X 射線ct 裝置的制造方法
【專(zhuān)利說(shuō)明】X射線CT裝置
[0001]相關(guān)申請(qǐng)的參照
[0002]本申請(qǐng)享受2014年2月10日提出申請(qǐng)的日本專(zhuān)利申請(qǐng)2014 — 23613的優(yōu)先權(quán)的利益，在本申請(qǐng)中引用該日本專(zhuān)利申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容。
技術(shù)領(lǐng)域
[0003]實(shí)施方式涉及X射線CT裝置。
【背景技術(shù)】
[0004]X射線CT (Computed Tomography:計(jì)算機(jī)斷層掃描)裝置是利用X射線將被檢體掃描、通過(guò)將收集到的數(shù)據(jù)(data)用計(jì)算機(jī)(computer)處理而將被檢體的內(nèi)部圖像化的
目.ο
[0005]具體而言，X射線CT裝置從不同的方向?qū)Ρ粰z體照射多次X射線，將透射被檢體的X射線的信號(hào)用X射線檢測(cè)器進(jìn)行檢測(cè)。該X射線檢測(cè)器是在通道(channel)方向(旋轉(zhuǎn)方向)及切片(slice)方向(體軸方向)上具有多個(gè)X射線檢測(cè)元件的多列檢測(cè)器。X射線CT裝置將檢測(cè)到的信號(hào)收集并進(jìn)行A/D(analog/digital convers1n:模數(shù)轉(zhuǎn)換)變換后，實(shí)施預(yù)處理等而生成投影數(shù)據(jù)。并且，X射線CT裝置進(jìn)行基于投影數(shù)據(jù)的重構(gòu)處理，生成圖像。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明要解決的課題是提供一種能夠提高生成圖像的畫(huà)質(zhì)的X射線CT裝置。
[0007]技術(shù)方案的X射線CT裝置具備X射線管、X射線檢測(cè)器、讀取部和讀取控制部。X射線管繞被檢體的體軸旋轉(zhuǎn)，產(chǎn)生X射線。X射線檢測(cè)器具有第一檢測(cè)區(qū)域和在第二檢測(cè)區(qū)域，上述第一檢測(cè)區(qū)域在切片方向及通道方向上排列有多個(gè)檢測(cè)透射了上述被檢體的X射線的第一檢測(cè)元件，上述第二檢測(cè)區(qū)域在上述切片方向及上述通道方向上排列有多個(gè)在切片方向上的寬度比該第一檢測(cè)元件小的第二檢測(cè)元件，上述第二檢測(cè)區(qū)域的至少一部分與該第一檢測(cè)區(qū)域在通道方向上排列配置。讀取部分別讀取由上述第一檢測(cè)元件及上述第二檢測(cè)元件的至少一方檢測(cè)到的上述X射線的信號(hào)。讀取控制部根據(jù)上述第一檢測(cè)元件的大小與上述第二檢測(cè)元件的大小之間的差異，進(jìn)行控制來(lái)調(diào)整從該第一檢測(cè)元件及該第二檢測(cè)元件讀取信號(hào)的定時(shí)(timing)，使得從上述切片方向上處于對(duì)應(yīng)的位置的上述第一檢測(cè)元件及上述第二檢測(cè)元件分別讀取信號(hào)的時(shí)間差變小。
[0008]效果:
[0009]根據(jù)實(shí)施方式的X射線CT裝置，能夠提高生成圖像的畫(huà)質(zhì)。
【附圖說(shuō)明】
[0010]圖1是表示有關(guān)第一實(shí)施方式的X射線CT裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
[0011]圖2是用來(lái)說(shuō)明第一實(shí)施方式的X射線檢測(cè)器的圖。
[0012]圖3是用來(lái)說(shuō)明有關(guān)第一實(shí)施方式的X射線檢測(cè)器及數(shù)據(jù)收集電路的結(jié)構(gòu)的圖。
[0013]圖4是用來(lái)說(shuō)明有關(guān)第一實(shí)施方式的課題的圖。
[0014]圖5是用來(lái)說(shuō)明有關(guān)第一實(shí)施方式的讀取控制部的處理的圖。
