本公開涉及計(jì)算機(jī)斷層掃描(ct)系統(tǒng)，更具體地，涉及ct系統(tǒng)的冷卻系統(tǒng)以及冷卻ct系統(tǒng)的方法。

背景技術(shù)：

隨著近來醫(yī)學(xué)技術(shù)上的進(jìn)步，已經(jīng)開發(fā)了獲得生物體的內(nèi)部信息的各種方法。具體地講，斷層掃描系統(tǒng)現(xiàn)在被廣泛使用。此外，關(guān)于斷層掃描系統(tǒng)，計(jì)算機(jī)斷層掃描(ct)系統(tǒng)現(xiàn)在被廣泛使用。ct系統(tǒng)是如下這樣的用于獲得圖像的裝置：從各種角度向?qū)ο笳丈鋢-射線之后，測(cè)量穿過對(duì)象的x-射線，然后重建x-射線關(guān)于截面的吸收程度以產(chǎn)生圖像。在通常的x-射線圖像中，在二維(2d)膜上顯示對(duì)象的三維(3d)形狀。然而，ct系統(tǒng)能夠顯示所選擇的截面的3d形狀。因此，如果顯示所選擇的截面的3d形狀，則能夠準(zhǔn)確地確定從通常的x-射線圖像可能發(fā)現(xiàn)不了的各種診斷點(diǎn)。由于諸如ct系統(tǒng)能夠無損并且安全地檢查對(duì)象的優(yōu)點(diǎn)，ct系統(tǒng)不僅廣泛地用在醫(yī)學(xué)領(lǐng)域，還廣泛地用在工業(yè)領(lǐng)域，以發(fā)現(xiàn)對(duì)象的內(nèi)部形狀或密度。

ct系統(tǒng)的機(jī)架可包括各種部件。ct系統(tǒng)的單獨(dú)地包括在機(jī)架中的x-射線產(chǎn)生部件和其它各種部件還包括冷卻系統(tǒng)。安裝在ct系統(tǒng)中的每個(gè)部件包括在盒中的至少一個(gè)風(fēng)扇以冷卻機(jī)架部件。用于各個(gè)部件的風(fēng)扇和ct系統(tǒng)的機(jī)架的排風(fēng)扇會(huì)是整個(gè)ct系統(tǒng)中的噪聲源，因此會(huì)降低ct系統(tǒng)的耐久性。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

問題的解決方案

本公開提供計(jì)算機(jī)斷層掃描(ct)系統(tǒng)的至少一種冷卻系統(tǒng)設(shè)備和方法，其中，冷卻系統(tǒng)具有形成在前表面上的入口槽和形成在機(jī)架的后表面上排氣孔。本公開包括用于冷卻ct系統(tǒng)的方法。

本公開的其它方面將在以下描述中被部分地闡述，并且部分地通過描述而對(duì)本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言將是顯而易見的，和/或可由本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員通過所提出的實(shí)施例的實(shí)踐而了解。

根據(jù)本公開的一方面，一種計(jì)算機(jī)斷層掃描(ct)系統(tǒng)的冷卻系統(tǒng)包括機(jī)架和將對(duì)象運(yùn)動(dòng)到所述機(jī)架的開口中的檢查臺(tái)，其中，所述機(jī)架包括：蓋，具有前表面和后表面，在所述前表面中形成有入口槽，在所述后表面上形成有排氣孔；以及排氣扇，形成在所述機(jī)架的所述蓋的所述后表面中。

所述入口槽可形成為具有圍繞所述機(jī)架的開口區(qū)域的形狀。

所述入口槽可具有“狹縫形狀”，并且可形成多于一個(gè)的入口槽。

所述入口槽可形成在所述蓋的所述前表面和側(cè)表面之間。

所述排氣孔可形成在與所述入口槽對(duì)應(yīng)的區(qū)域上。

所述冷卻系統(tǒng)還可包括在所述機(jī)架的所述蓋的內(nèi)部的旋轉(zhuǎn)體，其中，所述旋轉(zhuǎn)體包括用于空氣運(yùn)動(dòng)的孔，從所述入口槽吸入到所述機(jī)架中的空氣在所述孔中運(yùn)動(dòng)。

所述旋轉(zhuǎn)體可包括多個(gè)部件，所述部件可包括用于空氣運(yùn)動(dòng)的孔，被吸入到所述機(jī)架中的空氣運(yùn)動(dòng)通過所述孔。

