)的射線量。
[0111]此外，由于出口俘獲區(qū)域Z4的第四屏蔽室R4設(shè)有第四室俘獲壁T4而形成第四室衰減室R4b，所以能夠?qū)膬?nèi)表面殺菌區(qū)域Z3的第3-4連接開口部P3-4泄漏的電子射線(X射線)導(dǎo)入第四室衰減室R4b，使電子射線(X射線)在第四室衰減室R4b有效反射而衰減。
[0112]此外，在第五屏蔽室R5中，由于第5-6連接開口部P5-6附近的屏蔽側(cè)壁上設(shè)有第五室俘獲壁T5，所以對(duì)從第4-5連接開口部P4-5侵入的電子射線(X射線)進(jìn)行屏蔽，能夠減少侵入第六屏蔽室R6的射線量。
[0113]進(jìn)而，在外表面殺菌區(qū)域Z2的第二屏蔽室R2中，由于從與第2-3連接開口部P2_3相對(duì)的屏蔽壁突出設(shè)置第二室俘獲壁T2而形成第二室衰減室R2b，所以能夠?qū)牡?-3連接開口部P2-3泄漏的電子射線(X射線)利用第二室俘獲壁T2導(dǎo)入第二室衰減室R2b，使其有效反射而衰減。
[0114](第二實(shí)施例)
[0115]參照?qǐng)D15和圖16說明本發(fā)明的電子射線殺菌設(shè)備的第二實(shí)施例。本實(shí)施例2中也由多條旋轉(zhuǎn)路徑LT1、LT2構(gòu)成入口俘獲區(qū)域Zl。[0116]在所述入口俘獲區(qū)域Zl中，在由送入旋轉(zhuǎn)輸送裝置MO形成的送入旋轉(zhuǎn)路徑LS與第一旋轉(zhuǎn)路徑LI之間，串聯(lián)配置有第一俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LTl和第二俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LT2。并且形成第一俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LTl的第一俘獲旋轉(zhuǎn)輸送裝置MTl以及形成第二俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LT2的第二俘獲旋轉(zhuǎn)輸送裝置MT2，分別收容在由金屬制屏蔽壁形成的第一俘獲屏蔽室RTl內(nèi)和第二俘獲屏蔽室RT2內(nèi)。并且送入旋轉(zhuǎn)輸送裝置MO和第一、第二俘獲旋轉(zhuǎn)輸送裝置MT1、MT2沿送入旋轉(zhuǎn)路徑LS和第一、第二俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LTl、LT2的內(nèi)周部，設(shè)有由金屬制屏蔽壁構(gòu)成的送入部?jī)?nèi)周屏蔽壁SO和第一、第二俘獲內(nèi)周屏蔽壁ST1、ST2。進(jìn)而，在送入旋轉(zhuǎn)路徑LS與第一俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LTl的俘獲入口連接部JT0-1、第一俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LTl與第二俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LT2的俘獲中間連接部JT1-2以及第二俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LT2與第一旋轉(zhuǎn)路徑LI的俘獲出口連接部JT2-1處，在第一俘獲屏蔽室RTl內(nèi)和第二俘獲屏蔽室RT2的屏蔽壁上，分別形成有與實(shí)施例1大體相同結(jié)構(gòu)的俘獲入口、中間、出口連接開口部PT0-1、ΡΤ1-2、ΡΤ2-1。
[0117]另外，由于所述送入旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置MO和第一、第二俘獲旋轉(zhuǎn)輸送裝置ΜΤ1、ΜΤ2和第一實(shí)施例結(jié)構(gòu)相同，所以標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記并省略說明。
[0118]此處，如圖16 (a)所示，從第三屏蔽室R3的電子射線照射噴嘴En和第二電子射線照射裝置E2照射的電子射線，作為直接或反射X射線侵入第二俘獲屏蔽室RT2的情況極少。但是，從第一電子射線照射裝置El照射并從俘獲出口連接開口部PT2-1泄漏的電子射線有侵入的可能。作為對(duì)策，將第二俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LT2的外徑比第一旋轉(zhuǎn)路徑LI的外徑加大形成，使第二俘獲內(nèi)周屏蔽體ST2的外徑DT2大于第一內(nèi)周屏蔽體SI的外徑D1。由此，通過將面向俘獲出口連接開口部PT2-1的第二俘獲內(nèi)周屏蔽體ST2加大形成，可以有效屏蔽從俘獲出口連接開口部PT2-1泄漏的電子射線(X射線)。第二俘獲內(nèi)周屏蔽體ST2的外徑DT2優(yōu)選在第一內(nèi)周屏蔽體SI的外徑Dl的1.3倍以上，并優(yōu)選在2.5倍以下。如果在
1.3倍以上，則能得到顯著的屏蔽效果。而如果在2.5倍以下，則不會(huì)使設(shè)備過度大型化。
[0119]此外，在圖15、圖16中將第一俘獲屏蔽室RTl的俘獲入口連接開口部PT0-1的一方的屏蔽壁延長(zhǎng)的原因在于，可以形成僅供容器保持件通過的開口部。
[0120](內(nèi)周屏蔽體的其他實(shí)施例)
[0121]在實(shí)施例1、2中，分別設(shè)置于第一~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置Ml~M6、中間旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置M8、廢品旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置MR、送入旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置MO、第一、第二俘獲旋轉(zhuǎn)輸送裝置MTl、MT2的第一~第六內(nèi)周屏蔽體SI~S6、中間內(nèi)周屏蔽體S8、廢品內(nèi)周屏蔽體SR、送入部?jī)?nèi)周屏蔽體SO和第一、第二俘獲內(nèi)周屏蔽體ST1、ST2，都被分別形成頂面封閉的圓筒形，但是也可以如圖17 (a)的內(nèi)周屏蔽體Sll所示，在圓筒形的外周面上沿周向以一定間距形成有軸心方向的凹槽a。此外，可以如圖17 (b)的內(nèi)周屏蔽體S12所示，在圓筒形的外周面上，在周向以一定間距突出設(shè)置有沿軸心方向的反射板b。還可以如圖17(c)的內(nèi)周屏蔽體S13所示，將在軸心部交叉的半徑方向的屏蔽板c按照規(guī)定角度向放射方向組裝。
[0122]按照上述內(nèi)周屏蔽體Sll~S13，可以促進(jìn)入射的電子射線更有效擴(kuò)散并衰減。
【權(quán)利要求】
1.一種電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)，具備分別收容串聯(lián)的多條旋轉(zhuǎn)路徑的屏蔽室，并具備殺菌區(qū)域，所述殺菌區(qū)域由外表面殺菌區(qū)域和內(nèi)表面殺菌區(qū)域構(gòu)成，所述外表面殺菌區(qū)域在容器輸送方向上游側(cè)從分別配置于兩條旋轉(zhuǎn)路徑外側(cè)的電子射線照射器向容器照射電子射線，對(duì)容器外表面進(jìn)行殺菌，所述內(nèi)表面殺菌區(qū)域在容器輸送方向下游側(cè)向沿一條旋轉(zhuǎn)路徑輸送的容器內(nèi)插入電子射線照射噴嘴以照射電子射線，對(duì)容器內(nèi)表面進(jìn)行殺菌，所述電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)的特征在于， 在所述殺菌區(qū)域的容器入口和容器出口，分別設(shè)置有使電子射線衰減的入口俘獲區(qū)域和出口俘獲區(qū)域， 在所述入口俘獲區(qū)域和所述出口俘獲區(qū)域的至少一方，設(shè)置有串聯(lián)的多條旋轉(zhuǎn)路徑，并且設(shè)置有分別收容所述多條旋轉(zhuǎn)路徑的屏蔽室， 沿所述殺菌區(qū)域的各旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周部，設(shè)置有由金屬制屏蔽體構(gòu)成的殺菌區(qū)域內(nèi)周屏蔽體， 沿連接于入口俘獲區(qū)域和/或出口俘獲區(qū)域的旋轉(zhuǎn)路徑以及連接于該旋轉(zhuǎn)路徑的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周部，分別設(shè)置有由金屬制屏蔽體構(gòu)成的俘獲區(qū)域內(nèi)周屏蔽體， 并滿足下述條件(I)和(II)中的至少一方: (I)連接于內(nèi)表面殺菌區(qū)域的出口俘獲區(qū)域的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑，小于連接于該旋轉(zhuǎn)路徑的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑； (II)連接于外表面殺菌區(qū)域的入口俘獲區(qū)域的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑，大于所述外表面殺菌區(qū)域的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)，其特征在于，與連接于內(nèi)表面殺菌區(qū)域的出口俘獲區(qū)域的上游側(cè)的`旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑相比，連接于該旋轉(zhuǎn)路徑的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑設(shè)為1.3~2.5倍的范圍。