專利名稱:用于通過電子束處理容器的裝置的鐘形罩形保護系統(tǒng)的制作方法
用于通過電子束處理容器的裝置的鐘形罩形保護系統(tǒng)
本發(fā)明涉及一種處理裝置，用于通過電子束進行容器的滅菌，所述裝置設有特殊的保護系統(tǒng)。
特別是通過美國專利2009/0045350已知用于處理的裝置，其包括具有旋轉支撐板的旋轉的圓盤傳送帶，其中的旋轉支撐板支撐以規(guī)則角度間隔布置的多個處理站，每個處理站包括具有電子束發(fā)射器的滅菌設備，以及用于將容器支撐在所述發(fā)射器下方的支撐設備，所述發(fā)射器能夠發(fā)射經(jīng)過由所述支撐設備支撐的容器的上部開口的電子束，以對容器特別是所述容器的內壁進行滅菌。
與常規(guī)的化學滅菌相比，通過電子束滅菌關于滅菌方面更加有效、迅速并且在處理后不留下任何殘留痕跡。
然而，電子束發(fā)射器產生不想要的輻射，特別是X射線，并且因而需要提供保護系
統(tǒng)或防護物以防止放射物朝外部傳播的任何風險，并由此保護操作員。保護系統(tǒng)通過由鉛基材料制成的保護外殼形成，其中放置用于滅菌的旋轉的圓盤傳送帶，以及容器的進給和輸送星輪。這些保護系統(tǒng)復雜、笨重而且非常昂貴。
本發(fā)明的目的是建議一種在填充前對容器滅菌的處理裝置，意在克服前述缺點，其是高性能且迅速的，同時在設計和實施上仍然保持簡單。
為此效果，本發(fā)明建議一種處理裝置，包括
-一個或多個處理站，用于通過電子束對容器進行滅菌，每個處理站包括
-滅菌設備，其包括電子束發(fā)射器，和
-支撐設備，其將容器支撐在所述發(fā)射器下方，所述發(fā)射器能夠發(fā)射經(jīng)過由所述支撐設備支撐的容器的上部開口的電子束，以對容器特別是容器的內壁進行滅菌，以及
-保護系統(tǒng)，其用于阻擋由一個或多個發(fā)射器發(fā)射的放射物，
其特征在于，對于每個處理站，所述保護系統(tǒng)包括
-上部部分，其組裝到發(fā)射器，
-下部部分，其組裝到支撐設備，和
-移動設備，其能夠進行上部部分相對于下部部分在縮進位置和至少一個作用位置之間的相對移動，在所述縮進位置中，上部部分與下部部分分離，以允許由支撐設備支撐的容器在發(fā)射器下方的定位，在所述作用位置中，上部部分和下部部分形成保護外殼，發(fā)射器和由支撐設備支撐的容器定位在該保護外殼中，以進行滅菌操作。
根據(jù)本發(fā)明，滅菌通過電子束進行，并且對于每個發(fā)射器保護系統(tǒng)包括下部部分和上部部分，下部部分和上部部分能夠朝彼此移動以形成保護外殼，其中相同的上部部分和/或相同的下部部分能夠為多個發(fā)射器或者該裝置的所有發(fā)射器所共有。關于包含整個裝置的外殼，根據(jù)本發(fā)明的保護外殼在設計和生產上簡單、更便宜且更簡潔。
根據(jù)實施方式，所述上部部分包括第一小板或第一板，稱為上板，其上安裝發(fā)射器，所述發(fā)射器向下延伸，所述下部部分包括第二小板或第二板，稱為下板，構成所述支撐設備，其中至少上部部分或下部部分包括裙緣或管狀壁形式，與其板一起形成鐘形罩。
根據(jù)實施方式，上部部分具有由上板和管狀壁形成的鐘形罩形式，當上部部分處于作用位置時，下部部分的下板布置在鐘形罩中。有利地，下板具有向下延伸的管狀壁，并且該管狀壁能夠在上部部分的管狀壁中滑動，這些管狀壁的重疊保證了由一個或多個發(fā)射器發(fā)射的放射物的阻擋。
根據(jù)實施方式，所述發(fā)射器設有管狀噴嘴，該管狀噴嘴基本豎直地在上板下方延伸并能夠借助其遠端輸送由發(fā)射器產生的電子束，在上部部分朝著作用位置移動期間，所述噴嘴能夠通過經(jīng)過所述容器的上部開口而被引入所述容器中。根據(jù)實施方式，所述移動設備能夠使上部部分在第一操作位置和末端操作位置之間移動，在第一操作位置中，噴嘴的遠端布置在容器的上部開口上方，在末端操作位置中，所述噴嘴延伸到容器中。
