一種磁共振成像系統(tǒng)的模體的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型實(shí)施方式公開了一種磁共振成像系統(tǒng)的模體。所述模體包括一第三層，所述第三層包括一第一結(jié)構(gòu)和一第二結(jié)構(gòu)，所述第一結(jié)構(gòu)包括兩個(gè)相鄰的不產(chǎn)生磁共振信號(hào)的方向相反的楔形物，所述第二結(jié)構(gòu)包括一第一模件組對(duì)，所述第一模件組對(duì)包括一第一模件組和一第二模件組，所述第一模件組和所述第二模件組分別包括多個(gè)完全相同的相互對(duì)齊的司距相同的模件，所述第一模件組和所述第二模件組相互垂直。根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體可以同時(shí)滿足測(cè)量層厚和分辨力等圖像質(zhì)量指標(biāo)，甚至全部六項(xiàng)圖像質(zhì)量指標(biāo)，因此可以節(jié)省大量重復(fù)性工作和時(shí)間。
【專利說明】一種磁共振成像系統(tǒng)的模體
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及磁共振成像(MRI)【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種磁共振成像系統(tǒng)的模體。
【背景技術(shù)】
[0002]磁共振成像(Magnetic Resonance Imaging,MRI)是隨著計(jì)算機(jī)技術(shù)、電子電路技術(shù)、超導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展而迅速發(fā)展起來的一種生物磁學(xué)核自旋成像技術(shù)。它利用磁場(chǎng)與射頻脈沖使人體組織內(nèi)進(jìn)動(dòng)的氫核(即H+)發(fā)生章動(dòng)產(chǎn)生射頻信號(hào)，經(jīng)計(jì)算機(jī)處理而成像。當(dāng)把物體放置在磁場(chǎng)中，用適當(dāng)?shù)碾姶挪ㄕ丈渌?，使之共振，然后分析它釋放的電磁波，就可以得知?gòu)成這一物體的原子核的位置和種類，據(jù)此可以繪制成物體內(nèi)部的精確立體圖像。t匕如，可以通過磁共振成像掃描人類大腦獲得的一個(gè)連續(xù)切片的動(dòng)畫，由頭頂開始，一直到基部。
[0003]相比于X射線產(chǎn)品和CT產(chǎn)品等其他醫(yī)療影像產(chǎn)品，磁共振成像系統(tǒng)可以針對(duì)不同的軟組織提供高對(duì)比度圖像。優(yōu)異的圖像質(zhì)量是醫(yī)療影像產(chǎn)品的根本，因此有必要在系統(tǒng)開發(fā)階段和產(chǎn)品交付階段進(jìn)行圖像質(zhì)量評(píng)估從而保證質(zhì)量。為了建立圖像質(zhì)量評(píng)估體系，制定了很多標(biāo)準(zhǔn)，其中最重要的一項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)是IEC62464-1 (2007)，即“醫(yī)用成像磁共振設(shè)備-第一部分:主要圖像質(zhì)量參數(shù)的測(cè)定”。自2012年7月起，該標(biāo)準(zhǔn)已經(jīng)被中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)YY/T0482-2010采用，該國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)是所有磁共振成像產(chǎn)品在中國(guó)注冊(cè)成功的必要條件。
[0004]當(dāng)前，為了評(píng)估圖像質(zhì)量，需要使用經(jīng)過設(shè)計(jì)的填充有水劑或油劑的模體。模體已經(jīng)廣泛用于醫(yī)療成像設(shè)備的圖像質(zhì)量評(píng)估，其可經(jīng)設(shè)計(jì)具有多種不同結(jié)構(gòu)和或填充有不同溶劑從而滿足大量圖像質(zhì)量指標(biāo)的要求。評(píng)估結(jié)果準(zhǔn)確度高且可重現(xiàn)。
[0005]磁共振成像系統(tǒng)的圖像質(zhì)量測(cè)試包括以下六個(gè)指標(biāo):信噪比(SNR)、均勻性、層厚、幾何畸變、分辨力和鬼影。在現(xiàn)有技術(shù)中，針對(duì)層厚和分辨力的測(cè)試需要采用兩種不同的模體分別進(jìn)行；另一方面，針對(duì)上述全部六項(xiàng)指標(biāo)，現(xiàn)在也沒有一個(gè)多功能模體。測(cè)試各個(gè)圖像質(zhì)量指標(biāo)分別需要對(duì)不同模體進(jìn)行成像，但是利用不同模體測(cè)試不同圖像質(zhì)量指標(biāo)會(huì)引起以下技術(shù)問題:
[0006]I)為了完成不同圖像質(zhì)量指標(biāo)測(cè)試，操作人員需要不斷更換多個(gè)不同模體，該過程費(fèi)時(shí)費(fèi)力。