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)，其特征在于，連接于所述外表面殺菌區(qū)域的入口俘獲區(qū)域的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑，在所述外表面殺菌區(qū)域的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑的1.3~2.5倍的范圍。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)，其特征在于，在出口俘獲區(qū)域形成有與內(nèi)表面殺菌區(qū)域的容器出口相對(duì)并開口的衰減室，在收容上游端的旋轉(zhuǎn)路徑的屏蔽室中由俘獲壁進(jìn)行分隔而形成所述衰減室，且所述俘獲壁從與所述容器出口相對(duì)的屏蔽壁向所述容器出口側(cè)突出。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)，其特征在于，在外表面殺菌區(qū)域形成有與內(nèi)表面殺菌區(qū)域的容器入口相對(duì)并開口的衰減室，在收容下游端的旋轉(zhuǎn)路徑的屏蔽室中由俘獲壁進(jìn)行分隔而形成所述衰減室，且所述俘獲壁從與所述容器入口相對(duì)的屏蔽壁向所述容器入口側(cè)突出。
【文檔編號(hào)】A61L2/08GK103889463SQ201280050900
【公開日】2014年6月25日 申請(qǐng)日期:2012年10月15日 優(yōu)先權(quán)日:2011年10月17日
【發(fā)明者】橫林孝康, 小川智, 細(xì)川徹 申請(qǐng)人:日立造船株式會(huì)社
【專利摘要】本發(fā)明的電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)在收容第一～第三旋轉(zhuǎn)路徑(L1～L3)的第一～第三屏蔽室(R1～R3)中，具有向容器照射電子射線的外表面、內(nèi)表面殺菌區(qū)域(Z2、Z3)。連接于內(nèi)表面殺菌區(qū)域(Z3)的出口俘獲區(qū)域(Z4)具有收容第四～第六旋轉(zhuǎn)路徑(L4～L6)的第四～第六屏蔽室(R4～R6)。沿第一～第三旋轉(zhuǎn)路徑(L1～L3)內(nèi)周部設(shè)置第一～第三內(nèi)周屏蔽體(S1～S3)。沿第四～第五旋轉(zhuǎn)路徑(L4～L5)內(nèi)周部設(shè)置第四、第五內(nèi)周屏蔽體(S4、S5)。至少滿足條件(I)和(II)中的至少一方：(I)內(nèi)周屏蔽體(S5)的外徑(D5)大于內(nèi)周屏蔽體(S4)的外徑(D4)，(II)連接于外表面殺菌區(qū)域(Z2)的入口俘獲區(qū)域(Z1)的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(LT2)的內(nèi)周屏蔽體(ST2)的外徑(DT2)，大于外表面殺菌區(qū)域(Z2)的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(L1)的內(nèi)周屏蔽體(S1)的外徑(D1)。
【專利說明】電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及對(duì)食品和藥液等的容器和用具照射電子射線進(jìn)行殺菌的電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]如果用于殺滅細(xì)胞型微生物而照射的電子射線(陰極射線)與作為屏蔽體配置的金屬制屏蔽體(鉛等)碰撞，則在衰減的同時(shí)作為X射線在寬廣范圍擴(kuò)散的狀態(tài)下被反射、衍射。雖然也取決于電子射線的強(qiáng)度，但例如碰撞屏蔽體3~4次左右，則能夠使X射線的強(qiáng)度衰減到不會(huì)影響人體的程度。
[0003]例如將電子射線照射噴嘴插入容器的口部以對(duì)容器的內(nèi)表面進(jìn)行殺菌時(shí)，從電子射線照射噴嘴橫跨全周方向照射電子射線。并且由于對(duì)容器高速連續(xù)殺菌，所以在使用了收容于遮蔽室中的回轉(zhuǎn)式的旋轉(zhuǎn)輸送裝置時(shí)，將與容器一起旋轉(zhuǎn)移動(dòng)的電子射線照射噴嘴插入口部進(jìn)行殺菌。在此，由于電子射線產(chǎn)生裝置的供給電壓為高壓，因而電子射線的照射不能通斷，而成為連續(xù)性照射。因此，對(duì)形成于屏蔽室的容器入口和容器出口泄漏的電子射線(X射線)進(jìn)行屏蔽和衰減成為大問題。
[0004]作為向容器的口部插入電子射線照射噴嘴對(duì)容器的內(nèi)表面進(jìn)行殺菌的技術(shù)，例如公開有專利文獻(xiàn)I。此外，專利文獻(xiàn)2公開的裝置配置有內(nèi)表面殺菌用的電子射線照射噴嘴和外表面殺菌用的電子射線照射器。
[0005]專利文獻(xiàn)1:日本專利公表公報(bào)特表2009-526971
[0006]專利文獻(xiàn)2:日本專利公開公報(bào)特開2009-35330 (圖9、10、13、15、16)
[0007]然而，專利文獻(xiàn)I雖然公開了電子射線照射噴嘴的結(jié)構(gòu)，但是未提及屏蔽體。
[0008]此外，專利文獻(xiàn)2中盡管與電子射線照射噴嘴一同配置了電子射線照射器，但是未具體說明屏蔽體。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0009]為了解決上述問題，本發(fā)明的目的是提供一種能夠可靠地將X射線的泄漏衰減到不對(duì)人體造成惡劣影響程度的電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)。
[0010]第一方式的發(fā)明中，電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)具備分別收容串聯(lián)的多條旋轉(zhuǎn)路徑(LI~L3)的屏蔽室(Rl~R3)，并具備殺菌區(qū)域(Z2、Z3)，所述殺菌區(qū)域(Z2、Z3)由外表面殺菌區(qū)域(Z2)和內(nèi)表面殺菌區(qū)域(Z3)構(gòu)成，所述外表面殺菌區(qū)域(Z2)在容器輸送方向上游側(cè)從分別配置于兩條旋轉(zhuǎn)路徑(L1、L2)外側(cè)的電子射線照射器(El、E2)向容器(B)照射電子射線，對(duì)容器外表面進(jìn)行殺菌，所述內(nèi)表面殺菌區(qū)域(Z3)在容器輸送方向下游側(cè)向沿一條旋轉(zhuǎn)路徑(L3)輸送的容器(B)內(nèi)插入電子射線照射噴嘴(En)以照射電子射線，對(duì)容器(B)內(nèi)表面進(jìn)行殺菌，其中，在所述殺菌區(qū)域(Z2、Z3)的容器入口(P0-1)和容器出口(P3-4)，分別設(shè)置有使電子射線衰減的入口俘獲(trap)區(qū)域(Zl)和出口俘獲區(qū)域(Z4)，在所述入口俘獲區(qū)域(Zl)和所述出口俘獲區(qū)域(Z4)的至少一方，設(shè)置有串聯(lián)的多條旋轉(zhuǎn)路徑，并且設(shè)置有分別收容所述多條旋轉(zhuǎn)路徑的屏蔽室，沿所述殺菌區(qū)域(Z2、Z3)的各旋轉(zhuǎn)路徑(LI~L3)的內(nèi)周部，設(shè)置有由金屬制屏蔽體構(gòu)成的殺菌區(qū)域內(nèi)周屏蔽體(S1、S2、S3)，沿連接于入口俘獲區(qū)域(Zl)和/或出口俘獲區(qū)域(Z4)的旋轉(zhuǎn)路徑(L4)以及連接于該旋轉(zhuǎn)路徑(L4)的旋轉(zhuǎn)路徑(L5)的內(nèi)周部，分別設(shè)置有由金屬制屏蔽體構(gòu)成的俘獲區(qū)域內(nèi)周屏蔽體(S4、S5)，并滿足下述條件(I)和(II)中的至少一方:(I)連接于內(nèi)表面殺菌區(qū)域(Z3)的出口俘獲區(qū)域(Z4)的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(L4)的內(nèi)周屏蔽體(S4)的外徑(D4)，小于連接于該旋轉(zhuǎn)路徑(L4)的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(L5)的內(nèi)周屏蔽體(S5)的外徑(D5); (II)連接于外表面殺菌區(qū)域(Z2)的入口俘獲區(qū)域(Zl)的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(LT2)的內(nèi)周屏蔽體(ST2)的外徑(DT2)，大于所述外表面殺菌區(qū)域(Z2)的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(LI)的內(nèi)周屏蔽體(SI)的外徑(Dl)。
[0011]第二方式的發(fā)明在第一方式記載的結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，與連接于所述內(nèi)表面殺菌區(qū)域(Z3)的出口俘獲區(qū)域(Z4)的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(L4)的內(nèi)周屏蔽體(S4)的外徑(D4)相比，連接于該旋轉(zhuǎn)路徑(L4)的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(L5)的內(nèi)周屏蔽體(S5)的外徑(D5)設(shè)為