所述排氣扇可僅形成在所述機(jī)架的所述蓋的所述后表面中。

根據(jù)本公開的另一方面，一種冷卻如上所述的ct系統(tǒng)的冷卻系統(tǒng)的方法包括：通過形成在所述機(jī)架的所述蓋的所述前表面中的所述入口槽將外部空氣吸入到所述機(jī)架中；以及通過形成在所述機(jī)架的所述蓋的所述后表面中的所述排氣孔將已經(jīng)穿過所述機(jī)架的內(nèi)部的空氣排放到所述機(jī)架的所述外部。

所述機(jī)架可包括具有孔的部件，所述孔形成在所述部件中，其中，通過所述入口槽被吸入的所述外部空氣通過所述孔運(yùn)動(dòng)到所述排氣孔。

通過所述入口槽吸入到所述機(jī)架中的外部空氣由排氣扇通過所述排氣孔排放到所述機(jī)架的所述外部。

發(fā)明的有益效果

在根據(jù)實(shí)施例的ct系統(tǒng)的冷卻系統(tǒng)中，通過形成在機(jī)架的蓋的前表面上的入口槽將外部空氣吸入，并且通過形成在機(jī)架的蓋的后表面上的排氣孔將機(jī)架內(nèi)部的空氣排放到外部，從而提供有效的冷卻系統(tǒng)。

在根據(jù)實(shí)施例的ct系統(tǒng)的冷卻系統(tǒng)中，優(yōu)選地在機(jī)架的蓋的后表面上另外形成排氣扇，從而有效地管理機(jī)架的內(nèi)部。在機(jī)架的旋轉(zhuǎn)體中沒有形成另外的風(fēng)扇，從而改善了ct系統(tǒng)的噪聲問題和耐久性。

附圖簡(jiǎn)要說明

通過下面結(jié)合附圖對(duì)示例性實(shí)施例進(jìn)行的描述，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將更好地理解并且更容易地領(lǐng)會(huì)本公開的以上和/或其它方面，在附圖中：

圖1是根據(jù)示例性實(shí)施例的計(jì)算機(jī)斷層掃描(ct)系統(tǒng)的冷卻系統(tǒng)的透視圖；

圖2a是根據(jù)本公開的一方面的具有周向的入口槽的ct系統(tǒng)的冷卻系統(tǒng)的機(jī)架的前視圖，

圖2b是根據(jù)本公開的一方面的ct系統(tǒng)的冷卻系統(tǒng)的機(jī)架的透視圖，以及圖2c是示出根據(jù)本公開的另一方面的ct系統(tǒng)的冷卻系統(tǒng)的機(jī)架的一系列入口槽的前視圖；

圖3a是根據(jù)本公開的ct系統(tǒng)的冷卻系統(tǒng)的機(jī)架的后視圖，圖3b是根據(jù)本公開的ct系統(tǒng)的冷卻系統(tǒng)的機(jī)架的透視圖，以及圖3c是根據(jù)本公開的ct系統(tǒng)的冷卻系統(tǒng)的具有排氣扇的機(jī)架的后視圖；

圖4a是示出根據(jù)本公開的ct系統(tǒng)的冷卻系統(tǒng)的機(jī)架的冷卻方法的透視圖，圖4b是示出根據(jù)本公開的ct系統(tǒng)的冷卻系統(tǒng)的機(jī)架的冷卻方法的側(cè)視圖；以及

圖5是表示根據(jù)本公開的ct系統(tǒng)的冷卻系統(tǒng)的整體配置的示意圖。

本發(fā)明的實(shí)施方式

現(xiàn)將參照特定的實(shí)施例、附圖中示出的示例來詳細(xì)地描述計(jì)算機(jī)斷層掃描(ct)系統(tǒng)的冷卻系統(tǒng)。本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解并領(lǐng)會(huì)的是，所附的權(quán)利要求不限于附圖中所示的本公開的方面。在附圖中，相同的標(biāo)號(hào)始終指示相同的元件，并且具有相同的標(biāo)號(hào)的元件可由相同的材料形成。此外，在附圖中，為了說明的方便和清楚起見，可夸大元件的尺寸。

