專利名稱：基板洗凈方法及洗凈裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及用以對液晶顯示器、光罩等的玻璃基板、印刷布線基板及半導體晶圓等的各種基板施行超聲波洗凈的基板洗凈方法及洗凈裝置。
然而，近年來，基板日趨大型化，如目前的作法那樣，在將基板全體浸漬到超聲波洗凈用的儲水槽內(nèi)的方法中，具有儲水槽的超聲波洗凈裝置也需大型化，因此在技術上及成本上都有問題。于是，與純水噴洗相同地，對流動水賦予超聲波振動來洗凈基板的方法受到考慮，但在此方法中，由于必須對基板的上下兩面供給經(jīng)賦予超聲波振動的洗凈水，需有兩組超聲波賦予裝置，故無法抑制裝置的大型化及高成本化。
另一方面，在只作單面洗凈時，附著在未被洗凈側(cè)的面上的粒子，經(jīng)由背光的點亮等會浮現(xiàn)，是問題點所在。
本發(fā)明涉及一種基板洗凈方法，其特征在于，使基板里面的至少一部分與洗凈水接觸，并對該接觸部分的相反側(cè)的基板表面供給經(jīng)賦予超聲波振動的洗凈水，來將該基板洗凈。
在此方法中，在使基板里面的至少一部分與洗凈水接觸的狀態(tài)下，對該接觸部分的相反側(cè)的基板表面供給經(jīng)賦予超聲波振動的洗凈水。對供給至基板表面的洗凈水所賦予的超聲波振動，透過基板傳遞到與基板里面接觸的洗凈水，而對與該基板里面接觸的洗凈水賦予超聲波振動。如此，基板的表里兩面可同樣地通過經(jīng)賦予超聲波振動的洗凈水進行洗凈，表里兩面可有效地洗凈。因而，賦予超聲波振動的裝置，只要有一臺即足夠，因此，可抑制裝置全體的大型化及高成本化。
并且，也可使上述基板作水平移動，讓上述基板里面的全面與上述洗凈水接觸。
這樣，通過基板的水平移動，基板里面的全面會與洗凈水接觸，由此可將基板的表里兩面的全面洗凈。因此，并不需要使基板里面的全面與洗凈水接觸的巨大的裝置，可達到洗凈裝置的小型化、低成本化。
并且，上述的方法的發(fā)明，可經(jīng)由下述的裝置的發(fā)明有效地實施。即，此裝置的發(fā)明涉及一種基板洗凈裝置，其特征在于，具備儲水槽，其上部具有開口部，而將洗凈水儲存于內(nèi)部；支持機構，用以支持基板使該基板可作水平移動且其里面可與上述儲水槽中儲存的洗凈水接觸；洗凈水供給機構，配置于上述儲水槽的上方，可對基板的與上述洗凈水接觸的相反側(cè)的表面供給經(jīng)賦予超聲波振動的洗凈水；以及移送機構，在上述儲水槽與上述洗凈水供給機構之間移送上述基板。
并且，上述洗凈水供給機構，也可構成為具有沿與上述基板的移送方向正交的方向配置的長形噴嘴；上述儲水槽的開口部，在與上述基板的移送方向正交方向上的尺寸，比上述基板的該正交方向上的寬度尺寸為長。
并且，上述支持機構，也可具有配置于儲水槽內(nèi)且其上端與該儲水槽內(nèi)的洗凈水面一致的支持輥。
通過這樣的構成，以使基板的里面能與儲水槽內(nèi)的洗凈水確實地接觸的方式來支持基板，而且，可防止因自洗凈水供給機構供給至基板里面的洗凈水的壓力造成基板的彎曲，從而可防止沒入水面下的現(xiàn)象的發(fā)生。并且，此支持輥，由于承受到超聲波，所以優(yōu)選使用可避免因此而遭受損傷的金屬等的材料。并且，與基板接觸的外圍部分，優(yōu)選為形成緩和的曲面。
并且，在構成上述儲水槽的側(cè)壁中，與上述基板的移送方向正交的一對的側(cè)壁被設置成可上下移動，其上端部的高度位置可調(diào)整，且通過上述側(cè)壁的上端部所決定的上述洗凈水面的高度位置可調(diào)整。
依據(jù)上述結構，通過使側(cè)壁可上下移動，其上端部的高度可調(diào)整，則由該側(cè)壁的上端部所決定的該洗凈水面的高度位置也可調(diào)整，由此，對于基板里面，可使其以更佳的狀態(tài)與洗凈水接觸，可使基板里面的洗凈效果成為良好。
如

圖1所示，本發(fā)明的基板洗凈裝置，具備用以供給經(jīng)賦予超聲波振動的洗凈水的洗凈水供給機構1；以及在內(nèi)部儲存著洗凈水的儲水槽3等。并且，基板W被移送機構的移送輥R及輔助輥r，依箭頭A方向移送。