1.3~2.5倍的范圍。
[0012]第三方式的發(fā)明在第一方式記載的結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，連接于所述外表面殺菌區(qū)域(Z2)的入口俘獲區(qū)域(Zl)的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(LT2)的內(nèi)周屏蔽體(ST2)的外徑(DT2)，在所述外表面殺菌區(qū)域(Z2)的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑(LI)的內(nèi)周屏蔽體(SI)的外徑(Dl)的
1.3~2.5倍的范圍。
[0013]第四方式的發(fā)明在第一方式記載的結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，在出口俘獲區(qū)域(Z4)形成有與內(nèi)表面殺菌區(qū)域(Z3)的容器出口(P3-4)相對(duì)并開口的衰減室(R4b)，在收容上游端的旋轉(zhuǎn)路徑(L4)的屏蔽室(R4)中由俘獲壁(T4)進(jìn)行分隔而形成所述衰減室(R4b)，且所述俘獲壁(T4)從與所述容器出口(P3-4)相對(duì)的屏蔽壁向所述容器出口(P3-4)側(cè)突出。
[0014]第五方式的發(fā)明在第一方式記載的結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上,在外表面殺菌區(qū)域(Z2)形成有與內(nèi)表面殺菌區(qū)域(Z3)的容器入口(P2-3)相對(duì)并開口的衰減室(R2b)，在收容下游端的旋轉(zhuǎn)路徑(L2)的屏蔽室(R2)中由俘獲壁(T2)進(jìn)行分隔而形成所述衰減室(R2b)，且所述俘獲壁(T2 )從與所述容器入口( P2-3 )相對(duì)的屏蔽壁向所述容器入口( P2-3 )側(cè)突出。
[0015]另外，(附圖標(biāo)記)表不了與實(shí)施例對(duì)應(yīng)的附圖標(biāo)記。
[0016]按照第一方式的發(fā)明，通過沿殺菌區(qū)域的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周部設(shè)置內(nèi)周屏蔽體，能夠在殺菌區(qū)域的屏蔽室與內(nèi)周屏蔽體之間增加電子射線的反射次數(shù)，使其有效衰減。此外，從殺菌區(qū)域的屏蔽室的容器入口和容器出口泄漏的電子射線(X射線)可以被俘獲區(qū)域配置的內(nèi)周屏蔽體有效屏蔽，能夠有效地使朝向上游側(cè)和下游側(cè)泄漏的電子射線(X射線)衰減。
[0017]關(guān)于條件(I)，盡管由于在內(nèi)表面殺菌區(qū)域中為了進(jìn)行電子射線照射噴嘴的插入和電子射線照射，需要充足的輸送距離和時(shí)間，所以需要將旋轉(zhuǎn)路徑加長(zhǎng)而將直徑加大，但是配置于容器出口的俘獲區(qū)域的旋轉(zhuǎn)路徑的直徑較大時(shí)，會(huì)限制內(nèi)表面殺菌區(qū)域的旋轉(zhuǎn)路徑的直徑，所以不能加大俘獲區(qū)域的旋轉(zhuǎn)路徑的直徑。因此，從內(nèi)表面殺菌區(qū)域的容器出口向俘獲區(qū)域的上游側(cè)的屏蔽室泄漏的電子射線(X射線)的射線量必然有增多的傾向。作為對(duì)策，通過使下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑大于容器出口側(cè)的內(nèi)周屏蔽體的外徑，能夠有效屏蔽并減少?gòu)纳嫌蝹?cè)的屏蔽室向下游側(cè)泄漏的射線量。
[0018]關(guān)于條件(II )，通過使外表面殺菌區(qū)域的容器入口上連接的入口俘獲區(qū)域的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑，大于外表面殺菌區(qū)域的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑，能夠有效屏蔽并減少?gòu)膬?nèi)表面殺菌區(qū)域和外表面殺菌區(qū)域經(jīng)由容器入口泄漏的電子射線(X射線)的射線量。
[0019]按照第二方式的發(fā)明，通過將下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑設(shè)為容器出口側(cè)的內(nèi)周屏蔽體的外徑的1.3~2.5倍，使設(shè)備不會(huì)過度大型化，并且屏蔽并減少?gòu)纳嫌蝹?cè)的屏蔽室向下游側(cè)泄漏的射線量的上述效果顯著。
[0020]按照第三方式的發(fā)明，通過將外表面殺菌區(qū)域的容器入口上連接的入口俘獲區(qū)域的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑，在外表面殺菌區(qū)域的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑的1.3~2.5倍的范圍內(nèi)加大，使設(shè)備不會(huì)過度大型化，并且屏蔽并減少?gòu)膬?nèi)表面殺菌區(qū)域和外表面殺菌區(qū)域經(jīng)由容器入口泄漏的電子射線(X射線)的射線量的效果顯著。
[0021]按照第四方式的發(fā)明，由于在出口俘獲區(qū)域的上游側(cè)的屏蔽室中設(shè)置俘獲壁而形成衰減室，所以能利用俘獲壁將從內(nèi)表面殺菌區(qū)域的容器出口泄漏的電子射線(X射線)導(dǎo)入衰減室，并能夠在衰減室中使電子射線(X射線)有效反射并衰減。
[0022]按照第五方式的發(fā)明，在外表面殺菌區(qū)域中，由于在面向容器入口的屏蔽室內(nèi)形成有俘獲壁而形成衰減室，所以能利用俘獲壁將從內(nèi)表面殺菌區(qū)域的容器入口泄漏的電子射線(X射線)導(dǎo)入衰減室，并能夠在衰減室中使電子射線(X射線)有效反射并衰減。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0023]圖1是表示本發(fā)明的電子射線殺菌設(shè)備的實(shí)施例1的簡(jiǎn)要俯視圖。
[0024]圖2是表不內(nèi)表面、外表面殺菌區(qū)域和出口俘獲區(qū)域的俯視斷面圖。
[0025]圖3是表示以內(nèi)表面殺菌區(qū)域?yàn)橹行牡碾娮由渚€殺菌設(shè)備的縱斷面圖。
[0026]圖4 (a)、(b)表示容器升降保持裝置，Ca)為縱斷面圖，(b)為(a)所示的A-A箭頭視圖。
[0027]圖5是表示第一~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置、廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的俯視圖。
[0028]圖6是表示第一、第二旋轉(zhuǎn)輸送裝置的縱斷面圖。
[0029]圖7是圖6所示的B-B斷面圖。
[0030]圖8是表示第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置的縱斷面圖。
[0031]圖9是表示第五旋轉(zhuǎn)輸送裝置、廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置的縱斷面圖。
[0032]圖10 (a)、(b)是第4-5連接開口部的說明圖，(a)為俯視斷面圖，(b)為主視圖。
[0033]圖11 (a)、(b)是表示電子射線(X射線)的泄漏狀態(tài)的俯視圖，(a)表示照射區(qū)域和泄漏區(qū)域，(b)表示電子射線(X射線)的反射泄漏區(qū)域。
[0034]圖12 (a)、(b)是入口俘獲區(qū)域的俯視斷面圖，(a)表示第一實(shí)施例，(b)表示第
二實(shí)施例。
[0035]圖13 Ca)~(C)是表示廢品區(qū)域的容器排出滑槽的實(shí)施例的縱斷面圖，(a)表示第一實(shí)施例，(b)表不第二實(shí)施例，(C)表不比較例。 [0036]圖14是表示在第二屏蔽室設(shè)置了電子射線偏轉(zhuǎn)裝置的電子射線照射裝置的變形例的俯視圖。
[0037]圖15表示本發(fā)明的電子射線殺菌裝置的第二實(shí)施例，是俯視斷面圖。[0038]圖16 (a)、(b)是表示入口俘獲區(qū)域中的電子射線的泄漏狀態(tài)的俯視圖，(a)表示照射區(qū)域、泄漏區(qū)域，(b)表示反射的X射線泄漏區(qū)域。
[0039]圖17 (a)~(C)是表示內(nèi)周屏蔽體的其他實(shí)施例的俯視斷面圖。
【具體實(shí)施方式】
[0040](第一實(shí)施例)
[0041]以下，基于【專利附圖】
【附圖說明】本發(fā)明的具備屏蔽結(jié)構(gòu)的容器殺菌設(shè)備的第一實(shí)施例。
[0042](電子射線殺菌設(shè)備的概要)