[0007]2)全部六項(xiàng)圖像質(zhì)量指標(biāo)需要最多六個(gè)模體，因此需要人力和物力來存儲(chǔ)和維護(hù)各個(gè)模體。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0008]本實(shí)用新型實(shí)施方式提出一種磁共振成像系統(tǒng)的模體，包括一第三層，所述第三層包括一第一結(jié)構(gòu)和一第二結(jié)構(gòu)，所述第一結(jié)構(gòu)包括兩個(gè)側(cè)面相鄰的、不產(chǎn)生磁共振信號(hào)的、斜面方向相反的楔形物，所述第二結(jié)構(gòu)包括一第一模件組對(duì)，所述第一模件組對(duì)包括一第一模件組和一第二模件組，所述第一模件組和所述第二模件組分別包括多個(gè)相同的、相互平行的、間距相同的模件，所述第一模件組和所述第二模件組相互垂直。
[0009]所述模體還包括一底座，所述第一結(jié)構(gòu)和第二結(jié)構(gòu)位于所述底座上。
[0010]所述模體還包括一第一層，所述第一層包括一第一內(nèi)部區(qū)域和一第一外部區(qū)域，所述第一內(nèi)部區(qū)域呈圓形并填充有用于產(chǎn)生磁共振信號(hào)的溶劑，所述第一外部區(qū)域呈環(huán)狀包裹所述第一內(nèi)部區(qū)域。
[0011]所述模體還包括一第二層，所述第二層包括一第二內(nèi)部區(qū)域和一第二外部區(qū)域，所述第二內(nèi)部區(qū)域呈圓形并填充有用于產(chǎn)生磁共振信號(hào)的溶劑，所述第二外部區(qū)域呈環(huán)狀包裹所述第二內(nèi)部區(qū)域，所述第二內(nèi)部區(qū)域的直徑大于或小于所述第一內(nèi)部區(qū)域的直徑。
[0012]所述模體還包括一第四層，所述第四層具有一個(gè)或多個(gè)第二模件組對(duì)，所述第二模件組對(duì)分別包括一第三模件組和一第四模件組，所述第三模件組和第四模件組分別包括多個(gè)相同的、相互平行的、間距相同的模件，所述第三模件組和所述第四模件組相互垂直。
[0013]所述第三模件組中的模件平行于所述第一模件組中的模件；所述第四模件組中的模件平行于所述第二模件組中的模件。
[0014]所述第二結(jié)構(gòu)的底面的長(zhǎng)邊與第一結(jié)構(gòu)的底面的長(zhǎng)邊之間的角度范圍是10°到15。。
[0015]所述模件的厚度是b，所述模件的間距是L，b/(b+L)的范圍是0.3到0.39。
[0016]相鄰兩層的厚度中心之間的距離不大于30mm。
[0017]所述模體的側(cè)面設(shè)有多個(gè)定位標(biāo)記。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]圖1是根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體的第一層的立體圖。
[0019]圖2是根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體的第二層的立體圖。
[0020]圖3是根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體的第三層的立體圖。
[0021]圖4是根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體的第四層的立體圖。
【具體實(shí)施方式】
[0022]為了使本實(shí)用新型的技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施方式，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的【具體實(shí)施方式】?jī)H僅用以闡述性說明本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
[0023]根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的模體整體呈圓柱狀并且從上至下包括如下四個(gè)層:第一層，用于測(cè)試鬼影、幾何畸變、(具有較小感興趣區(qū)域的線圈)均勻性和信噪比；第二層，用于測(cè)試信噪比、均勻性、幾何畸變；第三層，用于測(cè)試層厚、分辨力；第四層(附加層)，用于測(cè)試分辨力。其中，上述各層的順序和相對(duì)位置關(guān)系可以任意調(diào)整，另外，根據(jù)本實(shí)用新型的其他【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體可以包括上述各層中的一層或多層。[0024]圖1是根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體的第一層的立體圖。如圖1所示，根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體的第一層呈圓柱狀，同時(shí)第一層具有一第一內(nèi)部區(qū)域和一第一外部區(qū)域，第一外部區(qū)域是一包裹第一內(nèi)部區(qū)域的塑料圓環(huán)。該第一內(nèi)部區(qū)域填充有溶劑。第一層也可以用于具有較小感興趣區(qū)域的線圈的信噪比和均勻性的測(cè)量。由于第一內(nèi)部區(qū)域的內(nèi)徑已知，幾何畸變的測(cè)量也可以在第一層完成。如圖2所示，第一層的外部區(qū)域的外表面包括多個(gè)定位標(biāo)記。