圖1是根據(jù)本公開的實(shí)施例的ct系統(tǒng)100的冷卻系統(tǒng)的示意性透視圖。

現(xiàn)參照?qǐng)D1，根據(jù)示例性實(shí)施例的ct系統(tǒng)100的冷卻系統(tǒng)包括機(jī)架110和檢查臺(tái)120，在機(jī)架110的中央具有圓筒形的開口112，檢查臺(tái)120可將對(duì)象122(諸如病人)輸送到機(jī)架110的開口112中并且可將對(duì)象輸送出機(jī)架110的開口112。可通過將對(duì)象122放置在檢查臺(tái)120上而使對(duì)象122運(yùn)動(dòng)到機(jī)架110的開口112中。檢查臺(tái)120可在捕獲ct圖像的過程中沿著各種方向運(yùn)動(dòng)，例如沿著上方、下方、左方和右方中的至少一個(gè)方向運(yùn)動(dòng)，并且還可沿著預(yù)定方向以預(yù)定的角度傾斜或旋轉(zhuǎn)。此外，機(jī)架110可沿著預(yù)定方向傾斜預(yù)定的角度。

對(duì)象122可包括人或動(dòng)物，或者人體或動(dòng)物的部分。例如，對(duì)象122可包括諸如心臟、肝臟、大腦、乳房、子宮、腹部器官、脊髓或血管的器官。此外，對(duì)象122可包括人體模型(phantom)。人體模型可以指具有與生物體的密度以及實(shí)際有效原子數(shù)接近的體積的材料，并且可包括具有與人體相似的特征的球形人體模型。

機(jī)架110可包括不旋轉(zhuǎn)的固定體單元和具有諸如x-射線產(chǎn)生器的各種部件的旋轉(zhuǎn)體單元。僅列舉一些非限制性示例，機(jī)架110中包括的部件可以是x-射線產(chǎn)生器、x-射線檢測(cè)器、數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)(das)、電源等，并且可被安裝在機(jī)架110的蓋或殼體中。當(dāng)ct系統(tǒng)100運(yùn)行時(shí)，機(jī)架110內(nèi)部的溫度通常因機(jī)架110中的部件的運(yùn)行而升高。為了使機(jī)架110的內(nèi)部溫度保持在合適的水平以便不引起病人的不適或損壞電子設(shè)備的可能，根據(jù)實(shí)施例的ct系統(tǒng)100的冷卻系統(tǒng)的機(jī)架110可包括具有分別形成在其前表面和后表面中的入口槽和排氣孔的蓋。形成機(jī)架110的外部框架的蓋可由塑料等形成。

圖2a和圖2c是ct系統(tǒng)100的冷卻系統(tǒng)的機(jī)架110的前視圖，圖2b是根據(jù)實(shí)施例的ct系統(tǒng)100的冷卻系統(tǒng)的機(jī)架110的透視圖。具體地講，入口槽210可形成在機(jī)架110的前表面上。

現(xiàn)參照?qǐng)D2a和圖2b，入口槽210可形成在機(jī)架110的蓋的前表面116上。在當(dāng)前的示例性實(shí)施例中，如圖1中所描繪的，機(jī)架110的前表面116可指的是機(jī)架110的在其上放置對(duì)象122的檢查臺(tái)120的方向上的區(qū)域。作為機(jī)架110的外表面的蓋可包括側(cè)單元114和后部單元。入口槽210可布置在機(jī)架110的前表面116和側(cè)單元114之間的區(qū)域中。在該示例中，入口槽210可形成為具有圍繞機(jī)架110的開口112的大體上圓形形狀。外部空氣可通過入口槽210提供到機(jī)架110中，并且從外部提供的空氣可冷卻機(jī)架110中的各種部件。入口槽210的寬度可以是任意尺寸，只要空氣可通過即可，例如，入口槽210的寬度可以是幾毫米到幾十厘米。入口槽210的寬度可根據(jù)區(qū)域形成為恒量，并且可根據(jù)區(qū)域而不同。當(dāng)具有比機(jī)架110內(nèi)部的空氣的溫度低的溫度的外部空氣通過入口槽210進(jìn)入機(jī)架110中時(shí)，可冷卻機(jī)架110中的部件。用于促進(jìn)空氣流動(dòng)的孔可形成在組成部件的盒以及旋轉(zhuǎn)體環(huán)(機(jī)架110中的旋轉(zhuǎn)單元)中。

