低壓等離子體消毒裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】低壓等離子體消毒裝置，它涉及醫(yī)療產(chǎn)品的消毒裝置【技術(shù)領(lǐng)域】，主體的內(nèi)部設(shè)置有反應(yīng)艙，反應(yīng)艙前側(cè)設(shè)置有艙門(mén)，反應(yīng)艙內(nèi)部設(shè)置有氣體入口，反應(yīng)艙的上部設(shè)置有反應(yīng)控制裝置，反應(yīng)艙的后側(cè)設(shè)置有高頻供電端口和能源提供裝置，能源提供裝置的一側(cè)設(shè)置有壓力控制裝置，壓力控制裝置的下方設(shè)置有氣體流量控制裝置，氣體流量控制裝置通過(guò)氣體通道與氣體入口連接，壓力控制裝置、能源提供裝置均與反應(yīng)艙的內(nèi)部連接。它設(shè)計(jì)科學(xué)合理，沒(méi)有特殊的工作防護(hù)要求，采用氣體反應(yīng)，且化學(xué)反應(yīng)可切斷，一旦拔掉電源，整個(gè)反應(yīng)過(guò)程就會(huì)自動(dòng)停止，適用于所有材料的消毒，且能量消耗低。
【專(zhuān)利說(shuō)明】低壓等離子體消毒裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】：
[0001] 本發(fā)明涉及醫(yī)療產(chǎn)品的消毒裝置【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種低壓等離子體消毒裝 置。

【背景技術(shù)】：
[0002] 醫(yī)療產(chǎn)品和醫(yī)療技術(shù)產(chǎn)品，如外科工具、植入材料和醫(yī)用導(dǎo)管，必須是消過(guò)毒的， 沒(méi)有活性微生物的。而且它們還必須不含熱原質(zhì)和發(fā)燒產(chǎn)生的菌類(lèi)和病毒類(lèi)的殘留物，當(dāng) 這些物質(zhì)進(jìn)入血液循環(huán)中，會(huì)引起病人患上敗血癥。用等離子體對(duì)這些材料進(jìn)行處理，不僅 能達(dá)到消毒的效果，也能去除細(xì)胞參與和細(xì)胞組織物。借助于各種顯示熱原質(zhì)的方法，我們 可以證明，對(duì)比蒸汽消毒法，在等離子體中，除了細(xì)胞消滅現(xiàn)象，還伴隨著熱原質(zhì)的減少。
[0003] 在各個(gè)有能力的科研機(jī)構(gòu)（自大約1985年以來(lái)，在各大學(xué)中等等），都進(jìn)行了研 究，大量的出版物表明了，相對(duì)常規(guī)的消毒方法，如用環(huán)氧乙烷或者用高壓消毒，等離子體 技術(shù)具備更大的優(yōu)勢(shì)。
[0004] 對(duì)上述的兩種常規(guī)消毒方法來(lái)說(shuō)，都是進(jìn)行殺滅病菌，并以此一起消滅它們的病 毒性。但是這兩種方法所使用的有機(jī)材料，是由碳、氫、氧和氮組成的，在常規(guī)的消毒方法 下，氮化合物會(huì)殘留在，例如內(nèi)窺鏡中，其他的醫(yī)療設(shè)備上（手術(shù)刀、手套等等）。這些成分 會(huì)殘留在消毒物品上，也就是黏附在工具上，在這些設(shè)備再次被使用時(shí)，這可能導(dǎo)致它們進(jìn) 入體腔后，會(huì)引起發(fā)炎癥狀的防衛(wèi)反應(yīng)。