[0025]圖2是根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體的第二層的立體圖。如圖2所示，根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體的第二層呈圓柱狀，同時(shí)第二層具有一第二內(nèi)部區(qū)域和一第二外部區(qū)域，第二外部區(qū)域是一包裹第二內(nèi)部區(qū)域的塑料圓環(huán)。該第二內(nèi)部區(qū)域填充有溶劑。第二內(nèi)部區(qū)域的半徑大于第一內(nèi)部區(qū)域的半徑。第二層也可以用于信噪比和均勻性的測(cè)量。由于第二內(nèi)部區(qū)域的內(nèi)徑已知，幾何畸變的測(cè)量可以在第二層完成。如圖3所示，第二層的外部區(qū)域的外表面包括多個(gè)定位標(biāo)記。
[0026]根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體的第三層呈圓柱狀，第三層包括兩種結(jié)構(gòu)(第一結(jié)構(gòu)和第二結(jié)構(gòu))和一個(gè)底座，所述底座呈扁平圓盤狀，所述兩種結(jié)構(gòu)位于所述底座之上，其中第一結(jié)構(gòu)用于層厚測(cè)量，第二結(jié)構(gòu)用于分辨力測(cè)量。由于第一結(jié)構(gòu)和第二結(jié)構(gòu)位于模體的同一層，所以僅需一次成像即可測(cè)量層厚和分辨力兩個(gè)圖像質(zhì)量指標(biāo)，此項(xiàng)設(shè)計(jì)用于三個(gè)正交方向測(cè)量時(shí)將節(jié)省半小時(shí)的圖像獲取時(shí)間。
[0027]圖3是根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體的第三層的立體圖。如圖3所示，第一結(jié)構(gòu)包括用于層厚測(cè)量的兩個(gè)側(cè)面相鄰的、不產(chǎn)生磁共振信號(hào)的、斜面方向相反的楔形物。兩個(gè)楔形物的斜面與底面(扁平圓盤)之間形成角α，α =11.3。，因此 tana = 1/5。
[0028]如圖3所示，第二結(jié)構(gòu)包括一第一模件組對(duì)，所述第一模件組對(duì)包括一第一模件組和一第二模件組，所述第一模件組和所述第二模件組分別包括多個(gè)完全相同的、相互平行的、間距相同的長(zhǎng)方形的模件，所述第一模件組和所述第二模件組相互垂直，因此第二結(jié)構(gòu)的底面呈具有一長(zhǎng)邊和一短邊的L形。第二結(jié)構(gòu)用于同時(shí)完成圖像的水平和垂直方向的分辨力測(cè)量。各模件組分別包括十個(gè)間距相同的長(zhǎng)方形的模件，其中模件的厚度是b，模件的間距是L,而且b/ (b+L)的范圍是0.3到0.39, 一個(gè)可行的方案是b = I謹(jǐn)，L=L 6謹(jǐn)。其中，第二結(jié)構(gòu)的底面的長(zhǎng)邊與第一結(jié)構(gòu)的底面的長(zhǎng)邊之間的角度是10°到15°，最佳13°。使用過程中，將模體定位至使楔形物的底面的長(zhǎng)邊位于圖像的水平方向。通過此設(shè)計(jì)根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體更容易達(dá)到準(zhǔn)確的擺位，從此達(dá)到準(zhǔn)確的分辨力測(cè)量。
[0029]圖4是根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體的第四層的立體圖。如圖4所示，所述第四層具有一個(gè)或多個(gè)第二模件組對(duì)，所述第二模件組對(duì)分別包括一第三模件組和一第四模件組，所述第三模件組和第四模件組分別包括多個(gè)完全相同的、相互平行的、間距相同的模件，所述第三模件組和所述第四模件組相互垂直。設(shè)置第四層的原因在于，特定的模件組只能用于測(cè)量一個(gè)空間頻率l/(b+L)的分辨力。第四層的多對(duì)模件組(第二模件組對(duì))與第三層的模件組(第一模件組對(duì))在第三層和第四層的厚度方向上平行放置，也就是說，所述第三模件組中的模件平行于所述第一模件組中的模件；所述第四模件組中的模件平行于所述第二模件組中的模件?？梢赃x擇不同的模件厚度b和模件間距L從而測(cè)量更多不同的空間頻率下的分辨力。