洗凈水供給機構1，包括形成有隙縫2a(用以將自給水源20所供給的洗凈水形成為膜狀而噴吐出)的超聲波噴嘴2、以及對通過隙縫2a內(nèi)的洗凈水賦予超聲波振動的壓電元件(未圖示)，該洗凈水供給機構1被安裝于處理槽內(nèi)的基板移送路徑的上方，通過控制器10來控制其動作。超聲波2噴嘴的長邊方向，與基板W的移送方向(箭頭A方向)正交，長度為可將基板W的寬度方向(上述正交方向)的全寬覆蓋的長度。并且，若以1個超聲波噴嘴2無法將基板W的全寬覆蓋的情況下，也可用至少2個的超聲波噴嘴2，依移送方向以前后作平行設置，以將移送的基板的全寬用多個超聲波噴嘴2覆蓋的方式來構成。
儲水槽3，沿著超聲波噴嘴2的長邊方向形成為細長形狀，在上部敞開的箱狀的外槽5中，設置有一對的板4與給水噴嘴31。給水噴嘴31安裝于外槽5的底板上，連接到給水源30。在外槽5的外側(cè)，沿移送方向(箭頭A方向)的前后，設置有輔助輥r。一對的板4，設置于與外槽5的兩組側(cè)壁50、52之中的與上述移送方向(箭頭A方向)正交的側(cè)壁50上。另一方的側(cè)壁52，由于基板W通過其間移送，故這些間隔比基板W的寬度方向(與上述移送方向正交的方向)的寬度大。并且，側(cè)壁52的高度，比側(cè)壁50的高度高。側(cè)壁50的高度，比基板移送路徑的高度(移送輥R及輔助輥r的上端的位置)低，在其上下方向的大致中央處，形成有沿上下方向的長孔51。并且，長孔51，如圖2所示，沿著長邊方向，隔著適當?shù)拈g隔設置有多個。
板4，如圖1所示，設置于側(cè)壁50的內(nèi)側(cè)。并且，在側(cè)壁50的外側(cè)，以覆蓋長孔51的方式設置平板狀的密合板44，通過貫通長孔5 1的螺絲42，將側(cè)壁50夾持的狀態(tài)下，板4與密合板44固定于側(cè)壁50上，且將長孔51以液密方式密合。并且，螺絲42，可在長孔51內(nèi)沿著上下方向移動，故板4可變更上下方向的固定位置。
板4的長邊方向的兩端，如圖2所示，以液密方式密合于另一側(cè)壁52的內(nèi)面，以板4與側(cè)壁52實質(zhì)形成儲水槽3的4側(cè)面，高度較低的板4的上端成為儲存在儲水槽3內(nèi)的洗凈水的水面H。
并且，如圖2所示，在外槽5的外緣，設置有面向著處理槽的壁并與移送方向正交的方向水平地延伸的凸緣部53，通過此凸緣部53使外槽5固定于處理槽內(nèi)。另一方面，在此凸緣部53的上方，設置有與凸緣部53平行可上下移動的托架43，托架43通過螺絲41可調(diào)整其上下方向的位置，并固定。在此托架43上連接有板4的兩端，其結果，使板4可通過螺絲41來調(diào)整上下方向的位置。
這樣，通過介于凸緣部53與托架43之間的螺絲41，可調(diào)整外槽5與板4的上下方向的相對位置關系。其后，通過沿著側(cè)壁50的長邊方向，將依適當?shù)拈g隔插入多個設置的長孔51的螺絲鎖緊，可將板4固定。
并且，在儲水槽3內(nèi)，設置有作為基板支持機構的支持輥6。此支持輥6，以將其上端設定位于如圖1所示的在超聲波噴嘴2的隙縫2a的正下方處的方式安裝于轉(zhuǎn)軸7上。并且，其最上端，設定為與上述儲水槽3內(nèi)儲存的洗凈水的水面H的相同高度，換言之，上述板4的高度位置，以與支持輥6的最上端成為相同高度的方式作調(diào)整，且使支持輥6上所支持的基板W的里面與洗凈水做接觸。
并且，支持輥6，如圖2所示，依轉(zhuǎn)軸7的軸方向隔著適當?shù)拈g隔設置有多個。轉(zhuǎn)軸7，沿著儲水槽3的長邊方向設置，其兩端，如圖2所示，以可自由旋轉(zhuǎn)的方式支撐在外槽5的側(cè)壁50上。支持輥6是金屬制的，與基板W相接的部分作成為圓的面。通過此圓面與基板的浮力，可使基板W的里面不會受到刮傷。并且，移送輥R及輔助輥r，優(yōu)選由樹脂等的柔軟性的材料來形成。