[0015]圖6是用來(lái)說(shuō)明有關(guān)第二實(shí)施方式的X射線檢測(cè)器及數(shù)據(jù)收集電路的結(jié)構(gòu)的圖。
[0016]圖7是用來(lái)說(shuō)明有關(guān)第二實(shí)施方式的讀取控制部的處理的圖。
[0017]圖8是用來(lái)說(shuō)明有關(guān)第三實(shí)施方式的讀取控制部的處理的圖。
[0018]圖9是用來(lái)說(shuō)明從檢測(cè)元件讀取信號(hào)與照射期間的關(guān)系的圖。
[0019]圖10是表示有關(guān)第四實(shí)施方式的X射線CT裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
[0020]圖11是用來(lái)說(shuō)明有關(guān)第四實(shí)施方式的參照數(shù)據(jù)(reference data)的生成的圖。
【具體實(shí)施方式】
[0021]以下，參照【附圖說(shuō)明】有關(guān)實(shí)施方式的X射線CT裝置。另外，實(shí)施方式并不限定于以下的實(shí)施方式。
[0022](第一實(shí)施方式)
[0023]圖1是表示有關(guān)第一實(shí)施方式的X射線CT裝置100的結(jié)構(gòu)的圖。如圖1所示，X射線CT裝置100具有架臺(tái)(gantry) 110、高電壓發(fā)生裝置120、預(yù)處理裝置130、重構(gòu)裝置140、圖像處理裝置150、存儲(chǔ)裝置160、輸入裝置170、顯示裝置180和系統(tǒng)控制器(systemcontroller)190。
[0024]架臺(tái)110對(duì)被檢體照射X射線，檢測(cè)透射了被檢體的X射線而生成原始數(shù)據(jù)(rawdata)。該架臺(tái)110具有X射線管111、滑環(huán)(slip ring) 112、X射線檢測(cè)器115、框架(frame) 113、旋轉(zhuǎn)部114、數(shù)據(jù)收集電路116和非接觸數(shù)據(jù)傳送裝置117。
[0025]X射線管111通過(guò)經(jīng)由滑環(huán)112從高電壓發(fā)生裝置120供給的管電壓及管電流，產(chǎn)生用來(lái)對(duì)被檢體照射的X射線。X射線檢測(cè)器115檢測(cè)從X射線管111產(chǎn)生并透射了被檢體的X射線。另外，在后面詳細(xì)地說(shuō)明該X射線檢測(cè)器115。
[0026]框架113形成為圓環(huán)狀，以旋轉(zhuǎn)軸RA為中心可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置。該框架113將X射線管111及X射線檢測(cè)器115支承為夾著旋轉(zhuǎn)軸RA相對(duì)置。旋轉(zhuǎn)部114使框架113以旋轉(zhuǎn)軸RA為中心旋轉(zhuǎn)。例如，旋轉(zhuǎn)部114以0.4秒/圈的速度使框架113高速旋轉(zhuǎn)。由此，旋轉(zhuǎn)部114使X射線管111及X射線檢測(cè)器115繞被檢體的體軸旋轉(zhuǎn)。
[0027]X射線檢測(cè)器115是在通道方向(行方向)及切片方向(列方向)上具有多個(gè)X射線檢測(cè)元件(以下，簡(jiǎn)單表述為“檢測(cè)元件”)的多列檢測(cè)器(也稱(chēng)作“多切片(mult1-slice)型檢測(cè)器”、“多檢測(cè)器列(multidetector — row)型檢測(cè)器”)。通道方向相當(dāng)于框架113的旋轉(zhuǎn)方向，切片方向相當(dāng)于被檢體的體軸方向。
[0028]圖2是用來(lái)說(shuō)明第一實(shí)施方式的X射線檢測(cè)器115的圖。圖2㈧是表示X射線檢測(cè)器115的結(jié)構(gòu)例的俯視圖。X射線檢測(cè)器115如圖2(A)所示，例如具有在通道方向(行方向)及切片方向(列方向)上排列的多個(gè)檢測(cè)元件。另外，圖2(B)是表示X射線檢測(cè)器115的結(jié)構(gòu)例的立體圖。
