專利名稱：清潔用標(biāo)簽片和具有清潔功能的輸送件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于清潔各種設(shè)備的標(biāo)簽片，即，涉及不允許有雜質(zhì)的基片處理設(shè)備(例如，半導(dǎo)體的制造設(shè)備或檢查設(shè)備、平板顯示器或印刷電路板)的清潔用標(biāo)簽片和具有清潔功能的輸送件。
背景技術(shù)：
各種基片處理設(shè)備是在實(shí)際上互相接觸的情況下輸送每一個(gè)輸送系統(tǒng)和基片的。在這種情況下，如果雜質(zhì)粘附在基片或輸送系統(tǒng)上，則后續(xù)的基片會(huì)依次被污染。因此，必需定期地停止設(shè)備并進(jìn)行清洗工作。由于這個(gè)原因，設(shè)備利用率降低，勞動(dòng)強(qiáng)度增大。為了解決這個(gè)問題，曾經(jīng)提出了通過用輸送固定有粘接劑物質(zhì)的基片進(jìn)行清潔，除去粘附在基片處理設(shè)備上的雜質(zhì)的方法(例如，未經(jīng)審查的日本專利申請(qǐng)10-154686)和利用輸送板狀件的方法除去粘附在基片背面的雜質(zhì)的方法(未經(jīng)審查的日本專利申請(qǐng)11-87458)。
通過輸送固定有粘結(jié)劑物質(zhì)的基片進(jìn)行清潔，除去粘附在基片處理設(shè)備上的雜質(zhì)的方法對(duì)解決上述問題是有效的。然而，根據(jù)這個(gè)方法，粘接劑物質(zhì)和設(shè)備的接觸部分可能粘接太牢固，難以除去。因此，基片不可能可靠地輸送。特別是，在設(shè)備的卡盤工作臺(tái)采用減壓吸收機(jī)構(gòu)的情況下，這個(gè)問題很明顯。
另外，利用輸送平板形件清除雜質(zhì)的方法，可以毫無阻礙地進(jìn)行輸送，但灰塵清潔性質(zhì)變差，而這是很重要的。
另外，在尺寸比基片尺寸大的清潔片粘接在基片上，和沿著基片形狀切割的情況下，還需要切割工序，并且，切割產(chǎn)生的切割廢料可能粘附在基片或設(shè)備上。
此外關(guān)于制造具有清潔功能的輸送件的方法已知有一種公知方法，它是當(dāng)將清潔片與輸送件(例如基片)粘接以制造清潔用輸送件時(shí)，粘接比輸送件大的清潔片，然后沿著輸送件的形狀切割清潔片(下文稱為直接切割法)。利用這種方法，在片材切割過程中，由清潔層可以產(chǎn)生切割廢料，并且該廢料可以粘附在清潔件或設(shè)備上。在將預(yù)先沖壓成輸送件形狀的清潔用標(biāo)簽片粘接在輸送件上以制造清潔用輸送件的方法中(下文稱為預(yù)切割法)，在片材沖壓過程中產(chǎn)生的切割廢料比用直接切割法產(chǎn)生的廢料少得多。然而，在某些情況下，在片材沖壓過程中，清潔層的粘接劑可以泄漏至沖壓表面外面并粘附在標(biāo)簽的端部，因此，由于沖壓的缺陷使標(biāo)簽的外形變壞，或者使輸送產(chǎn)生困難。在使用聚合和固化型粘接劑的情況下，如果在片材沖壓后進(jìn)行固化，則由于氧供應(yīng)被抑止，使得聚合作用被抑止，這樣，標(biāo)簽端部上的粘接劑會(huì)造成固化的缺陷。因此，基片處理設(shè)備的接觸部分可能被粘接劑污染。
發(fā)明內(nèi)容
為了達(dá)到上述目的發(fā)明者進(jìn)行了認(rèn)真的研究。結(jié)果發(fā)現(xiàn)，當(dāng)輸送清潔片或固定有清潔片的基片以便通過清潔除去粘附在基片處理設(shè)備上的雜質(zhì)時(shí)，利用有效能源，可使粘接力具有一個(gè)特定的值或更小。由于清潔層和清潔片可具有標(biāo)簽形狀，這樣可以更容易和可靠地除去雜質(zhì)，而不會(huì)出現(xiàn)上述問題。這樣就完成了本發(fā)明。
另外，為了達(dá)到上述目的發(fā)明者進(jìn)行了認(rèn)真的研究。結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過將清潔片的形狀作得比輸送件的形狀小，可以形成具有清潔功能的能夠毫無困難地更容易和可靠地除去雜質(zhì)的輸送件。這樣就完成了本發(fā)明。
此外考慮到這種情況，本發(fā)明的一個(gè)目的是要提供一種清潔用標(biāo)簽片，它能可靠地將基片送入基片處理設(shè)備中，能夠容易和可靠地除去粘附在設(shè)備上的雜質(zhì)，并提高工作效率，因?yàn)樵谂c基片粘接后不需要切割清潔片，因此不產(chǎn)生切割廢料。
考慮到這種情況，本發(fā)明的另一個(gè)目的是要提供一種制造具有清潔功能的標(biāo)簽片的方法，該方法可以可靠地將基片送入基片處理設(shè)備中，能夠容易和可靠地除去粘附在設(shè)備上的雜質(zhì)，并且不會(huì)在片材沖壓過程中造成沖壓缺陷，也不會(huì)在預(yù)切割方法中造成粘接劑固化缺陷。
更具體地說，本發(fā)明涉及一種清潔用標(biāo)簽片，其中，清潔用標(biāo)簽包括一個(gè)在清潔層的一個(gè)表面上的普通粘接劑層，該粘接劑層在接收有效能量后，對(duì)硅晶片(鏡面)的180°剝離粘接力為0.20N/10mm或更小，該清潔用標(biāo)簽可通過該普通粘接劑層可取下地放置在一個(gè)隔板上。該標(biāo)簽片也可以這樣構(gòu)成在基底材料的一個(gè)表面上設(shè)有清潔層，而在其另一個(gè)表面上設(shè)有一個(gè)普通粘接劑層；并且該標(biāo)簽片通過該普通粘接劑層可取下地放置在一個(gè)隔板上。多個(gè)清潔用標(biāo)簽可以標(biāo)準(zhǔn)間隔連續(xù)地設(shè)置在細(xì)長(zhǎng)的隔板上。
本發(fā)明還涉及具有清潔功能的輸送件，該輸送件包括在其上的一個(gè)清潔用標(biāo)簽片，其中，該清潔用標(biāo)簽片的形狀比輸送件的形狀小，并且標(biāo)簽片不從輸送件的端部伸出。該清潔用標(biāo)簽片有一個(gè)設(shè)在基底材料的一個(gè)表面上的清潔層和設(shè)在基底材料另一個(gè)表面上的普通粘接劑層。
