專利名稱:用于相位對(duì)比成像的光柵的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于X射線微分相位對(duì)比成像的光柵、用于生成對(duì)象的相位對(duì)比圖像的探測(cè)器裝備和X射線成像系統(tǒng)、以及制作光柵的方法。
背景技術(shù)：
利用X射線的相位對(duì)比成像用于，例如，相比于傳統(tǒng)幅度對(duì)比圖像，增強(qiáng)低吸收樣品的對(duì)比度。這允許使用應(yīng)用于對(duì)象，例如患者，的輻射較低。為了能夠使用與相位對(duì)比成像有關(guān)的波的相位，所述波在時(shí)間和空間都需要具有良好定義的關(guān)系。能夠通過(guò)應(yīng)用單色X射線輻射提供時(shí)間相干性。在W02004/071298A1中，如描述的用于生成相位對(duì)比X射線成像的設(shè)備包括，在光學(xué)路徑中，不相干的X射線源、第一射束分裂器光柵、第二射束重組器光柵、光學(xué)分析器光柵以及圖像探測(cè)器。為了在微分相位對(duì)比成像(DPC)中使用更高的X射線能量，需要具有高縱橫比的光柵。

發(fā)明內(nèi)容
因此，存在提供具有高縱橫比的光柵的需求。
本發(fā)明的目標(biāo)由獨(dú)立權(quán)利要求
的主題解決，其中，進(jìn)一步的實(shí)施例包含于從屬權(quán)利要求
中。
應(yīng)該注意，下文描述的本發(fā)明的各方面也應(yīng)用于箔光柵、探測(cè)器裝備、X射線成像系統(tǒng)以及方法。
根據(jù)本發(fā)明示范 性的實(shí)施例，提供了一種用于X射線微分相位對(duì)比成像的箔光柵，所述箔光柵包括X射線吸收材料的第一箔以及X射線吸收材料的至少第二箔。至少兩個(gè)所述箔都包括由X射線透明縫隙彼此間隔的多個(gè)X射線吸收條帶。所述第一箔包括具有第一寬度W1的第一多個(gè)第一條帶，以及以第一間距P1周期性布置的具有第一開口寬度Wm的第一多個(gè)第一縫隙。所述第二箔包括具有第二寬度W2的第二多個(gè)第二條帶，以及以第二間距P2周期性布置的具有第二開口寬度的第二多個(gè)第二縫隙。至少兩個(gè)所述箔被布置為彼此移位，從而使所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，使得針對(duì)X射線輻射的通路提供了多個(gè)形成的狹縫，所述多個(gè)形成的狹縫具有形成的狹縫寬度W，所述形成的狹縫寬度Wk小于所述第一開口寬度和所述第二開口寬度。至少兩個(gè)所述箔固定地附接于彼此。
在本發(fā)明的上下文中，術(shù)語(yǔ)“箔”涉及這樣的材料:所述材料相比其延伸方向具有小的厚度。術(shù)語(yǔ)箔包括柔性材料，即能夠在至少一個(gè)方向上彎曲的材料，也包括任何其他材料的板或片。
根據(jù)本發(fā)明另一示范性的實(shí)施例，所述透明縫隙由環(huán)繞的箔片段包圍，所述環(huán)繞的箔片段將所述多個(gè)條帶在它們的末端處彼此連接，其中，將所述多個(gè)條帶和所述環(huán)繞的箔片段作為連續(xù)箔提供。
根據(jù)本發(fā)明另一示范性的實(shí)施例，提供了一種用于生成對(duì)象的相位對(duì)比圖像的X射線系統(tǒng)的探測(cè)器裝備，所述探測(cè)器裝備包括源光柵、相位光柵、分析器光柵、以及具有傳感器的探測(cè)器。所述源光柵適于分裂X射線多色光譜的X射線束。所述相位光柵適于在分析器平面中將分裂的射束重組。所述光柵中的一個(gè)，例如所述分析器光柵，適于在所述分析器光柵的一個(gè)周期上被橫向地步進(jìn)。所述傳感器適于當(dāng)在所述分析器光柵的一個(gè)周期上被橫向地步進(jìn)時(shí)記錄原始圖像數(shù)據(jù)。所述光柵中的至少一個(gè)為根據(jù)上面提到的示范性實(shí)施例的箔光柵。
