本申請是基于2013年10月30日提交到中國專利局、申請?zhí)枮?01310533167.x、發(fā)明名稱為“衰減圖及正電子發(fā)射斷層圖像生成方法和裝置”的中國專利申請的分案。

本發(fā)明涉及醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種衰減圖以及正電子發(fā)射斷層圖像的生成裝置。

背景技術(shù)：

正電子發(fā)射斷層成像術(shù)(positronemissiontomography，pet)是目前惟一采用解剖形態(tài)方式進(jìn)行功能、代謝和受體顯像的技術(shù)，現(xiàn)已廣泛用于多種疾病的診斷治療中。

pet利用了正電子發(fā)射體和正電子湮滅的特征，以量化地確定器官和細(xì)胞區(qū)域的功能。利用pet技術(shù)，在檢查之前，對患者給予具有放射性同位素的合適的放射性藥物標(biāo)記物。隨著它們衰減，放射性同位素放射出正電子，所述正電子在經(jīng)過一個(gè)短的距離之后與人體組織中的負(fù)電子相互作用，發(fā)生湮滅輻射。湮滅輻射的過程中，產(chǎn)生兩個(gè)能量相等、方向相反的γ光子，所述γ光子在患者體內(nèi)產(chǎn)生γ射線。

以不同角度探測患者體內(nèi)的γ射線分布情況，由此采集到的數(shù)據(jù)用于形成患者體內(nèi)放射性同位素分布的圖像，稱為pet發(fā)射圖像，這一圖像的形成過程稱為圖像重建。

pet成像過程中，由于受康普頓效應(yīng)、散射、偶然符合事件、死時(shí)間等衰減因素的影響，所述采集到的數(shù)據(jù)與實(shí)際情況并不一致，由此計(jì)算形成的pet發(fā)射圖像失真。因此，必須采用有效措施進(jìn)行校正，才能得到更真實(shí)的醫(yī)學(xué)影像。

目前，通常采用計(jì)算機(jī)斷層成像術(shù)(computedtomography，ct)對pet發(fā)射圖像進(jìn)行衰減校正。利用ct技術(shù)獲取γ射線在人體組織中的衰減信息，根據(jù)獲取到的衰減信息生成衰減圖，從而利用所述衰減圖對pet發(fā)射圖像的進(jìn)行衰減校正，以獲得更均勻、清晰度更高、圖像質(zhì)量更好的pet圖像。

然而，利用ct技術(shù)對pet發(fā)射圖像進(jìn)行衰減校正，需要附加應(yīng)用所述ct技術(shù)的設(shè)備，增加了相應(yīng)的成本以及操作上的復(fù)雜度。并且，ct技術(shù)的使用，導(dǎo)致患者受到了更高的輻射暴露，患者的安全性受到一定程度的影響。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明實(shí)施例所解決的問題是如何在不借助ct技術(shù)的情況下為均勻模體生成衰減圖。

本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種均勻模體衰減圖的生成裝置，所述裝置包括：

獲取單元，用于確定所生成的均勻模體的pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)，獲得所述像素點(diǎn)的位置信息；

生成單元，用于采用所述像素點(diǎn)的位置信息以及所獲取的所述均勻模體的衰減值，生成所述pet發(fā)射圖像的衰減圖。

可選地，所述獲取單元包括：輪廓區(qū)獲取子單元，用于確定所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的輪廓區(qū)，將所述輪廓區(qū)上以及輪廓區(qū)內(nèi)的像素點(diǎn)作為所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)。

可選地，所述輪廓區(qū)獲取子單元包括：

第一輪廓區(qū)獲取模塊，用于獲取所述pet發(fā)射圖像上像素點(diǎn)的像素值，所述像素值包括最大像素值，將大于等于預(yù)設(shè)的第一閾值的像素值所對應(yīng)的所述pet發(fā)射圖像上的像素點(diǎn)作為第一輪廓區(qū)，所述第一閾值為小于等于所述最大像素值的像素值；