本發(fā)明還涉及一種制造清潔用標(biāo)簽片的方法，在該標(biāo)簽片中，由粘接劑制成的清潔層設(shè)在基底材料的一個(gè)表面上，清潔層的表面由清除薄膜保護(hù)；而基底材料的另一個(gè)表面則通過一個(gè)普通粘接劑層可取下地放置在一個(gè)隔板上，其中，該清潔層為在接受有效能量時(shí)可以聚合和固化的固化式粘接劑，并且在清潔層的粘接劑聚合和固化反應(yīng)后，將清潔片沖壓成標(biāo)簽的形狀。
從下面結(jié)合附圖對(duì)優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行的詳細(xì)說明中，將會(huì)了解本發(fā)明的特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)。
圖1為表示根據(jù)本發(fā)明的清潔用標(biāo)簽片的一個(gè)示例的局部平面圖；圖2為沿著圖1中的II-II線所截取的截面圖；圖3為表示根據(jù)本發(fā)明的清潔用標(biāo)簽片的另一個(gè)示例的局部平面圖；圖4為表示根據(jù)本發(fā)明的清潔用標(biāo)簽片的再一個(gè)示例的局部平面圖；圖5為表示根據(jù)本發(fā)明的清潔用標(biāo)簽片的又一個(gè)示例的局部平面圖；圖6為表示根據(jù)本發(fā)明的具有清潔功能的輸送件的一個(gè)示例的截面圖；圖7為表示根據(jù)本發(fā)明的清潔用標(biāo)簽片的一個(gè)示例的局部平面圖；和圖8為沿著圖7中的VIII-VIII線所截取的截面圖。
具體實(shí)施例方式
在根據(jù)本發(fā)明的清潔用標(biāo)簽片中，清潔層(在下文它包括如單一一個(gè)清潔片、層疊片或帶有基底材料的層疊片一類的結(jié)構(gòu))由一個(gè)有效能源固化，使粘接力減小。對(duì)硅晶片(鏡面)的180°剝離粘接力為0.2N/10mm或更小，最好大約為0.010～0.10N/10mm。當(dāng)粘接力超過0.20N/10mm時(shí)，則在輸送過程中，清潔層可以粘接在設(shè)備中的要清潔的部分上，造成輸送困難。有效能源包括紫外線和用于固化的熱；最好是紫外線。另外，清潔層的厚度沒有特別限制，通常大約取為5～100微米(μm)。
此外在本發(fā)明中，希望清潔層的拉伸彈性模量(根據(jù)試驗(yàn)方法JIS K7127)為0.98N/mm2或更大，最好為9.8～980N/mm2。如果拉伸彈性模量設(shè)定為這個(gè)特定值或更大，則可以更可靠地輸送基片處理設(shè)備中的基片。
另外，在本發(fā)明中，希望清潔層的表面電阻率為1×1013Ω/□或更大，最好為1×1014Ω/□或更大。如果清潔層的表面電阻率設(shè)定為這個(gè)特定的值或更大，以盡可能地保持清潔層為一個(gè)絕緣體，則可能產(chǎn)生這樣的效果，即除了粘接力以外，也可以通過靜電捕捉和吸收雜質(zhì)。因此，最好清潔層不包括導(dǎo)電物質(zhì)，例如具有導(dǎo)電功能的添加劑。
對(duì)于根據(jù)本發(fā)明的清潔層，最好使用在接收有效能量時(shí)聚合和固化的固化式粘接劑。結(jié)果，基本上消除了清潔層的膠粘性，使得在輸送具有清潔功能的輸送件時(shí)，清潔層不能牢固地粘接在設(shè)備接觸部分上。這樣，可以形成可以可靠輸送的具有清潔功能的輸送件。有效能源包括紫外線和熱，紫外線是優(yōu)選的。
只要清潔層具有可被有效能源固化以使分子結(jié)構(gòu)形成三維網(wǎng)絡(luò)的性質(zhì)，其材料就沒有特別地限制。例如，最好清潔層由通過含有在分子中具有一個(gè)或多個(gè)不飽和雙鍵的化合物的壓敏粘接劑聚合物得到的粘接劑層形成。壓敏粘接劑聚合物的示例包括作為主要單體含有從丙烯酸、丙烯酸酯、甲基丙烯酸和甲基丙烯酸酯中選擇的(甲基)丙烯酸和/或(甲基)丙烯酸酯的丙烯基聚合物。在合成丙烯基聚合物時(shí)，利用分子中具有二個(gè)或多個(gè)不飽和雙鍵的化合物作為共聚合單體；或者使分子中具有一個(gè)不飽和雙鍵的化合物以化學(xué)方法與丙烯基聚合物粘接，同時(shí)在合成以后使功能團(tuán)之間產(chǎn)生反應(yīng)，使不飽和雙鍵引入丙烯基聚合物的分子中。結(jié)果，有效能量也使聚合物本身進(jìn)行聚合和固化反應(yīng)。
最好，分子中具有一個(gè)或多個(gè)不飽和雙鍵的化合物(在下文稱為聚合和不飽和的化合物)為不揮發(fā)的低分子量化合物；其重量平均分子量為10000或更小，最好分子量為5000或更小，使得在固化過程中可以有效地得到粘接劑層的三維網(wǎng)絡(luò)。
最好，聚合和不飽和的化合物為不揮發(fā)的低分子量化合物，其重量平均分子量為10000或更?。蛔詈梅肿恿繛?000或更小，使得在固化過程中可以有效地得到清潔層的三維網(wǎng)絡(luò)。這種聚合的化合物的示例包括苯氧聚乙烯乙二醇、(甲基)丙烯酸酯、ε-己酸丙酯、(甲基)丙烯酸酯、聚乙烯乙二醇、二(甲基)丙烯酸酯、聚丙烯乙二醇、二(甲基)丙烯酸酯、三羥基丙烷、三(甲基)丙烯酸酯、六硝酸己(甲基)丙烯酸酯、尿烷(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯和酯類低聚物(甲基)丙烯酸酯，可以使用其中的一種或多種化合物。
另外，加入粘接劑層中的聚合引發(fā)劑沒有特別限制，可以使用眾所周知的聚合引發(fā)劑。例如，在用熱作為有效能源的情況下，可以使用熱聚合引發(fā)劑，如過氧化苯甲酰或偶氮二異丁腈(azobisisobutyonitoryl)。在用光作為有效能源的情況下，可以使用光聚合引發(fā)劑，例如苯酰、苯酰乙醚、二苯基、異丙基苯酰醚、苯酮、Michler甲酮氯硫雜蒽酮、十二基硫雜蒽酮、二甲基硫雜蒽酮、乙酰苯二乙基縮酮、苯基二甲基縮酮、α-羥基環(huán)己基苯基甲酮、2-羥基二甲基苯丙烷或2，2-二甲氧基-2-苯基乙?；?。