參照?qǐng)D2c，具有狹縫形狀的多個(gè)入口槽220形成在機(jī)架110的蓋的前表面116上。在當(dāng)前的實(shí)施例中，入口槽220可以以特定的間隔形成在機(jī)架110的前表面上，并且入口槽210的形狀沒有特別限制。如圖2a和圖2b所描繪的，入口槽210可形成為圍繞機(jī)架110的開口112的圓形形狀，或者如圖2c所描繪的，多個(gè)入口槽220可形成為具有整體的圓形形狀。入口槽220的形狀和數(shù)量不特別地受限于示出和描述的示例。例如，入口槽210可以以槽的形式形成為圓形形狀或者多邊形形狀。

圖3a和圖3c是根據(jù)本公開的ct系統(tǒng)100的冷卻系統(tǒng)的機(jī)架110的后視圖，圖3b是根據(jù)本公開的ct系統(tǒng)100的冷卻系統(tǒng)的機(jī)架110的透視圖，具體地講，排氣孔310形成在機(jī)架110的后表面上。

現(xiàn)參照?qǐng)D3a和圖3b，存在可形成在機(jī)架110的蓋的后表面118中的排氣孔310。這里，機(jī)架110的蓋的后表面118指的是在機(jī)架110的面對(duì)其上放置圖1所示的對(duì)象122的檢查臺(tái)120的區(qū)域后面的區(qū)域。排氣孔310可形成在機(jī)架110的后表面118和側(cè)表面114之間的區(qū)域上。排氣孔310允許排放已通過圖2a至圖2c所示的入口槽210和入口槽220進(jìn)入到機(jī)架110中的外部空氣。

在圖3a和圖3b中，排氣孔310具有圓形形狀。然而，排氣孔310的形狀不限于此，也就是說，如圖2a所描繪的入口槽210，排氣孔310可形成為圍繞機(jī)架110的開口112的圓形形狀。此外，僅列舉一些非限制性的可能性，排氣孔310可形成為例如具有橢圓形形狀或具有多邊形截面、或者具有長(zhǎng)邊的狹縫形狀。排氣孔310具有空氣可通過的寬度，并且寬度的尺寸沒有特別限制。例如，排氣孔310的寬度可在從約幾毫米至約幾十厘米的范圍內(nèi)。排氣孔310的寬度可根據(jù)區(qū)域形成為均勻的，并且排氣孔310的寬度可根據(jù)部分改變。

現(xiàn)參照?qǐng)D3a、圖3b和圖3c，排氣扇320(見圖3c)可布置在形成于機(jī)架110的蓋的后表面118上的排氣孔310中。例如，排氣扇320可形成為與排氣孔310對(duì)應(yīng)以幫助經(jīng)由排氣孔310的空氣的流通，并且可引導(dǎo)機(jī)架110中的空氣通過排氣孔310排放到外部。排氣扇320可僅形成在機(jī)架110的蓋的后表面118的排氣孔310中，并且一些實(shí)施例中，在機(jī)架110的蓋的前表面116上可不形成另外的風(fēng)扇。

在根據(jù)當(dāng)前的實(shí)施例的ct系統(tǒng)100的冷卻系統(tǒng)中，在布置于機(jī)架110的蓋的后表面118中的排氣孔310中可形成排氣扇320，而可以不存在另外的風(fēng)扇。將要形成在機(jī)架110中的部件可包括x-射線產(chǎn)生器、x-射線檢測(cè)器、數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)(das)和電源。然而，可不在每個(gè)部件上形成用于吸入空氣或排放空氣的風(fēng)扇。

