技術特征：

技術總結
本發(fā)明提供了一種磁共振成像系統(tǒng)(100)，所述磁共振成像系統(tǒng)包括磁體(104)和用于在成像區(qū)(108)內(nèi)生成梯度磁場的磁場梯度生成器(110、112)。所述梯度磁場與預定方向對齊。所述磁共振成像系統(tǒng)還包括存儲器(134、136)，所述存儲器用于存儲機器可執(zhí)行指令(150、152、154)、預先計算的磁共振指紋識別詞典(144)和脈沖序列指令(140)。所述脈沖序列指令令所述磁共振成像系統(tǒng)根據(jù)磁共振指紋識別技術采集所述磁共振數(shù)據(jù)。所述磁共振指紋識別技術將所述磁共振數(shù)據(jù)編碼為切片(125)。所述預先計算的磁共振指紋識別詞典包含針對一組預定物質的響應于所述脈沖序列指令的執(zhí)行計算的磁共振信號的列表。所述機器可執(zhí)行指令的執(zhí)行令控制所述磁共振成像系統(tǒng)的處理器(130)：通過利用脈沖序列指令控制所述磁共振成像系統(tǒng)來采集(300)所述磁共振數(shù)據(jù)；將所述磁共振數(shù)據(jù)劃分成(302)一組切片；通過比較針對所述一組切片中的每一個的所述磁共振數(shù)據(jù)與所述預先計算的磁共振指紋識別詞典來計算(304)所述一組切片中的每一個內(nèi)的所述一組預定物質中的每一種的豐度；并且通過根據(jù)沿著所述預定方向的位置標繪所述一組切片中的每一個內(nèi)的所述一組預定物質中的每一種的豐度來計算(306)磁共振指紋圖表。

技術研發(fā)人員：T·E·阿姆托爾;M·I·多內(nèi)瓦;P·柯肯;J·庫普;P·博爾納特
受保護的技術使用者：皇家飛利浦有限公司
技術研發(fā)日：2015.10.30
技術公布日：2017.08.29