1.一種成像系統(tǒng)，包括：
第一光學(xué)路徑，配置為引導(dǎo)與表皮發(fā)光顯微術(shù)相關(guān)聯(lián)的第一輻射射束；
第二光學(xué)路徑，配置為引導(dǎo)與光學(xué)相干斷層攝影相關(guān)聯(lián)的第二輻射射束；
多個(gè)光學(xué)元件，配置為將第一輻射射束和第二輻射射束發(fā)射到樣本上；
檢測(cè)器，配置為生成與已經(jīng)從樣本反射或者散射并且在檢測(cè)器處接收到的第一輻射射束和第二輻射射束相關(guān)聯(lián)的光學(xué)數(shù)據(jù)，其中與第一輻射射束和第二輻射射束相關(guān)聯(lián)的光學(xué)數(shù)據(jù)與樣本的大致非共面區(qū)域相對(duì)應(yīng)；以及
處理器，配置為：
使與第一輻射射束相關(guān)聯(lián)的光學(xué)數(shù)據(jù)和與第二輻射射束相關(guān)聯(lián)的光學(xué)數(shù)據(jù)相關(guān)，以及
基于相關(guān)的光學(xué)數(shù)據(jù)生成樣本的圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中第一光學(xué)路徑和第二光學(xué)路徑包括一個(gè)或者多個(gè)光纖。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中第一光學(xué)路徑和第二光學(xué)路徑包括在基板上被圖案化的一個(gè)或者多個(gè)波導(dǎo)管。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中第一光學(xué)路徑、第二光學(xué)路徑、所述多個(gè)光學(xué)元件和檢測(cè)器被設(shè)置在手持式成像設(shè)備內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的成像系統(tǒng)，其中手持式成像設(shè)備的一部分對(duì)第一輻射射束和第二輻射射束大致透明，以及所述多個(gè)光學(xué)元件被配置為通過(guò)手持式成像設(shè)備的所述一部分發(fā)射第一輻射射束和第二輻射射束。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的成像系統(tǒng)，其中手持式成像設(shè)備的第一部分對(duì)第一輻射射束大致透明，并且手持式成像設(shè)備的第二部分對(duì)第二輻射射束大致透明，以及其中所述多個(gè)光學(xué)元件的第一部分被配置為通過(guò)第一部分發(fā)射第一輻射射束，并且所述多個(gè)光學(xué)元件的第二部分被配置為通過(guò)第二部分發(fā)射第二輻射射束。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的成像系統(tǒng)，其中處理器被包括在手持式成像設(shè)備內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的成像系統(tǒng)，其中處理器被包括在通信地耦合至手持式成像設(shè)備的計(jì)算設(shè)備內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中樣本的大致非共面區(qū)域是樣本的大致正交區(qū)域。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中第一光學(xué)路徑和第二光學(xué)路徑共享相同物理路徑的至少一部分。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中檢測(cè)器包括CCD照相機(jī)、光電二極管和CMOS傳感器中的至少一個(gè)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中處理器還被配置為：
分析與第一輻射射束相關(guān)聯(lián)的時(shí)間順序的光學(xué)數(shù)據(jù)，并使用第一輻射射束的時(shí)間順序的光學(xué)數(shù)據(jù)來(lái)計(jì)算所述設(shè)備相對(duì)于樣本的表面的平移移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)中的至少一個(gè)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的成像系統(tǒng)，其中處理器被配置為在跨越樣本的表面的平移移動(dòng)超過(guò)閾值時(shí)不使用與第二輻射射束相關(guān)聯(lián)的光學(xué)數(shù)據(jù)來(lái)生成圖像。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的成像系統(tǒng)，其中處理器還被配置為基于所計(jì)算的橫向移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)中的至少一個(gè)使與第一輻射射束相關(guān)聯(lián)的一個(gè)或者多個(gè)圖像的位置和與第二輻射射束相關(guān)聯(lián)的一個(gè)或者多個(gè)圖像的位置相關(guān)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的成像系統(tǒng)，其中由處理器生成的圖像是樣本的三維圖像，該樣本的三維圖像提供關(guān)于樣本的表面的數(shù)據(jù)以及樣本的表面下方的整個(gè)深度上的數(shù)據(jù)。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的成像系統(tǒng)，其中關(guān)于樣本的表面的數(shù)據(jù)包括與樣本的表面的粗糙度相關(guān)聯(lián)的數(shù)據(jù)。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中有關(guān)與第一輻射射束相關(guān)聯(lián)的一個(gè)或者多個(gè)圖像的數(shù)據(jù)被傳遞至與第二輻射射束相關(guān)聯(lián)的一個(gè)或者多個(gè)圖像，或者有關(guān)與第二輻射射束相關(guān)聯(lián)的一個(gè)或者多個(gè)圖像的數(shù)據(jù)被傳遞至與第一輻射射束相關(guān)聯(lián)的一個(gè)或者多個(gè)圖像。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的成像系統(tǒng)，其中數(shù)據(jù)包括注釋、標(biāo)記或者元數(shù)據(jù)。