根據(jù)本發(fā)明另一示范性的實(shí)施例，提供了一種用于生成對(duì)象的相位對(duì)比數(shù)據(jù)的X射線成像系統(tǒng)，所述X射線成像系統(tǒng)具有生成X射線多色光譜的射束的X射線源、提供對(duì)象的原始數(shù)據(jù)的X射線探測(cè)器單元、用于控制所述X射線源和計(jì)算生成圖像數(shù)據(jù)的原始圖像數(shù)據(jù)的處理單元、以及用于顯示計(jì)算的圖像數(shù)據(jù)的顯示器。所述X射線探測(cè)器單元包括根據(jù)上面提到的實(shí)施例之一的探測(cè)器裝備。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種制作用于X射線微分相位對(duì)比成像的箔光柵的方法，所述方法包括下述步驟:a)提供X射線吸收材料的第一箔，以及施加以第一間距P1周期性布置的具有第一開口寬度wM的第一多個(gè)第一X射線透明縫隙，從而實(shí)現(xiàn)由所述第一縫隙彼此間隔的具有第一寬度W1的第一多個(gè)X射線吸收條帶山)提供X射線吸收材料的第二箔，以及施加以第二間距P2周期性布置的具有第二開口寬度Wtj2的第二多個(gè)第二 X射線透明縫隙，從而實(shí)現(xiàn)由所述第二縫隙彼此間隔的具有第二寬度W2的第二多個(gè)第二條帶；c)將至少兩個(gè)所述箔彼此移位地定位，從而使所述第二條帶位于所述第一縫隙前方，使得針對(duì)X射線輻射的通路提供了多個(gè)形成的狹縫，所述多個(gè)形成的狹縫具有形成的狹縫寬度WE,所述形成的狹縫寬度Wk小于所述第一開口寬度和所述第二開口寬度；以及d)將至少兩個(gè)所述箔附接于彼此，從而提供箔光柵。
能夠?qū)⑾旅鎯?nèi)容看作本文的主旨:通過(guò)以移位方式布置至少兩個(gè)箔從而提供形成的狹縫，所述形成的狹縫具有比能夠在所述箔自身中提供的最小寬度更小的寬度，從而提供了具有盡可能小的產(chǎn)生的縫隙的箔。通過(guò)當(dāng)將所述縫隙和所述箔提供為與所述開口寬度具有特定關(guān)系時(shí)調(diào)適其 余的條帶，能夠使所述形成的狹縫寬度適于具體需求。
參考下文描述的實(shí)施例，本發(fā)明的這些和其他方面會(huì)變得清楚并且將會(huì)被闡明。


將會(huì)在下文中參考下面的附圖描述本發(fā)明示范性的實(shí)施例。
圖1概要示出了 X射線系統(tǒng)的例子；
圖2概要示出了用于相位對(duì)比成像的X射線系統(tǒng)的探測(cè)器裝備；
圖3a_c概要示出了根據(jù)本發(fā)明的箔光柵的第一實(shí)施例；
圖4a_b概要示出了在橫截面中的根據(jù)本發(fā)明的箔光柵的另一實(shí)施例；
圖5概要示出了用于制作根據(jù)本發(fā)明的箔光柵的方法的基本方法步驟；以及
圖6概要示出了根據(jù)圖5的方法的另一實(shí)施例。
具體實(shí)施方式
圖1概要示出了具有檢查設(shè)備的X射線成像系統(tǒng)10，X射線成像系統(tǒng)10用于生成對(duì)象的相位對(duì)比圖像。所述檢查設(shè)備包括X射線圖像采集裝置，所述X射線圖像采集裝置具有被提供用于通過(guò)傳統(tǒng)X射線源生成X射線輻射束的X射線輻射源12。提供了工作臺(tái)14以接收受檢者,例如患者。