根據(jù)另一實施方式，保護系統(tǒng)的一個部分是鐘形罩的形式，所述鐘形罩基本上借助其自由邊緣壓緊另一部分的板。根據(jù)另一實施方式，上部部分和下部部分中的每一個由鐘形罩形成，兩個鐘形罩基本上在單獨的作用位置相互壓靠，或者更優(yōu)選地，在操作位置中相互部分地嵌入。
根據(jù)實施方式，所述裝置是逐步操作的線性類型的裝置，包括至少一個或多個通道或平行處理線，例如從I到12條處理線，更優(yōu)選地，從6到12條線，每條線設有至少一個 處理站。根據(jù)實施方式，處理裝置包括
-多條線，其相互平行，
-至少一排處理站，其包括用于每條處理線的處理站，
-保護系統(tǒng)的上部部分，其包括上板和管狀壁，所述上板支撐所述排處理站的所有發(fā)射器，所述管狀壁從所述上板向下延伸并包圍該排的所有所述發(fā)射器，
-保護系統(tǒng)的下部部分，其包括下板，該下板能夠支撐用于每條處理線的至少一個容器，構成所述排的處理站的支撐設備，
-所述移動設備能夠移動所述上板和/或下板，更優(yōu)選地，能夠移動所述上板。
保護系統(tǒng)包括關聯(lián)的相同鐘形罩和相同下板，用于處理站的排的所有處理站。
該裝置可包括至少兩個連續(xù)排的處理站，其相互平行。在此情形下，更優(yōu)選地，保護系統(tǒng)包括上部部分特別是鐘形罩和用于每排處理站的下部部分，以此方式用于形成用于每排處理站的保護外殼。
根據(jù)另一實施方式，該裝置是旋轉類型的裝置，并且包括圓盤傳送帶，該圓盤傳送帶包括上部旋轉板，支撐以規(guī)則角度間隔布置的多個處理站，保護系統(tǒng)包括用于每個處理站的上部部分和下部部分。
有利地，構成保護系統(tǒng)的元件由鉛基材料制成。
借助電子束滅菌能夠在外殼中，特別是在置于外殼中的容器中產生小量臭氧。根據(jù)實施方式，所述保護系統(tǒng)包括注射設備，該注射設備能夠在借助電子束輻射期間和/或以后將產品注入外殼，并且特別是注入容器中以排出在輻射期間由電子束發(fā)射器產生的臭氧，并且由此借助于將在容器中調節(jié)的填充產品的臭氧來防止任何的變質。注射產品是氣體產品或具有低沸點的液體產品，特別是例如氮氣的中性氣體或液氮。有利地，所述注射設備包括注射管，更優(yōu)選地沿著發(fā)射器的噴嘴延伸，所述管能夠通過在上部部分朝作用位置移動期間經(jīng)過所述容器的上部開口而被引入所述容器中。
根據(jù)實施方式，所述保護系統(tǒng)，更優(yōu)選地保護系統(tǒng)的上部部分，并且特別是上板包括排空設備，用于朝外殼的外部排空包含在外殼中的氣體，以在上部部分相對于下部部分的相對移動期間和/或在中性氣體注入外殼中的期間，防止外殼中的任何過壓。所述排空設備包括例如一個或多個通氣孔，更優(yōu)選地布置在保護系統(tǒng)的上部部分的壁中，并且更優(yōu)選地在保護系統(tǒng)的上部部分中，每個通氣孔更優(yōu)選地設有置于部分真空中的外管。
根據(jù)實施方式，所述保護系統(tǒng)還包括擋板系統(tǒng)，以用作在上部部分和下部部分之間的連接處的由一個或多個發(fā)射器發(fā)射的放射物的屏蔽，所述擋板系統(tǒng)包括例如下部管狀壁的環(huán)狀邊緣，其由環(huán)狀壁延伸，當鐘形罩處于作用位置時，上部管狀壁插入形成在環(huán)狀壁和下部管狀壁之間的凹槽中。
在本發(fā)明當前優(yōu)選具體實施方式