[0030]根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體的表面設(shè)有分別位于各層中間位置的多個(gè)定位標(biāo)記。定位標(biāo)記可以使圖像質(zhì)量的測(cè)量更為準(zhǔn)確。在根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體中，相鄰兩層的厚度中心之間的距離不大于30mm，具體而言，例如，所述第一層的厚度中心與第二層的厚度中心之間的距離、第二層的厚度中心和第三層的厚度中心之間的距離不大于30mm?；诖隧?xiàng)設(shè)計(jì)，當(dāng)使用該模體時(shí)，將第二層置于等中心點(diǎn)處，則第一層和第三層所成的圖像平面也將在等中心±30mm之內(nèi)，滿足IEC62464-1標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的定位要求，無需重新定位即可成像。通過這項(xiàng)設(shè)計(jì)，可以大大節(jié)省放置和定位水模的時(shí)間。如前所述，上述各層可以隨意排列，無需按照具體實(shí)施例的順序，因此除本具體實(shí)施例的磁共振成像系統(tǒng)的模體之外,其他包括多層的根據(jù)本實(shí)用新型的模體的相鄰兩層的厚度中心之間的距離也不大于30_。
[0031]根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體可以同時(shí)滿足測(cè)量IEC62464-1標(biāo)準(zhǔn)全部六項(xiàng)圖像質(zhì)量指標(biāo)的要求，并可簡(jiǎn)化工作流程及節(jié)省時(shí)間。在現(xiàn)有技術(shù)中，通常放置并且定位模體一次需要花費(fèi)15到20分鐘。根據(jù)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】的磁共振成像系統(tǒng)的模體僅需一次定位即可完成全部六項(xiàng)圖像質(zhì)量指標(biāo)的測(cè)量，完成三個(gè)正交圖像平面的測(cè)量可以節(jié)省約3小時(shí)。
[0032]以上所述，僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非用于限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種磁共振成像系統(tǒng)的模體，其特征在于，包括一第三層，所述第三層包括一第一結(jié)構(gòu)和一第二結(jié)構(gòu)，所述第一結(jié)構(gòu)包括兩個(gè)側(cè)面相鄰的、不產(chǎn)生磁共振信號(hào)的、斜面方向相反的楔形物，所述第二結(jié)構(gòu)包括一第一模件組對(duì)，所述第一模件組對(duì)包括一第一模件組和一第二模件組，所述第一模件組和所述第二模件組分別包括多個(gè)相同的、相互平行的、間距相同的模件，所述第一模件組和所述第二模件組相互垂直。
2.如權(quán)利要求1所述的模體，其特征在于，還包括一底座，所述第一結(jié)構(gòu)和第二結(jié)構(gòu)位于所述底座上。
3.如權(quán)利要求1所述的模體，其特征在于，還包括一第一層，所述第一層包括一第一內(nèi)部區(qū)域和一第一外部區(qū)域，所述第一內(nèi)部區(qū)域呈圓形并填充有用于產(chǎn)生磁共振信號(hào)的溶齊U，所述第一外部區(qū)域呈環(huán)狀包裹所述第一內(nèi)部區(qū)域。
4.如權(quán)利要求3所述的模體，其特征在于，還包括一第二層，所述第二層包括一第二內(nèi)部區(qū)域和一第二外部區(qū)域，所述第二內(nèi)部區(qū)域呈圓形并填充有用于產(chǎn)生磁共振信號(hào)的溶齊U，所述第二外部區(qū)域呈環(huán)狀包裹所述第二內(nèi)部區(qū)域，所述第二內(nèi)部區(qū)域的直徑大于或小于所述第一內(nèi)部區(qū)域的直徑。
5.如權(quán)利要求1所述的模體，其特征在于，還包括一第四層，所述第四層具有一個(gè)或多個(gè)第二模件組對(duì)，所述第二模件組對(duì)分別包括一第三模件組和一第四模件組，所述第三模件組和第四模件組分別包括多個(gè)相同的、相互平行的、間距相同的模件，所述第三模件組和所述第四模件組相互垂直。
6.如權(quán)利要求5所述的模體，其特征在于，所述第三模件組中的模件平行于所述第一模件組中的模件；所述第四模件組中的模件平行于所述第二模件組中的模件。
7.如權(quán)利要求1所述的模體，其特征在于，所述第二結(jié)構(gòu)的底面的長(zhǎng)邊與第一結(jié)構(gòu)的底面的長(zhǎng)邊之間的角度范圍是10°到15°。
8.如權(quán)利要求1所述的模體，其特征在于，所述模件的厚度是b，所述模件的間距是L，b/(b+L)的范圍是0.3到0.39。
9.如權(quán)利要求3-6任一所述的模體，其特征在于，相鄰兩層的厚度中心之間的距離不大于30_。
10.如權(quán)利要求1-8任一所述的模體，其特征在于，所述模體的側(cè)面設(shè)有多個(gè)定位標(biāo)記。
【文檔編號(hào)】A61B5/055GK203591259SQ201320602079
【公開日】2014年5月14日 申請(qǐng)日期:2013年9月24日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月24日
【發(fā)明者】尹海平, 游文強(qiáng) 申請(qǐng)人:西門子(深圳)磁共振有限公司