另外，根據(jù)本發(fā)明的X射線探測(cè)器單元16基本位于X射線輻射源12的對(duì)面(詳細(xì)解釋見下文)，即在輻射過(guò)程中，受檢者位于X射線輻射源12和探測(cè)器單元16之間。后者向處理單元18發(fā)送數(shù)據(jù)，處理單元18連接于探測(cè)器單元16和輻射源12。處理單元18位于工作臺(tái)14下方以節(jié)省在檢查室內(nèi)的空間。當(dāng)然，它也能位于不同地點(diǎn)，諸如不同房間。另夕卜，顯示器20布置在工作臺(tái)14的附近以將諸如計(jì)算圖像數(shù)據(jù)的信息顯示給操作所述X射線成像系統(tǒng)的人員。另外，布置接口單元22以由用戶輸入信息。應(yīng)該注意，示出的例子稱作C型X射線圖像采集裝置。所述X射線圖像采集裝置包括C形式的臂，在那里所述圖像探測(cè)器布置在C型臂的一端，并且X射線輻射源12位于C型臂的相對(duì)端。C型臂可移動(dòng)地安裝，并且能夠繞放置在工作臺(tái)14上的感興趣對(duì)象旋轉(zhuǎn)。換言之，可以以不同觀察方向采集圖像。
還應(yīng)注意，其他形式的X射線圖像采集裝置也是可行的，諸如具有X射線源和探測(cè)器的旋轉(zhuǎn)對(duì)的機(jī)架。
根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施例，本發(fā)明的主題用于乳腺X射線照相術(shù)，在那里存在較低能量以及不是很高的強(qiáng)度，同時(shí)也存在對(duì)高空間分辨率的需求。然而，本發(fā)明也適于C型臂和CT檢查。
圖2概要示出了用于生成對(duì)象26的相位對(duì)比圖像的X射線系統(tǒng)的探測(cè)器裝備24。對(duì)象26，例如在圖2中示出的患者或樣品，布置在源光柵28和相位光柵30之間。分析器光柵32布置在相位光柵30后面。另外，具有傳感器34的探測(cè)器被提供在分析器光柵32后面。
在C型臂的情況中，所述源光柵布置在C型臂的相對(duì)側(cè)，在那里定位了所述源。其他光柵相對(duì)地布置，即布置在另一側(cè)，從而使對(duì)象布置在C型臂的兩端之間，并且因此在所述源光柵和所述相位光柵之間。
針對(duì)對(duì)象26的檢查，X射線多色光譜的X射線束36由傳統(tǒng)X射線源38提供。將X射線輻射束36應(yīng)用于源光柵28以分裂所述X射線輻射，從而提供相干X射線輻射。將由附圖標(biāo)記39指示的分裂的射束應(yīng)用于相位光柵30以在分析器平面中重組分裂的射束。在相位光柵30后面重組分裂射束之后，將重組的射束應(yīng)用于分析器光柵36。最終，在所述光柵之一，在例子中不出的分析器光柵32,在分析器光柵32的一個(gè)周期上被橫向步進(jìn)時(shí),傳感器34記錄原始圖像數(shù)據(jù)。至少一個(gè)光柵28、30或32的裝備包括如在下文描述的發(fā)明的箔光柵。應(yīng)該注意，根據(jù)本發(fā)明所述的箔光柵尤其對(duì)源光柵28是有利的。
然而，應(yīng)該注意，上面描述的，在開始時(shí)，使所述分析器光柵步進(jìn)是必要的，但是，根據(jù)另一方面，三個(gè)光柵中之一的移動(dòng)是足夠的，因此并不局限于所述分析器光柵。
根據(jù)另一方面，根據(jù)本發(fā)明所述的箔光柵也能夠利用特殊測(cè)量方法在靜態(tài)設(shè)置中使用。因此，發(fā)明的箔光柵用于所有實(shí)際和所述未來(lái)的PCI設(shè)置。