的以下詳細的解釋性描述期間，并參照所附的概略圖，本發(fā)明將被更好地理解并且其他的目的、細節(jié)、特征和優(yōu)勢將顯得更加清晰，
附圖中
圖I是根據(jù)本發(fā)明的處理裝置的概略側視圖，包括用于容器滅菌的處理站；、
圖2A至2C是處理站的側視圖，顯示容器滅菌期間保護系統(tǒng)的各種位置；
圖3是根據(jù)可選擇實施方式的處理裝置的概略頂視圖，包括平行的多個滅菌站；
圖4是根據(jù)圖3中截平面IV-IV的概略視圖；
圖5是根據(jù)圖3中截平面V-V的概略視圖；并且
圖6是根據(jù)可選擇實施方式的處理站的概略側視圖。
圖I顯示一種處理裝置，用于容器R的滅菌、由填充產品處理的容器的填充以及容器的封閉。
處理裝置包括處理線1，處理線I包括通過逐步操作的輸送系統(tǒng)10，沿著處理線I從上游到下游關于向前的方向Fl布置了用于帶來容器的站81、用于容器滅菌的處理站2、填充站82、封閉站83和用于容器的搬空站84。為了保證容器的無菌填充，整個處理線放置在無菌空氣的層流下方，例如如由箭頭F4概略顯示的下降層流。
根據(jù)本發(fā)明的裝置允許包括上部主開口的任何類型的容器R的滅菌、填充和堵塞。處理站2通過經(jīng)過容器的上部開口而允許容器內壁的滅菌。實質上已知的填充站82，例如基于重量的類型，允許由確定量的填充產品填充滅菌的容器，其中填充產品為液體或粘性物，例如像水、奶或果汁的液體產品。封閉站83或堵塞站此處使得在填充容器的上部開口上安裝蓋子成為可能。
處理站2包括由電子束發(fā)射器31形成的滅菌設備3，實質上已知地，該滅菌設備3設有延伸形式的管狀噴嘴或管狀天線(antenne)32，發(fā)射器能夠借助于其噴嘴的遠端32a輸送電子束。噴嘴的遠端設有鈦片材。滅菌設備例如通過如美國專利文獻2008/0073549中所述的發(fā)射器形成。發(fā)射器固定安裝在稱為上板的小板或板4的下表面上，具有縱向豎直軸線A(圖2A)的其噴嘴豎直向下延伸。噴嘴被以此方式限定使得其能夠通過容器的上部開口插進，以照射容器的內部。參照圖2A，板支撐件通過移動設備9的中間物移動地安裝在裝置的底盤C上，移動設備9也稱為升高/降低設備，實質上已知地，使得能夠以如箭頭F2所示的豎直平移的方式在下文描述的高縮進位置和低操作位置之間移動上板。
每個處理站還包括容器R的支撐設備，用于將容器保持在發(fā)射器下方，根據(jù)噴嘴的軸線A大體上居中。支撐設備包括稱為下板的固定用具或板5，其固定安裝在裝置的底盤C上，能夠支撐容器。可選擇地，移動設備作用在支撐設備上，其中上部鐘形罩固定安裝在底盤上。[0045]根據(jù)本發(fā)明的裝置包括保護系統(tǒng)或防護物，以阻擋由發(fā)射器發(fā)射的放射物，特別是X射線類型的干涉放射物。此防護系統(tǒng)包括上部部分6A和下部部分6B。上部部分具有由上板4和上部管狀壁61形成的鐘形罩6A的形狀，其中的上部管狀壁61也稱為上部裙緣，從所述上板向下延伸。上板構成鐘形罩的底壁，上部裙緣61包圍發(fā)射器31及其天線32并延伸超過天線的遠端32a。下部部分6B由所述下板5并由下部管狀壁62形成，下部管狀壁62也稱為下部裙緣，從所述下板5向下延伸。該裝置包括例如單個的處理線1，具有用于滅菌的單個處理站2。保護鐘形罩6A具有大體圓柱形形狀，其中其上板4具有圓盤的形狀，并且其上部裙緣61具有圓形橫向截面。下板5也具有圓盤的形狀，并且其下部裙緣62具有圓形截面，其外直徑基本上對應于上部裙緣61的內直徑。
參照圖2a，在上板的高縮進位置中，鐘形罩6A的環(huán)狀自由邊緣61a布置在下板5的上方，以此方式使得容器R能夠在所述下板上放在發(fā)射器下方并在鐘形罩下方。