基底材料沒有特別限制，其示例包括塑料薄膜，例如聚乙烯、聚乙烯對(duì)苯二酸鹽、乙酰纖維素、聚碳酸酯、聚丙烯或聚酰胺?；撞牧系暮穸纫话愦蠹s為10～100微米。
根據(jù)本發(fā)明的清潔用標(biāo)簽片包括一個(gè)清潔用的標(biāo)簽；該標(biāo)簽又包括在基底材料的一個(gè)表面上的特殊的清潔層和在另一個(gè)表面上的普通粘接劑層，該另一個(gè)表面通過該普通粘接劑層置于一塊隔板上，可以取下。只要在另一個(gè)表面上的粘接劑層滿足粘接性能的要求，則其材料沒有特別地限制，可以使用普通粘接劑(例如，丙烯基粘接劑或以橡膠為基礎(chǔ)的粘接劑)。利用這種結(jié)構(gòu)，清潔用標(biāo)簽可從隔板(其將在后面說明)上取下，該標(biāo)簽可通過普通粘接劑層與輸送件(例如，各種基片)粘接；并且可作為具有清潔功能的輸送件送入設(shè)備中，與要洗滌的部分接觸。這樣，可以進(jìn)行清潔工作。
清潔用標(biāo)簽粘接上去的輸送件沒有特別地限制，該輸送件的示例包括平的平板顯示器的基片(例如，半導(dǎo)體晶片、液晶顯示器LCD或PDP)和諸如致密盤(CD)或存儲(chǔ)寄存器(MR)頭一類的基片。
在本發(fā)明中，在清潔以后，為了回收輸送件(例如基片)而從粘接劑層上取下基片的情況下，特別優(yōu)選普通粘接劑層對(duì)硅晶片(鏡面)的180°剝離粘接力大約為0.01～0.98N/10mm，特別希望是大約為0.01～0.5N/10mm。在輸送過程中基片不取下，但在清潔后可以容易地取下。
只要能取下清潔用標(biāo)簽，根據(jù)本發(fā)明的隔板沒有特別地限制，其示例包括聚烯烴(如，聚酯、聚丙烯、聚丁烯、聚丁二烯或可用以硅酮為基礎(chǔ)、以長(zhǎng)鏈烷基為基礎(chǔ)、以氟為基礎(chǔ)、以脂肪酸酰胺為基礎(chǔ)或以二氧化硅為基礎(chǔ)的去除劑除去的聚甲基戊烯)，和由聚氯乙烯、氯乙烯共聚物、聚乙烯對(duì)苯二酸鹽、聚丁烯對(duì)苯二酸鹽、聚亞氨酯、乙烯-乙烯基乙酸酯共聚物、離聚物樹脂、乙烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸酯類共聚物、聚苯乙烯或聚碳酸酯制成的塑料薄膜。
現(xiàn)參照附圖來更具體地說明本發(fā)明。
圖1為表示根據(jù)本發(fā)明的清潔用標(biāo)簽片的一個(gè)示例的平面圖。在該標(biāo)簽片中，多個(gè)清潔用標(biāo)簽A以規(guī)則間隔連續(xù)地置于細(xì)長(zhǎng)的隔板1上。如圖2所示，標(biāo)簽A包括在基底材料2的一個(gè)表面上的清潔層3和在基底材料另一個(gè)表面上的普通粘接劑層4，如圖2所示(圖2為沿著圖1中的II-II線所截取的截面圖)。并且標(biāo)簽A通過該粘接劑層4置于隔板1上，可以取下。
在使用過程中，清潔用標(biāo)簽從隔板1上取下，與輸送件(例如半導(dǎo)體晶片)粘接，并輸送至設(shè)備中。結(jié)果，可以清潔要洗滌的部分。
圖3為表示根據(jù)本發(fā)明的清潔用標(biāo)簽片的另一個(gè)示例的平面圖，其中，通過在清潔用標(biāo)簽A的整個(gè)周邊上面的溝槽形的凹部C，形成一個(gè)增強(qiáng)部分B。由于增強(qiáng)部分B是通過凹部C形成的，因此當(dāng)清潔用標(biāo)簽片為筒狀物體或?qū)盈B片時(shí)，其搬運(yùn)性能非常好。另外，清潔用標(biāo)簽在使用過程中可以平滑地從隔板上取下，因此貼標(biāo)簽的可靠性非常高。在清潔用標(biāo)簽片通過沖壓成標(biāo)簽和增強(qiáng)部分形狀并通過將凹部C的不需要部分與隔板分離和除去而形成清潔用標(biāo)簽片的情況下，最好該凹部C彼此連續(xù)，因?yàn)檫@樣可以連續(xù)地除去不需要的部分。只要不需要的部分可以很好地除去，標(biāo)簽A的一部分周邊可以不是凹部，而可以只是一個(gè)刻痕，使標(biāo)簽A和增強(qiáng)部分B可以局部互相接觸。
又如圖4所示，帶形的增強(qiáng)部分B可以連續(xù)地設(shè)置在隔板1的兩端，即在橫向方向的兩端上。增強(qiáng)部分B作成直線形，與隔板的端部平行。因?yàn)樵谥圃煸摌?biāo)簽片的過程中可以連續(xù)地除去不需要的部分，因此，在上述兩個(gè)側(cè)面或任一個(gè)側(cè)面上的增強(qiáng)部分B和標(biāo)簽A彼此不接觸地隔開規(guī)定的間隔。然而，在隔板兩側(cè)上的增強(qiáng)部分B和標(biāo)簽A也可以互相接觸。
另外，如圖5所示，在每一側(cè)上的增強(qiáng)部分B的寬度較大，使增強(qiáng)部分B與標(biāo)簽A的外周邊的一部分接觸。結(jié)果，可以進(jìn)一步強(qiáng)化增強(qiáng)標(biāo)簽片端部的效果，而不會(huì)妨礙連續(xù)地除去不需要的部分。
雖然，增強(qiáng)部分B的形狀沒有特別地限制，而可以作成連續(xù)的或不連續(xù)的，但最好增強(qiáng)部分B為連續(xù)的以便防止廢料通過端部進(jìn)入。雖然增強(qiáng)部分B的厚度沒有特別限制，但考慮到筒狀或?qū)盈B式標(biāo)簽片，最好其厚度大致與標(biāo)簽A的厚度相等。另外，增強(qiáng)部分B的寬度沒有特別限制，可以在考慮隔板寬度和標(biāo)簽直徑的條件下來適當(dāng)設(shè)定。如果將增強(qiáng)部分的寬度設(shè)定得盡可能大，則增強(qiáng)的效果可以加強(qiáng)。
而且標(biāo)簽A的形狀也沒有特別限制，根據(jù)輸送件(例如，要粘接的基片)的形狀不同，可以為圓形、晶片形、框架形或具有卡盤部分用的突出部分的形狀。