[0043]如圖1~圖3所示，所述電子射線殺菌設(shè)備具備入口俘獲區(qū)域Z1、外表面殺菌區(qū)域Z2、內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z3和出口俘獲區(qū)域Z4，由U形輸送路徑LU構(gòu)成入口俘獲區(qū)域Z1，并且通過將第一~第六旋轉(zhuǎn)路徑LI~L6串聯(lián)而構(gòu)成外表面殺菌區(qū)域Z2、內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z3和出口俘獲區(qū)域Z4,在所述第一~第六旋轉(zhuǎn)路徑LI~L6中由第一~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置Ml~M6輸送容器B。此外，在出口俘獲區(qū)域TA的背面?zhèn)仍O(shè)有廢品區(qū)域ZR，在所述廢品區(qū)域ZR中沿由廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置MR形成的廢品旋轉(zhuǎn)路徑LR輸送殺菌不良的容器B，并從廢品排出口 PR將其排出。 [0044]在外表面殺菌區(qū)域Z2中，形成第一、第二旋轉(zhuǎn)路徑L1、L2的第一、第二旋轉(zhuǎn)輸送裝置Ml、M2串聯(lián)，所述第一、第二旋轉(zhuǎn)輸送裝置Ml、M2各自收容在分別由金屬制的屏蔽體構(gòu)成的第一、第二屏蔽室Rl、R2中。在第一屏蔽室Rl中設(shè)置有第一電子射線照射裝置E1，在由第一旋轉(zhuǎn)輸送裝置Ml借助頸部η保持容器B并沿第一旋轉(zhuǎn)路徑LI輸送容器B的過程中，所述第一電子射線照射裝置El向容器B的一方的外表面照射電子射線進(jìn)行殺菌。此外，在第二屏蔽室R2中設(shè)置有第二電子射線照射裝置Ε2，在由第二旋轉(zhuǎn)輸送裝置M2借助頸部η保持容器B并沿第二旋轉(zhuǎn)路徑L2輸送容器B的過程中，所述第二電子射線照射裝置Ε2向容器B的另一方的外表面照射電子射線進(jìn)行殺菌。
[0045]在內(nèi)表面殺菌區(qū)域Ζ3中，在由屏蔽體構(gòu)成的第三屏蔽室R3內(nèi)，設(shè)置有形成第三旋轉(zhuǎn)路徑L3的第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3。所述第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3以一定間距設(shè)置有多個(gè)容器升降保持裝置26，所述容器升降保持裝置26借助頸部η保持容器B，并且在沿第三旋轉(zhuǎn)路徑L3輸送容器B的過程中使容器B依次上升從而使電子射線照射噴嘴En插入容器B的口部。此外，在容器升降保持裝置26的上部配置有第三電子射線照射裝置Ε3，所述第三電子射線照射裝置Ε3從向每個(gè)容器升降保持裝置26垂下的電子射線照射噴嘴En照射電子射線。
[0046]在出口俘獲區(qū)域Ζ4中，分別形成第四~第六旋轉(zhuǎn)路徑L4~L6的第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置Μ4~Μ6串聯(lián)配置，所述第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置Μ4~Μ6各自收容在分別由屏蔽體構(gòu)成的第四~第六屏蔽室R4~R6中。所述第四~第六屏蔽室R4~R6用于使從第三屏蔽室R3的第3-4連接開口部(容器出口)Ρ3-4泄漏的電子射線和因電子射線朝向金屬制屏蔽體反射(衍射等)而產(chǎn)生的X射線(以下統(tǒng)稱為電子射線(X射線))衰減。在所述第四~第六屏蔽室R4~R6中，利用第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置Μ4~Μ6借助頸部η保持容器B并沿第四~第六旋轉(zhuǎn)路徑L4~L6輸送容器B。
[0047]由中間旋轉(zhuǎn)輸送裝置Μ8形成的中間旋轉(zhuǎn)路徑L8與第六旋轉(zhuǎn)路徑L6連接，并且所述中間旋轉(zhuǎn)路徑L8連接于填充裝置(未圖示)，從而向殺菌后的容器B填充液體。[0048]在廢品區(qū)域ZR中配置有廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置MR，所述廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置MR形成與第五旋轉(zhuǎn)路徑L5連接的廢品旋轉(zhuǎn)路徑LR，所述廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置MR收容在被屏蔽體包圍的廢品屏蔽室RR中。
[0049](容器殺菌設(shè)備的具體說明)
[0050]所述容器殺菌設(shè)備設(shè)置在潔凈室22內(nèi)，所述潔凈室22借助框架設(shè)置在臺(tái)架21上，內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z3的第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3成為中心，且外表面殺菌區(qū)域Z2的第一、第二旋轉(zhuǎn)輸送裝置M1、M2、出口俘獲區(qū)域TA的第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置M4~M6和廢品區(qū)域ZR的廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置MR成為聯(lián)動(dòng)結(jié)構(gòu)。
[0051](內(nèi)表面殺菌區(qū)域)
[0052]第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3的主軸23b貫穿臺(tái)架頂板2IU而豎直設(shè)置，且所述主軸23b豎直設(shè)置在臺(tái)架21的底部框架2ID上。外筒軸23a旋轉(zhuǎn)自如地支承于所述主軸23b，支撐臺(tái)24被支承在所述外筒軸23a的上部，旋轉(zhuǎn)臺(tái)25被支承在外筒軸23a的下部。并且第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3被圖5所示的旋轉(zhuǎn)輸送用驅(qū)動(dòng)裝置49驅(qū)動(dòng)成沿輸送方向以規(guī)定速度旋轉(zhuǎn)。在支撐臺(tái)24的周向以一定間距配置有多個(gè)第三電子射線產(chǎn)生裝置E3以及垂下姿勢(shì)的電子射線照射噴嘴En，所述電子射線照射噴嘴En與所述第三電子射線產(chǎn)生裝置E3連接。第三外殼屏蔽體SM3在支撐臺(tái)24的外周部和頂部屏蔽多個(gè)第三電子射線產(chǎn)生裝置E3。
[0053]在旋轉(zhuǎn)臺(tái)25的外周部沿周向以同一間距配置有與電子射線照射噴嘴En相對(duì)的容器升降保持裝置26。所述容器升降保持裝置26通過把持容器B的頸部η使容器B升降，如圖4所示，由雙層筒構(gòu)成的動(dòng)作軸28貫穿設(shè)置于旋轉(zhuǎn)臺(tái)25。所述動(dòng)作軸28包括:升降用的外軸28a，借助滑動(dòng)軸承27升降自如地配置于旋轉(zhuǎn)臺(tái)25 ;以及開閉用的內(nèi)軸28b，圍繞軸心旋轉(zhuǎn)自如地嵌合于所述外軸28a內(nèi)。
[0054]在外軸28a的上端部設(shè)有能借助頸部η保持容器B的夾具31，在下端部設(shè)有驅(qū)動(dòng)夾具31升降的升降用凸輪機(jī)構(gòu)37。
[0055]設(shè)置在外軸28a的上端部的夾具31如圖4 (b)所示，以一對(duì)夾臂35a、35b借助一對(duì)支承銷33能開閉的方式，支承在固定于外軸28a的底板32上。在所述夾臂35a、35b中，另一個(gè)夾臂35b借助由板構(gòu)件固定的聯(lián)動(dòng)銷34與一個(gè)夾臂35a聯(lián)動(dòng)，并且夾臂35a、35b由閉合加力用螺旋彈簧30向把持方向施加作用力。并且，在所述夾臂35a、35b的基端部之間設(shè)有開閉輸出凸輪36，所述開閉輸出凸輪36利用內(nèi)軸28b而轉(zhuǎn)動(dòng)并使一個(gè)夾臂35a開閉。
[0056]設(shè)置在外軸28a的下端部的升降用凸輪機(jī)構(gòu)37中，升降用凸輪從動(dòng)件38被升降臂支承，所述升降用凸輪從動(dòng)件38通過在臺(tái)架21上設(shè)置的升降用凸輪40的凸輪面上滾動(dòng)從而使夾具31升降。升降用約束彈簧41對(duì)升降用凸輪從動(dòng)件38朝向升降用凸輪40的凸輪面施加作用力。
[0057]在內(nèi)軸28b的上端部安裝有開閉輸出凸輪36，在下端部設(shè)有開閉驅(qū)動(dòng)夾具31的開閉輸入凸輪機(jī)構(gòu)42。在所述開閉輸入凸輪機(jī)構(gòu)42中，開閉輸入凸輪從動(dòng)件44借助開閉輸入臂45安裝在內(nèi)軸28b上，且所述開閉輸入凸輪從動(dòng)件44在開閉輸入凸輪43的凸輪面上滾動(dòng)。開閉輸入用約束彈簧46對(duì)開閉輸入凸輪從動(dòng)件44向開閉輸入凸輪43的凸輪面施加作用力。
[0058]升降用凸輪40從第三旋轉(zhuǎn)路徑L3的第2-3連接部J2_3至第3_4連接部J3_4之間進(jìn)行配置。此外，所述開閉輸入凸輪43從第3-4連接部J3-4的上游側(cè)至第2-3連接部J2-3的下游側(cè)進(jìn)行配置。
[0059]上述結(jié)構(gòu)下，在旋轉(zhuǎn)臺(tái)25旋轉(zhuǎn)過程中，在第2-3連接部J2_3處，容器B的頸部η被轉(zhuǎn)交給在開閉輸入凸輪43的作用下開放的夾臂35a、35b，且由關(guān)閉后的夾臂35a、35b把持頸部η并輸送容器B。而后，容器B在升降用凸輪40的作用下借助夾具31上升，電子射線照射噴嘴En嵌入容器B的口部。并且，由電子射線照射噴嘴En照射的電子射線對(duì)容器B的內(nèi)表面進(jìn)行殺菌。接著，容器B在升降用凸輪40的作用下借助夾臂35a、35b下降，電子射線照射噴嘴En從口部脫離。進(jìn)而容器B接近第3-4連接部J3-4時(shí)，夾臂35a、35b在開閉輸入凸輪43的作用下開放，頸部η被轉(zhuǎn)交給第四旋轉(zhuǎn)輸送裝置Μ4并將容器B移送至第四旋轉(zhuǎn)路徑L4。