為了容器的滅菌操作，如圖2B中所示，上板4借助于移動設備9以豎直平移的方式向下朝第一操作位置移動。在此移動期間，鐘形罩6A覆蓋容器R，下部部分的下部裙緣62在鐘形罩的上部裙緣61中滑動。發(fā)射器31及其天線32布置在容器的開口上方。上板 4和形成鐘形罩6A的上部裙緣61，以及設有其下部裙緣62的下板5由鉛基材料制成，并在該第一操作位置一起形成保護外殼El。在此第一操作位置，發(fā)射器31可被驅動以輻射容器的外壁。上部裙緣61和下部裙緣62重疊足以防止任何放射物離開外殼E的高度。
上板4然后借助于移動設備9進一步向下移動，到達如圖2C中所示的末端操作位置，以輻射容器的整個內壁。在此移動期間，下部部分的下部裙緣62在鐘形罩的上部裙緣61中滑動。噴嘴32的長度和上部裙緣61的高度被調整，以此方式使得噴嘴的遠端32a在末端操作位置中布置在容器R的底部附近。
上板4然后逐步地朝著圖2B中所示的其第一低操作位置恢復。輻射然后停止，并且上板4恢復圖2A中所示的其縮進位置。輸送機10然后被驅動以搬空處理的容器并將其朝著填充站82轉移，并將待處理的另一容器放到發(fā)射器下方。
根據(jù)本發(fā)明的裝置能夠在Log3大小的滅菌水平下被用于不同容器的滅菌填充。
容器可以是例如附圖中概略顯示的瓶子類型，由玻璃或例如PET、PEHD或PP的塑料材料制成。填充借助于填充噴口在填充站82處進行，并且瓶子被再次封閉，更優(yōu)選地在氮飽和環(huán)境下，在包括帽的螺旋設備的堵塞站83處再次封閉。根據(jù)實施方式，瓶子借助于被插入瓶子中并用于輸送不同產品的兩個平行管填充。第一管被用于輸送例如液體，比如果汁，而另一管被用于輸送例如漿狀物和/或維他命。
容器可以是《磚》形的紙盒，通常由合成的紙盒/LDPE/鋁材料形成。紙盒預先預成型并在裝置中開口地輸送。紙盒在其下側上開口，或者在可能設有盒蓋基體的其上側上，其熱密封至合成材料并且盒蓋旋擰在其上。在通過天線經(jīng)由其開口側插入容器中滅菌以后，紙盒通過使用填充噴口或一個或兩個管在填充站被填充，然后在封閉站被密封，更優(yōu)選地處于氮飽和環(huán)境下，其中的螺旋設備由加熱鐵塊取代。
容器可以是《磚》形的紙盒，預先預成型并已經(jīng)借助于在上部部分處熱密封而用盒蓋基體封閉，例如為32或36mm，已經(jīng)熱密封至合成材料。紙盒通過基體開口輸送到裝置中，沒有盒蓋。在通過天線經(jīng)由其開口基體插入容器中滅菌以后，填充通過管進行，之后封閉通過將盒蓋旋擰在基體上而進行。[0054]容器可以是由鋼或鋁制成的罐，其在填充以后卷曲，其中封閉站因而包括卷曲單
J Li o
圖3至5顯示了可選擇的實施方式，其中該裝置包括6條平行的處理線Ia-If，每條處理線包括用于容器滅菌的處理站102，其中的站根據(jù)垂直于處理線的排布置。
發(fā)射器131安裝在例如由矩形形成的相同上板104的下表面上。上板以在裝置的底盤C,上平移的方式移動地安裝。由矩 形板形成的共同下板105構成用于全部處理站的排的處理站2的支撐設備。
保護系統(tǒng)的上部部分由鐘形罩106A形成，鐘形罩106A由所述共同上板104和矩形截面的管狀壁或上部裙緣161構成。保護系統(tǒng)的下部部分106B由所述共同下板05和向下延伸的管狀壁或下部裙緣162形成。
為各種處理站所共有的移動設備109 (圖3)使得能夠在圖4中所示縮進位置和例如如上所述的操作位置，且尤其是圖5所示的末端操作位置之間移動上板104，以形成保護外殼E2并允許六個容器被同時滅菌。
容器R沿著6條處理線的驅動通過具有楔形物的輸送帶110提供，其包括布置在運送滑動床112的任一側上的兩條環(huán)狀帶111，其中之間安裝楔狀物113?；瑒哟?12具有用于鐘形罩的管狀壁162的通道和下板的定位的開口 112a。