圖4a和圖4b分別是示出根據(jù)實(shí)施例的ct系統(tǒng)100的冷卻系統(tǒng)的機(jī)架110的冷卻方法的透視圖和側(cè)視圖。

現(xiàn)參照?qǐng)D4a和圖4b，外部空氣可通過機(jī)架110的蓋的前表面116的入口槽210進(jìn)入到機(jī)架110中，并且已穿過機(jī)架110的內(nèi)部的空氣可通過機(jī)架110的蓋的后表面118的排氣孔310被排放到外部。排氣孔310可沿著z方向(彼此)平行地形成，以與入口槽210對(duì)應(yīng)。作為旋轉(zhuǎn)單元的旋轉(zhuǎn)體400以及安裝在旋轉(zhuǎn)體400上的部件可包括提供通道的孔410，通過入口槽210進(jìn)入的外部空氣可通過孔410運(yùn)動(dòng)到排氣孔310。在使安裝在機(jī)架110中的旋轉(zhuǎn)體400上的部件冷卻后，外部空氣的流動(dòng)可通過排氣扇320引導(dǎo)。通過入口槽210進(jìn)入到機(jī)架110中并且通過排氣孔310排放到外部的外部空氣沿著基本上直的路徑流動(dòng)，從而可表示為沿著z方向的直線。因此，根據(jù)當(dāng)前的實(shí)施例的冷卻ct系統(tǒng)100的方法可被稱為直冷卻系統(tǒng)。

在根據(jù)當(dāng)前的實(shí)施例的ct系統(tǒng)100的冷卻系統(tǒng)中，排氣扇320可形成在機(jī)架110的蓋的后表面118上，并且進(jìn)氣扇或排氣扇可以不形成在除了機(jī)架110的蓋的后表面118之外的區(qū)域上。此外，在機(jī)架110中包括的部件(例如，x-射線產(chǎn)生器、x-射線檢測(cè)器、das和電源)中的每個(gè)中可不包括單獨(dú)的風(fēng)扇。因此，在該實(shí)施例中，在整個(gè)ct系統(tǒng)100中，排氣扇320僅形成在機(jī)架110的蓋的后表面118上，從而可更有效地管理機(jī)架110的內(nèi)部空間。此外，由于排氣扇320安裝在機(jī)架110的蓋的后表面118上，因此可不在作為旋轉(zhuǎn)單元的旋轉(zhuǎn)體400上形成另外的風(fēng)扇。因此，當(dāng)根據(jù)當(dāng)前的實(shí)施例的ct系統(tǒng)100的冷卻系統(tǒng)運(yùn)行時(shí)，具有旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的風(fēng)扇可不位于機(jī)架110中，從而可改善噪聲問題和耐久性。此外，由于排氣扇320位于機(jī)架110的蓋的后表面118上，因此當(dāng)檢查或更換風(fēng)扇時(shí)，可僅針對(duì)機(jī)架110的蓋的后表面118執(zhí)行維護(hù)工作，從而，ct系統(tǒng)100的維護(hù)管理更容易。

圖5是表示根據(jù)另一實(shí)施例的ct系統(tǒng)100的冷卻系統(tǒng)的整體配置的圖。

參照?qǐng)D1和圖5，根據(jù)實(shí)施例的ct系統(tǒng)100的冷卻系統(tǒng)可包括機(jī)架110、檢查臺(tái)120、包括諸如具有被構(gòu)造為用于運(yùn)行的電路的處理器、微處理器的硬件的控制單元1200、諸如存儲(chǔ)器的非暫時(shí)性存儲(chǔ)單元1220、圖像重建單元1240、輸入單元1260、包括諸如顯示屏的硬件的顯示單元1280以及包括諸如發(fā)送器、接收器或收發(fā)器的硬件的通信單元1300。如上所述，對(duì)象122可放置在檢查臺(tái)120上，并且檢查臺(tái)120可通過由控制單元1200控制而沿著例如上方、下方、左方和右方的預(yù)定方向運(yùn)動(dòng)。機(jī)架110可包括x-射線產(chǎn)生器12、準(zhǔn)直器14、x-射線檢測(cè)器118、包括用于旋轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)框架130的硬件的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元114、das1100以及數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器1120。機(jī)架110可包括相對(duì)于預(yù)定旋轉(zhuǎn)軸(ra)可旋轉(zhuǎn)的環(huán)式旋轉(zhuǎn)框架130。此外，旋轉(zhuǎn)框架130可以是盤式結(jié)構(gòu)。旋轉(zhuǎn)框架130可包括分別彼此面對(duì)以具有預(yù)定視場(chǎng)(fov)的x-射線產(chǎn)生器12和x-射線檢測(cè)器118。此外，旋轉(zhuǎn)框架130可包括防散射格柵117。防散射格柵117可位于x-射線產(chǎn)生器12和x-射線檢測(cè)器118之間。