在圖3a_c中，示出了箔光柵的第一實(shí)施例。圖3a示出了在兩個(gè)箔附接于彼此之前，在所謂的分解透視圖中的第一箔和第二箔。圖3b示出了附接于彼此的所述兩個(gè)箔的平面圖，并且圖3c示出了圖3b的附接箔的橫截面。[0031]圖3a示出了用于X射線微分相位對(duì)比成像的箔光柵40，箔光柵40包括X射線吸收材料的第一箔42和X射線吸收材料的至少第二箔44。第一箔42包括具有第一寬度Wl50的第一多個(gè)46第一條帶48a、b、c...，以及以第一間距Pl58周期性布置的具有第一開口寬度wQ156的第一多個(gè)52第一縫隙54a、b、c...。所述第一條帶是吸收X射線的，因?yàn)樗鼈冇伤霾牧现瞥?。第一縫隙54對(duì)X射線是透明的。
所述第二箔包括也是吸收X射線的，具有第二寬度《264的第二多個(gè)60第二條帶62a、b、c...，以及以第二間距p272周期性布置的具有第二開口寬度wQ270的第二多個(gè)66第二縫隙68a、b、c...。第二縫隙68對(duì)X射線也是透明的。
為了提供箔光柵40，至少兩個(gè)箔42和44彼此移位地布置，從而使所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，使得為X射線輻射的通路提供了具有形成的狹縫寬度^78的多個(gè)74形成的狹縫76a、b、c...，形成的狹縫寬度％78小于所述第一開口寬度和所述第二開口寬度。兩個(gè)箔42、44的這種結(jié)合由兩個(gè)箭頭79指示。所述至少兩個(gè)箔之后固定地附接于彼此,例如,通過(guò)膠合。
箔光柵40的安裝狀態(tài)在圖3b中示出。為了更好的理解，形成的狹縫76以陰影線的形式指示。
圖3c示出了包括第一箔42和第二箔44的所述箔光柵的橫截面。
根據(jù)本發(fā)明的一方面，所述箔能夠?yàn)榻饘俨?br>根據(jù)另一方面，所述透明縫隙由環(huán)繞的箔片段80包圍，環(huán)繞的箔片段80將所述多個(gè)條帶在它們的末端處彼此連接。這提供了在加工過(guò)程中更簡(jiǎn)單的操作。
根據(jù)優(yōu)選的示范性實(shí)施例，如在圖3中指示的，將所述多個(gè)條帶和所述環(huán)繞的箔片段提供為連續(xù)箔，即提供為單片箔，在其中，布置所述縫隙。
根據(jù)另一方面，將對(duì)齊標(biāo)記81提供在具有所述形成的狹縫的區(qū)域之外以用于在裝配步驟中提高準(zhǔn)確度。
根據(jù)另一方面，提供了對(duì)齊針和具有孔洞的箔，以及使用用于精確安裝的其他工具。
根據(jù)另一方面。所述第一間距P1和所述第二間距P2是相等的。
根據(jù)另一方面，所述移位的偏移為所述間距P1、P2的一半。
在示出的例子中，所述第一間距P1和所述第二間距P2是相等的，并且所述移位的偏移顯示為所述間距的一半。
根據(jù)另一方面，針對(duì)每個(gè)箔，所述條帶的寬度小于所述開口寬度。因此，較大的開口中的每個(gè)都能被劃分為兩個(gè)形成的狹縫。
當(dāng)然，也可以提供與所述開口寬度相同寬度的條帶，并且通過(guò)輕微橫向移位，可以部分覆蓋所述開口寬度，從而獲取相同數(shù)量但是具有更小開口寬度的形成的狹縫。
根據(jù)另一示范性的實(shí)施例(沒(méi)有示出)，所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，從而使每個(gè)第一縫隙和第二縫隙至少部分覆蓋。
根據(jù)另一示范性的實(shí)施例(沒(méi)有示出)，所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，從而使每個(gè)第一縫隙和第二縫隙至少部分覆蓋。