縱向引導唇狀物114(圖5)有利地設置在滑動床和下板上，以沿著處理線Ia-If橫向地引導容器?？蛇x擇地，容器的橫向引導通過楔形物提供，楔形物包括例如印痕，其形狀對應于待輸送容器的形狀。
為了將一排容器置于下板105上，上板被置于高縮進位置，并且輸送機被致動以在方向F3上移動楔形物并由此在發(fā)射器下方推動一排容器，例如圖4中所示。輸送機然后在反向方向上被驅動以朝著后部移動楔形物，并且特別地將開口 112a與在發(fā)射器下方推動容器的楔形物分離，從而允許鐘形罩106A朝其操作位置移動。
該裝置的每條線還可包括如上所述的在處理站102的下游的填充站和堵塞站。
可選擇地，每條處理線Ia-If 包括按照垂直于處理線的多排布置的多個處理站。對于處理站的每一排來說，保護系統(tǒng)包括鐘形罩和下部部分，鐘形罩的共同上板支撐該排的站的發(fā)射器，下部部分的下板構成該排的站的支撐設備。更優(yōu)選地，鐘形罩通過共同的移動設備109在其縮進位置及其作用位置之間移動。處理站的排彼此移位，以當鐘形罩處于作用位置時，允許楔形物定位在兩個連續(xù)的鐘形罩之間。
根據(jù)本發(fā)明的保護系統(tǒng)還可以與用于旋轉類型的處理的裝置一起使用，其中用于旋轉類型的處理的裝置包括具有環(huán)狀或圓形板形式的支撐板或上板的圓盤傳送帶，其中的圓盤傳送帶意在被安裝成圍繞豎直旋轉軸線關于固定框架旋轉。支撐板支撐以規(guī)則角度間隔圍繞旋轉軸線布置的多個處理站。每個站包括安裝在板的下表面上的發(fā)射器。保護系統(tǒng)的上部部分由支撐板和包圍發(fā)射器并從板的下表面延伸的多個上部裙緣構成。每個上部裙緣與上板一起形成與處理站關聯(lián)的鐘形罩。每個處理站的支撐設備包括設有下部裙緣的固定用具或下板。每個處理站包括移動設備，移動設備在此作用在下板上，以將其在分離位置和操作位置之間從上板移動，用于例如借助于進給星輪和輸送星輪，允許容器定位在下板上并將容器從下板中去除，其中具有其上部裙緣的下板與上部鐘形罩一起形成保護外殼。
圖6顯示處理站的可選擇實施方式，其不同于圖2A至2C中所示的處理站在于其包括用于將產品注入外殼中以排除在借助于電子束的滅菌期間產生的臭氧的注射設備以及用于將氣體排出外殼外部的排空設備的事實。處理站202包括如之前的滅菌設備203，滅菌設備203包括電子束發(fā)射器231，電子束發(fā)射器231設有管狀天線232并安裝在上板204上。保護系統(tǒng)包括由上板204和上部管狀壁261形成的上部鐘形罩206A，以及由下板205形成且設有下部管狀壁262的下部部分206B。上板能夠通過移動設備209以豎直平移的方式移動，并且用作用于容器R的支撐的下板固定安裝在底盤C"上。
處理站包括固定安裝在鐘形罩中的管道或注射管7。此管平行于發(fā)射器的天線延伸，其中管的遠端70a基本布置在與天線遠側的遠端232a相同水平的位置。此管以基本密封的方式通過鐘形罩的上板204。管被用于緊接輻射以后，例如當上板4處于其第一操作位置時將中性氣體，例如氮氣注入容器R中，以在容器R中產生過壓并由此將由輻射產生的臭氧排出容器的外部?？蛇x擇地，中性氣體的注入還在輻射期間進行，例如當上板從其末端操作位置朝其第一操作位置移動時?？蛇x擇地，管被用于在輻射期間和/或緊接輻射以后將液氮例如液氮的液滴輸送到容器R中，其中液氮轉化為氣態(tài)然后逐漸地填充容器并逐漸地將臭氧沖出容器的外部。