在醫(yī)學(xué)成像系統(tǒng)中，在到達(dá)x-射線檢測(cè)器18(或光敏膜)的x-射線中可包括形成有用圖像的衰減的初級(jí)輻射和降低圖像的質(zhì)量的散射輻射兩者。為了使大部分的初級(jí)輻射透射并使散射輻射衰減，防散射格柵16可位于對(duì)象122和x-射線檢測(cè)器118之間。防散射格柵117可由以交替地堆疊空隙材料(諸如鉛箔的條和非中空的固體聚合物材料或非中空的固體聚合物和纖維復(fù)合材料)的形式形成。然而，防散射格柵117的構(gòu)造不必受限于此。

旋轉(zhuǎn)框架130可從旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元114接收驅(qū)動(dòng)信號(hào)并且可以以預(yù)定速度旋轉(zhuǎn)x-射線產(chǎn)生器12和x-射線檢測(cè)器118。旋轉(zhuǎn)框架130可以通過例如滑環(huán)(slipring)以接觸方法從旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元114接收驅(qū)動(dòng)信號(hào)和電力。此外，旋轉(zhuǎn)框架130可經(jīng)由無線通信從旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元114接收驅(qū)動(dòng)信號(hào)和電力。

x-射線產(chǎn)生器12可經(jīng)由滑環(huán)通過高電壓產(chǎn)生單元從例如電力分配單元(pdu)接收電壓和電流來產(chǎn)生并發(fā)射x-射線。當(dāng)高電壓產(chǎn)生單元施加預(yù)定電壓時(shí)，x-射線產(chǎn)生器12可產(chǎn)生具有與預(yù)定電壓對(duì)應(yīng)的多個(gè)能譜的x-射線。從x-射線產(chǎn)生器12產(chǎn)生的x-射線可通過準(zhǔn)直器14以預(yù)定狀態(tài)發(fā)射。

對(duì)象122可通過被放置在檢查臺(tái)120上而運(yùn)動(dòng)到機(jī)架110的開口112中。從x-射線產(chǎn)生器單元12產(chǎn)生的x-射線“l(fā)”可通過準(zhǔn)直器14照射到對(duì)象122上，并且穿過對(duì)象122的x-射線l可通過x-射線檢測(cè)器118來檢測(cè)，從而可獲得對(duì)象的狀態(tài)信息。x-射線產(chǎn)生器12可被構(gòu)造為包括各種x-射線產(chǎn)生結(jié)構(gòu)，并可包括多個(gè)電子發(fā)射源。例如，x-射線產(chǎn)生器12可包括可發(fā)射電子的電子發(fā)射源以及因發(fā)射的電子之間的碰撞而可發(fā)射x-射線并由導(dǎo)電材料形成的電極單元。電子發(fā)射源可由可發(fā)射電子的材料(例如金屬、硅、氧化物、金剛石、類金剛石(dlc)、碳化合物、氮化合物、碳納米管等)形成。x-射線產(chǎn)生單元12可通過包括形成為環(huán)型的多個(gè)電子發(fā)射源而形成。雖然x-射線產(chǎn)生器12可在機(jī)架110運(yùn)行期間改變其位置，但是x-射線產(chǎn)生器12可被固定地設(shè)置為不旋轉(zhuǎn)。此外，x-射線產(chǎn)生器12可被構(gòu)造為使得電子槍可沿著朝向機(jī)架110的開口112的方向照射x-射線。然而，x-射線產(chǎn)生器12的構(gòu)造不限于此，也就是說，x-射線產(chǎn)生器12可為任意構(gòu)造，只要x-射線產(chǎn)生器12可發(fā)射x-射線即可。

x-射線檢測(cè)器單元118可包括一個(gè)或多個(gè)x-射線檢測(cè)器，以檢測(cè)從x-射線產(chǎn)生器12照射并且通過準(zhǔn)直器14穿過對(duì)象122的x-射線，并且x-射線檢測(cè)器可形成陣列結(jié)構(gòu)。x-射線檢測(cè)器可形成單個(gè)通道，但不限于此。x-射線檢測(cè)器單元118可包括具有半導(dǎo)體層和電極的多層結(jié)構(gòu)。x-射線檢測(cè)單元118可在x-射線產(chǎn)生單元12的側(cè)向上形成為與x-射線產(chǎn)生器單元12形狀相同的環(huán)形形狀。雖然x-射線檢測(cè)單元118可在機(jī)架110運(yùn)行期間改變其位置，但是x-射線檢測(cè)單元118可被固定地設(shè)置為不旋轉(zhuǎn)。此外，x-射線檢測(cè)器118可檢測(cè)從x-射線產(chǎn)生器12產(chǎn)生并透射過對(duì)象122的x-射線，并且可產(chǎn)生與所檢測(cè)的x-射線的強(qiáng)度對(duì)應(yīng)的電信號(hào)。