制造根據(jù)本發(fā)明的清潔用標(biāo)簽片的方法沒有特別限制，可以利用將構(gòu)成標(biāo)簽和增強(qiáng)部分的粘接劑薄膜(其中，在基底材料的一個(gè)表面上設(shè)有清潔層，而在其另一個(gè)表面上設(shè)有普通粘接劑層)粘接在隔板上的方法來制成包括一個(gè)隔板和一個(gè)粘接劑薄膜的層疊片。接著，同時(shí)或分開地只沖壓層疊片的粘接劑薄膜，使其具有標(biāo)簽和/或增強(qiáng)部分的形狀，以便使不需要的粘接劑薄膜可以與隔板分開和從隔板上除去。當(dāng)采用這種制造方法時(shí)，最好該凹部為連續(xù)的，因?yàn)檫@樣可以連續(xù)地除去不需要的粘接劑薄膜。接著通常將不需要的粘接劑薄膜卷繞在可選擇的筒狀芯子上。
在根據(jù)本發(fā)明的具有清潔功能的第二個(gè)輸送件中，清潔片的形狀比輸送件的形狀小，并且清潔片不從輸送件的端部伸出。如果清潔片的形狀比輸送件的形狀大并從輸送件伸出，則將清潔片放入輸送件的容納盒中或輸送通道中，使它翻轉(zhuǎn)和偏移。最壞的情況是可能不能輸送。即使清潔片的形狀與輸送件的形狀相同，也可以將標(biāo)簽片放入輸送件容納盒中。因此，只有當(dāng)清潔片的形狀比輸送件的形狀小時(shí)，才能可靠地輸送具有清潔功能的輸送件。雖然這種小的程度是沒有特別限制的，但如果清潔片太小，則除去雜質(zhì)所需的有效面積減小。因此，實(shí)際上最小的尺寸大約需要為5mm。
在所使用的優(yōu)選的清潔片中，在基底材料的一個(gè)表面上設(shè)有清潔層，并且如果需要，清潔層的表面由可除膜(a removing film)保護(hù)；而在基底材料的另一個(gè)表面上帶有普通粘接劑層。清潔片通過該普通粘接劑層設(shè)在輸送件上。
本發(fā)明還提供了一種用于輸送件的清潔用標(biāo)簽片。
最好清潔用標(biāo)簽片的結(jié)構(gòu)是這樣的在基底材料的一個(gè)表面上設(shè)有一個(gè)清潔層，其一個(gè)表面由可除膜保護(hù)；而基底材料的另一個(gè)表面通過普通粘接劑層可取下地放置在隔板上。而且在這種情況下，標(biāo)簽的形狀也比輸送件的形狀小。另外，最好多個(gè)清潔用標(biāo)簽以規(guī)則的間隔連續(xù)地放置在細(xì)長(zhǎng)的隔板上。
雖然制造清潔用標(biāo)簽片的方法沒有特別限制，但最好使用在接收有效能量時(shí)能使清潔層聚合和固化的固化式粘接劑；另外，應(yīng)在清潔層的粘接劑聚合和固化反應(yīng)以后，才進(jìn)行切割清潔片使它成為標(biāo)簽形狀的工序。如果構(gòu)成清潔層的粘接劑在清潔片切割過程中既不聚合又不固化，則構(gòu)成清潔層的粘接劑層從切割端部伸出并與切割表面粘接，使粘接劑成為繩狀；這樣，切割深度變得不均勻或切割表面粗糙。在最壞的情況下，可使切割有缺陷。另外，當(dāng)在切割清潔片以后進(jìn)行聚合和固化反應(yīng)時(shí)，則由于氧的供給被抑止，因此面向切割部分的粘接劑的聚合也被抑止。在某些情況下，基片處理設(shè)備被粘接劑污染。
在本發(fā)明中，特別希望清潔層的拉伸彈性模量(根據(jù)試驗(yàn)方法JIS K7127)為10N/mm2或更大，并且最好為10～2000N/mm2，使得在清潔片切割過程中不出現(xiàn)困難。如果拉伸彈性模量具有這種特定的值或更大，則可以防止粘接劑從清潔層泄漏至外面，或在清潔片切割過程中防止產(chǎn)生切割缺陷。這樣，可以利用預(yù)先切割法制造不受粘接劑污染的清潔用標(biāo)簽片。如果清潔片的拉伸彈性模量小于10N/mm2，則在清潔片切割過程中可能出現(xiàn)問題，或在輸送過程中，由于粘接劑粘接在設(shè)備的要清潔的部分上，可能產(chǎn)生輸送故障。另一方面，如果清潔片的拉伸彈性模量太大，則清除粘附在輸送系統(tǒng)上的雜質(zhì)的性能可能變壞。
清潔層由有效能源固化，結(jié)果使粘接力減小。對(duì)硅晶片(鏡面)的180°剝離粘接力為0.2N/10mm或更小，最好大約為0.010～0.10N/10mm。當(dāng)粘接力超過0.20N/10mm時(shí)，則在輸送過程中，清潔層可以粘接在設(shè)備的要清潔的部分上，使輸送產(chǎn)生故障。另外，清潔層的厚度沒有特別限制，通常大約為5～100μm。
根據(jù)本發(fā)明的清潔用標(biāo)簽片的制造方法沒有特別地限制，例如，可以在固化作為清潔層的固化式粘接劑以后，通過切割清潔片而不是隔板，使清潔片具有標(biāo)簽的形狀；該清潔片包括清潔層，而清潔層又包括在基底材料一個(gè)表面上的特殊的粘接劑，該粘接劑的表面受到可除膜保護(hù)；而基底材料的另一個(gè)表面通過普通粘接劑層可取下地放置在隔板上。在這種情況下，切割方法或加工方法沒有特別地限制。在根據(jù)輸送件的形狀進(jìn)行沖壓(將在下面說明)后，分離和除去不需要的清潔片材以形成標(biāo)簽。另外，還可以分離和除去不需要的清潔片，而不是標(biāo)簽部分和增強(qiáng)部分，同時(shí)使作為增強(qiáng)部分的清潔片保留在標(biāo)簽的周邊上或在遠(yuǎn)離標(biāo)簽的清潔片的端部上，從而形成標(biāo)簽。
在制造清潔用標(biāo)簽片的方法中，使用一塊清潔片，在該清潔片中，在基底材料的一個(gè)表面上設(shè)有特殊的清潔層，而基底材料的另一個(gè)表面則通過普通粘接劑層置于一塊隔板上。只要在另一個(gè)表面上的粘接劑層滿足粘接功能的要求，則其材料沒有特別地限制，并可使用普通粘接劑(例如，丙烯基粘接劑或以橡膠為基礎(chǔ)的粘接劑)。利用這種結(jié)構(gòu)，可將清潔用標(biāo)簽片從隔板上取下(將在下面說明)，通過普通粘接劑層與輸送件(例如各種基片)粘接，并作為具有清潔功能的輸送件送入設(shè)備中與要清洗的部分接觸。這樣，即可進(jìn)行清潔工作。當(dāng)在清潔以后，為了回收輸送件(例如基片)，將輸送件從粘接劑層上取下時(shí)，最好該普通粘接劑層的對(duì)硅晶片(鏡面)的180°剝離粘接力大約為0.01～0.98N/10mm，特別希望大約為0.01～0.5N/10mm，因?yàn)樵谳斔瓦^程中不取下基片，但在清潔以后可以容易地取下基片。