上板104設有沒入外殼E3中的通氣孔341，以防止外殼內部的過壓。這些通氣孔用于排空包含在外殼中并在上板204下降直到其末端操作位置期間被壓縮的氣體。另外，這些通氣孔被用于排空在容器中由輻射產生并借助于注射的氮推到容器R外部的臭氧。由鉛制成的擋板系統(tǒng)242設置在上板的下表面上，以用于在滅菌期間產生的X射線的屏蔽，并由此防止放射物借助于所述通氣孔傳播到外殼的外部。通氣孔連接到置于部分真空中的柔性管243，以吸入由鐘形罩和下部部分的相對移動而壓縮的氣體并且特別地吸入由輻射產生的臭氧。
有利地，也由鉛制成的擋板系統(tǒng)263被設置，以防止放射物在上部部分206A和下部部分206B之間的界面上的任何傳播，更精確地，在鐘形罩的上部管狀壁261和下部管狀壁262之間的界面處。擋板系統(tǒng)263包括從下部管狀壁262的自由邊緣朝外部延伸并借助于豎直環(huán)狀壁263b延伸的水平環(huán)狀邊緣263a，豎直環(huán)狀壁263b平行于下部管狀壁向上延伸并基本到達下板205。此環(huán)狀壁263b與下部管狀壁262 —起形成環(huán)狀凹槽264，其中在鐘形罩相對于下板205的相對移動期間滑動鐘形罩的上部管狀壁261。
雖然本發(fā)明已經(jīng)結合具體實施方式
進行了描述，但是當然明顯的是本發(fā)明決不限制于此并且本發(fā)明包括所述設備的所有技術等效形式及其組合，如果后者落入本發(fā)明范圍內的話。
權利要求
1.一種處理裝置，包括 -一個或多個處理站(2、102、202)，其用于通過電子束對容器(R)進行滅菌，每個處理站包括滅菌設備(3、103、203)和支撐設備(4、104、204)，所述滅菌設備(3、103、203)包括設有管狀噴嘴(32、132、232)的電子束發(fā)射器(31、131、231)，所述支撐設備(4、104、204)用于將容器支撐在所述發(fā)射器下方，所述發(fā)射器能夠發(fā)射經(jīng)過由所述支撐設備支撐的容器的上部開口的電子束，以對所述容器進行滅菌，以及 -保護系統(tǒng)，其用于阻擋由所述發(fā)射器或多個發(fā)射器發(fā)射的放射物， 其特征在于，對于每個處理站，所述保護系統(tǒng)包括 -上部部分(M、106A、206A)，所述上部部分組裝到所述發(fā)射器，所述上部部分具有由稱為上板的第一板(4、104、204)并由管狀壁(61、161、261)形成的鐘形罩的形狀，所述發(fā)射器安裝在所述第一板上并且所述發(fā)射器的噴嘴基本上在所述上板下方豎直地延伸， -下部部分(6B、106B、206B)，所述下部部分包括第二板(5、105、205)，所述第二板稱為下板，構成所述支撐設備，和 -移動設備(9、109、209)，所述移動設備能夠進行所述上部部分相對于所述下部部分在縮進位置和操作位置之間的相對移動，在所述縮進位置中，所述上部部分與所述下部部分分離，以允許由所述支撐設備支撐的容器在所述發(fā)射器下方的定位，在所述操作位置中，所述上部部分和所述下部部分形成保護外殼(E1、E2、E3)，所述發(fā)射器和由所述支撐設備支撐的所述容器定位在所述保護外殼(E1、E2、E3)中，當所述上部部分處于作用位置時，所述下板布置在所述鐘形罩中，所述移動設備能夠使所述上部部分在第一操作位置和末端操作位置之間移動，在所述第一操作位置中，所述噴嘴(32、132、232)的遠端(32a、232a)布置在所述容器的所述上部開口上方，在所述末端操作位置中，所述噴嘴在所述容器中延伸。
2.根據(jù)權利要求
I所述的裝置，其特征在于，所述下板(5、105、205)具有向下延伸的管狀壁(62、162、262)，所述管狀壁(62、162、262)能夠在所述上部部分(6A、106A、206A)的所述管狀壁(61、161、162)中滑動。
3.根據(jù)權利要求
I或2所述的處理裝置，其特征在于，所述裝置是逐步操作的線性類型的裝置，包括至少一條或多條平行的處理線(Ia-If)，每條線設有至少一個處理站(2、102、202)。