x-射線檢測(cè)器118可連接到das1100。從x-射線檢測(cè)器118產(chǎn)生的電信號(hào)可通過das1100收集。由x-射線檢測(cè)單元118產(chǎn)生的電信號(hào)可有線或者無線地收集到das1100中。此外，由x-射線檢測(cè)單元118產(chǎn)生的電信號(hào)可通過放大器提供到例如模擬/數(shù)字轉(zhuǎn)換器。根據(jù)片的厚度和片的數(shù)量，從x-射線檢測(cè)器118收集的數(shù)據(jù)中的僅一些數(shù)據(jù)可提供到圖像重建單元1240，或者可通過圖像重建單元1240選擇所述數(shù)據(jù)中的一些數(shù)據(jù)。數(shù)字信號(hào)可通過數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器1120提供到圖像重建單元1240。數(shù)字信號(hào)可通過數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器1120有線或無線地被發(fā)送到圖像重建單元1240。

包括諸如微處理器或構(gòu)造為用于運(yùn)行的處理器電路的硬件的控制單元1200可控制ct系統(tǒng)100的冷卻系統(tǒng)的每個(gè)模塊的運(yùn)行。例如，控制單元1200可控制檢查臺(tái)120、準(zhǔn)直器14、旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元114、das1100、存儲(chǔ)單元1220、圖像重建單元1240、輸入單元1260、顯示單元1280以及通信單元1300的運(yùn)行。圖像重建單元1240可通過數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器1120接收由das1100獲得的數(shù)據(jù)(例如，處理之前的純數(shù)據(jù))，并可執(zhí)行預(yù)處理過程。預(yù)處理可包括校正通道之間的不均勻的靈敏性的過程和校正因信號(hào)強(qiáng)度的快速降低或x-射線吸收體(諸如金屬)而導(dǎo)致的信號(hào)損失的過程。圖像重建單元1240的輸出數(shù)據(jù)可被稱為原始數(shù)據(jù)或者投影數(shù)據(jù)。當(dāng)捕獲圖像時(shí)，投影數(shù)據(jù)可與圖像捕獲條件(例如，管電壓、圖像捕獲角度等)一起存儲(chǔ)在存儲(chǔ)單元1220中。投影數(shù)據(jù)可以是與已經(jīng)穿過對(duì)象122的x-射線的強(qiáng)度對(duì)應(yīng)的一組數(shù)據(jù)值。存儲(chǔ)單元1220可包括非暫時(shí)性存儲(chǔ)介質(zhì)，該非暫時(shí)性存儲(chǔ)介質(zhì)包括閃速存儲(chǔ)器類型、硬盤類型、多媒體卡微型、卡式存儲(chǔ)器(sd、xd存儲(chǔ)器等)、隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(ram)、靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(sram)、只讀存儲(chǔ)器(rom)、電可擦除可編程只讀存儲(chǔ)器(eeprom)、可編程只讀存儲(chǔ)器(prom)、磁存儲(chǔ)器、磁盤和光盤中的至少一種。

此外，圖像重建單元1240可通過使用獲得的投影數(shù)據(jù)組重建對(duì)象122的截面圖像。截面圖像可以是三維(3d)圖像。換句話說，圖像重建單元1240可基于獲得的投影數(shù)據(jù)組通過使用錐束重建方法來產(chǎn)生對(duì)象122的3d圖像?？赏ㄟ^輸入單元1260接收關(guān)于x-射線斷層掃描條件、圖像處理?xiàng)l件等的外部輸入。例如，x-射線斷層掃描條件可包括多個(gè)管電壓、多個(gè)x-射線的能量值的設(shè)置、拍攝方案的選擇、圖像重建方法的選擇、fov區(qū)域的設(shè)置、片的數(shù)量、片的厚度以及用于圖像后處理的參數(shù)的設(shè)置等。此外，圖像處理?xiàng)l件可包括圖像的分辨率、關(guān)于圖像的衰減系數(shù)的設(shè)置以及圖像的組合比的設(shè)置等。輸入單元1260可包括用于接收從外部施加的預(yù)定壓力的裝置。例如，輸入單元1260包括硬件，并且可包括麥克風(fēng)、鍵盤、鼠標(biāo)、操縱桿、觸摸墊、觸摸筆、聲音和姿態(tài)識(shí)別裝置等。顯示單元1280包括顯示通過控制圖像重建單元1240重建的圖像的顯示屏?？赏ㄟ^使用有線通信、無線通信和光學(xué)通信中的至少一種來執(zhí)行以上描述的元件之間的數(shù)據(jù)的發(fā)送和接收或者電力的發(fā)送和接收。通信單元1300可通過服務(wù)器1400執(zhí)行與外部裝置或者外部醫(yī)學(xué)裝置的通信。