第一閾值調(diào)整模塊，用于調(diào)整所述第一閾值，獲得調(diào)整后的第一閾值所對應(yīng)的所述第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)與所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)之間的差值；

第二輪廓區(qū)獲取模塊，用于將所述差值最小時(shí)所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)作為所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的輪廓區(qū)。

可選地，所述第一閾值調(diào)整模塊用于將所述最大像素值作為所述第一閾值的初始值，減小所述第一閾值，獲得第一差值和第二差值，直至所述第一差值大于所述第二差值，所述第一差值為前一次減小后的第一閾值所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)與所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)之間的差值，所述第二差值為當(dāng)前一次減小后的第一閾值所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)與所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)之間的差值；

所述輪廓區(qū)獲取模塊用于將所述第一差值所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)作為所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的輪廓區(qū)。

可選地，所述獲取單元包括：

第一獲取子單元，用于獲取所述pet發(fā)射圖像上像素點(diǎn)的像素值；

第二獲取子單元，用于對所述像素值從大到小作像素點(diǎn)個(gè)數(shù)的累加計(jì)算，得到所累加的像素點(diǎn)個(gè)數(shù)值；

第三獲取子單元，用于當(dāng)所述所累加的像素點(diǎn)個(gè)數(shù)值等于所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)個(gè)數(shù)時(shí)，將參與累加計(jì)算的像素值所對應(yīng)的所述pet發(fā)射圖像上的像素點(diǎn)作為所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)。

可選地，所述第二獲取子單元包括：

直方圖統(tǒng)計(jì)模塊，用于對所述像素值作直方圖統(tǒng)計(jì)，得到直方圖統(tǒng)計(jì)結(jié)果；

計(jì)算模塊，用于根據(jù)所述直方圖統(tǒng)計(jì)模塊得到的直方圖的統(tǒng)計(jì)結(jié)果，對所述像素值從大到小作像素點(diǎn)個(gè)數(shù)的累加計(jì)算。

本發(fā)明的實(shí)施例還提供了一種均勻模體pet圖像的生成裝置，所述裝置包括：

第一生成單元，所述第一生成單元用于生成pet發(fā)射圖像；

第二生成單元，用于采用上述的衰減圖生成裝置所生成的衰減圖，對所述pet發(fā)射圖像進(jìn)行衰減校正，生成經(jīng)過衰減校正的pet圖像。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點(diǎn)：

本發(fā)明的實(shí)施例中，通過在均勻模體的pet圖像上確定構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)，從而獲得所述均勻模體的像素點(diǎn)的位置信息。由于所述均勻模體的衰減值是可以獲取的，采用所述像素點(diǎn)的位置信息以及所述均勻模體的衰減值即可生成所述pet發(fā)射圖像的衰減圖，而無需借助ct技術(shù)去生成所述pet發(fā)射圖像的衰減圖。本發(fā)明實(shí)施例所述的衰減圖生成方法，在降低相應(yīng)成本以及操作上的復(fù)雜度的同時(shí)，減少了患者的輻射暴露，提高了患者的安全性。

進(jìn)一步地，由于均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)是可以獲取的，將大于等于第一閾值的像素值所對應(yīng)的pet發(fā)射圖像上的像素點(diǎn)作為第一輪廓區(qū)，通過調(diào)整第一閾值，進(jìn)而獲得調(diào)整后的第一閾值所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)與所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)之間的差值，從而將所述差值最小時(shí)所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)作為構(gòu)成所述均勻模體的輪廓區(qū)，無須增加其他設(shè)備，操作上也更加簡單。

進(jìn)一步地，由于調(diào)整第一閾值時(shí)，以pet發(fā)射圖像上的最大像素值為第一閾值的初始值，逐漸減小所述第一閾值，當(dāng)?shù)诙钪荡笥诘谝徊钪禃r(shí)，即以第一差值所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)作為構(gòu)成所述均勻模體的輪廓區(qū)，而無需再調(diào)整第一閾值以及獲得每次調(diào)整后的第一閾值所對應(yīng)的差值，從而使得構(gòu)成均勻模體輪廓區(qū)的確定過程更加快速，提高生成效率。