4.根據(jù)權利要求
3所述的處理裝置，其特征在于，所述處理裝置包括 -多條線(Ia-If)，其相互平行， -至少一排處理站，其包括用于每條處理線的處理站， -所述鐘形罩的所述上板(4、104、204)，其支撐所述排處理站的所有發(fā)射器(31、131、231)并且所述鐘形罩的所述管狀壁(61、161、261)從所述上板向下延伸并包圍所述排的所有所述發(fā)射器， -所述下板(5、105、205)，其構成所述排的所述處理站的所述支撐設備， < -所述移動設備，其能夠移動所述上板和/或所述下板。
5.根據(jù)權利要求
I或2所述的裝置，其特征在于，所述裝置是旋轉類型的裝置，所述裝置包括圓盤傳送帶，所述圓盤傳送帶包括上部旋轉板，支撐以規(guī)則角度間隔布置的多個處理站，所述保護系統(tǒng)包括用于每個處理站的上部部分和下部部分。
6.根據(jù)權利要求
I至5中任一項所述的處理裝置，其特征在于，構成所述保護系統(tǒng)的元件(4、61、5、62 ;104、105、161、162 ;204、261、205、262)由鉛基材料制成。
7.根據(jù)權利要求
I至6中任一項所述的處理裝置，其特征在于，所述保護系統(tǒng)包括能夠將產品注入所述外殼(E3)中以排出在輻射期間由所述電子束發(fā)射器(231)產生的臭氧的注射設備⑵。
8.根據(jù)權利要求
7所述的處理裝置，其特征在于，所述注射設備包括注射管(7)，所述管能夠通過在所述上部部分(206A)朝所述作用位置移動期間經(jīng)過所述容器的上部開口而被引入所述容器(R)中。
9.根據(jù)權利要求
I至8中任一項所述的處理裝置，其特征在于，所述保護系統(tǒng)包括排空設備(241、242)，用于朝所述外殼(E3)的外部排空包含在所述外殼中的氣體。
10.根據(jù)權利要求
I至9中任一項所述的處理裝置，其特征在于，所述保護系統(tǒng)包括擋板系統(tǒng)(263)，以用作在所述上部部分(206A)和所述下部部分(206B)之間的連接處的由所述發(fā)射器或多個發(fā)射器發(fā)射的放射物的屏蔽。
11.根據(jù)權利要求
10所述的處理裝置，其特征在于，所述擋板系統(tǒng)包括所述下部管狀壁(262)的環(huán)狀邊緣(263a)，所述環(huán)狀邊緣(263a)經(jīng)由環(huán)狀壁(263b)延伸，當所述鐘形罩(206A)處于作用位置時，所述上部管狀壁(261)插入形成在所述環(huán)狀壁和所述下部管狀壁之間的凹槽(264)中。
專利摘要
本發(fā)明涉及一種處理裝置，包括保護系統(tǒng)和一個或多個處理站(2)，每個處理站(2)包括電子束發(fā)射器(31)和用于將容器支撐在所述發(fā)射器下方的支撐設備(5)，所述發(fā)射器能夠發(fā)射經(jīng)過由所述支撐設備支撐的容器的上部開口的電子束，以對所述容器進行滅菌，所述保護系統(tǒng)用于阻擋由發(fā)射器發(fā)射的放射物。所述保護系統(tǒng)包括連接到發(fā)射器的上部部分(6A)、連接到支撐設備的下部部分(6B)和移動設備(9)，移動設備(9)能夠使上部部分在縮進位置和至少一個操作位置之間相對于下部部分移動，在操作位置中，所述部分形成保護外殼(E1)，發(fā)射器和容器定位在保護外殼(E1)中。
文檔編號G21K5/10GKCN102711847SQ201080059800
公開日2012年10月3日 申請日期2010年12月27日
發(fā)明者菲利普·勒瓊, 菲利普·馬奎特 申請人:Hema公司導出引文BiBTeX, EndNote, RefMan