按照具備上述結構的本例的基板洗凈裝置，首先，通過移送輥R及輔助輥r將基板W依箭頭A方向移送，導入儲水槽3與洗凈水供給機構1之間?；錡通過支持輥6支持，其里面與儲水槽3內(nèi)的洗凈水接觸。另一方面，在與此相反側(cè)的基板W的表面，經(jīng)賦予超聲波振動的洗凈水自洗凈水供給機構1所供給。對供給至基板W的表面的洗凈水所賦予的超聲波振動，透過基板W傳遞到與其里面接觸的洗凈水，而將超聲波振動賦予至與該基板W的里面接觸的洗凈水。這樣，基板W的表里兩面可同樣地通過經(jīng)賦予超聲波振動的洗凈水而被洗凈，表里兩面可有效地洗凈。這樣，依據(jù)本例的基板洗凈裝置，用以賦予超聲波振動的裝置，只要有一臺即足夠，由此，可抑制裝置全體的大型化及高成本化。
然后，通過移送輥R及輔助輥r繼續(xù)地沿箭頭A方向移送的基板W，逐漸離開儲水槽3內(nèi)的洗凈水與其里面接觸的位置及自洗凈水供給機構1供給到其表面的洗凈水的位置，最后，基板W的表里全面與洗凈水接觸，而將該表里兩面洗凈。因此，不需要有巨大的裝置來使基板W的里面全面與洗凈水接觸，可達到洗凈裝置的小型化、低成本化。
并且，由于以設置于儲水槽3內(nèi)的支持輥6來支持基板W，所以可在使基板W的里面確實地與儲水槽3內(nèi)的洗凈水接觸來支持基板，而且，可防止因自洗凈水供給機構1供給至基板W的表面的洗凈水的壓力使得基板W彎曲，從而可防止沒入水面下的現(xiàn)象的發(fā)生。
并且，由于通過調(diào)整板4的高度位置來調(diào)整在儲水槽3內(nèi)儲存的洗凈水的水面位置，故對于基板W的里面，可使其以良好的狀態(tài)與洗凈水接觸，進而可使洗凈效果良好。
產(chǎn)業(yè)上利用的可能性如上所述，本發(fā)明的基板洗凈方法及洗凈裝置，可良好地適用于液晶顯示器、光罩等的玻璃基板、印刷布線基板及半導體晶圓等的各種基板的洗凈。
權利要求
1.一種基板洗凈方法，其特征在于使基板里面的至少一部分與洗凈水接觸，并對該接觸部分的相反側(cè)的基板表面供給經(jīng)賦予超聲波振動的洗凈水，將所述基板洗凈。
2.如權利要求1所述的基板洗凈方法，其特征在于使所述基板作水平移動，讓所述基板里面的全面與所述洗凈水接觸。
3.一種基板洗凈裝置，其特征在于具備儲水槽，其上部具有開口部，而將洗凈水儲存于內(nèi)部；支持機構，用以支持基板使得該基板可作水平移動且其里面可與所述儲水槽中儲存的洗凈水接觸；洗凈水供給機構，配置于所述儲水槽的上方，對基板的與所述洗凈水接觸的相反側(cè)的表面供給經(jīng)賦予超聲波振動的洗凈水；以及移送機構，在所述儲水槽與所述洗凈水供給機構之間移送所述基板。
4.如權利要求3所述的基板洗凈裝置，其特征在于所述洗凈水供給機構具有與所述基板的移送方向正交的方向配置的長形噴嘴，所述儲水槽的開口部，與所述基板的移送方向正交的方向上的尺寸，比所述基板的該正交方向上的寬度尺寸為長。
5.如權利要求3或4所述的基板洗凈裝置，其特征在于所述支持機構包括配置于所述儲水槽內(nèi)且其上端與所述儲水槽內(nèi)的洗凈水面一致的支持輥。
6.如權利要求3～5中任一項所述的基板洗凈裝置，其特征在于在構成所述儲水槽的側(cè)壁中，與所述基板的移送方向正交的一對的側(cè)壁被設置成可上下移動，其上端部的高度位置可調(diào)整，且由所述側(cè)壁的上端部所決定的所述洗凈水面的高度位置可調(diào)整。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板洗凈方法及洗凈裝置，用以對液晶顯示器、光罩等的玻璃基板、印刷布線基板及半導體晶圓等的各種基板施行超聲波洗凈。設置有將洗凈水儲存于內(nèi)部的儲水槽(3)；將基板以可水平移動且里面與儲水槽(3)內(nèi)的洗凈水接觸的方式加以支持的支持機構(6)；對基板(W)的表面供給經(jīng)賦予超聲波振動的洗凈水的洗凈水供給機構(1)；在儲水槽(3)與洗凈水供給機構(1)間移送基板(W)的移送機構(R、r)。對供給至基板(W)的表面的洗凈水所賦予的超聲波振動，借助于基板(W)傳遞到與基板里面接觸的洗凈水，而對與基板里面接觸的洗凈水賦予超聲波振動。基板(W)的表里兩面，皆通過經(jīng)賦予超聲波振動的洗凈水而被有效地洗凈。
文檔編號B08B3/12GK1455708SQ02800029
公開日2003年11月12日 申請日期2002年4月8日 優(yōu)先權日2001年4月13日
發(fā)明者水川茂, 中田勝利, 松元俊二 申請人:住友精密工業(yè)株式會社