[0005] 高壓釜是一個(gè)封閉的容器，被用于各種工具和材料的消毒。根據(jù)其數(shù)量和體積，被 處理的物品將利用蒸汽，在121攝氏度以上的高壓環(huán)境下，在規(guī)定的時(shí)間內(nèi)，進(jìn)行加熱。高 壓荃是在1879年由法國(guó)的微生物學(xué)家Charles Chamber發(fā)明，其也與Louis Pasteur進(jìn)行 了合作。其前身是早在1679年由法國(guó)的物理學(xué)家發(fā)明的蒸汽鍋。如今在高壓殺菌或者消 毒領(lǐng)域，通常使用兩種方法。真空法是指，氣體將交替地被抽成真空狀態(tài)，并通過(guò)注入蒸汽 進(jìn)行加熱。氣流法或者重力法指的是，氣體受到飽和的蒸汽的排擠（高壓鍋原理）。這也描 繪了蒸汽滅菌器的原理。
[0006] 在高壓釜中，病菌在高壓的水蒸汽中被殺死，而過(guò)化學(xué)方法，劇毒的氣態(tài)性狀的環(huán) 氧乙烷通也能做到這點(diǎn)。只是此后，無(wú)菌的消毒物品必須數(shù)小時(shí)、數(shù)天時(shí)間的進(jìn)行通風(fēng)，去 除毒氣。
[0007] 至今為止，各種裝置技術(shù)都是"孤立"存在的。處理醫(yī)療廢物，只有自己內(nèi)部封閉 的清潔設(shè)備，其運(yùn)作需要使用提到的液體（產(chǎn)品）。
[0008] A為了之后的等離子體清潔，必須給碳?xì)浠衔顰3配備抑制劑；
[0009] B根據(jù)等離子體方法，必須調(diào)整水狀的產(chǎn)品。
[0010] 上述之外的另一種消毒方式是使用等離子體，但是它只能處理必須是均勻分布 的，較低臟污程度的污漬。當(dāng)這些前提條件不能被滿(mǎn)足時(shí)，等離子體消毒也就不起作用了。 而且，當(dāng)?shù)入x子體是通過(guò)微波發(fā)電產(chǎn)生時(shí)，使用設(shè)備總會(huì)具備兩種密封方式：一種服務(wù)于真 空艙的密封，一種致力于對(duì)微波進(jìn)行遮擋。這種密封需要一種被金屬導(dǎo)電的帶子或紡織物 纏繞的特殊材料才能做到。同時(shí)微波射線也能因此不會(huì)溢出艙外。另外，微波射線受到的 限制是，在設(shè)備周邊5厘米范圍內(nèi)，不允許測(cè)到超過(guò)每平方厘米5毫瓦的功率。


【發(fā)明內(nèi)容】
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[0011] 本發(fā)明的目的是提供一種低壓等離子體消毒裝置，它設(shè)計(jì)科學(xué)合理，沒(méi)有特殊的 工作防護(hù)要求，采用氣體反應(yīng)，且化學(xué)反應(yīng)可切斷，一旦拔掉電源，整個(gè)反應(yīng)過(guò)程就會(huì)自動(dòng) 停止，適用于所有材料的消毒，且能量消耗低。
[0012] 為了解決【背景技術(shù)】所存在的問(wèn)題，本發(fā)明是采用以下技術(shù)方案：它包含主體、反應(yīng) 控制裝置、反應(yīng)艙、氣體入口、高頻供電端口、壓力控制裝置、能源提供裝置和氣體流量控制 裝置，主體的內(nèi)部設(shè)置有反應(yīng)艙，反應(yīng)艙前側(cè)設(shè)置有艙門(mén)，反應(yīng)艙內(nèi)部設(shè)置有氣體入口，反 應(yīng)艙的上部設(shè)置有反應(yīng)控制裝置，反應(yīng)艙的后側(cè)設(shè)置有高頻供電端口和能源提供裝置，能 源提供裝置的一側(cè)設(shè)置有壓力控制裝置，壓力控制裝置的下方設(shè)置有氣體流量控制裝置， 氣體流量控制裝置通過(guò)氣體通道與氣體入口連接，壓力控制裝置、能源提供裝置均與反應(yīng) 艙的內(nèi)部連接。
