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硅原料清洗設(shè)備的制作方法

文檔序號(hào):1550767閱讀:429來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:硅原料清洗設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于一種硅原料清洗設(shè)備,特別是涉及一種采用機(jī)械方式清洗硅原料的清洗設(shè)備。
背景技術(shù)
在現(xiàn)有技術(shù)中,硅原料的清洗大多采用手工與機(jī)械相結(jié)合的方式,由于硅原料需在不同的酸堿液中進(jìn)行清洗,手操作對(duì)人體的健康影響較大,因此,采用機(jī)械與電子技術(shù)結(jié)合的清洗設(shè)備對(duì)硅原料進(jìn)行清洗是技術(shù)發(fā)展的必然趨勢(shì),目前,國(guó)外發(fā)達(dá)國(guó)家已研制出一種全封閉型的硅原料自動(dòng)清洗機(jī),它包括上料裝置、送料裝置、清洗池、下料裝置和自動(dòng)控制裝置,由于其結(jié)構(gòu)復(fù)雜、造價(jià)昂貴,而難以在本行業(yè)中普及。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、使用方便、效率高的硅原料清洗設(shè)備。
本實(shí)用新型的目的是采用這樣的技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的它包括封閉清洗艙、輸入裝置、水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)、清洗槽、機(jī)械手、清洗筐、輸出裝置和自動(dòng)控制裝置,所述封閉清洗艙安裝在機(jī)座上,該封閉清洗艙內(nèi)設(shè)有清洗槽,所述封閉清洗艙的兩端分別設(shè)有輸入裝置和輸出裝置,其特征在于所述清洗槽與輸出裝置之間設(shè)有干燥裝置,在封閉清洗艙上設(shè)有水平運(yùn)行機(jī)構(gòu),機(jī)械手與水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)相配它包括封閉清洗艙、輸入裝置、水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)、清洗槽、機(jī)械手、清洗筐、輸出裝置和自動(dòng)控制裝置,所述封閉清洗艙安裝在機(jī)座上,該封閉清洗艙內(nèi)設(shè)有清洗槽,所述封閉清洗艙的兩端分別設(shè)有輸入裝置和輸出裝置,其特征在于所述清洗槽與輸出裝置之間設(shè)有干燥裝置,在封閉清洗艙上設(shè)有水平運(yùn)行機(jī)構(gòu),機(jī)械手與水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)相配合,機(jī)械手能在水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)上往復(fù)位移,所述水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)位于清洗槽上方,機(jī)械手能與清洗筐相配合。
本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、造價(jià)低廉、烘干效率高、使用方便、安全的特點(diǎn),是一種經(jīng)濟(jì)實(shí)用的硅原料清洗設(shè)備合,機(jī)械手能在水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)上往復(fù)位移,所述水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)位于清洗槽上方,機(jī)械手能與清洗筐相配合。
本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、造價(jià)低廉、烘干效率高、使用方便、安全的特點(diǎn),是一種經(jīng)濟(jì)實(shí)用的硅原料清洗設(shè)備。
結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型具體說(shuō)明如下
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖之一圖2為本實(shí)用新型的機(jī)械手結(jié)構(gòu)示意圖圖3為本實(shí)用新型的烘干裝置結(jié)構(gòu)示意圖
具體實(shí)施方式
參照附圖本實(shí)用新型它包括封閉清洗艙、輸入裝置7、水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)1、清洗槽13、機(jī)械手4、清洗筐14、輸出裝置11和自動(dòng)控制裝置9,在所述封閉清洗艙安裝在機(jī)座10上,該封閉清洗艙內(nèi)設(shè)有清洗槽13,在封閉清洗艙的兩端分別設(shè)有輸入裝置7和輸出裝置11,所述清洗槽13與輸出裝置11之間設(shè)有干燥裝置15,所述封閉清洗艙上設(shè)有水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)1,機(jī)械手4與水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)1相配合,機(jī)械手4能在水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)1上往復(fù)位移,所述水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)1位于清洗槽13上方,機(jī)械手4能與清洗筐14相配合;所述封閉清洗艙由罩殼8、觀察窗6和排風(fēng)機(jī)構(gòu)3組成,通過(guò)觀察窗6能夠及時(shí)察看各工位的工作狀況,排風(fēng)機(jī)構(gòu)3能夠?qū)⒎忾]清洗艙內(nèi)的混合氣體向外排出;所述水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)1由導(dǎo)軌5和拖動(dòng)鏈條2構(gòu)成,所述輸入裝置7和輸出裝置11均采用公知的滾道式輸送結(jié)構(gòu),并