此外，還可以通過直接對pet發(fā)射圖像上的像素點(diǎn)的像素值從大到小作像素點(diǎn)個(gè)數(shù)的累加計(jì)算，將所述像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)與均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)進(jìn)行比較，從而獲得pet圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)。采用所述衰減圖生成方法，降低了計(jì)算上的復(fù)雜度。

附圖說明

圖1是本發(fā)明實(shí)施例中衰減圖生成方法的流程圖；

圖2是本發(fā)明實(shí)施例中確定pet發(fā)射圖像上構(gòu)成均勻模體輪廓區(qū)的流程圖；

圖3是本發(fā)明的實(shí)施例中均勻模體的pet發(fā)射圖像；

圖4是本發(fā)明實(shí)施例中一種第一輪廓區(qū)圖像；

圖5是本發(fā)明實(shí)施例中的另一種第一輪廓區(qū)圖像；

圖6是本發(fā)明實(shí)施例中的衰減圖圖像；

圖7是本發(fā)明實(shí)施例中的pet圖像；

圖8是本發(fā)明實(shí)施例中確定pet圖像上構(gòu)成均勻模體像素點(diǎn)的流程圖；

圖9是本發(fā)明實(shí)施例中對pet發(fā)射圖像上的像素點(diǎn)的像素值進(jìn)行統(tǒng)計(jì)的直方圖；

圖10是本發(fā)明實(shí)施例中衰減圖生成裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖11是本發(fā)明實(shí)施例中輪廓區(qū)獲取子單元的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖12是本發(fā)明實(shí)施例中獲取單元的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖13是本發(fā)明實(shí)施例中第二獲取子單元的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

現(xiàn)有技術(shù)中，完成pet發(fā)射圖像的衰減校正，需要利用ct技術(shù)，這就需要在pet設(shè)備的基礎(chǔ)上，附加應(yīng)用所述ct技術(shù)的設(shè)備，從而使得設(shè)備的成本增加。并且，同時(shí)操作ct設(shè)備以及pet設(shè)備，不僅增加了操作上的復(fù)雜度，患者的安全性也受到了一定程度的影響。

為解決上述問題，本發(fā)明的實(shí)施例中，采用均勻模體模擬人體組織，為均勻模體的pet發(fā)射圖像提供了一種衰減圖的生成方法。所述衰減圖的生成方法中，通過在均勻模體的pet圖像上確定構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)，從而獲得所述均勻模體的像素點(diǎn)的位置信息，再根據(jù)所述均勻模體的衰減值，即可獲得均勻模體pet發(fā)射圖像的衰減圖。

所述均勻模體，通常指的是物理特性相對均勻的物體，例如：一定體積的水。

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更為明顯易懂，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實(shí)施例做詳細(xì)的說明。

實(shí)施例一

如圖1所示，本實(shí)施例提供了一種均勻模體的衰減圖生成方法，所述方法可以采用如下步驟：

步驟102：確定所生成的均勻模體的pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)，獲得所述像素點(diǎn)的位置信息；

步驟104：采用所述像素點(diǎn)的位置信息以及所獲取的所述均勻模體的衰減值，生成所述pet發(fā)射圖像的衰減圖。

pet成像的過程中，由于受到康普頓效應(yīng)、散射等因素的影響，致使生成的pet發(fā)射圖像失真。由于圖像均是由若干個(gè)像素點(diǎn)構(gòu)成的，若要獲得清晰的pet圖像，可以通過對pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的各個(gè)像素點(diǎn)進(jìn)行校正，也就是利用所述各個(gè)像素點(diǎn)的衰減信息構(gòu)成的衰減圖對所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成均勻模體的各個(gè)像素點(diǎn)進(jìn)行校正。