支承清潔層的基底材料沒有特別限制，基底材料的示例包括塑料薄膜，例如聚乙烯、聚乙烯對(duì)苯二酸鹽、乙酰纖維素聚碳酸酯、聚丙烯、聚酰亞胺、聚酰胺或聚碳化二亞胺(polycarbodiimide)。通常，基底材料的厚度大約為10～100微米。
只要清潔用標(biāo)簽片可以取下，根據(jù)本發(fā)明的隔板沒有特別限制，其示例包括聚烯烴(例如，聚酯、聚丙烯、聚丁烯、聚丁二烯或可用以硅酮為基礎(chǔ)、以長(zhǎng)鏈烷基為基礎(chǔ)、以氟為基礎(chǔ)、以脂肪酸酰胺為基礎(chǔ)或以二氧化硅為基礎(chǔ)的去除劑除去的聚甲基戊烯)，和由聚氯乙烯、氯乙烯共聚物、聚乙烯對(duì)苯二甲酸鹽、聚丁烯對(duì)苯二甲酸鹽、聚亞氨酯、乙烯-乙烯基乙烯酯共聚物、離聚物樹脂，乙烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物，乙烯-(甲基)丙烯酸酯類共聚物、聚苯乙烯或聚碳酸酯制成的塑料薄膜。
清潔用標(biāo)簽片要粘接在上面的輸送件沒有特別地限制，輸送件的示例包括半導(dǎo)體晶片、諸如液晶顯示器LCD或PDP一類的平的平板顯示器的基片，和諸如密紋唱片(CD)或存儲(chǔ)寄存器(MR)頭一類的基片。
現(xiàn)參照附圖更具體地來說明本發(fā)明。
圖6為表示根據(jù)本發(fā)明的具有清潔功能的輸送件的一個(gè)示例的平面圖，圖中，清潔用標(biāo)簽A設(shè)置在輸送件W(例如晶片)上，使標(biāo)簽A的形狀比輸送件W的形狀小，并且不從輸送件W的端部伸出。標(biāo)簽A包括在基底材料2的一個(gè)表面上的清潔層3和在基底材料另一個(gè)表面上的普通粘接劑層4，該標(biāo)簽A通過粘接劑層4放置在輸送件W上。
圖7表示用于根據(jù)本發(fā)明的具有清潔功能的輸送件中的清潔用標(biāo)簽片的一個(gè)示例。在該標(biāo)簽片中，多個(gè)清潔用標(biāo)簽A以規(guī)則的間隔連續(xù)地放置在細(xì)長(zhǎng)的隔板1上。標(biāo)簽A的形狀比圖6中的輸送件W的形狀小。如圖8所示，標(biāo)簽A包括在基底材料2的一個(gè)表面上的清潔層3，在清潔層表面上的隔離薄膜5和在基底材料另一個(gè)表面上的普通粘接劑層4，如圖8所示(圖8為沿著圖7中的VIII-VIII線所截取的截面圖)，該標(biāo)簽A通過粘接劑層4放置在隔板1上，可以取下。
在使用過程中，將清潔用標(biāo)簽A從隔板1上取下并粘接在輸送件W(例如半導(dǎo)體晶片)上；再除去隔離薄膜5，將清潔用標(biāo)簽A送入設(shè)備中。結(jié)果，可以清潔要洗滌的部分。
另外，如果標(biāo)簽A的形狀比輸送件W的形狀小，則標(biāo)簽A的形狀沒有特別限制，并且根據(jù)輸送件(例如，要粘接的基片)的形狀不同，可以使用圓形、晶片形和框架形狀。
雖然下面要根據(jù)實(shí)施例來說明本發(fā)明，但本發(fā)明不是僅限于此。在下面的說明中，“份”表示“按重量計(jì)的份”。
第一實(shí)施例將按重量計(jì)50份的聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、按重量計(jì)50份的尿烷丙烯酸酯、按重量計(jì)3份的苯基二甲基縮酮和按重量計(jì)3份的二苯基甲烷二異氰酸鹽均勻地與按重量計(jì)100份的丙烯基聚合物(重量平均分子量為700000)混合，該丙烯基聚合物是通過由含有按重量計(jì)75份的丙烯酸-2-乙基己基、按重量計(jì)20份的甲基丙烯酸酯和按重量計(jì)5份的丙烯酸的單體混合溶液得到的，由此制備出紫外線固化式粘接劑溶液。
另一方面，除了從粘接劑中排除苯基二甲基縮酮以外，用上述同樣的方法制備普通粘接劑溶液。
將普通粘接劑溶液涂敷在其中一個(gè)表面用硅酮基去除劑處理過的細(xì)長(zhǎng)的聚酯薄膜(厚度為38微米，寬度為250毫米)制成的隔板的清除的表面上，使干燥后的厚度為10微米；在粘接劑層上設(shè)置細(xì)長(zhǎng)的聚烯烴薄膜(厚度為25微米，寬度為250毫米)；然后將紫外線固化式粘接劑溶液涂敷在該薄膜上，使干燥后的厚度為40微米。這樣得到一個(gè)片。
將中心波長(zhǎng)為365nm的紫外線以總體光通量為1000mJ/cm2照射在該片上，從而可得到具有被紫外線固化的清潔層的清潔用片。
將層疊片式的粘接劑薄膜而不是清潔用清潔片的隔板，沖壓成直徑為200mm的圓，并連續(xù)地分離和除去不需要的粘接劑薄膜。這樣，制成如圖1所示的根據(jù)本發(fā)明的清潔用標(biāo)簽片。
將清潔用標(biāo)簽片的清潔層粘接在寬度為10mm的硅晶片的鏡面上，并根據(jù)JIS Z0237測(cè)量對(duì)硅晶片的180°的剝離粘接力。結(jié)果，得到180°的剝離粘接力為0.078N/10mm。
清潔片的清潔層的拉伸彈性模量為49N/mm2。拉伸彈性模量根據(jù)試驗(yàn)方法JIS K7127測(cè)量。
另外，在23℃的溫度和60％RH的濕度下，用表面電阻率測(cè)量設(shè)備(三菱化學(xué)公司生產(chǎn)，MCP-UP450型)測(cè)量在清潔層上的表面電阻率。結(jié)果，得到9.99×1013Ω/□或更大，然后測(cè)量不能進(jìn)行。
將清潔用標(biāo)簽從如此得到的清潔用標(biāo)簽片的隔板上取下，并且用手動(dòng)輥將它粘接在尺寸為8英寸的硅晶片的背面(鏡面)上。這樣，制成具有清潔功能的輸送用的清潔晶片。
另一方面，取下基片處理設(shè)備中的兩個(gè)晶片臺(tái)架，并利用激光型雜質(zhì)測(cè)量設(shè)備測(cè)量尺寸為0.3微米或更大的雜質(zhì)。結(jié)果，在晶片尺寸為8英寸的區(qū)域內(nèi)有20000個(gè)雜質(zhì)，而在另一個(gè)區(qū)域中有18000個(gè)雜質(zhì)。