根據(jù)另一示范性的實(shí)施例(沒(méi)有示出)，所述第一條帶和/或所述第二條帶具有非線性形式，并且其中，所述第一縫隙和所述第二縫隙與具有非線性形式，其具有不同片段，所述不同片段具有不同片段開口寬度WS();并且所述至少兩個(gè)箔的移位導(dǎo)致具有形成的片段開口寬度Waffi的形成的縫隙，所述形成的片段開口寬度小于所述第一縫隙和所述第二縫隙各自的片段開口寬度WM。
例如，所述狹縫能夠具有L型形式，并且所述狹縫在兩個(gè)方向上橫跨所述箔以恒定間距重復(fù)。通過(guò)移位，可以實(shí)現(xiàn)具有L型交叉片段的形成的狹縫，其在一個(gè)或兩個(gè)方向上具有更小寬度。
在圖3c示出的例子中，由附圖標(biāo)記82指示的，所述形成的狹縫的橫截面是類似方格的，從而使由附圖標(biāo)記84指示的通過(guò)(thru)方向垂直于所述箔的延伸方向。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了多個(gè)第一箔和第二箔，所述多個(gè)第一箔和第二箔以交替方式疊放(沒(méi)有進(jìn)一步示出)。因此，在實(shí)現(xiàn)相同的形成的狹縫尺寸的同時(shí)，能夠提供更高的吸收率。
根據(jù)另一示范性的實(shí)施例，提供多個(gè)數(shù)量的箔，所述多個(gè)數(shù)量的箔以疊放方式布置為將間距和開口寬度調(diào)適為使得由圖4中的附圖標(biāo)記182指示的所述形成的狹縫的橫截面適于不同的扇形束角度，所述扇形束角度由附圖標(biāo)記184指示。
在圖4a中，多個(gè)箔142顯示為包括許多形成的狹縫176，與所述箔的延伸方向相t匕，狹縫具有傾斜的通過(guò)方向。在圖4a中，所有形成的狹縫176具有由角度α指示的相同的傾斜角。在示出的例子中，所述形成的縫隙的橫截面具有平行四邊形的形式。所述箔具有相似的縫隙/開口寬度，所述狹縫寬度具有相同的間距。它們以大于所述間距一半的值移位。
在圖4b中，多 個(gè)箔242顯示為包括許多形成的狹縫276，調(diào)適形成的狹縫276從而為類似扇形形式的射束提供通過(guò)開口，其由虛線中心線284指示，每個(gè)虛線中心線284都具有相對(duì)于所述箔的延伸方向的增加和減少的角度。
根據(jù)另一方面，所述通過(guò)開口具有梯形形狀或三角形形狀等，而不是矩形。
因此，能夠改變射束的通路方向。在示出的例子中，所述形成的縫隙的橫截面具有平行四邊形的不同形式。所述箔具有不同開口寬度和間距。所述條帶具有相似寬度。
根據(jù)另一方面，所述形成的狹縫自身具有梯形形式，其具有在輻射方向上增加或減少的橫截面，因此，允許進(jìn)一步影響通過(guò)的輻射(沒(méi)有示出)。
另外，提供了一種制作用于X射線微分相位對(duì)比成像的箔光柵的方法100，方法100以其基本步驟在圖5中示出，方法100包括下述步驟:
a)在第一提供步驟110中，提供X射線吸收材料的第一箔112，以及在施加步驟114中，施加具有第一開口寬度的第一多個(gè)第一 X射線透明縫隙116，所述透明縫隙以第一間距P1周期性布置，從而實(shí)現(xiàn)由所述第一縫隙彼此間隔的具有第一寬度W1的第一多個(gè)第一 X射線吸收條帶。
b)在進(jìn)一步提供步驟120中，提供X射線吸收材料的第二箔122，以及在進(jìn)一步施加步驟124中，施加第二多個(gè)第二 X射線透明縫隙126，所述第二縫隙具有第二開口寬度W02并且以第二間距&周期性布置，從而實(shí)現(xiàn)由所述第二縫隙彼此間隔的具有第二寬度W2的第二多個(gè)第二條帶。
c)在定位步驟130中，將至少兩個(gè)所述箔彼此移位定位，從而使所述第二條帶位于所述第一縫隙前方，從而為X射線輻射的通路提供了多個(gè)形成的狹縫132，多個(gè)形成的狹縫132具有形成的狹縫寬度wK，所述形成的狹縫寬度小于所述第一開口寬度和所述第二開口寬度。[0062]d)在附接步驟134中，將至少兩個(gè)所述箔附接于彼此，從而提供箔光柵136。