[0013] 本發(fā)明的原理為：等離子體反應(yīng)本身是一種真空狀態(tài)下的氣體反應(yīng)。反應(yīng)艙內(nèi)將 被壓力控制裝置抽成大約0. 1毫巴的真空狀態(tài)。然后通過(guò)氣體流量控制裝置的氣體通道， 將特定數(shù)量的某種反應(yīng)氣體通入反應(yīng)艙內(nèi)。此時(shí)反應(yīng)壓力設(shè)置為大約〇. 5?1毫巴之間。 之后用微波"點(diǎn)燃"這種氣體或者氣體混合物，等離子體也就這樣產(chǎn)生了。反應(yīng)艙內(nèi)由此形 成了非常復(fù)雜的化學(xué)物理性質(zhì)的"實(shí)體"。消毒尤其需要三個(gè)組成部分：
[0014] 微波：-原則上微波殺死了病菌。
[0015] 真空：_大部分的病菌和細(xì)菌都在這里被消滅了。
[0016] 02_自由基：_02-自由基讓剩余的病菌變成灰燼、被氧化，并清除最后的"尸體"。
[0017] 這個(gè)反應(yīng)過(guò)程可以通過(guò)使用特殊的氣體或者氣體混合物進(jìn)行優(yōu)化。
[0018] 本發(fā)明具有以下有益效果：
[0019] 1、它能達(dá)到現(xiàn)今最高的消毒水平。
[0020] 2、在清潔介質(zhì)中，它最后不會(huì)產(chǎn)生污垢積聚，僅僅只是一些氣態(tài)的化學(xué)物質(zhì)。
[0021] 3、使用的化學(xué)物質(zhì)都是無(wú)害的，因?yàn)槭呛鸵恍怏w打交道。
[0022] 4、可切斷的化學(xué)反應(yīng)，意味著，一旦拔掉電源，整個(gè)反應(yīng)過(guò)程就會(huì)自動(dòng)停止。
[0023] 5、等離子體適用于所有材料的消毒（金屬、陶瓷、玻璃、合成材料）。
[0024] 6、氣體反應(yīng)具備非常良好的縫隙侵入性，因?yàn)闅怏w沒(méi)有表面張力。所以等離子體 可以深入比如各種裂縫中和精細(xì)的孔眼中。
[0025] 7、等離子體處理后的各個(gè)部件都是絕對(duì)干燥的，即使在經(jīng)過(guò)了液態(tài)的初步清洗后 再進(jìn)行等離子體精密清潔，通過(guò)真空能達(dá)到很好的干燥水平。
[0026] 8、因?yàn)閹缀踔话蜒鯕庾鳛榉磻?yīng)氣體，所以整個(gè)操作過(guò)程是極其環(huán)保的。
[0027] 9、沒(méi)有特殊的工作防護(hù)要求。
[0028] 10、能量消耗是非常低的。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】：
[0029] 圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖，
[0030] 附圖標(biāo)記：主體1、反應(yīng)控制裝置2、反應(yīng)艙3、氣體入口 4、高頻供電端口 5、壓力控 制裝置6、能源提供裝置7、氣體流量控制裝置8。

【具體實(shí)施方式】：
[0031] 參照?qǐng)D1，本【具體實(shí)施方式】采用以下技術(shù)方案：它包含主體1、反應(yīng)控制裝置2、反 應(yīng)艙3、氣體入口 4、高頻供電端口 5、壓力控制裝置6、能源提供裝置7和氣體流量控制裝置 8,主體1的內(nèi)部設(shè)置有反應(yīng)艙3,反應(yīng)艙3前側(cè)設(shè)置有艙門(mén)，反應(yīng)艙3內(nèi)部設(shè)置有氣體入口 4,反應(yīng)艙3的上部設(shè)置有反應(yīng)控制裝置2,反應(yīng)艙3的后側(cè)設(shè)置有高頻供電端口 5和能源提 供裝置7,能源提供裝置7的一側(cè)設(shè)置有壓力控制裝置6,壓力控制裝置6的下方設(shè)置有氣 體流量控制裝置8,氣體流量控制裝置8通過(guò)氣體通道與氣體入口 4連接，壓力控制裝置6、 能源提供裝置7均與反應(yīng)艙3的內(nèi)部連接。
[0032] 所述的能源提供裝置7可以為微波裝置，也可以為其他的能夠提供能源的裝置。