接著，除去用上述方法獲得的用于輸送的清潔晶片的清潔層上的可除膜，并將該膜送入具有粘附著20000個(gè)雜質(zhì)的晶片臺(tái)架的基片處理設(shè)備中。輸送可毫無阻礙地進(jìn)行。然后，取下晶片臺(tái)架，利用激光型雜質(zhì)測(cè)量設(shè)備測(cè)量尺寸為0.3微米或更大的雜質(zhì)。結(jié)果，在8英寸的晶片尺寸內(nèi)有3950個(gè)雜質(zhì)，并且可以除去在清潔前粘附的3/4或更多的雜質(zhì)。
比較例1除了以總體光通量為150mJ/cm2照射中心波長(zhǎng)為365納米(nm)的紫外線以外，利用與第一實(shí)施例相同的方法制造清潔片。測(cè)量對(duì)于硅晶片的粘接力。結(jié)果，得到粘接力為0.33N/10mm。
將用與該實(shí)施例相同的方法由清潔片制造的用于輸送的清潔晶片送入具有粘附著18000個(gè)雜質(zhì)的晶片臺(tái)架的基片處理設(shè)備中。結(jié)果，清潔晶片固定在晶片臺(tái)架上，不能輸送。
第二實(shí)施例將按重量計(jì)50份的聚乙二醇200二甲基丙烯酸酯(由SHIN-NAKAMURA化學(xué)有限公司生產(chǎn)商品名為NK Ester 4G)、按重量計(jì)50份的尿烷丙烯酸酯(由SHIN-NAKAMURA化學(xué)有限公司生產(chǎn)商品名為U-N-01)、按重量計(jì)3份的聚異氰酸鹽化合物(由NIPPON POLYURETHANEINDUSTRY有限公司生產(chǎn)商品名為Colonate L)和按重量計(jì)3份的作為光聚合作用引發(fā)劑的苯基二甲基縮酮(由CIBA SPECTALTY CHEMICALS K.K.有限公司生產(chǎn)商品名為Irugacure-651)均勻地與按重量計(jì)100份的丙烯基聚合物(重量平均分子量為700000)混合，該丙烯基聚合物是通過由含有按重量計(jì)75份的丙烯酸-2-乙基己基、按重量計(jì)20份的甲基丙烯酸酯和按重量計(jì)5份的丙烯酸的單體混合溶液得到的。由此，制備出紫外線固化式粘接劑溶液。
另一方面，除了從粘接劑中排除苯基二甲基縮酮以外，用上述同樣的方法制備普通粘接劑溶液。
將普通粘接劑溶液涂敷在其中一個(gè)表面用硅酮基去除劑處理過的細(xì)長(zhǎng)的聚酯薄膜(厚度為38微米，寬度為250毫米)制成的隔板的清除的表面上，使干燥后的厚度為10微米；在粘接劑層上設(shè)置細(xì)長(zhǎng)的聚酯薄膜(厚度為25微米，寬度為250毫米)；然后將紫外線固化型粘接劑溶液涂敷在該薄膜上，使干燥后的厚度為40微米。這樣，就形成了作為清潔層的粘接劑層，并且由其中一個(gè)表面用硅酮基去除劑處理過的細(xì)長(zhǎng)的聚酯薄膜(厚度為38微米，寬度為250毫米)制成的可除膜的清除表面與該粘接劑層的表面粘接。這樣，得到一個(gè)片。
將中心波長(zhǎng)為365納米(nm)的紫外線以總體光通量為1000mJ/cm2照射在該片上，可得到被紫外線固化的具有清潔層的清潔用片。
將層疊片式的粘接劑薄膜而不是清潔用清潔片的隔板沖壓成直徑為198mm的圓，并將該片切斷。連續(xù)地分離和除去不需要的粘接劑薄膜。這樣，制成如圖7所示的根據(jù)本發(fā)明的清潔用標(biāo)簽片。另外，在通過紫外線照射固化后，清潔用標(biāo)簽片的清潔層的拉伸彈性模量為49N/mm2。拉伸彈性模量根據(jù)試驗(yàn)方法JIS K7127測(cè)量。
將清潔用標(biāo)簽從如此得到的清潔用標(biāo)簽片的隔板上取下，并且用手動(dòng)滾子將它粘接在尺寸為8英寸(200mm)的硅晶片的背面(鏡面)上。這樣，制成具有清潔功能的輸送用的清潔晶片。
利用清潔用標(biāo)簽片，通過標(biāo)簽帶粘接機(jī)(由NITTO SEIKI公司生產(chǎn)商品名為NEL-GR3000)，將標(biāo)簽粘接在尺寸為8英寸的硅晶片的背面(鏡面)上。這個(gè)操作連續(xù)對(duì)25個(gè)片進(jìn)行。結(jié)果，可將該片毫無問題地粘接在晶片上。這樣，就制成了具有清潔功能的供輸送用的清潔晶片。另外，證實(shí)了這樣得出的供輸送用的清潔晶片具有清潔功能，并且還發(fā)現(xiàn)，所有的標(biāo)簽片都粘接在硅晶片的內(nèi)部，而不從晶片的端部伸出。
此外，該清潔層粘接在寬度為10mm的硅晶片的鏡面上，并根據(jù)JISZ0237測(cè)量對(duì)硅晶片的180°剝離粘接力。結(jié)果，對(duì)硅晶片的180°剝離粘接力為0.078N/10mm。
另一方面，利用激光型雜質(zhì)測(cè)量設(shè)備測(cè)量在兩個(gè)新牌號(hào)的尺寸為8英寸的硅晶片的鏡面上的尺寸為0.2微米或更大的雜質(zhì)。結(jié)果，第一種晶片有6個(gè)雜質(zhì)，而第二種晶片有5個(gè)雜質(zhì)。在將晶片的鏡面放在下面的情況下，將晶片輸送至具有單獨(dú)的靜電吸收機(jī)構(gòu)的基片處理設(shè)備以后，利用激光型雜質(zhì)測(cè)量設(shè)備測(cè)量尺寸為0.2微米或更大的雜質(zhì)。結(jié)果，在晶片尺寸為8英寸的區(qū)域中，第一種晶片有33456個(gè)雜質(zhì)，而第二種晶片有36091個(gè)雜質(zhì)。
接著，除去用上述方法獲得的用于輸送的清潔晶片的清潔層上的可除膜，并將該膜送入具有粘附著33456個(gè)雜質(zhì)的晶片臺(tái)架的基片處理設(shè)備中。輸送可毫無阻礙地進(jìn)行。然后，在晶片鏡面放在下面的情況下，輸送一個(gè)新牌號(hào)的尺寸為8英寸的硅晶片，并用激光型雜質(zhì)測(cè)量設(shè)備測(cè)量尺寸為0.2微米或更大的雜質(zhì)。這個(gè)操作進(jìn)行5次，雜質(zhì)的除去比例如表1所示。
表1
比較例2除了使用通過沖壓成直徑為202mm的圓形而得到的清潔用標(biāo)簽片之外，利用與第二實(shí)施例相同的方法制造具有清潔功能的供輸送用的清潔晶片。利用顯微鏡來確認(rèn)該晶片，發(fā)現(xiàn)清潔用標(biāo)簽片從硅晶片的外圓周部分伸出。
取下供輸送用的清潔晶片的清潔層上的隔離薄膜，并將它放在晶片盒上，以送入基片處理設(shè)備中。結(jié)果，伸出的標(biāo)簽片與盒的內(nèi)壁接觸，并且在晶片盒中，供輸送用的清潔晶片本身偏離正常位置。因此，不能進(jìn)行輸送。這樣，就停止了利用供輸送用的清潔晶片進(jìn)行輸送。
第三實(shí)施例將按重量計(jì)50份的聚乙二醇200二甲基丙烯酸酯(由SHIN-NAKAMURA化學(xué)有限公司生產(chǎn)商品名為NK Ester 4G)、按重量計(jì)50份的尿烷丙烯酸酯(由SHIN-NAKAMURA化學(xué)有限公司生產(chǎn)商品名為U-N-01)、按重量計(jì)3份的聚異氰酸鹽化合物(由NIPPON POLYURETHANEINDUSTRY有限公司生產(chǎn)商品名為Colonate L)和按重量計(jì)3份的作為光聚合作用引發(fā)劑的苯基二甲基縮酮(由CIBA SPECTALTY CHEMICALS K.K.公司生產(chǎn)商品名為Irugacure-651)均勻地與按重量計(jì)100份的丙烯基聚合物(重量平均分子量為700000)混合，該丙烯基聚合物是通過由含有按重量計(jì)75份的丙烯酸-2-乙基己基、按重量計(jì)20份的甲基丙烯酸酯和按重量計(jì)5份的丙烯酸的單體混合溶液得到的。由此，制備出紫外線固化型粘接劑溶液。
另一方面，除了從粘接劑中排除苯基二甲基縮酮以外，用上述同樣的方法制備普通粘接劑溶液。
將普通粘接劑溶液涂敷在其中一個(gè)表面用硅酮基去除劑處理過的細(xì)長(zhǎng)的聚酯薄膜(厚度為38微米，寬度為250毫米)制成的隔板的清除的表面上，使干燥后的厚度為10微米；在粘接劑層上設(shè)置細(xì)長(zhǎng)的聚酯薄膜(厚度為25微米，寬度為250毫米)；然后將紫外線固化型粘接劑溶液涂敷在該薄膜上，使干燥后的厚度為40微米。這樣，就形成了作為清潔層的粘接劑層，并且由其中一個(gè)表面用硅酮基去除劑處理過的細(xì)長(zhǎng)的聚酯薄膜(厚度為38微米，寬度為250毫米)制成的清除薄膜的清除表面與該粘接劑層的表面粘接。這樣，得到一個(gè)片。
將中心波長(zhǎng)為365nm的紫外線以總體光通量為1000mJ/cm2照射在該片上，可得到被紫外線固化的具有清潔層的清潔用片。
將層疊片式的粘接劑薄膜而不是清潔用清潔片的隔板沖壓成直徑為200mm的圓，并將該片切斷。連續(xù)地分離和除去不需要的粘接劑薄膜。這樣，制成如圖1所示的根據(jù)本發(fā)明的清潔用標(biāo)簽片。沖壓清潔片的加工可以不產(chǎn)生粘接劑擰成繩狀和切割廢料的問題。在制造以后，觀察標(biāo)簽片時(shí)可發(fā)現(xiàn)粘接劑不從標(biāo)簽的端部伸出，并且標(biāo)簽不被粘接劑污染。
另外，在通過紫外線照射固化后，即沖壓清潔片后，清潔用清潔片的清潔層的拉伸彈性模量為49N/mm2。拉伸彈性模量是根據(jù)試驗(yàn)法JIS K7127測(cè)量的。
將清潔用標(biāo)簽從如此得到的具有清潔功能的標(biāo)簽片的隔板上取下，并且用手動(dòng)輥將它粘接在尺寸為8英寸的硅晶片的背面(鏡面)上。這樣，制成具有清潔功能的輸送用的清潔晶片。
采用具有清潔功能的標(biāo)簽片，通過標(biāo)簽帶粘接機(jī)(由NITTO SEIKI公司生產(chǎn)商品名為NEL-GR3000)，將標(biāo)簽粘接在尺寸為8英寸的硅晶片的背面(鏡面)上。這個(gè)操作連續(xù)對(duì)25個(gè)片進(jìn)行。結(jié)果，可將該片毫無問題地粘接在晶片上。這樣，就制成了具有清潔功能的供輸送用的清潔晶片。此外，該清潔層粘接在寬度為10mm的硅晶片的鏡面上，并根據(jù)JIS Z0237測(cè)量對(duì)硅晶片的180°剝離粘接力。結(jié)果，對(duì)硅晶片的180°剝離粘接力為0.078N/10mm。
另一方面，利用激光型雜質(zhì)測(cè)量設(shè)備測(cè)量在兩個(gè)新牌號(hào)的尺寸為8英寸的硅晶片的鏡面上的尺寸為0.2微米或更大的雜質(zhì)。結(jié)果，第一種晶片有6個(gè)雜質(zhì)，而第二種晶片有5個(gè)雜質(zhì)。在將晶片的鏡面放在下面的情況下，將晶片輸送至具有單獨(dú)的靜電吸收機(jī)構(gòu)的基片處理設(shè)備以后，利用激光型雜質(zhì)測(cè)量設(shè)備測(cè)量尺寸為0.2微米或更大的雜質(zhì)。結(jié)果，在晶片尺寸為8英寸的區(qū)域中，第一種晶片有33456個(gè)雜質(zhì)，而第二種晶片有36091個(gè)雜質(zhì)。
接著，除去用上述方法獲得的用于輸送的清潔晶片的清潔層上的可除膜，并將該膜送入具有粘附著33456個(gè)雜質(zhì)的晶片臺(tái)架的基片處理設(shè)備中。輸送可毫無阻礙地進(jìn)行。然后，在晶片鏡面放在下面的情況下，輸送一個(gè)新牌號(hào)的尺寸為8英寸的硅晶片，并用激光型雜質(zhì)測(cè)量設(shè)備測(cè)量尺寸為0.2微米或更大的雜質(zhì)。這個(gè)操作進(jìn)行5次，雜質(zhì)的除去比例如表2所示。
表2
比較例3除了中心波長(zhǎng)為365nm的紫外線不以總體光通量1000mJ/cm2照射在清潔片上以外，用與第三實(shí)施例相同的方法制造清潔片。用與在該實(shí)施例中相同的方法，通過沖壓成直徑為200mm的圓形而切割該清潔片。這樣，制成具有清潔功能的標(biāo)簽片。在這種情況下，由于清潔層不固化，它起緩沖材料的作用。結(jié)果，沖壓深度不均勻，會(huì)產(chǎn)生大量的標(biāo)簽沖壓缺陷。另外，觀察還發(fā)現(xiàn)在這樣制造的標(biāo)簽中，粘接劑從標(biāo)簽端部泄漏出來。而且，由于在沖壓過程中粘結(jié)劑被擰成繩狀而使標(biāo)簽的許多部分被粘接劑污染。而且特別是，粘接劑粘附在標(biāo)簽端部處的清潔層周圍的可除膜上。在制成標(biāo)簽以后，中心波長(zhǎng)為365納米的紫外線以總體光通量1000mJ/cm2照射。然而，由于抑止了氧的供應(yīng)，標(biāo)簽端部上的粘接劑不固化而具有膠粘性。因此，使用標(biāo)簽片制造供輸送用的清潔晶片要停止。
工業(yè)適用性如上所述，根據(jù)本發(fā)明的清潔片，可以可靠地在基片處理設(shè)備輸送，并且可以容易和可靠地去除粘附在設(shè)備中的雜質(zhì)。另外，由于在與基片粘接后不再需要切割清潔片，因此工作效率可以提高，不會(huì)產(chǎn)生切割廢料。
雖然，利用優(yōu)選實(shí)施例說明了本發(fā)明，但在不偏離下述本發(fā)明的精神和范圍的條件下，可對(duì)其結(jié)構(gòu)和零件的布置的細(xì)節(jié)作一些改變。
權(quán)利要求
1.一種清潔用標(biāo)簽片，它包括清潔用標(biāo)簽，該標(biāo)簽包括在接受有效能量后，對(duì)硅晶片的鏡面的180°剝離粘接力為0.20N/10mm或更小的清潔層，和設(shè)置在所述清潔層的一個(gè)表面上的粘接劑層；以及隔板，所述標(biāo)簽通過所述粘接劑層可去除地置于該隔板上。
2.如權(quán)利要求1所述的清潔用標(biāo)簽片，其特征在于，它還包括基底材料，所述標(biāo)簽設(shè)置在所述基底材料的一個(gè)表面上，而所述粘接劑層設(shè)置在所述基底材料的另一個(gè)表面上。
3.如權(quán)利要求1所述的清潔用標(biāo)簽片，其特征在于，多個(gè)標(biāo)簽以規(guī)則的間隔連續(xù)地設(shè)置在細(xì)長(zhǎng)的隔板上。
4.如權(quán)利要求1所述的清潔用標(biāo)簽片，其特征在于，通過在清潔用標(biāo)簽周圍的凹部形成一個(gè)增強(qiáng)部分。
5.如權(quán)利要求4所述的清潔用標(biāo)簽片，其特征在于，該凹部制成得如同在清潔用標(biāo)簽的至少整個(gè)周邊上面的溝槽。
6.如權(quán)利要求4所述的清潔用標(biāo)簽片，其特征在于，該增強(qiáng)部分制成得如同在隔板兩個(gè)側(cè)面上的一條帶。
7.如權(quán)利要求6所述的清潔用標(biāo)簽片，其特征在于，在至少一個(gè)側(cè)面上的帶形的增強(qiáng)部分不與清潔用標(biāo)簽接觸。
8.如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的清潔用標(biāo)簽片，其特征在于，清潔用標(biāo)簽和/或增強(qiáng)部分是通過將包括基底材料、所述清潔層和普通粘接劑層的粘接劑薄膜沖壓成各自形狀，并去除不必要的粘接劑薄膜而形成的。
9.一種具有清潔功能的輸送件，它包括在該輸送件上的清潔用標(biāo)簽片，其特征在于，清潔用標(biāo)簽片的形狀比輸送件的形狀小，并且不從輸送件的端部伸出。
10.如權(quán)利要求9所述的具有清潔功能的輸送件，其特征在于，該清潔用標(biāo)簽片具有設(shè)在基底材料的一個(gè)表面上的清潔層和設(shè)在基底材料另一個(gè)表面上的普通粘接劑層。
11.如權(quán)利要求10所述的具有清潔功能的輸送件，其特征在于，該清潔層的表面由可除膜保護(hù)。
12.一種用于如權(quán)利要求9～11中任一項(xiàng)所述的具有清潔功能的輸送件中的清潔用標(biāo)簽片，其特征在于，該清潔層設(shè)在基底材料的一個(gè)表面上，清潔層的表面由可除膜保護(hù)；而基底材料的另一個(gè)表面通過普通粘接劑層可取下地放置在隔板上；并且，標(biāo)簽的形狀比輸送件的形狀小。
13.如權(quán)利要求12所述的清潔用標(biāo)簽片，其特征在于，多個(gè)清潔用標(biāo)簽以一定的間隔連續(xù)地設(shè)置在細(xì)長(zhǎng)的隔板上。
14.如權(quán)利要求9所述的具有清潔功能的輸送件和清潔用標(biāo)簽件，其特征在于，該清潔層為在接收有效能量時(shí)聚合和固化的固化式粘接劑。
15.如權(quán)利要求9～14中任一項(xiàng)所述的具有清潔功能的輸送件和清潔用標(biāo)簽片，其特征在于，根據(jù)JIS K7127，該清潔層的拉伸彈性模量為10N/mm2或更大。
16.一種清潔基片處理設(shè)備的方法，其特征在于，將如權(quán)利要求9或10所述的具有清潔功能的輸送件送入該基片處理設(shè)備中。
17.一種制造清潔用標(biāo)簽片的方法，在該標(biāo)簽片中，由粘接劑制成的清潔層設(shè)在基底材料的一個(gè)表面上，清潔層的表面由清除薄膜保護(hù)；而基底材料的另一個(gè)表面則通過一個(gè)普通粘接劑層可取下地放置在隔板上，其特征在于，該清潔層為在接受有效能量時(shí)可以聚合和固化的固化式粘接劑，并且在清潔層的粘接劑聚合和固化反應(yīng)后，將清潔片沖壓成標(biāo)簽的形狀。
18.如權(quán)利要求17所述的制造清潔用標(biāo)簽片的方法，其特征在于，在該清潔片沖壓形成標(biāo)簽的過程中，根據(jù)JIS K7127，清潔層的拉伸彈性模量為10N/mm2或更大。
全文摘要
一種清潔用標(biāo)簽片由清潔用標(biāo)簽構(gòu)成，該標(biāo)簽包括在接收有效能量后，其對(duì)硅晶片的180°剝離粘接力為0.20N/mm或更小的一個(gè)清潔層；和設(shè)在所述清潔層的一個(gè)表面上的粘接劑層；另外還包括通過該粘接劑層，可將標(biāo)簽可取下地設(shè)在其上面的一個(gè)隔板。
文檔編號(hào)A47L25/00GK1433342SQ01810682
公開日2003年7月30日 申請(qǐng)日期2001年5月8日 優(yōu)先權(quán)日2001年4月9日
發(fā)明者并河亮, 寺田好夫, 額賀二郎, 豐田英志 申請(qǐng)人:日東電工株式會(huì)社