雖然參照附圖已經(jīng)描述了根據(jù)實(shí)施例的ct系統(tǒng)的冷卻系統(tǒng)。然而，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將理解的是，實(shí)施例應(yīng)僅被理解為描述性意義，而不是出于限制的目的。然而，此外，應(yīng)理解的是，并不意圖將所附的權(quán)利要求限制于所公開的實(shí)施例的具體形式，而是相反的，實(shí)施例將涵蓋落入本公開的范圍內(nèi)的所有變型、等同物以及替代物。

本公開的設(shè)備和方法可在硬件以及作為固件的部件中實(shí)現(xiàn)，或者結(jié)合硬件通過執(zhí)行存儲(chǔ)在諸如cdrom、ram、軟盤、硬盤或磁光盤的非暫時(shí)性機(jī)器可讀介質(zhì)上的軟件或計(jì)算機(jī)代碼來實(shí)現(xiàn)，或者通過由諸如處理器的硬件來執(zhí)行通過網(wǎng)絡(luò)下載的原始存儲(chǔ)在遠(yuǎn)程記錄介質(zhì)或非暫時(shí)性機(jī)器可讀介質(zhì)上的計(jì)算機(jī)代碼以及存儲(chǔ)在本地非暫時(shí)性記錄介質(zhì)上的計(jì)算機(jī)代碼來實(shí)現(xiàn)，使得這里所描述的方法加載到諸如通用計(jì)算機(jī)或?qū)Ｓ锰幚砥鞯挠布?，或者加載在可編程硬件或?qū)Ｓ糜布?諸如asic或fpga)中。如在本領(lǐng)域中將理解的，計(jì)算機(jī)、處理器、微處理器控制器或者可編程硬件包括例如ram、rom、閃存等的存儲(chǔ)組件，當(dāng)通過計(jì)算機(jī)、處理器或硬件訪問并且執(zhí)行時(shí)，該存儲(chǔ)組件可存儲(chǔ)或接收實(shí)現(xiàn)這里所描述的過程方法的軟件或計(jì)算機(jī)代碼。此外，將認(rèn)識(shí)到的是，當(dāng)通用計(jì)算機(jī)訪問用于實(shí)現(xiàn)這里所示的過程的代碼時(shí)，代碼的執(zhí)行使通用計(jì)算機(jī)轉(zhuǎn)換為用于執(zhí)行這里所示的過程的專用計(jì)算機(jī)。此外，本領(lǐng)域的技術(shù)人員理解并領(lǐng)會(huì)的是，“處理器”、“微處理器”、“控制器”或者“控制單元”構(gòu)成所要求保護(hù)的公開中的包括被構(gòu)造為用于運(yùn)行的電路的硬件。在圖5中，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)單元114、x-射線檢測(cè)單元118、存儲(chǔ)單元1220、圖像重建單元1240、輸入單元1260、顯示單元1280以及通信單元1300全部包括硬件。

這里所稱的術(shù)語“單元”或“模塊”的定義將被理解為組成諸如ccd、cmos、soc、aisc、fpga的硬件電路、被構(gòu)造為用于特定期望的功能的處理器或微處理器(控制器)，或者包含諸如發(fā)送器、接收器或收發(fā)器的硬件的通信模塊，或者包括加載到用于運(yùn)行的硬件中并由用于運(yùn)行的硬件執(zhí)行的機(jī)器可執(zhí)行代碼的非暫時(shí)性介質(zhì)。例如，本公開中的圖像處理器以及對(duì)輸入單元和/或輸出單元的任何引用均包括被構(gòu)造為用于運(yùn)行的硬件電路。