[0029]例如，在X射線檢測(cè)器115中，各檢測(cè)元件檢測(cè)透射了被檢體的X射線。并且，在各檢測(cè)元件中，按照檢測(cè)到的X射線量來(lái)蓄積電荷。蓄積在各檢測(cè)元件中的電荷被后述的數(shù)據(jù)收集電路116適當(dāng)?shù)刈x取。換言之，蓄積在各檢測(cè)元件中的電荷作為透射了被檢體的X射線的信號(hào)(X射線透射信號(hào))被發(fā)送到數(shù)據(jù)收集電路116。
[0030]有關(guān)第一實(shí)施方式的X射線檢測(cè)器115具有空間分辨率不同(檢測(cè)元件的面積不同)的兩個(gè)檢測(cè)區(qū)域(第一檢測(cè)區(qū)域及第二檢測(cè)區(qū)域)。第一檢測(cè)區(qū)域例如在通道方向及切片方向上排列有多個(gè)Xmm寬(Xmm見(jiàn)方)的檢測(cè)元件。第二檢測(cè)區(qū)域例如在通道方向及切片方向上每?jī)蓚€(gè)地排列有多個(gè)Ymm寬(Ymm見(jiàn)方)的檢測(cè)元件。另外，有關(guān)第一實(shí)施方式的X射線檢測(cè)器115也被稱(chēng)作混合(hybrid)型檢測(cè)器。此外，X及Y是相互不同的值。
[0031]換言之，具有第一檢測(cè)區(qū)域和第二檢測(cè)區(qū)域，第一檢測(cè)區(qū)域在切片方向及通道方向上排列多個(gè)檢測(cè)透射了被檢體的X射線的第一檢測(cè)元件，第二檢測(cè)區(qū)域在切片方向及通道方向上排列多個(gè)在切片方向上寬度比第一檢測(cè)元件小的第二檢測(cè)元件，該第二檢測(cè)區(qū)域的至少一部分與第一檢測(cè)區(qū)域在通道方向上排列配置。
[0032]圖3是用來(lái)說(shuō)明有關(guān)第一實(shí)施方式的X射線檢測(cè)器115及數(shù)據(jù)收集電路116的結(jié)構(gòu)的圖。以下，說(shuō)明“Y = X/2”成立的情況。如圖3所示，X射線檢測(cè)器115作為第一檢測(cè)區(qū)域而具有Xmm寬的檢測(cè)元件11、12、13、14、21、22、23、24、31、32、41、42。此外，X射線檢測(cè)器115作為第二檢測(cè)區(qū)域而具有Ymm寬的檢測(cè)元件33A、33B、33C、33D、34A、34B、34C、34D、43A、43B、43C、43D、44A、44B、44C、44D。另外，在第二檢測(cè)區(qū)域中，檢測(cè)與Xmm寬的檢測(cè)元件對(duì)應(yīng)的范圍的X射線的4個(gè)檢測(cè)元件也被稱(chēng)作檢測(cè)元件群。即，檢測(cè)元件群33在通道方向及切片方向上排列有Ymm寬的檢測(cè)元件33A、33B、33C、33D。檢測(cè)元件群34在通道方向及切片方向上排列有Ymm寬的檢測(cè)元件34A、34B、34C、34D。檢測(cè)元件群43在通道方向及切片方向上排列有Ymm寬的檢測(cè)元件43A、43B、43C、43D。檢測(cè)元件群44在通道方向及切片方向上排列有Ymm寬的檢測(cè)元件44A、44B、44C、44D。此外，各檢測(cè)元件與數(shù)據(jù)收集電路116連接。
[0033]另外，這里說(shuō)明第一檢測(cè)區(qū)域的各檢測(cè)元件及第二檢測(cè)區(qū)域的各檢測(cè)元件群檢測(cè)Xmm見(jiàn)方的范圍中的X射線的情況，但實(shí)施方式并不限定于此。例如，第一檢測(cè)區(qū)域的各檢測(cè)元件及第二檢測(cè)區(qū)域的各檢測(cè)元件群檢測(cè)X射線的范圍可以變更為任意的長(zhǎng)度，進(jìn)而，通道方向和切片方向的長(zhǎng)度也可以不一定一致。此外，說(shuō)明了對(duì)I個(gè)檢測(cè)元件群分配4個(gè)檢測(cè)元件的情況，但實(shí)施方式并不限定于此。檢測(cè)元件群中包含的檢測(cè)元件的數(shù)量也可以任意地變更。例如，也可以是I個(gè)檢測(cè)元件群具有1