例如，通過(guò)激光切割和/或鉆孔，或者例如當(dāng)所述箔為金屬箔時(shí)，通過(guò)金屬蝕刻施加所述縫隙。
作為優(yōu)選的示例，為了將至少兩個(gè)箔附接，將所述箔膠合于彼此。
根據(jù)另一方面，以非平面方式將所述箔附接于彼此，例如，以彎曲幾何形狀。因此，通過(guò)彎曲所述光柵，提供了聚焦開口的備選。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，如在圖6中示出的，針對(duì)所述定位，在對(duì)齊步驟138中通過(guò)對(duì)齊標(biāo)記將所述箔彼此對(duì)齊，所述對(duì)齊標(biāo)記提供在具有所述形成的狹縫的區(qū)域之外。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了用于在膠合過(guò)程中的對(duì)齊的指導(dǎo)支撐物(沒(méi)有進(jìn)一步示出)。
應(yīng)該注意，參考不同主題描述了本發(fā)明的實(shí)施例。具體地，參考方法類型權(quán)利要求
描述了一些實(shí)施例，而參考裝置類型權(quán)利要求
描述了其他實(shí)施例。然而，本領(lǐng)域技術(shù)人員會(huì)從上文和下文描述中總結(jié)出，除非另有聲明，否則除屬于一類型的主題的特征的任何結(jié)合之外，也考慮將與不同主題相關(guān)的特征間的任何結(jié)合通過(guò)本申請(qǐng)公開。然而，能夠?qū)⑺刑卣鹘Y(jié)合以提供協(xié)同效應(yīng)，所述協(xié)同效應(yīng)大于所述特征的簡(jiǎn)單疊加。
在權(quán)利要 求中，詞語(yǔ)“包括”不排除其他元件或步驟，并且不定冠詞“一”或“一個(gè)”不排除多個(gè)。單個(gè)處理器或其他單元可以執(zhí)行在權(quán)利要求
中列舉的若干項(xiàng)目的功能。事實(shí)是，在互相不同的從屬權(quán)利要求
中列舉的特定措施并不指示這些措施的結(jié)合不能有利地利用。
權(quán)利要求
1.一種用于X射線微分相位對(duì)比成像的箔光柵(40)，包括: -X射線吸收材料的第一箔(42);以及 -X射線吸收材料的至少第二箔(44)； 其中，至少兩個(gè)所述箔都包括由X射線透明縫隙彼此間隔的多個(gè)X射線吸收條帶； 其中，所述第一箔包括具有第一寬度W1 (50)的第一多個(gè)(46)第一條帶(48)，以及以第一間距P1 (58)周期性布置的具有第一開口寬度(56)的第一多個(gè)(52)第一縫隙(54);并且 其中，所述第二箔包括具有第二寬度W2 (64)的第二多個(gè)(60)第二條帶(62)，以及以第二間距P2 (72)周期性布置的具有第二開口寬度W()2 (70)的第二多個(gè)(66)第二縫隙(68); 其中，至少兩個(gè)所述箔被布置為彼此移位，從而使所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，使得針對(duì)X射線輻射的通路提供了多個(gè)(74)形成的狹縫(76)，所述多個(gè)(74)形成的狹縫(76)具有形成的狹縫寬度(78)，所述形成的狹縫寬度(78)小于所述第一開口寬度W01和所述第二開口寬度；并且 其中，至少兩個(gè)所述箔固定地附接于彼此。
2.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的箔光柵，其中，所述透明縫隙由環(huán)繞的箔片段(80)包圍，所述環(huán)繞的箔片段(80)將多個(gè)條帶在它們的末端處彼此連接，其中，將所述多個(gè)條帶和所述環(huán)繞的箔片段作為連續(xù)箔提供。