[0033] 本【具體實(shí)施方式】的原理為：等離子體反應(yīng)本身是一種真空狀態(tài)下的氣體反應(yīng)。反 應(yīng)艙3內(nèi)將被壓力控制裝置6抽成大約0. 1毫巴的真空狀態(tài)。然后通過(guò)氣體流量控制裝 置8的氣體通道，將特定數(shù)量的某種反應(yīng)氣體通入反應(yīng)艙3內(nèi)。此時(shí)反應(yīng)壓力設(shè)置為大約 0. 5?1毫巴之間。之后用微波"點(diǎn)燃"這種氣體或者氣體混合物，等離子體也就這樣產(chǎn)生 了。反應(yīng)艙3內(nèi)由此形成了非常復(fù)雜的化學(xué)物理性質(zhì)的"實(shí)體"。消毒尤其需要三個(gè)組成部 分：
[0034] 微波：-原則上微波殺死了病菌。
[0035] 真空：_大部分的病菌和細(xì)菌都在這里被消滅了。
[0036] 02_自由基：_02-自由基讓剩余的病菌變成灰燼、被氧化，并清除最后的"尸體"。
[0037] 這個(gè)反應(yīng)過(guò)程可以通過(guò)使用特殊的氣體或者氣體混合物進(jìn)行優(yōu)化。
[0038] 本【具體實(shí)施方式】設(shè)計(jì)科學(xué)合理，沒(méi)有特殊的工作防護(hù)要求，采用氣體反應(yīng)，且化學(xué) 反應(yīng)可切斷，一旦拔掉電源，整個(gè)反應(yīng)過(guò)程就會(huì)自動(dòng)停止，適用于所有材料的消毒，且能量 消耗低。
【權(quán)利要求】
1. 低壓等離子體消毒裝置，其特征在于它包含主體（1)、反應(yīng)控制裝置（2)、反應(yīng)艙 (3)、氣體入口（4)、高頻供電端口（5)、壓力控制裝置（6)、能源提供裝置（7)和氣體流量控 制裝置（8)，主體（1)的內(nèi)部設(shè)置有反應(yīng)艙（3)，反應(yīng)艙（3)前側(cè)設(shè)置有艙門(mén)，反應(yīng)艙（3)內(nèi) 部設(shè)置有氣體入口（4)，反應(yīng)艙（3)的上部設(shè)置有反應(yīng)控制裝置（2)，反應(yīng)艙（3)的后側(cè)設(shè) 置有高頻供電端口（5)和能源提供裝置（7)，能源提供裝置（7)的一側(cè)設(shè)置有壓力控制裝 置（6)，壓力控制裝置（6)的下方設(shè)置有氣體流量控制裝置（8)，氣體流量控制裝置（8)通 過(guò)氣體通道與氣體入口（4)連接，壓力控制裝置（6)、能源提供裝置（7)均與反應(yīng)艙（3)的 內(nèi)部連接。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的低壓等離子體消毒裝置，其特征在于它的原理為：等離子體 反應(yīng)本身是一種真空狀態(tài)下的氣體反應(yīng)，反應(yīng)艙內(nèi)將被壓力控制裝置抽成大約〇. 1毫巴的 真空狀態(tài)，然后通過(guò)氣體流量控制裝置的氣體通道，將特定數(shù)量的某種反應(yīng)氣體通入反應(yīng) 艙內(nèi)，此時(shí)反應(yīng)壓力設(shè)置為大約0. 5?1毫巴之間，之后用微波"點(diǎn)燃"這種氣體或者氣體混 合物，等離子體也就這樣產(chǎn)生了，反應(yīng)艙內(nèi)由此形成了非常復(fù)雜的化學(xué)物理性質(zhì)的"實(shí)體"。
【文檔編號(hào)】A61L2/14GK104056290SQ201410320288
【公開(kāi)日】2014年9月24日 申請(qǐng)日期:2014年7月2日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月2日
【發(fā)明者】李立 申請(qǐng)人:太倉(cāng)華德石太工業(yè)設(shè)備有限公司