由動(dòng)力源12驅(qū)動(dòng),在封閉清洗艙內(nèi)可按需要設(shè)置多個(gè)清洗槽13,清洗筐14能夠放置在清洗槽13中,所述清洗筐14能夠被機(jī)械手4提出,亦能被機(jī)械手4放置到后續(xù)所需的工位,在封閉清洗艙中還設(shè)有烘干裝置15,該烘干裝置15位于清洗槽13與輸出裝置11之間;所述機(jī)械手4由聯(lián)接體17、拉伸機(jī)構(gòu)16和工作件18構(gòu)成,拉伸機(jī)構(gòu)16安裝在聯(lián)接體17上,聯(lián)接體17能夠與水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)1的導(dǎo)軌5和拖動(dòng)鏈條2相配合,并能在導(dǎo)軌5上平移,工作件18設(shè)置在拉伸機(jī)構(gòu)16的下端,拉伸機(jī)構(gòu)16采用活塞結(jié)構(gòu),其完成拉伸動(dòng)作所需的能量可由壓縮空氣提供;所述烘干裝置15包括箱體和箱蓋,箱體由加溫箱20和烘干箱24構(gòu)成,加溫箱20和烘干箱24上分別設(shè)置有箱蓋19、25,箱蓋的開(kāi)啟或關(guān)閉可由自動(dòng)控制裝置9控制,所述烘干箱24內(nèi)可放置裝有硅原料的清洗筐14,所述加溫箱20內(nèi)設(shè)有加熱區(qū)22,加熱區(qū)22內(nèi)的加熱元件采用公知的加熱器件,加溫箱20的一側(cè)設(shè)有進(jìn)氣孔21、其另一側(cè)設(shè)有與烘干箱24相通的出氣孔23,外界壓縮空氣可從進(jìn)氣孔21進(jìn)入加溫箱20,經(jīng)過(guò)加熱區(qū)22加溫后,高溫氣體經(jīng)出氣孔23進(jìn)入烘干箱24,從而將清洗筐14內(nèi)的硅原料烘干;本實(shí)用新型的各個(gè)電動(dòng)、氣動(dòng)或機(jī)械動(dòng)作的完成均受自動(dòng)控制裝置9的控制,自動(dòng)控制裝置9與相關(guān)部件的配合與連接是采用公知的電子技術(shù)和電學(xué)連接方式,至此不作贅述。
權(quán)利要求1.一種硅原料清洗設(shè)備,它包括封閉清洗艙、輸入裝置(7)、水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)(1)、清洗槽(13)、機(jī)械手(4)、清洗筐(14)、輸出裝置(11)和自動(dòng)控制裝置(9),在所述封閉清洗艙安裝在機(jī)座(10)上,該封閉清洗艙內(nèi)設(shè)有清洗槽(13),在封閉清洗艙的兩端分別設(shè)有輸入裝置(7)和輸出裝置(11),其特征在于所述所述清洗槽(13)與輸出裝置(11)之間設(shè)有干燥裝置(15),所述封閉清洗艙上設(shè)有水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)(1),機(jī)械手(4)與水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)(1)相配合,機(jī)械手能(4)能在水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)(1)上往復(fù)位移,所述水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)(1)位于清洗槽(13)上方,機(jī)械手(4)能與清洗筐(14)相配合。
2.如權(quán)利要求1所述的硅原料清洗設(shè)備,其特征在于所述機(jī)械手(4)由聯(lián)接體(17)、拉伸機(jī)構(gòu)(16)和工作件(18)構(gòu)成,拉伸機(jī)構(gòu)(16)安裝在聯(lián)接體(17)上,聯(lián)接體(17)能夠與水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)(1)的導(dǎo)軌(5)和拖動(dòng)鏈條(2)相配合,工作件(18)設(shè)置在拉伸機(jī)構(gòu)(16)的下端。
3.如權(quán)利要求1所述的硅原料清洗設(shè)備,其特征在于所述烘干裝置(15)包括箱體和箱蓋,箱體由加溫箱(20)和烘干箱(24)構(gòu)成,加溫箱(20)和烘干箱(24)上分別設(shè)置有箱蓋(19、25),所述烘干箱(24)內(nèi)可放置清洗筐(14);所述加溫箱(20)內(nèi)裝有加熱區(qū)(22),加溫箱(20)的一側(cè)設(shè)有進(jìn)氣孔(21)、其另一側(cè)設(shè)有與烘干箱(24)相通的出氣孔(23)。
專利摘要本實(shí)用新型屬于一種硅原料清洗設(shè)備,特別是涉及一種采用機(jī)械方式清洗硅原料的清洗設(shè)備。它包括封閉清洗艙、輸入裝置、水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)、清洗槽、機(jī)械手、清洗筐、輸出裝置和自動(dòng)控制裝置,所述封閉清洗艙安裝在機(jī)座上,該封閉清洗艙內(nèi)設(shè)有清洗槽,所述封閉清洗艙的兩端分別設(shè)有輸入裝置和輸出裝置,其特征在于所述清洗槽與輸出裝置之間設(shè)有干燥裝置,在封閉清洗艙上設(shè)有水平運(yùn)行機(jī)構(gòu),機(jī)械手與水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)相配合,機(jī)械手能在水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)上往復(fù)位移,所述水平運(yùn)行機(jī)構(gòu)位于清洗槽上方,機(jī)械手能與清洗筐相配合。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、造價(jià)低廉、烘干效率高、使用方便、安全的特點(diǎn),是一種經(jīng)濟(jì)實(shí)用的硅原料清洗設(shè)備。
文檔編號(hào)B08B3/04GK2544842SQ02217258
公開(kāi)日2003年4月16日 申請(qǐng)日期2002年4月29日 優(yōu)先權(quán)日2002年4月29日
發(fā)明者昌金銘, 唐駿, 吳建榮 申請(qǐng)人:中國(guó)科技開(kāi)發(fā)院浙江分院
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