其中，所述衰減圖需要采用pet發(fā)射圖像上構(gòu)成均勻模體的各個(gè)像素點(diǎn)的位置信息，以及所述均勻模體衰減值進(jìn)行生成。因此，只要確定pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)，進(jìn)而獲得所述像素點(diǎn)的位置信息，再利用所述均勻模體衰減值，就可以生成所述pet發(fā)射圖像的衰減圖。

在具體實(shí)施中，所述pet發(fā)射圖像可以是所述均勻模體的發(fā)射圖像，也可以是所述均勻模體的某一截面的發(fā)射圖像，也就是說，所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置可以是整個(gè)均勻模體，也可以是所述均勻模體的某一截面。

當(dāng)所述pet發(fā)射圖像為整個(gè)均勻模體的發(fā)射圖像時(shí)，可以通過獲得所述均勻模體的體積，再根據(jù)所述體積與像素點(diǎn)個(gè)數(shù)之間的對應(yīng)關(guān)系，獲得所述均勻模體物理體積對應(yīng)的像素點(diǎn)個(gè)數(shù)。

當(dāng)所述pet發(fā)射圖像為所述均勻模體的某一截面的發(fā)射圖像時(shí)，可以通過獲得所述均勻模體上所述截面的物理面積，再根據(jù)所述物理面積與像素點(diǎn)個(gè)數(shù)的對應(yīng)關(guān)系，獲得所述均勻模體所述物理面積對應(yīng)的像素點(diǎn)個(gè)數(shù)。所述均勻模體的衰減值在所述均勻模體出廠時(shí)即可獲知。

在具體實(shí)施中，確定所生成的均勻模體的pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)時(shí)，可以先確定所述pet圖像上構(gòu)成所述均勻模體的輪廓區(qū)，再將所述輪廓區(qū)上以及輪廓區(qū)內(nèi)的像素點(diǎn)作為所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)即可。

如圖2所示，在具體實(shí)施中，確定所述pet圖像上構(gòu)成所述均勻模體的輪廓區(qū)，可以采用如下步驟：

步驟202：獲取所述pet發(fā)射圖像上像素點(diǎn)的像素值，所述像素值包括最大像素值，將大于等于預(yù)設(shè)的第一閾值的像素值所對應(yīng)的所述pet發(fā)射圖像上的像素點(diǎn)作為第一輪廓區(qū)，所述第一閾值為小于等于所述最大像素值的像素值；

步驟204：調(diào)整所述第一閾值，獲得調(diào)整后的第一閾值所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)與所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)之間的差值；

步驟206：將所述差值最小時(shí)所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)作為所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的輪廓區(qū)。

以下結(jié)合圖3至圖6，對圖2中確定所述pet圖像上構(gòu)成所述均勻模體的輪廓區(qū)的過程，進(jìn)行詳細(xì)說明。

如圖3所示，為某一圓柱形模體的pet發(fā)射圖像。所述圓柱形模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)個(gè)數(shù)為20106個(gè)，所述pet發(fā)射圖像的最大像素值為0.0033。其中，所述像素點(diǎn)的像素值與所述像素點(diǎn)本身的亮度成正比，pet發(fā)射圖像像素值最大的像素點(diǎn)也是pet發(fā)射圖像上亮度最大的像素點(diǎn)。

通常情況下，pet發(fā)射圖像上，所述均勻模體邊緣的像素點(diǎn)是整個(gè)pet發(fā)射圖像上亮度最大的點(diǎn)。然而，在生成所述圓柱形模體pet發(fā)射圖像的過程中，由于部分容積效應(yīng)的影響，造成了所述均勻模體邊緣的某些像素點(diǎn)的像素值偏低，即小于所述最大像素值。并且，所述pet發(fā)射圖像上可能存在某些因散射而產(chǎn)生的像素點(diǎn)。因此，若以所述均勻模體的最大像素值所對應(yīng)的pet發(fā)射圖像上的像素點(diǎn)作為所述均勻模體的輪廓區(qū)，由此獲得的構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)，因缺少由于部分容積效應(yīng)而使得像素值偏低的某些像素點(diǎn)，使得最終確定的構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)的結(jié)果不夠準(zhǔn)確。

本發(fā)明的實(shí)施例中，通過設(shè)置第一閾值，將大于等于預(yù)設(shè)的第一閾值的像素值所對應(yīng)的所述pet發(fā)射圖像上的像素點(diǎn)作為第一輪廓區(qū)，調(diào)整所述第一閾值，比較調(diào)整后的第一閾值所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)與所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)。

當(dāng)調(diào)整后的第一閾值所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)與所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)之間的差值最小時(shí)，第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)的像素點(diǎn)可以包含因部分容積效應(yīng)而使得像素值偏低的那些像素點(diǎn)，之后采取邊緣提取算法或其他類似方法獲取第一輪廓區(qū)的邊緣，而排除因散射等原因在第一輪廓區(qū)外產(chǎn)生的像素點(diǎn)，因此，此時(shí)的第一輪廓區(qū)最接近所述均勻模體的真實(shí)輪廓區(qū)，根據(jù)所述第一輪廓區(qū)生成的衰減圖為所述均勻模體最準(zhǔn)確的衰減圖。

在具體實(shí)施中，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)實(shí)際情況設(shè)置以及調(diào)整所述第一閾值。例如，如圖4所示，當(dāng)所述第一閾值等于5*10^-4時(shí)，圖中的白色像素點(diǎn)部分為所述第一輪廓區(qū)。據(jù)統(tǒng)計(jì)，此時(shí)的第一輪廓區(qū)上和第一輪廓區(qū)內(nèi)大約有20664個(gè)像素點(diǎn)，所述像素點(diǎn)中包含因散射等原因而產(chǎn)生的像素點(diǎn)，致使所述第一輪廓區(qū)比圓柱形模體的真實(shí)輪廓區(qū)大。

如圖5所示，當(dāng)所述第一閾值等于8*10^-4時(shí)，圖中的白色像素點(diǎn)部分為所述第一輪廓區(qū)。據(jù)統(tǒng)計(jì)，此時(shí)的第一輪廓區(qū)上和第一輪廓區(qū)內(nèi)大約有20161個(gè)像素點(diǎn)，基本排除了因散射等原因在第一輪廓區(qū)外產(chǎn)生的像素點(diǎn)，使得所述第一輪廓區(qū)與圓柱形模體的真實(shí)輪廓區(qū)較為接近。采用第一閾值等于8*10^-4時(shí)獲得的像素點(diǎn)位置信息以及所述圓柱形形模體的衰減值，生成如圖6所示的衰減圖。

根據(jù)圖6中的衰減圖對圖1中的pet發(fā)射圖像進(jìn)行衰減校正后，得到如圖7所示的經(jīng)過衰減校正的pet發(fā)射圖像，所述經(jīng)過衰減校正的pet發(fā)射圖像即為pet圖像。

由此可見，所述第一閾值的取值不同，對應(yīng)的第一輪廓區(qū)也是不斷變化的。只要所述第一閾值取值適當(dāng)，就可以排除pet發(fā)射圖像上由部分容積效應(yīng)造成的邊緣處像素點(diǎn)損失、以及在輪廓區(qū)域外因散射產(chǎn)生的像素點(diǎn)，進(jìn)而獲得所述圓柱形模體的真實(shí)輪廓區(qū)，使得由此獲得的衰減圖也就越準(zhǔn)確。根據(jù)所述衰減圖對pet發(fā)射圖像校正后，獲得的pet發(fā)射圖像上均勻模體的輪廓區(qū)也就越接近所述均勻模體的真實(shí)輪廓區(qū)。

在具體實(shí)施中，可以采用如下方法調(diào)整所述第一閾值：以所述最大像素值為所述第一閾值的初始值，減小所述第一閾值。例如：每次減小所述第一閾值的比例為1％至5％，并由此獲得第一差值和第二差值，直至所述第二差值大于所述第一差值。

其中，所述第一差值為前一次減小后的第一閾值所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)與所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)之間的差值；所述第二差值為當(dāng)前一次減小后的第一閾值所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)與所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)之間的差值。

由于所述第一閾值是按照由大到小的順序調(diào)整的，所述差值先隨著所述第一閾值的減小而減小，當(dāng)所述差值減小至某一臨界值時(shí)，再減小所述第一閾值而獲得的差值就會隨著所述第一閾值的減小而增大。也就是說，當(dāng)?shù)诙钪荡笥诘谝徊钪禃r(shí)，所述第一差值即為所述差值的臨界值。因此，當(dāng)?shù)诙钪荡笥诘谝徊钪禃r(shí)，即可停止調(diào)整所述第一閾值，將所述第一差值所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)作為所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的輪廓區(qū)。

如圖8所示，在pet發(fā)射圖像上，當(dāng)所述均勻模體中心位置的像素點(diǎn)的像素值大于因散射等原因而產(chǎn)生的像素點(diǎn)的像素值時(shí)，確定所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)還可以包括如下步驟：

步驟802：獲取所述pet發(fā)射圖像上像素點(diǎn)的像素值；

步驟804：對所述像素值從大到小作像素點(diǎn)個(gè)數(shù)的累加計(jì)算，得到所累加的像素點(diǎn)個(gè)數(shù)值；

步驟806：當(dāng)所述所累加的像素點(diǎn)個(gè)數(shù)值等于所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)個(gè)數(shù)時(shí)，將參與累加計(jì)算的像素值所對應(yīng)的所述pet發(fā)射圖像上的像素點(diǎn)作為所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)。

由于所述pet發(fā)射圖像上，像素點(diǎn)的像素值自均勻模體的邊緣至中心位置逐漸減小。因此，當(dāng)所述均勻模體中心位置的像素點(diǎn)的像素值大于因散射等原因而產(chǎn)生的像素點(diǎn)的像素值時(shí)，在所述pet發(fā)射圖像上，可以對所述像素點(diǎn)的像素值作從大到小作像素點(diǎn)個(gè)數(shù)的累加計(jì)算。當(dāng)所述所累加的像素點(diǎn)個(gè)數(shù)值等于所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)個(gè)數(shù)時(shí)，可以認(rèn)為所有參與累加計(jì)算的像素值所對應(yīng)的所述pet發(fā)射圖像上的像素點(diǎn)即為所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)。

在具體實(shí)施中，為方便對所述像素值從大到小作像素點(diǎn)個(gè)數(shù)的累加計(jì)算，可以對所述像素值進(jìn)行統(tǒng)計(jì)，即對所述像素值的分布情況進(jìn)行統(tǒng)計(jì)。例如可以采用直方圖的方式對所述像素值進(jìn)行統(tǒng)計(jì)，也可以采用其他方式進(jìn)行統(tǒng)計(jì)，只要能夠直觀表示出各個(gè)像素值的分布情況即可。根據(jù)所述直方圖的統(tǒng)計(jì)結(jié)果，再對所述像素值從大到小作像素點(diǎn)個(gè)數(shù)的累加計(jì)算。

例如：如圖9所示，對某一模體的pet發(fā)射圖像上像素點(diǎn)的像素值所作的直方圖統(tǒng)計(jì)情況。其中，橫軸表示像素值，從左到右逐漸增大?？v軸表示像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)，從下到上逐漸增大。已知所述模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)個(gè)數(shù)為a。根據(jù)步驟802至步驟806，可以將圖9中像素值大于等于0.65*10^-3的像素點(diǎn)作為所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)。

實(shí)施例二

如圖6及圖7所示，其中圖6為采用圖5中確定的第一輪廓區(qū)生成的衰減圖，采用圖6中的衰減圖，生成如圖7所示的均勻模體pet圖像，即：生成均勻模體的pet發(fā)射圖像，并采用上述實(shí)施例中所述的衰減圖生成方法所生成的衰減圖，對所述pet發(fā)射圖像進(jìn)行衰減校正，即可生成經(jīng)過衰減校正的pet圖像。

為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解和實(shí)現(xiàn)本發(fā)明，以下對上述衰減圖以及pet圖像的生成方法對應(yīng)的裝置進(jìn)行詳細(xì)描述。

實(shí)施例三

如圖10所示，本實(shí)施例提供了一種均勻模體衰減圖的生成裝置，所述裝置可以包括：

獲取單元1002，用于確定所生成的均勻模體的pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)，獲得所述像素點(diǎn)的位置信息；

生成單元1004，用于采用所述像素點(diǎn)的位置信息以及所獲取的所述均勻模體的衰減值，生成所述pet發(fā)射圖像的衰減圖。

其中，pet發(fā)射圖像是由若干個(gè)像素點(diǎn)構(gòu)成的，所述pet圖像上的均勻模體也包括若干個(gè)像素點(diǎn)。對所述pet發(fā)射圖像上的進(jìn)行衰減校正，也就是對pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)進(jìn)行衰減校正。

對構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)進(jìn)行衰減校正，就要相應(yīng)獲得構(gòu)成均勻模體的各個(gè)像素點(diǎn)的衰減信息，所述衰減信息包括構(gòu)成所述均勻模體像素點(diǎn)的位置信息及其衰減值。由于均勻模體的衰減值是可以獲取的，因此，所述獲取單元1002獲取所述pet圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)的位置信息后，所述生成單元1004就可以根據(jù)所述獲取單元1002獲取的所述位置信息以及所述均勻模體的衰減值，生成表示構(gòu)成所述均勻模體衰減信息的衰減圖。

在具體實(shí)施中，為了獲取構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)的位置信息，所述獲取單元可以包括：輪廓區(qū)獲取子單元(未示出)，用于確定所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的輪廓區(qū)，將所述輪廓區(qū)上以及輪廓區(qū)內(nèi)的像素點(diǎn)作為所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)。

如圖11所示，在具體實(shí)施中，所述輪廓區(qū)獲取子單元可以包括：

第一輪廓區(qū)獲取模塊1102，用于獲取所述pet發(fā)射圖像上像素點(diǎn)的像素值，所述像素值包括最大像素值，將大于等于預(yù)設(shè)的第一閾值的像素值所對應(yīng)的所述pet發(fā)射圖像上的像素點(diǎn)作為第一輪廓區(qū)，所述第一閾值為小于等于所述最大像素值的像素值；

第一閾值調(diào)整模塊1104，調(diào)整所述第一閾值，獲得調(diào)整后的第一閾值所對應(yīng)的所述第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)與所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)之間的差值；

第二輪廓區(qū)獲取模塊1106，將所述差值最小時(shí)所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)作為所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的輪廓區(qū)。

本實(shí)施例中，通過設(shè)置第一閾值，所述第一輪廓區(qū)獲取模塊1102將大于等于第一閾值的像素值所對應(yīng)的所述pet發(fā)射圖像上的像素點(diǎn)作為第一輪廓區(qū)。所述第一閾值調(diào)整模塊1104調(diào)整所述第一閾值，比較調(diào)整后的第一閾值所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)與所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)。當(dāng)調(diào)整后的第一閾值所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)與所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)之間的差值最小時(shí)，所述第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)的像素點(diǎn)可以包含因部分容積效應(yīng)而使得像素值偏低的那些像素點(diǎn)，而排除因散射等原因產(chǎn)生的像素點(diǎn)，此時(shí)的第一輪廓區(qū)最接近所述均勻模體的真實(shí)輪廓區(qū)。所述輪廓區(qū)獲取模塊1106將所述差值最小時(shí)所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)作為所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的輪廓區(qū)。

在具體實(shí)施中，所述第一閾值調(diào)整模塊1104可以用于將所述最大像素值作為所述第一閾值的初始值，減小所述第一閾值，例如：每次減小所述第一閾值的比例為1％至5％。獲得第一差值和第二差值，直至所述第一差值大于所述第二差值。

其中，所述第一差值為前一次減小后的第一閾值所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)與所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)之間的差值，所述第二差值為當(dāng)前一次減小后的第一閾值所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)與所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)之間的差值。