19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中第二光學(xué)路徑被配置為引導(dǎo)與偏振敏感的光學(xué)相干斷層攝影相關(guān)聯(lián)的第二輻射射束。
20.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng)，其中第二光學(xué)路徑被配置為引導(dǎo)與多普勒光學(xué)相干斷層攝影相關(guān)聯(lián)的第二輻射射束。
21.一種方法，包括：
接收與樣本的表皮發(fā)光顯微術(shù)成像相關(guān)聯(lián)的第一光學(xué)數(shù)據(jù)；
接收與樣本的光學(xué)相干斷層攝影成像相關(guān)聯(lián)的第二光學(xué)數(shù)據(jù)，其中與關(guān)于樣本的表面的第一光學(xué)數(shù)據(jù)相關(guān)聯(lián)的圖像平面相對(duì)于與第二光學(xué)數(shù)據(jù)相關(guān)聯(lián)的圖像平面的朝向是非共面的；
使用處理設(shè)備使第一光學(xué)數(shù)據(jù)的一個(gè)或者多個(gè)圖像與第二光學(xué)數(shù)據(jù)的一個(gè)或者多個(gè)圖像相關(guān)以生成相關(guān)數(shù)據(jù)；以及
使用處理設(shè)備基于相關(guān)數(shù)據(jù)生成樣本的圖像。
22.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，還包括：
使用配置為從樣本接收與表皮發(fā)光相關(guān)聯(lián)的第一輻射射束的檢測(cè)器生成第一光學(xué)數(shù)據(jù)；以及
使用配置為從樣本接收與光學(xué)相干斷層攝影相關(guān)聯(lián)的第二輻射射束的檢測(cè)器生成第二光學(xué)數(shù)據(jù)。
23.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中所述相關(guān)包括使第一光學(xué)數(shù)據(jù)的一個(gè)或者多個(gè)幀與第二光學(xué)數(shù)據(jù)的一個(gè)或者多個(gè)幀在時(shí)間上相關(guān)以生成時(shí)間上相關(guān)的數(shù)據(jù)。
24.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，還包括：
分析時(shí)間順序的第一光學(xué)數(shù)據(jù)，并使用時(shí)間順序的第一光學(xué)數(shù)據(jù)計(jì)算相對(duì)于樣本的表面的平移移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)中的至少一個(gè)。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的方法，還包括基于所計(jì)算的橫向移動(dòng)來(lái)擴(kuò)展跨越樣本的表面的所生成的圖像的視場(chǎng)。
26.根據(jù)權(quán)利要求24所述的方法，其中所述相關(guān)包括基于所計(jì)算的成像設(shè)備與樣本之間的平移移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)移動(dòng)使與第一光學(xué)數(shù)據(jù)相關(guān)聯(lián)的一個(gè)或者多個(gè)圖像幀的位置和與第二光學(xué)數(shù)據(jù)相關(guān)聯(lián)的一個(gè)或者多個(gè)圖像幀的位置相關(guān)。
27.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中所述相關(guān)包括將與第一光學(xué)數(shù)據(jù)的所述一個(gè)或者多個(gè)圖像相關(guān)聯(lián)的數(shù)據(jù)傳遞至第二光學(xué)數(shù)據(jù)的所述一個(gè)或者多個(gè)圖像，或者將與第二光學(xué)數(shù)據(jù)的所述一個(gè)或者多個(gè)圖像相關(guān)聯(lián)的數(shù)據(jù)傳遞至第一光學(xué)數(shù)據(jù)的所述一個(gè)或者多個(gè)圖像。
28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的方法，其中數(shù)據(jù)包括注釋、標(biāo)記或者元數(shù)據(jù)。
29.根據(jù)權(quán)利要求21所述的方法，其中所述生成包括生成樣本的三維圖像。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的方法，還包括使用所生成的三維圖像來(lái)分析樣本的表面的粗糙度。
31.根據(jù)權(quán)利要求29所述的方法，還包括分析與樣本的表面下方的深度相關(guān)聯(lián)的腫瘤惡性數(shù)據(jù)。
32.一種手持式成像設(shè)備，包括：
第一光學(xué)路徑，配置為引導(dǎo)與表皮發(fā)光顯微術(shù)相關(guān)聯(lián)的第一輻射射束；
第二光學(xué)路徑，配置為引導(dǎo)與光學(xué)相干斷層攝影相關(guān)聯(lián)的第二輻射射束；
多個(gè)光學(xué)元件，配置為將第一輻射射束和第二輻射射束發(fā)射到樣本上；
檢測(cè)器，配置為生成與已經(jīng)從樣本反射或者散射并且在檢測(cè)器處接收到的第一輻射射束和第二輻射射束相關(guān)聯(lián)的光學(xué)數(shù)據(jù)，其中與第一輻射射束和第二輻射射束相關(guān)聯(lián)的光學(xué)數(shù)據(jù)與樣本的大致非共面區(qū)域相對(duì)應(yīng)；以及
發(fā)送器，配置為向計(jì)算設(shè)備發(fā)送光學(xué)數(shù)據(jù)。
33.一種存儲(chǔ)有指令的非暫時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，當(dāng)由處理設(shè)備執(zhí)行該指令時(shí)使得處理設(shè)備執(zhí)行方法，所述方法包括：
接收與樣本的表皮發(fā)光顯微術(shù)成像相關(guān)聯(lián)的第一光學(xué)數(shù)據(jù)；
接收與樣本的光學(xué)相干斷層攝影成像相關(guān)聯(lián)的第二光學(xué)數(shù)據(jù)，其中第一光學(xué)數(shù)據(jù)相對(duì)于第二光學(xué)數(shù)據(jù)與樣本的大致非共面區(qū)域相對(duì)應(yīng)；
使第一光學(xué)數(shù)據(jù)的一個(gè)或者多個(gè)幀與第二光學(xué)數(shù)據(jù)的一個(gè)或者多個(gè)幀相關(guān)以生成相關(guān)數(shù)據(jù)；以及
基于相關(guān)數(shù)據(jù)生成樣本的圖像。