3.根據(jù)權(quán)利要求
1或2所述的箔光柵，其中，所述第一間距P1和所述第二間距P2是相等的；并且其中，所述移位的偏移為所述間距？1、&的一半。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求
之一所述的箔光柵，其中，針對(duì)每個(gè)箔，所述條帶的所述寬度Wl、W2小于所述開口寬度Wra、Wq2。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求
之一所述的箔光柵，其中，所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，從而使每個(gè)第一縫隙和第二縫隙被至少部分覆蓋。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求
之一所述的箔光柵，其中，所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，從而使每個(gè)第一縫隙被所述第二縫隙中的一個(gè)劃分為兩個(gè)形成的狹縫。
7.根據(jù)權(quán)利要求
1到5中之一所述的箔光柵，其中，所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，從而使每個(gè)第一縫隙和第二縫隙被至少部分遮蓋。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求
之一所述的箔光柵，其中，所述第一條帶和/或所述第二條帶具有非線性形式，并且其中，所述第一縫隙和所述第二縫隙具有非線性形式，其具有不同片段，所述不同片段具有片段開口寬度 ;并且 其中，至少兩個(gè)所述箔的移位導(dǎo)致形成的縫隙，所述形成的縫隙具有形成的片段開口寬度所述形成的片段開口寬度小于所述第一縫隙和所述第二縫隙各自的片段開口覽度W5QO
9.根據(jù)前述權(quán)利要求
之一所述的箔光柵，其中，提供多個(gè)第一箔和第二箔，并且所述多個(gè)第一箔和第二箔以交替方式疊放。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求
之一所述的箔光柵，其中，提供多個(gè)數(shù)量的箔，并且所述多個(gè)數(shù)量的箔以疊放的方式被布置為將間距和開口寬度調(diào)適為使得所述形成的狹縫的橫截面(82)適于不同的扇形束角度(84)。
11.一種用于生成對(duì)象(26)的相位對(duì)比圖像的X射線系統(tǒng)的探測(cè)器裝備(24)，其具有: -源光柵(28)； -相位光柵(30); -分析器光柵(32);以及 -具有傳感器(34)的探測(cè)器； 其中，所述源光柵適于分裂X射線多色光譜的X射線束(36);其中，所述相位光柵適于在分析器平面中將分裂的射束重組；其中，所述光柵中的一個(gè)適于在所述分析器光柵的一個(gè)周期上被橫向地步進(jìn)； 其中，所述傳感器適于當(dāng)在所述分析器光柵的一個(gè)周期上被橫向地步進(jìn)時(shí)記錄原始圖像數(shù)據(jù)； 其中，所述光柵中的至少一個(gè)為根據(jù)前述權(quán)利要求
之一所述的箔光柵。
12.根據(jù)前述權(quán)利要求
所述的探測(cè)器裝備，其中，所述源光柵為根據(jù)權(quán)利要求
1到10之一所述的箔光柵。