此時(shí)，所述輪廓區(qū)獲取模塊1106用于將所述第一差值所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)作為所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的輪廓區(qū)。采用所述第一輪廓區(qū)以及所述均勻模體的衰減值即可生成如圖6所述的衰減圖。

由于所述第一閾值是按照由大到小的順序調(diào)整的，所述差值先隨著所述第一閾值的減小而減小，當(dāng)所述差值減小至某一臨界值時(shí)，再減小所述第一閾值而獲得的差值就會隨著所述第一閾值的減小而增大。也就是說，當(dāng)?shù)诙钪荡笥诘谝徊钪禃r(shí)，所述第一差值即為所述差值的臨界值。因此，當(dāng)?shù)诙钪荡笥诘谝徊钪禃r(shí)，即可停止調(diào)整所述第一閾值，將所述第一差值所對應(yīng)的第一輪廓區(qū)作為所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的輪廓區(qū)。

如圖12所示，在pet發(fā)射圖像上，當(dāng)所述均勻模體中心位置的像素點(diǎn)的像素值大于因散射等原因而產(chǎn)生的像素點(diǎn)的像素值時(shí)，為了獲取構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)的位置信息，所述獲取單元還可以包括：

第一獲取子單元1202，用于獲取所述pet發(fā)射圖像上像素點(diǎn)的像素值；

第二獲取子單元1204，用于對所述像素值從大到小作像素點(diǎn)個(gè)數(shù)的累加計(jì)算，得到所累加的像素點(diǎn)個(gè)數(shù)值；

第三獲取子單元1206，當(dāng)所述所累加的像素點(diǎn)個(gè)數(shù)值等于所述均勻模體上對應(yīng)所述pet發(fā)射圖像的位置的像素點(diǎn)個(gè)數(shù)時(shí)，將參與累加計(jì)算的像素值所對應(yīng)的所述pet發(fā)射圖像上的像素點(diǎn)作為所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)。

為了更加快速地確定所述pet發(fā)射圖像上構(gòu)成所述均勻模體的像素點(diǎn)，獲得所述像素點(diǎn)的位置信息，在具體實(shí)施中，如圖13所示，所述第二獲取子單元1204可以包括：

直方圖統(tǒng)計(jì)模塊1302，用于對所述像素值作直方圖統(tǒng)計(jì)，得到直方圖統(tǒng)計(jì)結(jié)果；

計(jì)算模塊1304，用于根據(jù)所述直方圖統(tǒng)計(jì)模塊得到的直方圖的統(tǒng)計(jì)結(jié)果，對所述像素值從大到小作像素點(diǎn)個(gè)數(shù)的累加計(jì)算。

需要說明的是，所述第二獲取子單元對所述像素值作統(tǒng)計(jì)時(shí)，還可以采用其他形式進(jìn)行統(tǒng)計(jì)，只要能夠直觀表示出所述像素值的分布情況即可。

實(shí)施例四

本發(fā)明的實(shí)施例還提供了均勻模體pet圖像的生成裝置，所述pet圖像的生成裝置可以采用上述衰減圖的生成裝置生成的衰減圖，生成對應(yīng)的pet圖像。其中，所述衰減圖的圖像可以參照圖6，所述pet圖像可以參照圖7.

在具體實(shí)施中，所述pet圖像的生成裝置可以包括第一生成單元以及第二生成單元。其中，所述第二生成單元采用上述實(shí)施例中生成的衰減圖，對所述第一生成單元生成的pet發(fā)射圖像進(jìn)行衰減校正，生成經(jīng)過衰減校正的pet圖像。

本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解上述實(shí)施例的各種方法中的全部或部分步驟是可以通過程序來指令相關(guān)的硬件來完成，該程序可以存儲于一計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)中，存儲介質(zhì)可以包括：rom、ram、磁盤或光盤等。

雖然本發(fā)明披露如上，但本發(fā)明并非限定于此。任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動與修改，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求所限定的范圍為準(zhǔn)。