[0060]此外，在第三旋轉(zhuǎn)路徑L3的內(nèi)周部且旋轉(zhuǎn)臺(tái)25與支撐臺(tái)24之間設(shè)有第三內(nèi)周屏蔽體S3。
[0061]此外，如圖3、圖4所示，旋轉(zhuǎn)臺(tái)25從外周部向下方垂下設(shè)置有外周壁47，所述外周壁47借助環(huán)狀軸承旋轉(zhuǎn)移動(dòng)自如地支承于臺(tái)架頂板21U，并且在所述外周壁47上安裝有聯(lián)動(dòng)用第三齒圈48。并且，如圖5所示，由旋轉(zhuǎn)輸送用驅(qū)動(dòng)裝置49借助減速器旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的輸送驅(qū)動(dòng)齒輪50與聯(lián)動(dòng)用第三齒圈48嚙合。
[0062](外表面殺菌區(qū)域)
[0063]如圖3所示，在臺(tái)架頂板21U上的第一、第二屏蔽室R1、R2中，分別設(shè)置有第一、第二旋轉(zhuǎn)輸送裝置Ml、M2。在所述第一旋轉(zhuǎn)輸送裝置Ml和第二旋轉(zhuǎn)輸送裝置M2中，在借助軸承旋轉(zhuǎn)自如地貫穿設(shè)置于臺(tái)架頂板2IU的第一旋轉(zhuǎn)軸51、第二旋轉(zhuǎn)軸71的上端部，分別固定有第一旋轉(zhuǎn)臺(tái)52、第二旋轉(zhuǎn)臺(tái)72。并且，在第二旋轉(zhuǎn)軸71的下端部安裝有與第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3的聯(lián)動(dòng)用第三齒圈48嚙合的第二聯(lián)動(dòng)齒輪73，此外，在第一旋轉(zhuǎn)軸51的下端部安裝有與第二聯(lián)動(dòng)齒輪73嚙合的第一聯(lián)動(dòng)齒輪53，從而第一聯(lián)動(dòng)齒輪53與第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3的外筒軸23a聯(lián)動(dòng)連接并被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。
[0064]在第一旋轉(zhuǎn)臺(tái)52和第二旋轉(zhuǎn)臺(tái)72的外周部，以一定間距配置有第一、第二容器保持裝置54、74。此處，第一、第二容器保持裝置54、74除了把持頸部η的位置不同以外，結(jié)構(gòu)大體相同，故僅說明第一容器保持裝置54，對(duì)第二容器保持裝置74標(biāo)注相同附圖標(biāo)記并省略說明。此外，如后所述，出口俘獲區(qū)域Ζ4的第四~第六容器保持裝置84、94和廢品區(qū)域ZR的廢品容器保持裝置114也是除了把持頸部η的位置不同以外，結(jié)構(gòu)大體相同，所以省略具體的說明。
[0065]如圖6、圖7所示，第一容器保持裝置54在第一旋轉(zhuǎn)臺(tái)52的外周部貫穿設(shè)置有上下方向的支承筒55，所述支承筒55的上端部安裝有支承板56。并且，左右一對(duì)夾臂57a、57b分別借助一對(duì)支承銷58開閉自如地支承在所述支承板56上。并且在兩夾臂57a、57b中，借助板構(gòu)件安裝于一個(gè)夾臂57a的聯(lián)動(dòng)銷60嵌合到另一個(gè)夾臂57b的從動(dòng)槽中，另一個(gè)夾臂57b借助聯(lián)動(dòng)銷60與一個(gè)夾臂57a的開閉聯(lián)動(dòng)，能夠以支承銷58為中心開閉。此外，利用連接在夾臂57a、57b的前端側(cè)之間的關(guān)閉加力彈簧59向關(guān)閉方向施加作用力。
[0066]開閉軸61旋轉(zhuǎn)自如地支承在支承筒55內(nèi)，在開閉軸61的下端部借助凸輪桿安裝有開閉輸入凸輪從動(dòng)件62，并利用與所 述凸輪桿連接的開閉約束彈簧63，使開閉輸入凸輪從動(dòng)件62對(duì)應(yīng)于交接容器B的第0-1連接部JO-1和第1-2連接部J1-2，抵接于安裝在第一旋轉(zhuǎn)軸51的外筒部上的開閉輸入凸輪65。[0067]在開閉軸61的上端部安裝有開閉輸出凸輪64，所述開閉輸出凸輪64配置在夾臂57a、57b的基端部之間，可以利用開閉軸61的旋轉(zhuǎn)并借助開閉輸出凸輪64而開閉驅(qū)動(dòng)一個(gè)夾臂57a。
[0068]在第一容器保持裝置54和第二容器保持裝置74的第一、第二旋轉(zhuǎn)臺(tái)52、72上且在第一、第二旋轉(zhuǎn)路徑L1、L2的外周部，分別設(shè)置有第一、第二內(nèi)周屏蔽體S1、S2。
[0069]此處說明配置于第一屏蔽室Rl的第一電子射線照射裝置El和配置于第二屏蔽室R2的第二電子射線照射裝置E2。
[0070]照射電子射線對(duì)容器B的外表面進(jìn)行殺菌時(shí)，由于第一、二旋轉(zhuǎn)路徑L1、L2的內(nèi)周側(cè)分別設(shè)有第一、二旋轉(zhuǎn)輸送裝置Ml、M2，所以不能設(shè)置電子射線照射裝置。因此，通過在鄰接的兩條旋轉(zhuǎn)路徑的外周部分別配置電子射線照射裝置，向外半面分別照射電子射線。
[0071]此處重要的課題是:A)應(yīng)盡可能不使送入第一屏蔽室Rl的容器B上附著的污染物被帶入外表面殺菌區(qū)域Z2 ;B)在容器B的一方的外半面被殺菌后至另一方的外半面被殺菌為止的期間，應(yīng)將另一方的外半面上附著的污染物的擴(kuò)散以及該污染部對(duì)殺菌后的一方的外半面的污染控制在最小限度；C)在另一方的外半面進(jìn)行殺菌后至內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z3為止的期間，應(yīng)將容器B的再次污染控制在最小限度。
[0072]因此，在第一實(shí)施例中，為了解決A)，在第一旋轉(zhuǎn)路徑LI的入口附近配置向容器B照射電子射線的第一電子射線照射裝置E1，以最短輸送距離和短時(shí)間開始容器B的外表面殺菌，防止附著于容器B的污染物侵入。
[0073]為了解決B)，通過在第一旋轉(zhuǎn)路徑LI和第二旋轉(zhuǎn)路徑L2的第1_2連接部Jl_2的上游側(cè)附近的第一旋轉(zhuǎn)路徑LI上設(shè)置第一電子射線照射裝置El，并且在第二旋轉(zhuǎn)路徑L2的第1-2連接部J1-2的下游側(cè)附近設(shè)置第二電子射線照射裝置E2，將對(duì)一方的外半面進(jìn)行殺菌到對(duì)另一方的外半面進(jìn)行殺菌的輸送距離和時(shí)間設(shè)為最小。
[0074]為了解決C)，在第二旋轉(zhuǎn)路徑L2中，從對(duì)另一方的外半面進(jìn)行殺菌的位置到第
2-3連接部J2-3為止的送入路徑部L2c中，使第二電子射線照射裝置E2照射的電子射線以及外表面殺菌區(qū)域Z2的從電子射線照射噴嘴En照射的電子射線中、通過第2-3連接開口部(容器入口)P2-3泄漏的電子射線(X射線)，盡可能向容器B照射。這是通過使第二電子射線照射裝置E2的電子射線的照射方向設(shè)置為朝向位于送入路徑部L2c的容器B來實(shí)現(xiàn)的。
[0075]即，第一電子射線照射裝置El設(shè)置在第一屏蔽室Rl內(nèi)，并且位于入口俘獲區(qū)域Zl的U形輸送路徑LU與第一旋轉(zhuǎn)路徑LI的第0-1連接部JO-1附近、且第1-2連接部J1-2的上游側(cè)附近的第一旋轉(zhuǎn)路徑LI的外周側(cè)，向容器B照射電子射線。此外，第二電子射線照射裝置E2設(shè)置在第二屏蔽室R2內(nèi)，且位于第1-2連接部J1-2的下游側(cè)附近的第二旋轉(zhuǎn)路徑L2的外周側(cè)，將電子射線的照射方向設(shè)定為，使來自第二電子射線照射裝置E2的電子射線，朝向與第二電子射線照射裝置E2相對(duì)的第二旋轉(zhuǎn)路徑L2上的容器B及其下游側(cè)的送入路徑部L2c的容器B照射。此外，由于送入路徑部L2c面向第三屏蔽室R3的第2_3連接開口部P2-3配置，所以從第三屏蔽室R3泄漏的電子射線(X射線)也向容器B照射。
[0076]另外，此處如圖14所示，可以構(gòu)成為將第二電子射線照射裝置E2照射的電子射線的一部分借助一個(gè)或多個(gè)電子射線偏轉(zhuǎn)裝置EA，向殺菌后的送入路徑部L2c上的容器B照射。[0077]此外，在第二屏蔽室R2中，從與第三屏蔽室R3的第2-3連接開口部P2_3相對(duì)的屏蔽壁R2a朝向第二旋轉(zhuǎn)輸送裝置M2突出設(shè)有第二室俘獲壁T2，所述第二室俘獲壁T2由向第二電子射線照射裝置E2的下游側(cè)突出的金屬制屏蔽體構(gòu)成，由第二室俘獲壁T2形成第二室衰減室R2b。由此，能夠使從第2-3連接開口部P2-3和第二電子射線照射裝置E2放出的電子射線(X射線)，被第二室俘獲壁T2屏蔽并導(dǎo)向第二室衰減室R2b，進(jìn)行反射而衰減。
[0078]如圖6、7所示，在第1-2連接部J1-2處，頸部η從第一容器保持裝置54的夾臂57b被轉(zhuǎn)交給第二容器保持裝置74的夾臂57a。第一容器保持裝置54的夾臂57b與第二容器保持裝置74的夾臂57a夾持頸部η的位置不同。此外，由第一電子射線照射裝置El對(duì)頸部η中的未被夾臂57b夾持側(cè)的一方的外半面照射電子射線后，由第二電子射線照射裝置E2對(duì)頸部η中的未被夾臂57a夾持側(cè)的另一方的外半面照射電子射線。因此，可以在外表面殺菌區(qū)域Z2中對(duì)頸部η的整個(gè)外表面進(jìn)行殺菌。
[0079](入口俘獲區(qū)域)
[0080]如圖12 (a)所示，入口俘獲區(qū)域Zl具備多個(gè)傳送帶式輸送裝置11以及包圍U形輸送路徑LU的俯視U形的入口俘獲屏蔽室12，所述多個(gè)傳送帶式輸送裝置11在俯視下形成連接兩個(gè)1/4圓弧部LU1、LUo的U形輸送路徑LU。
[0081]入口俘獲屏蔽室12具備多個(gè)第一、第二入口俘獲壁TOa、TOb和入口衰減室ROa，所述第一、第二入口俘獲壁TOa、TOb由金屬制屏蔽體構(gòu)成,用于屏蔽從外表面和內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z2、Z3由入口俘獲屏蔽室12泄漏的電子射線(X射線)。
[0082]第一入口俘獲壁TOa在入口俘獲屏蔽室12與第一屏蔽室Rl的連接部處，在以U形輸送路徑LU為中心與第一旋轉(zhuǎn)路徑LI相反側(cè)，從入口俘獲屏蔽室12的屏蔽側(cè)壁垂直地(向橫斷方向)突出設(shè)置。利用所述第一入口俘獲壁TOa，可以減少?gòu)牡谝浑娮由渚€照射裝置El、第二電子射線照射裝置E2和第三屏蔽室R3的電子射線照射噴嘴En照射的電子射線(X射線)從第0-1連接開口部(容器入口)PO-1侵入到入口俘獲屏蔽室12。
[0083]此外，下游側(cè)的第一入口衰減室ROa在下游側(cè)的1/4圓弧部LUo的外周側(cè)與第一屏蔽室Rl相對(duì)配置，由從入口俘獲屏蔽室12以俯視呈矩形突出的包圍屏蔽壁12a形成。無屏蔽的傳送帶護(hù)壁Ila設(shè)置于第一入口衰減室ROa的開口部并包圍傳送帶式輸送裝置11。利用所述第一入口衰減室ROa，減少了從第一屏蔽室Rl借助第0-1連接開口部P0-1侵入的電子射線(X射線)被反射后向入口俘獲屏蔽室12的入口側(cè)放出的射線量。
[0084]而且，上游側(cè)的第二入口俘獲壁TOb從第一入口衰減室ROa的上游端在橫斷U形輸送路徑LU的方向上突出，侵入第一入口衰減室ROa內(nèi)的電子射線(X射線)被第二入口俘獲壁TOb屏蔽，減少了從入口俘獲屏蔽室12向入口側(cè)放出的射線量。
[0085]進(jìn)而，如圖12 (b)所示，也可以設(shè)置與入口側(cè)的1/4圓弧部LUi對(duì)應(yīng)的第二入口衰減室ROb和第三入口俘獲壁TOc。此處，第二入口衰減室ROb和第三入口俘獲壁TOc以將第一入口衰減室ROa和第二入口俘獲壁TOb在俯視下向順時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)90°的形態(tài)，由俯視矩形的包圍屏蔽壁12b形成，并配置在1/4圓弧部LUi的外周側(cè)。由此，可以進(jìn)一步大幅減少向入口俘獲屏蔽室12的入口側(cè)放出的射線量。
[0086](出口俘獲區(qū)域)
[0087]在出口俘獲區(qū)域Z4中， 由第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置M4~M6形成的三個(gè)第四~第六旋轉(zhuǎn)路徑L4~L6串聯(lián)于作為第三旋轉(zhuǎn)路徑L3的出口側(cè)的第3-4連接部J3-4，并與作為容器排出部的第6-8連接部J6-8連接，各第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置M4~M6分別收容在由金屬制屏蔽體構(gòu)成的第四~第六屏蔽室R4~R6中。
[0088]在臺(tái)架頂板21U上的第四~第六屏蔽室R4~R6中，分別設(shè)置有第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置M4~M6，在所述第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置M4~M6中，第四~第六旋轉(zhuǎn)軸81、91、101分別借助軸承旋轉(zhuǎn)自如地貫穿設(shè)置于臺(tái)架頂板21U，在所述第四~第六旋轉(zhuǎn)軸81、91、101的上端部分別固定有第四~第六旋轉(zhuǎn)臺(tái)82、92、102。并且如圖5所示，在第四旋轉(zhuǎn)軸81的下端部安裝有與第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3的聯(lián)動(dòng)用第三齒圈48嚙合的第四聯(lián)動(dòng)齒輪83，此外，在第五旋轉(zhuǎn)軸91的下端部安裝有與第四聯(lián)動(dòng)齒輪83嚙合的第五聯(lián)動(dòng)齒輪93。并且在第六旋轉(zhuǎn)軸101的下端部安裝有與第五聯(lián)動(dòng)齒輪93嚙合的第六聯(lián)動(dòng)齒輪103，所述第四~第六旋轉(zhuǎn)臺(tái)82、92、102與第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3的外筒軸23a聯(lián)動(dòng)連接并被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。
[0089]在第四~第六旋轉(zhuǎn)臺(tái)82、92、102的外周部，以一定間距配置有第四~第六容器保持裝置84、94、104。并且在第四~第六旋轉(zhuǎn)臺(tái)82、92、102上且在第四~第六旋轉(zhuǎn)路徑L4~L6的內(nèi)周部，分別設(shè)有上表面封閉的第四~第六內(nèi)周屏蔽體S4~S6。
[0090]此處，因?yàn)榈谒膥第六容器保持裝置84、94、104除了把持頸部η的位置以外，與第一容器保持裝置54的結(jié)構(gòu)大體相同，所以標(biāo)注與第一容器保持裝置54相同的附圖標(biāo)記并省略說明。
[0091]接著說明出口俘獲區(qū)域Ζ4的屏蔽結(jié)構(gòu)。
[0092]首先，由于第一~第六旋轉(zhuǎn)路徑LI~L6中的第1-2~第6_8連接部Jl_2~J6_8的第1-2~第6-8連接開口部P1-2~P6-8以及廢品旋轉(zhuǎn)路徑LR中的廢品連接部J5-R的廢品連接開口部P5-R的結(jié)構(gòu)分別大致相同，所以此處參照?qǐng)D10僅說明形成于第4-5連接部J4-5的第4-5連接開口部P4-5，省略其他的連接開口部的說明。
[0093]第四屏蔽室R4的屏蔽側(cè)壁R4W與第五屏蔽室R5的屏蔽側(cè)壁R5W以分開規(guī)定間隔并彼此重疊的狀態(tài)配置，由這兩枚屏蔽側(cè)壁R4W、R5W上分別形成的異形的第一、第二開口
13、14構(gòu)成第4-5連接開口部P4-5。即，第一開口 13包括:上下寬度大的交接部13a，能使從第四旋轉(zhuǎn)路徑L4借助第4-5連接部J4-5在第五旋轉(zhuǎn)路徑L5上輸送的容器B通過；以及上下寬度小的保持件插通部13b，能使沿第五旋轉(zhuǎn)路徑L5移動(dòng)的夾臂57a、57b (35a、35b)的前端部分通過。此外，第二開口 14也包括:交接部14a，能使從第四旋轉(zhuǎn)路徑L4借助第
4-5連接部J4-5在第五旋轉(zhuǎn)路徑L5上輸送的容器B通過；以及保持件插通部14b，能使沿第四旋轉(zhuǎn)路徑L4移動(dòng)的夾臂57a、57b (35a、35b)的前端部分通過。通過如上所述與屏蔽側(cè)壁R4W、R5W對(duì)應(yīng)地形成異形的第一、第二開口 13、14，可以降低從第4_5連接開口部P4-5泄漏的電子射線(X射線)的射線量。
[0094]此外，關(guān)于所述第四~第六旋轉(zhuǎn)路徑L4~L6的第4_5~第6_8連接部J4_5~J6-8的配置，第4-5連接開口部P4-5相對(duì)于第3-4連接開口部P3-4呈一定的角度α配置，但是第4-5連接開口部Ρ4-5、第5-6連接開口部Ρ5-6、第6_8連接開口部Ρ6-8大體直線狀配置，且第四~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置Μ4~Μ6大體直線狀配置。此處，如圖11 (a)所示，從第三屏蔽室R3的第3-4連接開口部P3-4直接泄漏的電子射線，在第四屏蔽室R4的大致整個(gè)區(qū)域都能檢測(cè)到，但是電子射線不能到達(dá)被第四旋轉(zhuǎn)輸送裝置M4的第四內(nèi)周屏蔽體S4遮住的背面部分。此外，借助第4-5連接開口部P4-5到達(dá)第五屏蔽室R5的電子射線被第五旋轉(zhuǎn)輸送裝置M5的第五內(nèi)周屏蔽體S5遮蔽，而不能到達(dá)第5-6連接開口部P5-6。如上所述可知，對(duì)于到達(dá)第五屏蔽室R5的電子射線，第五內(nèi)周屏蔽體S5非常有效地發(fā)揮作用。
[0095]此處，通過相比于第四旋轉(zhuǎn)路徑L4的外徑加大設(shè)定第五旋轉(zhuǎn)路徑L5的外徑，使第五旋轉(zhuǎn)輸送裝置M5的第五內(nèi)周屏蔽體S5的外徑D5大于第四內(nèi)周屏蔽體S4的外徑D4。由此，可以有效屏蔽從第3-4連接開口部P3-4和第4-5連接開口部P4-5泄漏的電子射線(X射線)。此外，第五內(nèi)周屏蔽體S5的外徑D5優(yōu)選在第四內(nèi)周屏蔽體S4的外徑D4的1.3倍以上，且優(yōu)選在2.5倍以下。如果在1.3倍以上，則會(huì)得到顯著的屏蔽效果。而如果設(shè)定在
2.5倍以下，則不會(huì)使設(shè)備過度大型化。此外考慮從第3-4連接開口部P3-4泄漏并與金屬制的屏蔽體碰撞的電子射線(X射線)的情況，如圖11 (b)所示，從第3-4連接開口部P3-4與第四內(nèi)周屏蔽體S4碰撞而產(chǎn)生的X射線借助第4-5連接開口部P4-5泄漏到第五屏蔽室R5時(shí)，如果第五內(nèi)周屏蔽體S5的外徑D5比較小，則存在X射線借助第5-6連接開口部P5-6泄漏到第六屏蔽室R6的可能。因此，通過將內(nèi)周屏蔽體S5的外徑D5加大形成，能夠基本消除從第5-6連接開口部P5-6向第六屏蔽室R6泄漏的X射線量。
[0096]并且，在第四屏蔽室R4中突出設(shè)置有由金屬制屏蔽體構(gòu)成的第四室俘獲壁T4，所述第四室俘獲壁T4從與第三屏蔽室R3的第3-4連接開口部P3-4相對(duì)的屏蔽壁R4a朝向第3-4連接開口部P3-4突出，并且由所述第四室俘獲壁T4形成第四室衰減室R4b。因此，能夠?qū)牡谌帘问襌3的電子射線照射噴嘴En借助第3-4連接開口部P3-4泄漏到第四屏蔽室R4的電子射線(X射線)，由第四室俘獲壁T4屏蔽并導(dǎo)向第四室衰減室R4b，使其被反射而衰減。
[0097]此外，在第五屏蔽室R5中設(shè)有從第5-6連接開口部P5_6附近的屏蔽側(cè)壁大體垂直突出的第五室俘獲壁T5。所述第五室俘獲壁T5在第5-6連接開口部P5-6處配置在與廢品室RR相反側(cè)，利用所述第五室俘獲壁T5，從第4-5連接開口部P4-5侵入的電子射線(X射線)被屏蔽壁反射，能夠減少?gòu)牡?-6連接開口部P5-6侵入第六屏蔽室R6的射線量。
[0098](廢品區(qū)域)
[0099]在排出例如因供給電壓低而不能照射規(guī)定的電子射線量的殺菌不良容器B的廢品區(qū)域ZR中，潔凈室22內(nèi)設(shè)有廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置MR并形成有廢品旋轉(zhuǎn)路徑LR。在所述廢品旋轉(zhuǎn)輸送裝置MR中，廢品旋轉(zhuǎn)軸111借助軸承貫穿設(shè)置于臺(tái)架頂板21U，在廢品旋轉(zhuǎn)軸111的上端部安裝有廢品旋轉(zhuǎn)臺(tái)112。并且在廢品旋轉(zhuǎn)臺(tái)112的外周部，以一定間距安裝有與第一容器保持裝置54結(jié)構(gòu)相同的廢品容器保持裝置114。通過使安裝在廢品旋轉(zhuǎn)軸111的下端部的廢品聯(lián)動(dòng)齒輪113與第五聯(lián)動(dòng)齒輪93嚙合，廢品旋轉(zhuǎn)臺(tái)112與第三旋轉(zhuǎn)輸送裝置M3的外筒軸23a聯(lián)動(dòng)連接并被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。
[0100]參照?qǐng)D13說明所述廢品區(qū)域ZR中的廢品旋轉(zhuǎn)路徑LR上設(shè)置的排出滑槽121、131。
[0101]圖13 (C)表示了比較例的排出滑槽141，從與廢品排出口 PR對(duì)應(yīng)形成的容器入口 142借助頂部錐形部143傾斜形成滑槽主體144，將容器B向所述滑槽主體144送出，使容器B從容器出口 145落入托盤。在所述排出滑槽141的情況下，到達(dá)廢品排出口 PR的X射線容易以更少的反射次數(shù)或直接從容器出口 145泄漏。
[0102] 圖13 (a)為由金屬制屏蔽壁形成的排出滑槽121的第一實(shí)施例，在廢品排出口 PR的下游側(cè)的廢品屏蔽室RR中，借助臺(tái)階部形成頂部高的衰減室122，并將滑槽主體123的入口頂部123a向衰減室122內(nèi)突出。此外，在滑槽主體123的中間部形成折曲部123b，并將容器出口 123c向下方折曲。在所述排出滑槽121中，X射線被衰減室122的屏蔽壁反射，并被折曲部123b和容器出口 123c的屏蔽壁反射，所以從容器出口 123c泄漏的X射線量大幅減少。
[0103]圖13 (b)為由金屬制屏蔽壁形成的排出滑槽131的第二實(shí)施例，衰減室132、入口部分133a、折曲部133b、容器出口 133c與第一實(shí)施例同樣形成，不同的是衰減室132的頂部沒有臺(tái)階部而形成高的平坦?fàn)睢Ｋ龅诙?shí)施例的排出滑槽131可以發(fā)揮和第一實(shí)施例同樣的作用效果。
[0104](第一實(shí)施例的效果)
[0105]按照上述第一實(shí)施例，由于在配置于外表面殺菌區(qū)域Z2的第一、第二旋轉(zhuǎn)路徑L1、L2的第1-2連接部J1-2的上游側(cè)附近和下游側(cè)附近，分別向容器B的外半面照射電子射線進(jìn)行殺菌的第一、第二電子射線照射裝置El、E2彼此接近配置，所以在對(duì)一方的外半面進(jìn)行殺菌后，可以短時(shí)間內(nèi)對(duì)另一方的外半面進(jìn)行殺菌，從而在對(duì)一方的外半面進(jìn)行殺菌后，另一方的外半面上附著的污染物附著在一方的外半面并再次污染一方的外半面的情況極少，能夠有效進(jìn)行外表面整體的殺菌。
[0106]此外，從第二電子射線照射裝置E2照射的電子射線的一部分向殺菌后的第二旋轉(zhuǎn)路徑L2上的容器B照射，從而可以有效防止全面殺菌后的容器B的外表面被再次污染。
[0107]此外，在外表面、內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z2、Z3中，通過在第一~第三旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置Ml~M3上沿第一~第三旋轉(zhuǎn)路徑LI~L3的內(nèi)周部設(shè)置第一~第三內(nèi)周屏蔽體SI~S3，能夠在外表面、內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z2、Z3的第一~第三屏蔽室Rl~R3與第一~第三內(nèi)周屏蔽體SI~S3之間，增加電子射線的 反射次數(shù)以使其有效衰減。
[0108]此外，在出口俘獲區(qū)域Z4中，通過在第四~第六旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置M4~M6上沿第四~第六旋轉(zhuǎn)路徑L4~L6的內(nèi)周部設(shè)置第四~第六內(nèi)周屏蔽體S4~S6，可以有效屏蔽從內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z3的第三屏蔽室R3借助第3-4連接開口部P3-4泄漏的電子射線(X射線)，能夠使向下游側(cè)泄漏的電子射線(X射線)有效衰減。
[0109]此外，在內(nèi)表面殺菌區(qū)域Z3中，為了向容器B的口部插入電子射線照射噴嘴En以及進(jìn)行電子射線照射，需要使容器B具有充足的輸送距離和時(shí)間，為了加長(zhǎng)第三旋轉(zhuǎn)路徑L3而需要加大直徑，而當(dāng)?shù)?-4連接開口部P3-4上配置的出口俘獲區(qū)域TA的第四旋轉(zhuǎn)路徑L4的直徑較大時(shí)，第三旋轉(zhuǎn)路徑L3的輸送距離受到限制，在出口俘獲區(qū)域Z4中不能加大第四旋轉(zhuǎn)路徑L4的直徑。因此，從第3-4連接開口部P3-4向出口俘獲區(qū)域Z4的上游側(cè)的第四屏蔽室R4泄漏的電子射線(X射線)的射線量必然有增多的傾向。
[0110]作為對(duì)策，將第五旋轉(zhuǎn)路徑L5的外徑D5設(shè)定為大于第四內(nèi)周屏蔽體S4的外徑D4。優(yōu)選將第五內(nèi)周屏蔽體S5的外徑D5加大到第四內(nèi)周屏蔽體S4的外徑D4的1.3~
2.5倍的范圍。由此，能夠有效減少?gòu)牡谒钠帘问襌4借助第五屏蔽室R5向下游側(cè)泄漏的電子射線(X射線)的射線量。
[0111]此外，由于出口俘獲區(qū)域Z4的第四屏蔽室R4設(shè)有第四室俘獲壁T4而形成第四室衰減室R4b，所以能夠?qū)膬?nèi)表面殺菌區(qū)域Z3的第3-4連接開口部P3-4泄漏的電子射線(X射線)導(dǎo)入第四室衰減室R4b，使電子射線(X射線)在第四室衰減室R4b有效反射而衰減。
[0112]此外，在第五屏蔽室R5中，由于第5-6連接開口部P5-6附近的屏蔽側(cè)壁上設(shè)有第五室俘獲壁T5，所以對(duì)從第4-5連接開口部P4-5侵入的電子射線(X射線)進(jìn)行屏蔽，能夠減少侵入第六屏蔽室R6的射線量。
[0113]進(jìn)而，在外表面殺菌區(qū)域Z2的第二屏蔽室R2中，由于從與第2-3連接開口部P2_3相對(duì)的屏蔽壁突出設(shè)置第二室俘獲壁T2而形成第二室衰減室R2b，所以能夠?qū)牡?-3連接開口部P2-3泄漏的電子射線(X射線)利用第二室俘獲壁T2導(dǎo)入第二室衰減室R2b，使其有效反射而衰減。
[0114](第二實(shí)施例)
[0115]參照?qǐng)D15和圖16說明本發(fā)明的電子射線殺菌設(shè)備的第二實(shí)施例。本實(shí)施例2中也由多條旋轉(zhuǎn)路徑LT1、LT2構(gòu)成入口俘獲區(qū)域Zl。[0116]在所述入口俘獲區(qū)域Zl中，在由送入旋轉(zhuǎn)輸送裝置MO形成的送入旋轉(zhuǎn)路徑LS與第一旋轉(zhuǎn)路徑LI之間，串聯(lián)配置有第一俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LTl和第二俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LT2。并且形成第一俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LTl的第一俘獲旋轉(zhuǎn)輸送裝置MTl以及形成第二俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LT2的第二俘獲旋轉(zhuǎn)輸送裝置MT2，分別收容在由金屬制屏蔽壁形成的第一俘獲屏蔽室RTl內(nèi)和第二俘獲屏蔽室RT2內(nèi)。并且送入旋轉(zhuǎn)輸送裝置MO和第一、第二俘獲旋轉(zhuǎn)輸送裝置MT1、MT2沿送入旋轉(zhuǎn)路徑LS和第一、第二俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LTl、LT2的內(nèi)周部，設(shè)有由金屬制屏蔽壁構(gòu)成的送入部?jī)?nèi)周屏蔽壁SO和第一、第二俘獲內(nèi)周屏蔽壁ST1、ST2。進(jìn)而，在送入旋轉(zhuǎn)路徑LS與第一俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LTl的俘獲入口連接部JT0-1、第一俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LTl與第二俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LT2的俘獲中間連接部JT1-2以及第二俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LT2與第一旋轉(zhuǎn)路徑LI的俘獲出口連接部JT2-1處，在第一俘獲屏蔽室RTl內(nèi)和第二俘獲屏蔽室RT2的屏蔽壁上，分別形成有與實(shí)施例1大體相同結(jié)構(gòu)的俘獲入口、中間、出口連接開口部PT0-1、ΡΤ1-2、ΡΤ2-1。
[0117]另外，由于所述送入旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置MO和第一、第二俘獲旋轉(zhuǎn)輸送裝置ΜΤ1、ΜΤ2和第一實(shí)施例結(jié)構(gòu)相同，所以標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記并省略說明。
[0118]此處，如圖16 (a)所示，從第三屏蔽室R3的電子射線照射噴嘴En和第二電子射線照射裝置E2照射的電子射線，作為直接或反射X射線侵入第二俘獲屏蔽室RT2的情況極少。但是，從第一電子射線照射裝置El照射并從俘獲出口連接開口部PT2-1泄漏的電子射線有侵入的可能。作為對(duì)策，將第二俘獲旋轉(zhuǎn)路徑LT2的外徑比第一旋轉(zhuǎn)路徑LI的外徑加大形成，使第二俘獲內(nèi)周屏蔽體ST2的外徑DT2大于第一內(nèi)周屏蔽體SI的外徑D1。由此，通過將面向俘獲出口連接開口部PT2-1的第二俘獲內(nèi)周屏蔽體ST2加大形成，可以有效屏蔽從俘獲出口連接開口部PT2-1泄漏的電子射線(X射線)。第二俘獲內(nèi)周屏蔽體ST2的外徑DT2優(yōu)選在第一內(nèi)周屏蔽體SI的外徑Dl的1.3倍以上，并優(yōu)選在2.5倍以下。如果在
1.3倍以上，則能得到顯著的屏蔽效果。而如果在2.5倍以下，則不會(huì)使設(shè)備過度大型化。
[0119]此外，在圖15、圖16中將第一俘獲屏蔽室RTl的俘獲入口連接開口部PT0-1的一方的屏蔽壁延長(zhǎng)的原因在于，可以形成僅供容器保持件通過的開口部。
[0120](內(nèi)周屏蔽體的其他實(shí)施例)
[0121]在實(shí)施例1、2中，分別設(shè)置于第一~第六旋轉(zhuǎn)輸送裝置Ml~M6、中間旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置M8、廢品旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置MR、送入旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置MO、第一、第二俘獲旋轉(zhuǎn)輸送裝置MTl、MT2的第一~第六內(nèi)周屏蔽體SI~S6、中間內(nèi)周屏蔽體S8、廢品內(nèi)周屏蔽體SR、送入部?jī)?nèi)周屏蔽體SO和第一、第二俘獲內(nèi)周屏蔽體ST1、ST2，都被分別形成頂面封閉的圓筒形，但是也可以如圖17 (a)的內(nèi)周屏蔽體Sll所示，在圓筒形的外周面上沿周向以一定間距形成有軸心方向的凹槽a。此外，可以如圖17 (b)的內(nèi)周屏蔽體S12所示，在圓筒形的外周面上，在周向以一定間距突出設(shè)置有沿軸心方向的反射板b。還可以如圖17(c)的內(nèi)周屏蔽體S13所示，將在軸心部交叉的半徑方向的屏蔽板c按照規(guī)定角度向放射方向組裝。
[0122]按照上述內(nèi)周屏蔽體Sll~S13，可以促進(jìn)入射的電子射線更有效擴(kuò)散并衰減。
【權(quán)利要求】
1.一種電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)，具備分別收容串聯(lián)的多條旋轉(zhuǎn)路徑的屏蔽室，并具備殺菌區(qū)域，所述殺菌區(qū)域由外表面殺菌區(qū)域和內(nèi)表面殺菌區(qū)域構(gòu)成，所述外表面殺菌區(qū)域在容器輸送方向上游側(cè)從分別配置于兩條旋轉(zhuǎn)路徑外側(cè)的電子射線照射器向容器照射電子射線，對(duì)容器外表面進(jìn)行殺菌，所述內(nèi)表面殺菌區(qū)域在容器輸送方向下游側(cè)向沿一條旋轉(zhuǎn)路徑輸送的容器內(nèi)插入電子射線照射噴嘴以照射電子射線，對(duì)容器內(nèi)表面進(jìn)行殺菌，所述電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)的特征在于， 在所述殺菌區(qū)域的容器入口和容器出口，分別設(shè)置有使電子射線衰減的入口俘獲區(qū)域和出口俘獲區(qū)域， 在所述入口俘獲區(qū)域和所述出口俘獲區(qū)域的至少一方，設(shè)置有串聯(lián)的多條旋轉(zhuǎn)路徑，并且設(shè)置有分別收容所述多條旋轉(zhuǎn)路徑的屏蔽室， 沿所述殺菌區(qū)域的各旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周部，設(shè)置有由金屬制屏蔽體構(gòu)成的殺菌區(qū)域內(nèi)周屏蔽體， 沿連接于入口俘獲區(qū)域和/或出口俘獲區(qū)域的旋轉(zhuǎn)路徑以及連接于該旋轉(zhuǎn)路徑的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周部，分別設(shè)置有由金屬制屏蔽體構(gòu)成的俘獲區(qū)域內(nèi)周屏蔽體， 并滿足下述條件(I)和(II)中的至少一方: (I)連接于內(nèi)表面殺菌區(qū)域的出口俘獲區(qū)域的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑，小于連接于該旋轉(zhuǎn)路徑的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑； (II)連接于外表面殺菌區(qū)域的入口俘獲區(qū)域的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑，大于所述外表面殺菌區(qū)域的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)，其特征在于，與連接于內(nèi)表面殺菌區(qū)域的出口俘獲區(qū)域的上游側(cè)的`旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑相比，連接于該旋轉(zhuǎn)路徑的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑設(shè)為1.3~2.5倍的范圍。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)，其特征在于，連接于所述外表面殺菌區(qū)域的入口俘獲區(qū)域的下游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑，在所述外表面殺菌區(qū)域的上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)路徑的內(nèi)周屏蔽體的外徑的1.3~2.5倍的范圍。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)，其特征在于，在出口俘獲區(qū)域形成有與內(nèi)表面殺菌區(qū)域的容器出口相對(duì)并開口的衰減室，在收容上游端的旋轉(zhuǎn)路徑的屏蔽室中由俘獲壁進(jìn)行分隔而形成所述衰減室，且所述俘獲壁從與所述容器出口相對(duì)的屏蔽壁向所述容器出口側(cè)突出。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子射線殺菌設(shè)備的屏蔽結(jié)構(gòu)，其特征在于，在外表面殺菌區(qū)域形成有與內(nèi)表面殺菌區(qū)域的容器入口相對(duì)并開口的衰減室，在收容下游端的旋轉(zhuǎn)路徑的屏蔽室中由俘獲壁進(jìn)行分隔而形成所述衰減室，且所述俘獲壁從與所述容器入口相對(duì)的屏蔽壁向所述容器入口側(cè)突出。
【文檔編號(hào)】A61L2/08GK103889463SQ201280050900
【公開日】2014年6月25日 申請(qǐng)日期:2012年10月15日 優(yōu)先權(quán)日:2011年10月17日
【發(fā)明者】橫林孝康, 小川智, 細(xì)川徹 申請(qǐng)人:日立造船株式會(huì)社
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