13.一種用于生成對(duì)象的相位對(duì)比數(shù)據(jù)的X射線成像系統(tǒng)(10)，其具有: -X射線源(12)，其生成X射線多色光譜的射束； -X射線探測(cè)器單元(16)，其提供對(duì)象的原始圖像數(shù)據(jù)； -處理單元(18)，其用于控制所述X射線源并計(jì)算生成圖像數(shù)據(jù)的所述原始圖像數(shù)據(jù)；以及 -顯示器(20)，其用于顯示所計(jì)算的圖像數(shù)據(jù)； 其中，所述X射線探測(cè)器單元包括根據(jù)權(quán)利要求
11或12之一所述的探測(cè)器裝備。
14.一種制作用于X射線微分相位對(duì)比成像的箔光柵的方法(100)，其包括下述步驟: -a)提供(110) X射線吸收材料的第一箔(112)，以及施加(114)以第一間距P1周期性布置的具有第一開口寬度W01的第一多個(gè)第一 X射線透明縫隙(116)，從而實(shí)現(xiàn)由第一縫隙彼此間隔的具有第一寬度W1的第一多個(gè)第一 X射線吸收條帶；以及 -b)提供(120) X射線吸收材料的第二箔(122)，以及施加(124)以第二間距P2周期性布置的具有第二開口寬度的第二多個(gè)第二 X射線透明縫隙(126)，從而實(shí)現(xiàn)由所述第二縫隙彼此間隔的具有第二寬度W2的第二多個(gè)第二條帶； -c)將至少兩個(gè)所述箔彼此移位定位(130)，從而使所述第二條帶位于所述第一縫隙前方，使得針對(duì)X射線輻射的通路提供多個(gè)形成的狹縫(132)，所述多個(gè)形成的狹縫(132)具有形成的狹縫寬度W，所述形成的狹縫寬度W小于所述第一開口寬度和所述第二開口覽度Wq2 ;以及 -d)將至少兩個(gè)所述箔附接(134)于彼此，從而提供箔光柵(136)。
15.根據(jù)前述權(quán)利要求
所述的方法，其中，針對(duì)所述定位，通過(guò)對(duì)齊標(biāo)記(138)將所述箔彼此對(duì)齊，所述對(duì)齊標(biāo)記(138)被提供在具有所述形成的狹縫的區(qū)域之外。
專利摘要
本發(fā)明涉及用于X射線微分相位對(duì)比成像的箔光柵、用于生成對(duì)象的相位對(duì)比圖像的探測(cè)器裝備和X射線成像系統(tǒng)、以及制作箔光柵的方法。為了提供具有高縱橫比的光柵，提供了一種用于X射線微分相位對(duì)比成像的箔光柵(40)，所述箔光柵(40)具有X射線吸收材料的第一箔(42)；以及X射線吸收材料的至少第二箔(44)。至少兩個(gè)所述箔每個(gè)都包括由X射線透明縫隙彼此間隔的多個(gè)X射線吸收條帶，其中，所述第一箔包括具有第一寬度w1(50)的第一多個(gè)(46)第一條帶(48)，以及以第一間距p1(58)周期性布置的具有第一開口寬度wO1(56)的第一多個(gè)(52)第一縫隙(54)，并且其中，所述第二箔包括具有第二寬度w2(64)的第二多個(gè)(60)第二條帶(62)，以及以第二間距p2(72)周期性布置的具有第二開口寬度wO2(70)的第二多個(gè)(66)第二縫隙(68)。至少兩個(gè)所述箔被布置為彼此移位，從而使所述第二條帶定位于所述第一縫隙前方，從而為X射線輻射的通路提供了多個(gè)(74)形成的狹縫(76)，所述多個(gè)(74)形成的狹縫(76)具有形成的狹縫寬度WR(78)，所述形成的狹縫寬度WR(78)小于所述第一開口寬度wO1和所述第二開口寬度wO2。至少兩個(gè)所述箔固定地附接于彼此。
文檔編號(hào)G01N23/04GKCN103200874SQ201180053589
公開日2013年7月10日 申請(qǐng)日期2011年11月3日
發(fā)明者G·福格特米爾 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan